JPH03111817A - 空間光変調器 - Google Patents
空間光変調器Info
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- JPH03111817A JPH03111817A JP25007789A JP25007789A JPH03111817A JP H03111817 A JPH03111817 A JP H03111817A JP 25007789 A JP25007789 A JP 25007789A JP 25007789 A JP25007789 A JP 25007789A JP H03111817 A JPH03111817 A JP H03111817A
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- Liquid Crystal (AREA)
- Image-Pickup Tubes, Image-Amplification Tubes, And Storage Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
この発明は光電面からの2次元情報を液晶セルに書き込
み、且つこれを読み取ることができるようにした空間光
変調器に関する。
み、且つこれを読み取ることができるようにした空間光
変調器に関する。
【従来の技術1
従来の空間光変調器においては、光変調材料として、L
i Nb O3等の電気光学結晶を用いるものがあった
が、解偉度の向上、オプチカルダメージの減少を目的と
して、例えば特開昭64−11228号公報に開示され
るように、光変調材料として液晶セルを用いた空間光変
調器が提案されている。 このような液晶セルしは、第4図に示されるように、薄
板ガラスからなる2次電子放出板1と誘電体多層膜から
なる全反射ミラー2と、配向層Hと、液晶層3と、透明
電極4と面板ガラス5とをこの順で積層したものである
。 前記液晶層3は、面板ガラス5と2次電子放出板1との
間にスペーサ6によって形成される空間に配置されてい
る。 上記のような液晶セルLを用いた空間光変調器は、第5
図に示されるように、入力光学像に応じた電子像が形成
される光電面7と、この光電面7からの光電子像を増倍
するマイクロチャンネルプレート(以下MCP)8と、
2次電子捕集電極(メツシュ)9と、前記液晶セルLと
、をこの順で真空容器10中に配置して構成されている
。 第5図の符号10Aはハーフミラ−10Bは偏光板をそ
れぞれ示す。 前記MCP8と2次電子捕集電極9の間及び2次電子捕
集電極9と液晶セルLの間にはそれぞれ絶縁体のスペー
サ8A、9Aが介在されている(第4図参照)。 【発明が解決しようとする課題】 ところで、上記のような空間光変調器における解像度は
、MCP8と液晶セルLの間の距離により大きく影響さ
れ、この距離はできる限り小さいほうが良い。 しかしながら従来は、MCP8と液晶セルLとの間に介
在される絶縁体のスペーサ8A、9Aが、機械加工によ
り製造されるため、その強度維持のためには、ある程度
以上薄くすることは困難であるという問題点がある。 又、液晶セルのギャップの均一性が、直接出力像の均一
性に影響するが、液晶セルLにおける薄板ガラスである
2次電子放出板1は、面精度を出しにくいため、ギャッ
プを均一にするのは困難であるという問題点があった。 この発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、
MCPと液晶セルの間の絶縁体スペーサを薄くして、解
像度を向上させることができると共に、MCP側の平面
精度を高めることによって、液晶セルのギャップの均一
性を制御可能とした空間光変調器を提供することを目的
とする。
i Nb O3等の電気光学結晶を用いるものがあった
が、解偉度の向上、オプチカルダメージの減少を目的と
して、例えば特開昭64−11228号公報に開示され
るように、光変調材料として液晶セルを用いた空間光変
調器が提案されている。 このような液晶セルしは、第4図に示されるように、薄
板ガラスからなる2次電子放出板1と誘電体多層膜から
なる全反射ミラー2と、配向層Hと、液晶層3と、透明
電極4と面板ガラス5とをこの順で積層したものである
。 前記液晶層3は、面板ガラス5と2次電子放出板1との
間にスペーサ6によって形成される空間に配置されてい
る。 上記のような液晶セルLを用いた空間光変調器は、第5
