JPH0311227Y2 - - Google Patents
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- JPH0311227Y2 JPH0311227Y2 JP12467486U JP12467486U JPH0311227Y2 JP H0311227 Y2 JPH0311227 Y2 JP H0311227Y2 JP 12467486 U JP12467486 U JP 12467486U JP 12467486 U JP12467486 U JP 12467486U JP H0311227 Y2 JPH0311227 Y2 JP H0311227Y2
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- chemical
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- Expired
Links
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Landscapes
- Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
ａ 技術分野
この考案は、多層膜のコーテイングにおいて、
透明高屈折率層に使用する真空蒸着用透明高屈折
率薬品に関するものである。
透明高屈折率層に使用する真空蒸着用透明高屈折
率薬品に関するものである。
ｂ 従来技術及びその問題点
TiO2膜は、透明高屈折率材料として知られて
いるが、TiOx（ｘ＝０〜２）をスタート材料とし
たTiO2膜には一般に吸収があるため、O2供給の
意味で分解酸素を放出するPr6O11と混合すること
が考えられ、その酸素の授受のバランスから金属
Tiを含めた次のような組成の混合薬品がこれまで
用いられてきた。
いるが、TiOx（ｘ＝０〜２）をスタート材料とし
たTiO2膜には一般に吸収があるため、O2供給の
意味で分解酸素を放出するPr6O11と混合すること
が考えられ、その酸素の授受のバランスから金属
Tiを含めた次のような組成の混合薬品がこれまで
用いられてきた。
Pr6O11：TiO2：Ti＝1.0mol：3.0mol：3.0mol
これは、波長550mmで屈折率2.102と安定であ
り、又剥離も可能で量産に適したものであるの
で、抵抗加熱方式で用いられていた。
り、又剥離も可能で量産に適したものであるの
で、抵抗加熱方式で用いられていた。
しかしながら、電子ビーム加熱方式では、ルツ
ボ内温度分布が甚しいため、Tiの激しい酸化が原
因となる薬品の飛散所謂トビが実際上ではコート
終了まで続き使用できなかつた。
ボ内温度分布が甚しいため、Tiの激しい酸化が原
因となる薬品の飛散所謂トビが実際上ではコート
終了まで続き使用できなかつた。
ｃ 目的
この考案は、上記問題点を克服するためになさ
れたもので、電子ビーム加熱方式でもトビの発生
しない真空蒸着用透明高屈折率薬品を提供するこ
とを目的とする。
れたもので、電子ビーム加熱方式でもトビの発生
しない真空蒸着用透明高屈折率薬品を提供するこ
とを目的とする。
ｄ 実施例の構成
以下、この考案の実施例の詳細を説明する。
表−１は、薬品組成とそれを使用した時の蒸発
形態、トビの発生状況、吸収発生状況、ガス出し
時間を夫々示したものである。
形態、トビの発生状況、吸収発生状況、ガス出し
時間を夫々示したものである。
薬品Ａは、ガス出し時間が極端に長くPr6O11が
多量の分解酸素を放出するものであることが解
り、昇華性であるのでトビの発生はみられない
が、TiO2との混合である薬品Ｂでは液化して激
しいトビの発生となつている。この放出酸素を吸
収するため加えられたTiによつてそのトビがかな
り抑えられた様子は薬品Ｃ，Ｄで見られる。
多量の分解酸素を放出するものであることが解
り、昇華性であるのでトビの発生はみられない
が、TiO2との混合である薬品Ｂでは液化して激
しいトビの発生となつている。この放出酸素を吸
収するため加えられたTiによつてそのトビがかな
り抑えられた様子は薬品Ｃ，Ｄで見られる。
この段階では、膜の吸収もなくなつて酸素の授
受がバランスよく行なわれていることが理解でき
る。
受がバランスよく行なわれていることが理解でき
る。
Tiの更なる増加は、薬品Ｅで見るように再び激
しいトビの発生を引き起こす。これはTiが極めて
活性であるこを示すものと考えられる。Tiが活性
であることは、その反応のギブスエネルギー値か
ら明らかであるが、実際真空中加熱において、火
花の発生があることからも解る。
しいトビの発生を引き起こす。これはTiが極めて
活性であるこを示すものと考えられる。Tiが活性
であることは、その反応のギブスエネルギー値か
ら明らかであるが、実際真空中加熱において、火
花の発生があることからも解る。
従つて、トビ対策として金属Tiよりは酸化度の
低い材料に変更する必要があり、先ずTiO2の低
級酸化物であるTiＯを使用してみた。
低い材料に変更する必要があり、先ずTiO2の低
級酸化物であるTiＯを使用してみた。
結果は、薬品Ｆ，Ｇで見られるように、トビが
治まらず酸化度が低すぎることがわかる。
治まらず酸化度が低すぎることがわかる。
そこで我々は、TiとTiＯの中間の酸化度を有す
るNbに着目し、薬品Ｈ，Ｉ，Ｊ，Ｋ，Ｌの実験
を行なつた。Nbが少なければトビがあり、多過
ぎれば吸収が発生する。このことは、ガス出し時
