JPH02979A - フレキソ印刷に使用するための、現像されたレリーフ印刷版の後処理法 - Google Patents
フレキソ印刷に使用するための、現像されたレリーフ印刷版の後処理法Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/40—Treatment after imagewise removal, e.g. baking
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2022—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure
- G03F7/2024—Multi-step exposure, e.g. hybrid; backside exposure; blanket exposure, e.g. for image reversal; edge exposure, e.g. for edge bead removal; corrective exposure of the already developed image
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
不発明は、常伝で84元されている、7レキソ印刷用の
現像されたレリーフ印刷版θ説処理法VcLAIする。
現像されたレリーフ印刷版θ説処理法VcLAIする。
従来の技術
−)役に、感光性7レキン印刷板に多ノー材料より成る
。九いてぃの場合、それは寸法女足な支持材、接7w注
層1弾性バインダー i廿可能な単量体1元開始剤及び
−曾によシ奈加物を含有する一般に厚さ0.5〜7JI
IIの元″i会性又は光架橋性弾性層、不粘着性カバー
層〔′jfL合体オーバーコート〕及び分離可能な保護
フィルムから成っている。
。九いてぃの場合、それは寸法女足な支持材、接7w注
層1弾性バインダー i廿可能な単量体1元開始剤及び
−曾によシ奈加物を含有する一般に厚さ0.5〜7JI
IIの元″i会性又は光架橋性弾性層、不粘着性カバー
層〔′jfL合体オーバーコート〕及び分離可能な保護
フィルムから成っている。
支持材は金属あるいは有利には寸法f足な透明なプラス
チックフィルムよシ成りていてよい。
チックフィルムよシ成りていてよい。
支持材は、印刷工程vc 2いて、暑曾によシ畝ミリメ
ートルの厚さの弾性層の寸云女定性を補強しかつ維持す
るのに有用である。元硬化注ノーで支持材に強固に顔廿
するには艦ffi性層が必袂で必り、これは例えば西ド
イツ国時計公開第31 LIOI 75号INfa簀、
同i3107741号明−書最明第2444118最
明両釜及び同M3137416最明細誓に記載されてい
るようなポリウレタン又はポリクロロプレン上ベースと
する一成分系又は二成分系接盾刑、J1合性/It (
米国特許第3LI36913号明則書〕又はポリ塩化ビ
ニル及びポリ静寂ビニルの混合物(西ドイツ画特許公開
第3319676号明細最明より成る。ヨーロッパ公開
特許第64564最明則書には、同じ目的に使われる特
別なポリエステルとポリアミド、ポリウレタン又はポリ
オレフィンとの混合物が開示されている。西ドイツ国籍
吐出順第P5740452.6号明細書にクロロスルホ
ネート化ポリエチレンf:を有する接層性ノーが開示さ
れている。
ートルの厚さの弾性層の寸云女定性を補強しかつ維持す
るのに有用である。元硬化注ノーで支持材に強固に顔廿
するには艦ffi性層が必袂で必り、これは例えば西ド
イツ国時計公開第31 LIOI 75号INfa簀、
同i3107741号明−書最明第2444118最
明両釜及び同M3137416最明細誓に記載されてい
るようなポリウレタン又はポリクロロプレン上ベースと
する一成分系又は二成分系接盾刑、J1合性/It (
米国特許第3LI36913号明則書〕又はポリ塩化ビ
ニル及びポリ静寂ビニルの混合物(西ドイツ画特許公開
第3319676号明細最明より成る。ヨーロッパ公開
特許第64564最明則書には、同じ目的に使われる特
別なポリエステルとポリアミド、ポリウレタン又はポリ
オレフィンとの混合物が開示されている。西ドイツ国籍
吐出順第P5740452.6号明細書にクロロスルホ
ネート化ポリエチレンf:を有する接層性ノーが開示さ
れている。
この盟の感光性7レキソ印刷板t−画家に相応して露光
する際に、光Jl[廿体ノーの1塚区域が元JE@−す