図に示されるように、入力光学像に応じた電子像が形成
される光電面7と、この光電面7からの光電子像を増倍
するマイクロチャンネルプレート(以下MCP)8と、
2次電子捕集電極(メツシュ)9と、前記液晶セルLと
、をこの順で真空容器10中に配置して構成されている
。 第5図の符号10Aはハーフミラ−10Bは偏光板をそ
れぞれ示す。 前記MCP8と2次電子捕集電極9の間及び2次電子捕
集電極9と液晶セルLの間にはそれぞれ絶縁体のスペー
サ8A、9Aが介在されている(第4図参照)。 【発明が解決しようとする課題】 ところで、上記のような空間光変調器における解像度は
、MCP8と液晶セルLの間の距離により大きく影響さ
れ、この距離はできる限り小さいほうが良い。 しかしながら従来は、MCP8と液晶セルLとの間に介
在される絶縁体のスペーサ8A、9Aが、機械加工によ
り製造されるため、その強度維持のためには、ある程度
以上薄くすることは困難であるという問題点がある。 又、液晶セルのギャップの均一性が、直接出力像の均一
性に影響するが、液晶セルLにおける薄板ガラスである
2次電子放出板1は、面精度を出しにくいため、ギャッ
プを均一にするのは困難であるという問題点があった。 この発明は上記問題点に鑑みてなされたものであって、
MCPと液晶セルの間の絶縁体スペーサを薄くして、解
像度を向上させることができると共に、MCP側の平面
精度を高めることによって、液晶セルのギャップの均一
性を制御可能とした空間光変調器を提供することを目的
とする。
この発明は、入力光学像に応じた電子像が形成される光
電面と、この光電面からの光電子像を増倍するマイクロ
チャンネルプレートと、2次電子捕集電極と、液晶セル
と、をこの順で真空容器中に配置してなる空間光変調器
において、前記マイクロチャンネルプレートの出力側に
、前記2次電子捕集電極及び前記液晶セルをそれぞれ絶
縁層を介して順次隣接して、連続一体的に形成すること
により上記目的を達成するものである。 又、前記絶縁層を絶縁体薄膜、前記2次電子捕集電極を
該絶縁体薄膜間に形成された金属薄膜から構成するとに
よって上記目的を達成するものである。 更に、前記2次電子捕集電極と液晶セルの間の絶縁層に
対して、該液晶セルにおける2次電子放出板を兼ねるv
4電体多層膜ミラーを重ねて形成することにより上記目
的を達成するものである。 更に又、前記2次電子捕集電極と液晶セルの間の絶縁層
を、該液晶セルにおける2次電子放出板としての絶縁体
薄膜とすることにより上記目的を達成するものである。
電面と、この光電面からの光電子像を増倍するマイクロ
チャンネルプレートと、2次電子捕集電極と、液晶セル
と、をこの順で真空容器中に配置してなる空間光変調器
において、前記マイクロチャンネルプレートの出力側に
、前記2次電子捕集電極及び前記液晶セルをそれぞれ絶
縁層を介して順次隣接して、連続一体的に形成すること
により上記目的を達成するものである。 又、前記絶縁層を絶縁体薄膜、前記2次電子捕集電極を
該絶縁体薄膜間に形成された金属薄膜から構成するとに
よって上記目的を達成するものである。 更に、前記2次電子捕集電極と液晶セルの間の絶縁層に
対して、該液晶セルにおける2次電子放出板を兼ねるv
4電体多層膜ミラーを重ねて形成することにより上記目
的を達成するものである。 更に又、前記2次電子捕集電極と液晶セルの間の絶縁層
を、該液晶セルにおける2次電子放出板としての絶縁体
薄膜とすることにより上記目的を達成するものである。
この発明においては、MCPの出力側に2次電子捕集電
極及び液晶セルがそれぞれ絶縁層を介して順次隣接して
連続一体的に配置されているので、絶縁層の厚さをサブ
ミクロン単位で制御でき、解像度の向上を図ると共に、
MCPの面精度を高めることによって液晶セルのギャッ
プの均一性を制御できる。 請求項2によれば、絶縁層を絶縁体薄膜、2次電子捕集
電極を金属薄膜から形成することによって、MCPと液
晶セル間の距離を小さ(シ、且つ、その距離を高精度で
調整できるので、解像度の向上を図ることができる。 更に、MCP側の面精度がそのまま液晶セル側の面精度
になるので、MCPの平面精度を高めることによって、
液晶セルのギャップの均一性の制御が可能となる。 請求項3によれば、2次電子捕集電極と液晶セル間の絶
縁層に対して、2次電子放出板を兼ねる誘電体多層膜ミ
ラーを重ねて形成することによって、更に小型化及び解
