JPH02222928A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JPH02222928A
JPH02222928A JP1217316A JP21731689A JPH02222928A JP H02222928 A JPH02222928 A JP H02222928A JP 1217316 A JP1217316 A JP 1217316A JP 21731689 A JP21731689 A JP 21731689A JP H02222928 A JPH02222928 A JP H02222928A
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Koji Suzuki
幸治 鈴木
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は液晶表示装置に関する。
(従来の技術) 液晶表示装置は薄形で軽量なためCR7表示装置に代わ
るものとして、近年特に注目されている。第4図はアモ
ルファスシリコンの薄膜トランジスタを用いたアクティ
ブマトリックス型の液晶表示装置の構成を示す図である
。ガラス基板la上にゲート電極2、ゲート絶縁膜3、
アモルファスシリコン層4、ソース−ドレイン電極6a
、6b1透明表示電極5、保護絶縁膜7が構成されたア
レイ基板と;ガラス基板lb上に光遮蔽層11、カラー
フィルタ層10、透明導電膜9を設けたフィルター基板
;両基板間に封入された液晶層12及び液晶分子を配向
させる配向層8から構成されている。通常基板裏面方向
に光源を設け、光15を照射し、透過光をガラス基板1
bの表面から見る。光の透明光量は透明表示電極5上の
液晶分子の状態により調節され、この状態は透明表示電
極の電圧によって制御される。この表示電位は薄膜トラ
ンジスタを介して各画素毎に所定の値が加えられ、表示
イメージを実現する。第4図(b)はアレイ基板の正面
図である。液晶の透過率をコントロールできる領域は透
明表示電極5の領域であり、他の領域の液晶は無変調で
ある。従ってコントラストを高めるため、無変調領域の
光のもれを防ぐため通常この領域に対応したフィルター
基板面に光遮蔽層11を設けている。従って、実質的な
表示に寄与する面積の割合(開口率)は光遮蔽層11以
外の面積で決まる。通常、ガラス基板1]aとllbの
合わせズレを考慮して、光遮蔽層11は透明表示電極5
の領域内まで広くとられている。
表示品位を向上するため、開口率が広くとられるが、こ
のためには透明表示電極面積を広くする必要があった。
しかしながら、透明表示電極と信号線16の短絡、ある
いはゴミなどによる信号線16のパターン変形部13と
の短絡などを生じ点欠陥を発生するため、あまり広くで
きないという問題があった。矩形構造の透明表示電極と
信号電極16との間隔は開口率に大きな影響を及ぼすた
め、生産歩留りと表示特性が相反する関係にあった。
(発明が解決しようとする課題) 従来の液晶表示装置では、開口率を上げるため透明表示
電極面積を拡げると点欠陥が増大し、歩留りが低下する
という問題があった。本発明は、項歩留りを維持したま
ま、開口率を増大することのできる液晶表示装置を提供
することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 本発明は、基板と、基板上に設けられた複数個の薄膜ト
ランジスタと各薄膜トランジスタに接続された信号線及
びゲート配線と、薄膜トランジスタのドレイン電極に接
続され薄膜トランジスタから印加された電位を蓄える第
1の表示電極と、前記薄膜トランジスタ、信号線、ゲー
ト配線及び第1の表示電極を覆った絶縁膜と、前記絶縁
膜上の前記第1の表示電極と対向した位置に設けられ前
記第1の表示電極から容量結合により、電位を受ける複
数の第2の表示電極を有するアレイ基板と、 前記第2の表示電極と対向した位置に透明導電膜を有す
る透光性基板と、 前記アレイ基板と透光性基板との間に挟持された液晶層
を具備することを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の第2の透明表示電極は、絶縁膜を介して第1の
透明表示電極を覆うように形成されたものであればよく
、特に限定されるものではない。
(作  用) 本発明の第1の透明表示電極は電荷を蓄積するための電
極であり、第2の透明表示電極が液晶を駆動する表示電
極として作用する。従って、周囲の信号線及びゲート配
線と十分な間隔を保つため、第1の透明表示電極の面積
を小さくしても液晶を駆動するのは第2の透明表示電極
であるから、表示面積には影響が出ない。一方、第2の
透明表示電極は周辺の信号線及びゲート配線と絶縁層を
介した構造にになっているため、この電極線上まで拡げ
ても問題はなく、短絡不良を生じないで十分大きな開口
率を得ることが可能である。
(実施例) 第1の実施例 本発明jごよる第1の実施例を第1図を参照しながら以
