JPH0310253A - フォトマスクの処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 本発明は集積回路の製造に使用するフォトマスクの現像
・エツチングの処理方法に関し。

均一な現像・エツチングによるパターン寸法の精度の向
上を目的とし。

薬液が処理槽の下部より均一な層流となって上４昇して
（る循環式処理槽において、処理面を上側にして、複数
のフォトマスクを２間隔をあけて並列に傾斜保持し、且
つ２列の処理面側の端に、ダミープレー１・を間隔をあ
けて並列して傾斜保持することにより構成する。

〔産業上の利用分野〕

本発明は集積回路の製造に使用するフォトマスクの現像
・エツチングの処理方法に関する。

近年、■Ｃ用パターン形成に使用するフォトマスクの精
度は、パターンの微細化と集積度の向上にともない、益
々要求が厳しくなっている。

このため、この要求にこたえる寸法精度の均−且つ微細
な現像・エツチングの処理方法を開発する必要がある。

〔従来の技術〕

第３図に従来例の説明図を示す。

図において２１４は処理槽、１５は供給口、１６は薬液
、１７はオーバーフロー槽、１８ば送液パイプ、〕９は
整流板５２０はマスクホルダー、２１はフォトマスクで
ある。

現在、このフォトマスクの現像やエツチング処理は、薬
液中で行う浸漬方法が従来多く用いられてきた。

即ち、第３図に装置の模式断面図で示すように現像装置
の上部に処理槽１４が設置され、下部の供給口１５から
ポンプにより薬液１６が循環供給され処理槽１４の上部
壁面よりオーバーフロー槽１７に流下し、送液パイプ１
８を通して再び処理槽１４に還流する構造となっている
。

又、薬液１６は処理の間、常時還流しており、流量の均
一性を保ち層流とするために、整流板１９を処理槽の下
部に設けている。

しかし、常時循環しているために、薬液１６の対流がマ
スクホルダー２０内にセットされたフォトマスク２１の
下部或いは上部で起こり２　フォトマスク２１の処理面
を通過する薬液の量が処理面の各部で異なり、フォトマ
スク２１の中央部に比べて、上下の現像の進み具合が速
くなり、パターンの仕上がり寸法が変わってくる。

〔発明が解決しようとする課題］ 従って、従来の浸漬方法では、薬液の対流等により、パ
ターン寸法の精度が０．１μｍ、又はそれ以上の精度が
要求される状況では、目標基準値フォトマスク内のばら
つき、フオｉ・マスク間のばらつき、いずれにも対応で
きず、下層からの流量が均一になるようにしても、フォ
トマスクの上下の寸法に差がでてしまう。

本発明は、このフォトマスクの浸漬による薬液処理にお
いて、フォトマスクのセット方法の見直しを行い、均一
な現像・エツチングによるフォトマスクのパターン精度
の向上を目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

第１図は本発明の原理説明図である。

図において、１はフォトマスク、２はフォトマスクの処
理面である。又、実線は薬液の流れを示し２点線は薬液
処理によるフォトマスク処理面の反応生成物の離脱を示
す。

第１図（ａ）に示すように、薬液中のフメトマスク１の
セットを現状の垂直設置から、処理面２を上側に向けて
、斜倒したセット方法に変更する。

このようにセットすると、下層から整流板等を通過して
２層流となって並列したフメトマスクとフォトマスクの
間に流入する。

薬液は処理面に直接当たらず、薬液の置換が円滑となり
、又薬液の反応による反応生成物の離脱も均−且つ速や
かに行われる。

実施例におけるフォトマスク内の上下の位置と現像速度
（パターン寸法に比例）の関係を第１図（Ｃ）に示す。

フォトマスクの上下各部で均一性が確保されている。

第１図（ｂ）に従来の垂直設置の場合のフォトマスク内
の上下の位置と現像速度の関係を比較して示す。

〔作用〕

本発明では、従来のフォトマスクの垂直設置から、斜倒
設置に変更しており、薬液のフォトマスク面に対する作
用が現像・エツチング等の薬液処理中に均一に保たれる
と同時に、フォトマスクの処理面での薬液の置換や反応
生成物の離脱がより速やかに行われる。