像度の向上を図ることができる。 請求項4によれば、絶縁層が液晶セルの絶縁体薄膜を兼
ねるので、より小型化及び解像度の向上を図ることがで
きる。
極及び液晶セルがそれぞれ絶縁層を介して順次隣接して
連続一体的に配置されているので、絶縁層の厚さをサブ
ミクロン単位で制御でき、解像度の向上を図ると共に、
MCPの面精度を高めることによって液晶セルのギャッ
プの均一性を制御できる。 請求項2によれば、絶縁層を絶縁体薄膜、2次電子捕集
電極を金属薄膜から形成することによって、MCPと液
晶セル間の距離を小さ(シ、且つ、その距離を高精度で
調整できるので、解像度の向上を図ることができる。 更に、MCP側の面精度がそのまま液晶セル側の面精度
になるので、MCPの平面精度を高めることによって、
液晶セルのギャップの均一性の制御が可能となる。 請求項3によれば、2次電子捕集電極と液晶セル間の絶
縁層に対して、2次電子放出板を兼ねる誘電体多層膜ミ
ラーを重ねて形成することによって、更に小型化及び解
像度の向上を図ることができる。 請求項4によれば、絶縁層が液晶セルの絶縁体薄膜を兼
ねるので、より小型化及び解像度の向上を図ることがで
きる。
以下本発明の実施例を図面を参照して説明する。
この実施例は、第1図に示されるように、MCPl2の
出力側に、5iOz等の絶縁体薄膜14を蒸着等の手段
によって形成し、その上に、金属薄膜からなる2次電子
捕集電極16を蒸着形成し、更にその上に5iOz等の
絶縁体薄膜18を蒸着形成したものである。 液晶セル20は、前記第4図に示されたものと同一の構
成であり、その2次電子放出板である薄板ガラス2OA
が前記絶縁体薄膜18を介して配置されている。 ここで、前記液晶セル20を形成する場合、配向層20
Gを形成しである面板ガラス20B上に配向層20Gを
形成しである薄板ガラス2OAを、スペーサ20Gを介
して接着してここに液晶を閉じこめ、液晶層20Dを形
成するが、このとき、MCPl2により薄板ガラス2O
Aを圧着して、液晶セル20を形成すると同時にMCP
l2と2次電子捕集電極16を一体化するとよい。第1
図の符号20Eは誘電体多層膜ミラー 20Fは透明電
極を、それぞれ示す。 前記絶縁体薄膜14及び18の厚さは、動作電圧におい
て充分に耐圧がとれる程度する。又厚さの制御は、従来
からの薄膜形成技術で行うことができ、この場合サブミ
クロン単位での制御が可能である。 又、MCPl2の出力側面に薄膜を順次形成していくの
で、該MCP12の出力側面の平面精度を高めておくこ
とによって、液晶セル側の液晶セル20側のギャップの
均一性の制御が可能となる。 ここでMCPl2の出力側面に絶縁体薄膜14を形成す
る際、該MCP12の孔の中に絶縁物質が入り込みつま
らないように、例えば斜め方向から蒸着する必要がある
。 次に第2図に示される本発明の第2実施例について説明
する。 この第2実施例は、前記絶縁体薄膜18に隣接して、液
晶セル20における2次放出板を兼ねる誘電体多層膜ミ
ラー20Eを形成したものである。 この場合、薄膜状の2次電子捕集電極16の外側に、ま
ずコロジオン膜22を形成した後、その上に誘電体多層
膜ミラー20Eを形成し、然る後、前記コロジオン膜2
2を加熱して飛ばし、2次電子捕集電極16に隣接して
、誘電体多層膜ミラー20Eを形成する。更にこの上に
配向層を形成する。 この実施例の場合は、液晶セルにおける薄板ガラスを省
略することができるので、MCPl 2と液晶セル20
との間の距離を更に小さくして、解像度の向上及び小型
化を図ることができる。 次に第3図に示される本発明の第3実施例にっいて説明
する。 この第3実施例は、薄膜状の2次電子捕集電極16の外
側に、まずコロジオン膜22を形成し、然る後に、51
02膜24及び誘電体多層膜ミラー20Eを順次形成し
た後、前記コロジオン膜22を飛ばして、2次電子捕集
電極16に隣接して、2次電子放出板を兼ねる絶縁層で
あるSiO2膜24と、誘電体多層膜ミラー20Eを形
成したものである。この上に更に配向層を形成すればよ
い。 この実施例の場合も、MCPl 2と液晶セル20間の
距離を小さくして、解像度の向上、より小型化を図るこ
とができる。
出力側に、5iOz等の絶縁体薄膜14を蒸着等の手段
によって形成し、その上に、金属薄膜からなる2次電子
捕集電極16を蒸着形成し、更にその上に5iOz等の
絶縁体薄膜18を蒸着形成したものである。 液晶セル20は、前記第4図に示されたものと同一の構
成であり、その2次電子放出板である薄板ガラス2OA