下に説明する。第1図(a)は本実施例の断面図、(b
)はアレイ基板の平面図であるが、(b)のA−A’線
による断面が(a)のアレイ基板部である。ガラス基板
la上に、モリブデンゆタンタル合金薄膜を第1層とし
、タンタルを第2層としたva11!構造のゲート電極
2を有するアモルファスシリコンを用いた薄膜トランジ
スタ26と、第1の透明表示電極21を設ける。透明表
示電極21は薄膜トランジスタ26のソース電極にモリ
ブデンを第1層とし、アルミニウムを第2層とする積層
配線27により接続されている。プラズマCvD法で形
成した窒化シリコンからなる絶縁膜層28を介して、第
2の透明表示電極22を設ける。
ここで第1及び第2の透明表示電極は厚さ700人のI
TO層で形成した。本実施例では、第1の透明表示電極
は信号線29と十分な間隔をもって形成し、これら電極
間の短絡不良の発生を防ぐ。
又、第2の透明表示電極22は信号線29と第1の透明
表示電極端辺との中間に設け、表示面積の拡大を計った
。上部ガラス基板lb上の光遮蔽層23は、第2の透明
表示電極22の拡大に伴なって狭くでき、実質的な開口
率を改善できた。
なお、本実施例では第2の透明表示電極がどの電極とも
接続されず回路的に遮断されているが、第1の透明表示
電極と上部ガラス基板1b上に設けられた透明表示電極
30との間に形成された蓄積容量に書き込まれた電位の
うち、第2の透明表示電極位置における電気容量の分圧
分が透明表示極22に印加されるため、その上の液晶層
の透過率を変調することができる。従って、透明表示電
極21と22から構成される容量は、透明表示電極22
と電極30から構成される容量よりも大きい方が効率的
に望ましい。本実施例では、絶縁層28の厚さを500
0人、液晶層12の厚さを6000Aとし、容量比で約
10=1の比率とした。
第2の実施例 本発明による第2の実施例を第2図及び第3図を参照し
ながら説明する。第2図(a)は本実施例の断面図、(
b)はアレイ基板の平面図であるが、(b)のB−B’
 による断面が(a)のアレイ基板部である。基本的構
成は第1の実施例と全く同一である。モリブデン・タン
タル合金膜を第1層とし、タンタルを第2層とする積層
構造のゲート配線36a、36b及びモリブデンを第1
層とし、アルミニウムを第2層とする積層構造の信号線
35a、35bで囲まれる領域に第2の透明表示電極が
自己整合した形状で配置されている。ゲート電極は厚さ
1000人のモリブデン・タンタル合金薄膜と厚さ15
00人のタンタル膜で形成され、信号線は厚さ500A
のモリブデン膜と厚さ4000人のアルミニウムで形成
されている。基板裏面からの照射光15は実質的に第2
の透明電極電位で変調可能な液晶層を全て通過すること
になり、利用可能な最大の開口率を実現している。
この第2の透明表示電極32の製造方法を示したものが
第3図である。第1の透明表示電極上に設けた窒化シリ
コン膜47上に厚さ700人の透明電極ITO48を成
膜し、その上にネガ型レジスト49を塗布する。ガラス
基板41の裏面から紫外線光を照射する。紫外線光は厚
さ3000人の窒化シリコン膜のゲート絶縁層43、第
1の透明表示電極45、窒化シリコン層47及び第2の
透明表示電極48を通して電極配線以外の領域のレジス
ト層49aを感光させる。その後現像及びエツチングを
行ない(33図(b) ) 、第2の透明表示電極パタ
ーンを自己整合させて形成した。
この自己整合パターンは、上記方法に限らずポジ型レジ
ストと透明電極のりフトオフにより形成することが可能
である。
本実施例では、基板1a裏面からの照射光は実質的に表
示領域のみを通過するため、光遮蔽層は不要となり、利
用可能な最大限の開口率が実現できた。
第3の実施例 第5図に本発明による液晶表示装置の第3の実施例を示
す。本実施例は前記2実施例が透過型であるのに対して
、反射型の液晶表示装置の例を示す。ガラス基板1a及
び1bと、両ガラス基板にはさまれた液晶層57から成
るが、ガラス基板1a上には前記実施例と同様にアモル
ファスシリコンからなる薄膜トランジスタアレーが形成
されている。本実施例では反射型のため、表示電極52
及びトランジスタに接続される電極55は、透明電極で
ある必要はない。本実施例では、電極55は信号線電極
6aと同一のCrを用いて、同時に形成した。反射電極
52は厚さ1μmの有機絶縁膜57上に、厚さ2000
人のアルミニウムを用いて形成した。その配置は第5図
(b)の平面図及び平面図のC−C’綿線上断面図であ
る第5図(a)に示す。入射光58は、表示用反射電極
52上で反射され、5つの経路をたどる、反射電極52
は、トランジスタのチャンネル部(電極6a及び6bで
囲まれた領域)上に設けられ、入射光58が直接トラン
ジスタに照射するのを防止するように構成する。こうす
ることにより、外光によるトランジスタのオフ電流の増
加を防止することができる。なお、表示電極52は、な
るべく、信号線電極6aとの寄生容量が最少となるよう