〔実施例〕

第２図は本発明の一実施例の模式説明図である。

図において、３は薬液、４はフォトマスク、５は処理槽
、６はオーバーフロー槽、７はポンプ８は送液パイプ、
９はフィルター、１０はドレーン１１は整流板、１２は
マスクホルダー、１３はダミープレートである。

２２図（ａ）にフォトマスクの現像・エツチング等に使
用する薬液処理装置の模式断面図を示す。

処理装置は薬液３を満たし、槽中でフォトマスク４を処
理する処理槽５．薬液のオーツー−フロー槽６．薬液を
循環するためのポンプ７と送液バイプ８．薬液処理の反
応生成物等を濾過するフィルター９．薬液や洗浄水を排
出するドレーン１０等から構成され、薬液３を層流にし
て、下方から処理槽に送り込むための整流板１１が処理
槽５の底部に設置されている。

フォトマスク４を斜削して等しい間隔に前後並列してセ
ットするように作られたマスクボルダ−１２に、５イン
チのフォトマスク４を８枚、処理面を上側に向けて並列
して入れる。その際に一番手前のフォトマスク８の前に
、ダミープレート１３を１枚、同様にセットする。

フォトマスク４の処理面は現像の場合も、エツチングの
場合も、ガラス基板上に蒸着したクロム膜面にレジス°
ト膜が被覆されたものである。

ヱ 薬液処理の場合５循環用のポンプ碍を運転して薬液３を
処理槽５の底部の整流板１１を通じて処理槽５内に送り
込む。

薬液３は層流となって、マスクボルダ−１２の下面より
斜削並列したフォトマスク４とフォトマスク４の間を通
過し、処理槽５の上面からオーバフローして、オーバー
フロー槽６に流下し　フィルター９で濾過されて、再び
処理層５の底部から還流する。

第２図（ｂ）にフォトマスク４．ダミープレート１３．
処理槽５．整流板１１の関係を示す斜視図を示す。

ここで使用した整流板１１は、第２図（Ｃ）に示すよう
に、パンチングプレートを使用し１層流効果を得るため
にプレートの孔の径は中心部がら周囲に向かって徐々に
大きくしである。

現像・エツチングが所定時間で終了したら、ドレーン１
０より薬液３を排出し、洗浄水を処理槽５に供給して５
洗浄を行って、薬液処理を終了する。

現像・エツチング等の薬液処理を行ったフォトマスクの
パターン精度は従来の方法に比べて５均−且つ精度の良
いものが得られた。

〔発明の効果〕

本発明により、フォトマスク内の上下の寸法差が±０．
２μｍから±０．１μ川となった。

又、フォトマスク間の寸法差も殆ど無くなり均一なパタ
ーンが得られた。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の原理説明図 第２図は本発明の一実施例の説明図。 第３図は従来例の説明図 である。 図において。 １はフォトマスク、　　２は処理面 ３は薬液、　　　　　　４はフォトマスク５は処理槽、
　　　　　６はオーバーフロー槽。 ７ばポンプ、　　　　　８は送液パイプ９はフィルター
　　　１０はドレーン １１は整流板、１２はマスクボルダ− １３はダミープレート （ｂ） （Ｃ） 杢循Ｂ月の原理説明図 第　１　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 薬液が処理槽の下部より均一な層流となって上昇してく
   る循環式処理槽において、 処理面を上側にして、複数のフォトマスクを、間隔をあ
   けて並列に傾斜保持し、 且つ、列の処理面側の端に、ダミープレートを間隔をあ
   けて並列して傾斜保持することを特徴とするフォトマス
   クの処理方法。