るか又は光架腐する。未硬化層区域を好適な浴剤により
抗浄除云した便で、ゴム弾性レリーフ印刷版が得られ、
これを一般に化学−で再露光して更に硬化させることが
できる◎元厘会体層の)vIi1表面では、恐らくそこ
の成木4度が高いので光λ会は不完全にしか進行しない
。不完全なAL会は粘7#性の印刷&表面によシ明らか
である。
する際に、光Jl[廿体ノーの1塚区域が元JE@−す
るか又は光架腐する。未硬化層区域を好適な浴剤により
抗浄除云した便で、ゴム弾性レリーフ印刷版が得られ、
これを一般に化学−で再露光して更に硬化させることが
できる◎元厘会体層の)vIi1表面では、恐らくそこ
の成木4度が高いので光λ会は不完全にしか進行しない
。不完全なAL会は粘7#性の印刷&表面によシ明らか
である。
粘、’it性表面表面この板材を印刷版として使用する
場合に不利である。印刷工程で、例えば紙のはこシが積
増性の板に接着し、その結末印刷の品質が低下する。他
方、積増性の板金偵み亘ねると相互に分離するのが極め
て内錐である。
場合に不利である。印刷工程で、例えば紙のはこシが積
増性の板に接着し、その結末印刷の品質が低下する。他
方、積増性の板金偵み亘ねると相互に分離するのが極め
て内錐である。
不利な表面積層性き解消するために種々の方法を通用す
ることができる・ 遊−ハロゲノ又はハロゲノを放出する物JXを含有する
水浴液による後処理が実際には一般的で6る。例えば、
印刷版t−Na0C1及びHC’tの水浴液中に浸漬す
るか又は臭素溶液(西ドイツ国特許第2823300号
8A細書)、湿潤剤を含有゛する臭素溶液(西ドイツ−
荷吐公開第2521955号#1A11又は沃素浴液(
西ドイツ1時吐公開第3L171141−Q明細★〕で
処理することができる。二真の処理、即ち初めVC臭素
又は沃素浴中で、仄VCNa0CtハCt浴中で処理す
るのが推奨されている(ヨーロッパ公開時tfF第01
:J96835号明最明=米田時庁第4451553号
明号明〕。
ることができる・ 遊−ハロゲノ又はハロゲノを放出する物JXを含有する
水浴液による後処理が実際には一般的で6る。例えば、
印刷版t−Na0C1及びHC’tの水浴液中に浸漬す
るか又は臭素溶液(西ドイツ国特許第2823300号
8A細書)、湿潤剤を含有゛する臭素溶液(西ドイツ−
荷吐公開第2521955号#1A11又は沃素浴液(
西ドイツ1時吐公開第3L171141−Q明細★〕で
処理することができる。二真の処理、即ち初めVC臭素
又は沃素浴中で、仄VCNa0CtハCt浴中で処理す
るのが推奨されている(ヨーロッパ公開時tfF第01
:J96835号明最明=米田時庁第4451553号
明号明〕。
しかしこの溶液は攻隼的で、腐食作用含有する。
それと共に、印刷版をUV庫の作用下にフリーラジカル
を形成するカルボニル化曾物の浴液で処理し、次いで短
波長のσV朦で照射することもできる(米国時計M42
02696最明細誉)。しかしこの方法は、健康を損な
いかつその発生には特別な灯を必要とするσV[(20
0〜300 nm )を使用するといり欠点を有する。
を形成するカルボニル化曾物の浴液で処理し、次いで短
波長のσV朦で照射することもできる(米国時計M42
02696最明細誉)。しかしこの方法は、健康を損な
いかつその発生には特別な灯を必要とするσV[(20
0〜300 nm )を使用するといり欠点を有する。
更に、露光時間が比較的長い(15分間まで)。
他の方法によれば、粘盾注印JIIIIRを、光ム曾注
単菫体及び光開始剤を含有する水性浴中に浸償しなから
av4vc露光すル(WO86/L]2177号明i#
A★)。
単菫体及び光開始剤を含有する水性浴中に浸償しなから
av4vc露光すル(WO86/L]2177号明i#
A★)。
この方法の欠点は、軸IROかかる特別な装置を必要と
しかつ使用する溶液又は分散液が安定ではないことで6
る。
しかつ使用する溶液又は分散液が安定ではないことで6
る。
更に、印刷版を不活、#注バインダー 光単合・注単産
体及び光間#!刑t−含有する溶液で被覆することがで
き、久にUV巌に露光する(西ドイツ!tit特許公開
第3704067号明細書〕。しかしこの皮層は比較的
硬質でめりかつ印刷版の7レキシビリテイを低下させる
。
体及び光間#!刑t−含有する溶液で被覆することがで
き、久にUV巌に露光する(西ドイツ!tit特許公開
第3704067号明細書〕。しかしこの皮層は比較的
硬質でめりかつ印刷版の7レキシビリテイを低下させる
。
