JPH06235803A - 高屈折の光学コーテイング製造用の蒸気析出素材 - Google Patents
高屈折の光学コーテイング製造用の蒸気析出素材Info
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Abstract
屈折率の光学コーテイング製造用の蒸気析出素材を提供
する 【構成】 その素材は式La2 Ti2 O7-x の化合物で
あって、x=0.3から0.7である。
Description
は保護コーテイングとして、あるいは光学機能目的のた
めに薄膜酸化物コーテイングは広範囲に利用されてい
る。かくして、これらは腐食および機械的な破損に対す
る保護として、あるいは特に、レンズ、鏡、プリズムな
ど光学部品および機器の表面をコーテイングするために
使用されている。加えて、薄膜酸化物コーテイングは反
射を増加する、あるいは減少するために高い、中程度
の、低い屈折の光学コーテイングを製造することに利用
される。利用の主たる分野は眼鏡レンズ上の反射防止コ
ーテイングの製造であり、およびカメラレンズ用の、双
眼鏡用の、光学測定機器のための光学部品上の、および
レーザー工業用の、更にある屈折率および/あるいは例
えば干渉鏡、ビーム分割器、熱フィルター および透熱
性の鏡にある光学吸収特性を有するコーテイングの製造
用の反射防止コーテイングの製造である。
の出発素材はそれ自身公知である。通常の素材はSiO
2および多分たがいに組合せた広範囲の金属酸化物であ
る。選択は基本的には経験的であって、希望する光学的
特性、加工特性によって変動する。コーテイングは真空
蒸気析出法によって製造され、この方法は公知である。
例示するならば、ドイツ特許12 28 489をここで引用
し、この特許は使用可能素材、加工方法をおよびこの点
に関して生じた問題を示している。
屈折率を有するコーテイングの製造には原理的に妥当な
出発素材の選択には限界がある。妥当な出発素材は基本
的にはチタン、ジルコニム、ハフニウム、タンタルおよ
びこれらの混合系の酸化物である。高屈折コーテイング
用の好ましい出発素材は二酸化チタンである。
材も明らかな多くの欠点を、特に実際上の加工からみた
欠点を持っている。
沸点を持っていることであり、加えて、それらが比較的
に接近していることである。実際的な観点から見ると、
しかしながら、蒸気析出素材は顕著な析出が始まるまえ
に、完全に溶融状態にあることは重要である。そのとき
になってやっと一様なしかも適当な析出速度が保証され
るのである。このことは必要であって、その結果均一な
しかも一様な厚さのコーテイングがコーテイングされる
対象物上に形成される。しかしながら、ジルコニウムお
よびハフニウムの酸化物の場合には、およびチタニウム
/ジルコニウム混合酸化物系の場合には、実用上の利用
条件ではこのことは起らない。上記の物質は完全には融
解せず、あるいは通常の操作条件では全く融解しない。
これらの物質は全般的に蒸発させることが難しく、厚さ
が変動するコーテイングが得られる。
物によって基本素材の融点を低下させることが望まし
い。添加物はさらに得られたコーテイングの屈折率をあ
る限度内で変更、さらに特別の方法で指定できることに
役立つ。
収のないことという要求によって制限されている。した
がって、可視部および近紫外波長領域(約320nmま
で)に吸収を持たない金属酸化物だけが妥当な添加物と
してとりあげられる。
領域において低い吸収を持っているに過ぎない、あるい
は全く持ってない、しかもこのことが妥当な光学利用の
ための前提条件であるにもかかわらず、これらの素材を
使った真空蒸気析出法による薄いコーテイング製造は特
別の注意しなかったならば可視領域において高い吸収に
なる。このことは高屈折コーテイング用の出発素材と考
えられている二酸化チタンに特に正しい。この効果は高
真空蒸気析出の間の酸素のロス、および酸素の含有量に
関してほぼ準化学量論的であるチタン酸化物コーテイン
グの析出に帰せられる。
(約10-4−10-5ミリバール)、すなわち酸化特性の
ある真空中で、実行することによっておよび/または得
られたコーテイングを酸素中あるいは空気中で後調製す
ることによって解決できる。上記のドイツ特許12 28 48
9によると、この技術は蒸発する素材に稀土類元素、あ
るいは稀土類酸化物をくわえることに特に有益である。