間を見ればＨ，Ｉ，Ｊが金属混合量についてＣ，
Ｄ，Ｅと対応しており、Ｃ，Ｄ，Ｅについて説明
したと同様に、Nb混合量2molのＩからO2授受の
バランスがとれていると説明できる。
るNbに着目し、薬品Ｈ，Ｉ，Ｊ，Ｋ，Ｌの実験
を行なつた。Nbが少なければトビがあり、多過
ぎれば吸収が発生する。このことは、ガス出し時
間を見ればＨ，Ｉ，Ｊが金属混合量についてＣ，
Ｄ，Ｅと対応しており、Ｃ，Ｄ，Ｅについて説明
したと同様に、Nb混合量2molのＩからO2授受の
バランスがとれていると説明できる。
従つて、この考案による薬品の構成は次のよう
になる。
になる。
Pr6O11：TiO2：Nb＝1mol：3mol：２〜11mol
ｅ 実施例の作用
上記構成の薬品は、−＃
300粉末混合物を100
Kg／cm2の圧力でプレスし約３mm□ に粒化して使用
した。蒸発源から900mm離れた基板に対し、電子
ビームにより、蒸着速度が波長550nmで1/4波長
を３分30秒、酸素分圧４×10-5torrを導入し、全
圧７×10-5torrでコートを行なつた。
Kg／cm2の圧力でプレスし約３mm□ に粒化して使用
した。蒸発源から900mm離れた基板に対し、電子
ビームにより、蒸着速度が波長550nmで1/4波長
を３分30秒、酸素分圧４×10-5torrを導入し、全
圧７×10-5torrでコートを行なつた。
以上の方法により、薬品Ｊを使用してBk7平板
ガラス（ng＝1.525at450nm）に波長450nmで1/4
波長コートした分光特性を図に示す。
ガラス（ng＝1.525at450nm）に波長450nmで1/4
波長コートした分光特性を図に示す。
図中Ｒは基板反射率を含む膜表面反射率（50％
スケール）、R′は基板反射率を含む膜裏面反射率
（50％スケール）、Ｔは膜表面からの透過率であ
る。
スケール）、R′は基板反射率を含む膜裏面反射率
（50％スケール）、Ｔは膜表面からの透過率であ
る。
図のデータからRR′T法により計算されたこの
膜の空気中の光学定数を表−２に示す。表−２か
ら、この膜が可視域（400〜750nm）で透明で高
屈折率であることが解る。
膜の空気中の光学定数を表−２に示す。表−２か
ら、この膜が可視域（400〜750nm）で透明で高
屈折率であることが解る。
また、薬品Ｊを蒸発源から900mmの基板に波長
550nmで1/4波長を５回繰り返した時の屈折率を
表−３に示す。表−３から波長550nmで屈折率
2.064〜2.067と安定であり、波長550nmで蒸発源
と基板間が900mmの時1/4波長が５回以上の繰り返
し使用が可能であることが解る。
550nmで1/4波長を５回繰り返した時の屈折率を
表−３に示す。表−３から波長550nmで屈折率
2.064〜2.067と安定であり、波長550nmで蒸発源
と基板間が900mmの時1/4波長が５回以上の繰り返
し使用が可能であることが解る。
ｆ 考案の効果
以上述べたように、この考案によれば、透明高
屈折率層に使用するトビの発生しない蒸着用混合
薬品を提供でき、又組成変化がなく繰り返し使用
が可能であり、しかも熱濃硫酸を用いて剥離でき
るので、基板の再利用が可能である。
屈折率層に使用するトビの発生しない蒸着用混合
薬品を提供でき、又組成変化がなく繰り返し使用
が可能であり、しかも熱濃硫酸を用いて剥離でき
るので、基板の再利用が可能である。
図は、この考案による薬品を用いて形成したコ
ートの分光特性を示す線図である。
ートの分光特性を示す線図である。
【表】
【表】
【表】
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 酸化物Pr6O11，TiO2と金属Nbを成分とする混
合薬品で、その混合比が Pr6O11：TiO2：Nb＝1.0mol：3.0mol：2.0〜
11.0molであることを特徴とする真空蒸着用透明
高屈折率混合薬品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12467486U JPH0311227Y2 (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12467486U JPH0311227Y2 (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6330349U JPS6330349U (ja) | 1988-02-27 |
| JPH0311227Y2 true JPH0311227Y2 (ja) | 1991-03-19 |
Family
ID=31016907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12467486U Expired JPH0311227Y2 (ja) | 1986-08-13 | 1986-08-13 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0311227Y2 (ja) |
-
1986
- 1986-08-13 JP JP12467486U patent/JPH0311227Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6330349U (ja) | 1988-02-27 |
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