が前記絶縁体薄膜18を介して配置されている。 ここで、前記液晶セル20を形成する場合、配向層20
Gを形成しである面板ガラス20B上に配向層20Gを
形成しである薄板ガラス2OAを、スペーサ20Gを介
して接着してここに液晶を閉じこめ、液晶層20Dを形
成するが、このとき、MCPl2により薄板ガラス2O
Aを圧着して、液晶セル20を形成すると同時にMCP
l2と2次電子捕集電極16を一体化するとよい。第1
図の符号20Eは誘電体多層膜ミラー 20Fは透明電
極を、それぞれ示す。 前記絶縁体薄膜14及び18の厚さは、動作電圧におい
て充分に耐圧がとれる程度する。又厚さの制御は、従来
からの薄膜形成技術で行うことができ、この場合サブミ
クロン単位での制御が可能である。 又、MCPl2の出力側面に薄膜を順次形成していくの
で、該MCP12の出力側面の平面精度を高めておくこ
とによって、液晶セル側の液晶セル20側のギャップの
均一性の制御が可能となる。 ここでMCPl2の出力側面に絶縁体薄膜14を形成す
る際、該MCP12の孔の中に絶縁物質が入り込みつま
らないように、例えば斜め方向から蒸着する必要がある
。 次に第2図に示される本発明の第2実施例について説明
する。 この第2実施例は、前記絶縁体薄膜18に隣接して、液
晶セル20における2次放出板を兼ねる誘電体多層膜ミ
ラー20Eを形成したものである。 この場合、薄膜状の2次電子捕集電極16の外側に、ま
ずコロジオン膜22を形成した後、その上に誘電体多層
膜ミラー20Eを形成し、然る後、前記コロジオン膜2
2を加熱して飛ばし、2次電子捕集電極16に隣接して
、誘電体多層膜ミラー20Eを形成する。更にこの上に
配向層を形成する。 この実施例の場合は、液晶セルにおける薄板ガラスを省
略することができるので、MCPl 2と液晶セル20
との間の距離を更に小さくして、解像度の向上及び小型
化を図ることができる。 次に第3図に示される本発明の第3実施例にっいて説明
する。 この第3実施例は、薄膜状の2次電子捕集電極16の外
側に、まずコロジオン膜22を形成し、然る後に、51
02膜24及び誘電体多層膜ミラー20Eを順次形成し
た後、前記コロジオン膜22を飛ばして、2次電子捕集
電極16に隣接して、2次電子放出板を兼ねる絶縁層で
あるSiO2膜24と、誘電体多層膜ミラー20Eを形
成したものである。この上に更に配向層を形成すればよ
い。 この実施例の場合も、MCPl 2と液晶セル20間の
距離を小さくして、解像度の向上、より小型化を図るこ
とができる。
本発明は上記のように構成したので、MCPと2次電子
捕集電極及び液晶セル間の距離を短くして、解像度の向
上を図ることができる。 又、絶縁層の厚さをサブミクロン単位で制御できるので
、この点からも解像度の向上が可能となる。更に、マイ
クロチャンネルプレートの平面精度を高めることによっ
て、液晶セルのギャップの均−性を向上させることもで
きるという優れた効果を有する。
捕集電極及び液晶セル間の距離を短くして、解像度の向
上を図ることができる。 又、絶縁層の厚さをサブミクロン単位で制御できるので
、この点からも解像度の向上が可能となる。更に、マイ
クロチャンネルプレートの平面精度を高めることによっ
て、液晶セルのギャップの均−性を向上させることもで
きるという優れた効果を有する。
第1図乃至第3図は本発明の第1乃至第3実施例を示す
断面図、第4図は従来の空間光変調器におけるMCP、
メツシュ及び液晶セルを示す略示断面図、第5図は従来
の空間光変調器を示す断面図である。 12・・・MCP。 14・・・絶縁体8174゜ 16・・・2次電子捕集電極、 18・・・絶縁体薄膜、 20・・・液晶セル、 2OA・・・薄膜ガラス、 20B・・・面板ガラス、 20C・・・スペーサ、 20D・・・液晶層、 20ε・・・誘電体多層膜ミラー 20 F−・・纏明電極、 20G・・・配向層、 22・・・コロジオン膜、 24・・・5iO21[。
断面図、第4図は従来の空間光変調器におけるMCP、
メツシュ及び液晶セルを示す略示断面図、第5図は従来
の空間光変調器を示す断面図である。 12・・・MCP。 14・・・絶縁体8174゜ 16・・・2次電子捕集電極、 18・・・絶縁体薄膜、 20・・・液晶セル、 2OA・・・薄膜ガラス、 20B・・・面板ガラス、 20C・・・スペーサ、 20D・・・液晶層、 20ε・・・誘電体多層膜ミラー 20 F−・・纏明電極、 20G・・・配向層、 22・・・コロジオン膜、 24・・・5iO21[。