素材の適当な混合物の選別によって解決されたにもかか
わらず、混合系の使用は真空蒸気析出法ではそれ自身好
ましくない。その理由は混合系は一般的に一緒には蒸発
せず、すなはち系はその組成を蒸発工程中で変化させ、
析出したコーテイングの組成も従って変化するからであ
る。混合系が素材の変化無しに蒸発し、しかも凝固する
ことができる不連続な化合物であるならば、この場合に
のみこの問題は通常は避けられる。
しかも特にその方法によって均一な組成と可視部領域に
おいて吸収を持たない一様なコーテイングが製造される
真空蒸気析出法によって高屈折光学コーテイングの製造
のための蒸気析出素材を発見することを目的にしてい
る。
びランタンの酸化物に基く系、特にチタン酸ランタン(L
a2Ti2O7)化合物がこの点に関して興味がある。
acts) CA 112(24):226980nは真空中でのチタン酸ランタ
ナイドの蒸発および凝固について論文を引用している。
ケミカルアブストラクツCA106(14):119159yはチタン酸
ランタナイドの光学的/物理的な特性を引用している。
ンの真空蒸発挙動に関する検討は失望する結果に到達し
た。すなはちこの化合物は、二酸化チタンそのものおよ
び他の二酸化チタン含有混合系と同じように、特に強い
自発酸素放出傾向を持っている。この酸素放出は通常激
しい吹き出しを伴って起り、このことがこの工程を実行
することを困難にし、また使用可能なコーテイングが極
めて困難を伴った場合にのみ得られることを意味してい
る。酸素のロスのために、得られたコーテイングは酸素
含有量の関しては化学量論的ではない。その結果として
起る可視部における強い吸収は酸素中あるいは空気中で
調製することによる後酸化を必要としている。
合物、(ここではx=0.3から0.7である)が真空
蒸発による高屈折光学コーテイングの製造用の蒸気析出
素材として極めて妥当であると言うことが見出されたの
である。これらの素材は真空中で問題なく、また吹き出
しもなく蒸発させることができ、特別の対策をせずに真
空蒸発方法の普通の操作条件で吸収のないコーテイング
を与えることが見出された。
出させることによって高屈折光学コーテイングの製造用
の真空析出素材に関係し、その素材は式La2Ti2O
7-Xの化合物であり、ここでx=0.3から0.7であ
る。
蒸気析出素材でコーテイングされた高屈折率光学コーテ
イングの製造工程に関係している。
論的な組成を有する基本的な化合物チタン酸ランタン
(La2Ti2O7)と比較して、上記の式の定義の枠内
では酸素を準化学量論的な量含有している。本発明によ
る素材のなかの準化学量論的な酸素量の意図的な設定は
一方では真空蒸発中に溶融素材の好ましくない吹き出し
を起こす酸素の遊離を引き起こさず、他方では、酸素の
準化学量論的な量の選択された範囲は真空蒸発法の通常
の操作条件の下では特別の対策無しに吸収のないコーテ
イングが形成されることである。結果として得られたコ
ーテイングの光学特性は真空蒸発の間の酸素残余気圧の
変化によっては殆ど影響を受けないことが見出された。
しかしながら、記載した値よりも大きな準化学量論的な
酸素量は好ましくない吸収コーテイングになる。
きなかった。
O6.5によって特徴付けられる化合物である。
タンの酸化物を、更に希望すれば、妥当な化学量論比で
金属チタンを混合すること、および融点以下の高い真空
中でこの混合物を燒結させることによって得られる。本
発明による蒸気析出素材用のこのタイプの製造方法は同
様に本発明の首題である。出発素材の基本的な成分は酸
化ランタン(La2O3)と二酸化チタン(TiO2)で
ある。好ましい準化学量論的な酸素量を設定するために
は、チタンの亜酸化物、すなはちTi2O3およびTiO
あるいは金属チタンが使用される。燒結製品は黒色の外
観を呈し、約1800℃の温度で完全に融解し、約10
-4ミリバールの真空中で2200と2300℃間の温度
で蒸発させることができる。
該当する技術では通常である真空蒸気析出装置及び機器
の中で、しかもこの目的のためには通常の操作条件で使
用することができる。真空蒸発は熱蒸発のみならず、電
子ビーム蒸発によっても実行することができる。
し、かつ機械的および化学的な影響に特に抵抗性がある
一様な、薄いコーテイングはいかなる妥当な基体上にも
製造される。そのコーテイングは高い屈折を持ってい
る。その屈折率は組成と測定波長に依存するが、約2.