に構成することが望ましい。本実施例の液晶表示装置は
、プロジェクション用の表示装置として、使用できるよ
うに形成された。プロジェクション用では、入射光58
はほぼ平行光線であり、反射光59も平行光線である必
要があるが、このため、電極52の表面は鏡面に近いほ
どよい。本液晶表示装置では光の反射領域を配線領域あ
るいはTPT領域上に拡げることができるため、実質的
に反射率を高めることができる。更に、従来の反射型液
晶表示装置では電極55と52を絶縁膜57中にスルー
ホールを介して接続するため、このスルーホール部での
光の反射角の変化により効率が低下し、ていたが、本実
施例では、スルーホールを形成しないため、このような
乱反射が生じない。特に、小さな表示基板面積に、高精
細に多画素を集積したプロジェクション用反射型液晶表
示装置では、この効果が大きい。更に、信号線6aと電
極55が電気的にショートしていても、電極52と分離
されているため、電極52が、対向電極9、等と電気的
にショートしていても、線欠陥が発生し、にくいという
利点がある。勿論、電極55と信号線6aとの距離を十
分保ち、点欠陥が発生しにくい構成も容易にとれ、かつ
、表示電極52は十分°広くできるため、効率の優れた
高い表示性能を得ることができる。
[発明の効果] 本発明によれば、短絡による不良が回避でき、かつ実行
的な表示領域となる開口率を増大できるため、高歩留り
で表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図及び第5図は本発明の一実施例の概略図
、第3図は本発明の一実施例の製造工程を示す図、第4
図は従来の液晶爪装置の概略図である。 1、a、lb・・・ガラス基板、2・・・ゲート電極、
3・・・ゲート絶縁膜、4・・・アモルファスシリコン
膜、5・・・透明表示装置、6・・・・ソース・ドレイ
ン電極、7・・・絶縁層、8・・・配向膜、9・・・透
明導電膜、10・・・カラーフィルタ層、11・・・光
遮蔽層、12・・・液晶層、21.31・・・第1の透
明表示電極、22゜32・・・第2の透明表示電極。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板と、基板上に設けられた複数個の薄膜トラン
    ジスタと、各薄膜トランジスタに接続された信号線及び
    ゲート配線と、薄膜トランジスタのドレイン電極に接続
    され薄膜トランジスタから印加された電位を蓄える第1
    の表示電極と、 前記薄膜トランジスタ、信号線、ゲート配線及び第1の
    表示電極を覆った絶縁膜と、前記絶縁膜上の前記第1の
    表示電極と対向した位置に設けられ、前記第1の表示電
    極から容量結合により電位を受ける複数の第2の表示電
    極を有するアレイ基板と、 前記第2の表示電極と対向した位置に透明導電膜を有す
    る透光性基板と、 前記アレイ基板と透光性基板との間に挟持された液晶層
    を具備することを特徴とする液晶表示装置。
  2. (2)前記第1の表示電極及び第2の表示電極が透明で
    あることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
  3. (3)前記第2の表示電極は、対応する第1の表示電極
    よりも大きく、第1の表示電極を覆うように設けられて
    いることを特徴とする請求項1又は2記載の液晶表示装
    置。
  4. (4)前記第2の表示電極が、信号線及びゲート配線に
    囲まれた領域とほぼ同じ形状及び大きさであることを特
    徴とする請求項1又は2記載の液晶表示装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10268340A (ja) * 1997-03-26 1998-10-09 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置
US6154264A (en) * 1996-07-22 2000-11-28 Nec Corporation Reflective liquid crystal display with gate covering semiconductor and reflector isolated from pixel electrode
JP2006106780A (ja) * 2002-09-30 2006-04-20 Seiko Epson Corp 電気光学装置および電子機器
JP2013257530A (ja) * 2012-06-12 2013-12-26 Hannstar Display Corp 液晶ディスプレイパネル及びその画素アレイ基板
JP2014102510A (ja) * 2013-12-25 2014-06-05 Semiconductor Energy Lab Co Ltd 表示装置

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