Claims (4)
- (1)入力光学像に応じた電子像が形成される光電面と
、この光電面からの光電子像を増倍するマイクロチャン
ネルプレートと、2次電子捕集電極と、液晶セルと、を
この順で真空容器中に配置してなる空間光変調器におい
て、前記マイクロチャンネルプレートの出力側に、前記
2次電子捕集電極及び前記液晶セルをそれぞれ絶縁層を
介して順次隣接して、連続一体的に形成したことを特徴
とする空間光変調器。 - (2)請求項1において、前記絶縁層は絶縁体薄膜、前
記2次電子捕集電極は該絶縁体薄膜間に形成された金属
薄膜からなることを特徴とする空間光変調器。 - (3)請求項1又は2において、前記2次電子捕集電極
と液晶セルの間の絶縁層に対して、該液晶セルにおける
2次電子放出板を兼ねる誘電体多層膜ミラーを重ねて形
成したことを特徴とする空間光変調器。 - (4)請求項1又は2において、前記2次電子捕集電極
と液晶セルの間の絶縁層は、該液晶セルにおける2次電
子放出板としての絶縁体薄膜であることを特徴とする空
間光変調器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1250077A JP2592963B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 空間光変調器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1250077A JP2592963B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 空間光変調器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03111817A true JPH03111817A (ja) | 1991-05-13 |
JP2592963B2 JP2592963B2 (ja) | 1997-03-19 |
Family
ID=17202470
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1250077A Expired - Fee Related JP2592963B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 空間光変調器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2592963B2 (ja) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS608822A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-17 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調管 |
JPS6411228A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Hamamatsu Photonics Kk | Space optical modulation tube |
-
1989
- 1989-09-26 JP JP1250077A patent/JP2592963B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS608822A (ja) * | 1983-06-29 | 1985-01-17 | Hamamatsu Photonics Kk | 空間光変調管 |
JPS6411228A (en) * | 1987-07-03 | 1989-01-13 | Hamamatsu Photonics Kk | Space optical modulation tube |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2592963B2 (ja) | 1997-03-19 |
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JPS63124460A (ja) | 完全密着型イメ−ジセンサ− |
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