0である。そのコーテイングは近紫外(約360nmか
ら)から可視部を通じて近赤外(約7000nm)に亙
る波長領域において極めて透明であり、しかも特に可視
波長領域では吸収がない。
あるいは少ししか、例えば約80℃迄しか加熱できない
基体のコーテイング用に特に有利に使用することができ
る。このタイプの熱敏感性基体はプラスチックおよび接
合したガラス性の光学器材を含むものである。これらは
基体を加熱することさえせずに、耐久性のある、高接着
性の、吸収のない均一なコーテイングをする蒸気析出素
材を要求している。
ン酸化物、ジルコニウム酸化物および、例えばプラセオ
ジュウム酸化物とチタン酸化物の混合物が加熱していな
い基体のコーテイング用に使用されたときには、コーテ
イングの吸収あるいは不均一性による問題が生ずる。驚
くべきことに、本発明による素材は加熱していない基体
の場合においても吸収のない、均一なコーテイングを示
すのである。
6.5の化合物が出来るように選択した。
(10-4ミリバール)中で燒結した。得られた黒色の製
品は5.9g/cm3の密度を有し、1800℃の融点
を有する。実施例2 :使用 実施例1からの粒状物をモリブデン製の蒸発るつぼに入
れ、電子ビーム蒸発機能を有する市販の真空蒸気析出器
に導入した。
の温度で、酸素の残余圧2×10-4ミリバールの圧力
で、基体の温度250℃で、更に析出速度0.4nm/
secで、250nmの厚さに達するまで行われた。
屈折率を持っていた。このコーテイングは可視部および
375nmの波長までに吸収がない。実施例3 :プラスチック基体のコーテイング 実施例1からの粒状物をモリブデン製の蒸発るつぼに入
れ、電子ビーム蒸発機能を有する市販の真空蒸気析出器
に導入した。
(ポリカーボネイト)である。
温度で、酸素の残余圧2×10-4ミリバールの圧力で、
更に加熱してない基体への析出速度0.4nm/sec
で、250nmの厚さに達するまで行われた。
(加熱せず)、2.02(約50℃まで加熱)の屈折率
を有する。コーテイングは均一であり、しかも390n
mの波長までに吸収はなかった。
Claims (5)
- 【請求項1】 素材が式La2Ti2O7-x(ここでx=
0.3から0.7である)の化合物であることを特徴と
する真空中で基体の蒸気析出による高屈折の光学コーテ
イング製造用の蒸気析出素材。 - 【請求項2】 素材が式La2Ti2O6.5の化合物であ
ることを特徴とする請求項1による蒸気析出素材。 - 【請求項3】 ランタン酸化物およびチタン酸化物が、
さらに希望するならば、金属状のチタンが妥当な化学量
論比で混合され、その混合物は高真空でおよび融点以下
で燒結されることを特徴とする請求項1および2による
蒸気析出素材の製造方法。 - 【請求項4】 高屈折の光学コーテイングの製造用に請
求項1および2による蒸気析出素材の使用。 - 【請求項5】 請求項1及び2による蒸気析出素材が使
用されることを特徴とする真空中で基体の蒸気析出によ
る高屈折の光学コーテイングの製造方法。
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JP2002226967A (ja) * | 2000-12-29 | 2002-08-14 | Merck Patent Gmbh | 高屈折率光学層製造用蒸着材料および蒸着材料の製造方法 |
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JP2008032874A (ja) * | 2006-07-27 | 2008-02-14 | Epson Toyocom Corp | 反射防止膜、光学ローパスフィルタ、固体撮像装置、デジタルスチルカメラ |
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US6093944A (en) * | 1998-06-04 | 2000-07-25 | Lucent Technologies Inc. | Dielectric materials of amorphous compositions of TI-O2 doped with rare earth elements and devices employing same |
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CN101328065B (zh) * | 2008-05-28 | 2011-08-24 | 昆山光铭光电子元件有限公司 | 晶质化Ta2O5-TiO2复合金属氧化物蒸镀材料的制备方法 |
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CN102401910A (zh) * | 2010-09-17 | 2012-04-04 | 晶炼科技股份有限公司 | 制备光学镀膜材料的方法及光学镀膜材料 |
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US4874598A (en) * | 1987-01-20 | 1989-10-17 | Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd. | Process for producing perovskite-type oxides of the ABO3 type |
JPS6436764A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-07 | Nippon Steel Corp | Manufacture of thin multicomponent system film by sputtering |
US5108846A (en) * | 1990-07-12 | 1992-04-28 | Helmut Steininger | Protective layers of germanium ceramics |
-
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6327087B1 (en) | 1998-12-09 | 2001-12-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical-thin-film material, process for its production, and optical device making use of the optical-thin-film material |
JP2002226967A (ja) * | 2000-12-29 | 2002-08-14 | Merck Patent Gmbh | 高屈折率光学層製造用蒸着材料および蒸着材料の製造方法 |
KR100523281B1 (ko) * | 2003-01-28 | 2005-10-24 | 학교법인 포항공과대학교 | 개질된 물 분해용 란타늄 티타네이트계 광촉매 및 이의제조방법 |
JP2008032874A (ja) * | 2006-07-27 | 2008-02-14 | Epson Toyocom Corp | 反射防止膜、光学ローパスフィルタ、固体撮像装置、デジタルスチルカメラ |
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