最も広く通用されるA素含有浴中でO後処理は前記の欠
点tiするばか9でなく、オゾン含有空気と接触する際
に印刷版の亀裂形成を強める。亀裂形成は印刷版を使用
できなくする。亀裂の故及びその装置は弾性光1合体層
の組成に左右される。オゾン防止剤、可臘剤及びオレフ
イン二点納会全含有しないニジストマー全使用すること
により亀裂形成は低fし得る。しかしながら、光重合の
際に良好な慎械脣注で有しかつそれと同時にオゾンに対
する低い感度で有するレリーフ印刷版で生成する相暦曲
でsII注の好適な組成物を見出すことは固層でめる。
点tiするばか9でなく、オゾン含有空気と接触する際
に印刷版の亀裂形成を強める。亀裂形成は印刷版を使用
できなくする。亀裂の故及びその装置は弾性光1合体層
の組成に左右される。オゾン防止剤、可臘剤及びオレフ
イン二点納会全含有しないニジストマー全使用すること
により亀裂形成は低fし得る。しかしながら、光重合の
際に良好な慎械脣注で有しかつそれと同時にオゾンに対
する低い感度で有するレリーフ印刷版で生成する相暦曲
でsII注の好適な組成物を見出すことは固層でめる。
元ム盆体言有のははナベての市販の7レキソ印刷板では
、光厘@一体ノーが尚い11!I会のオゾン防止剤を含
有している一Iji1/&でもオゾンに対する安定性t
−改良する必要がある。それ故、種々の後処理法が従系
されて29、それは既に不活層性にした印刷版金貯鷺す
る際に亀裂形yt−阻止することである。
、光厘@一体ノーが尚い11!I会のオゾン防止剤を含
有している一Iji1/&でもオゾンに対する安定性t
−改良する必要がある。それ故、種々の後処理法が従系
されて29、それは既に不活層性にした印刷版金貯鷺す
る際に亀裂形yt−阻止することである。
その1つの方法は、印刷版を有機溶剤中のニッケルー又
は亜鉛ジアルキルジチオカルバメートO溶液で処理する
ことである・(ヨーロッパ公開特許第0137331号
明細薔最明両心しこの使用する溶液は生理的に危険であ
るという欠点と有する。
は亜鉛ジアルキルジチオカルバメートO溶液で処理する
ことである・(ヨーロッパ公開特許第0137331号
明細薔最明両心しこの使用する溶液は生理的に危険であ
るという欠点と有する。
他の方法によれば、レリーフ印刷版をアルコール性ポリ
アミド溶液で被覆する(西ドイツ国荷岬公開第3415
044号明細最明かあるいは液体ポリグリコールエーテ
ルで処理する(西ドイツ国脣吐公開第3512632号
明i最明)。
アミド溶液で被覆する(西ドイツ国荷岬公開第3415
044号明細最明かあるいは液体ポリグリコールエーテ
ルで処理する(西ドイツ国脣吐公開第3512632号
明i最明)。
これらの方法μ、印刷操作の前めるいはそり後でも印刷
版を保護するが、印刷工程の間ではオゾンから印刷版を
保護する物置は印刷インキの層剤によって洗い流される
。
版を保護するが、印刷工程の間ではオゾンから印刷版を
保護する物置は印刷インキの層剤によって洗い流される
。
グ”a Eglが解決しようとする課題それ故、本発明
の目的は、 〜スピーデイかつ藺単に行なわれ、 −腐食性の浴Q金使わず、 一オゾン含有g!、気に対する印刷版の安定性を永久的
に高め、かつ 一印刷版の表面の粘看注を除く、 現ブ域された印刷版の後処理法を開示することである。
の目的は、 〜スピーデイかつ藺単に行なわれ、 −腐食性の浴Q金使わず、 一オゾン含有g!、気に対する印刷版の安定性を永久的
に高め、かつ 一印刷版の表面の粘看注を除く、 現ブ域された印刷版の後処理法を開示することである。
課題を解決するための手段
本発明の目的は、常法で再露光されている、7レキン印
刷に使用するための、現像されたレリーフ印刷版Ltl
le処理する方法t−開示することで69、その方法は
販しリーフ#]刷版茫、主に有機溶剤及びその中に溶解
して込る一般式1:のアリール−又はへタリールービス
−トリハロrツメチルーa−トリアゾンより成る溶液で
処理し、レリーフ印刷版を乾諌し、かつその説短時間U
v#に再露光することを包含する。
刷に使用するための、現像されたレリーフ印刷版Ltl
le処理する方法t−開示することで69、その方法は
販しリーフ#]刷版茫、主に有機溶剤及びその中に溶解
して込る一般式1:のアリール−又はへタリールービス
−トリハロrツメチルーa−トリアゾンより成る溶液で
処理し、レリーフ印刷版を乾諌し、かつその説短時間U
v#に再露光することを包含する。
本発明方法は、尤ム曾体を含有しかつ粘盾注の表面盆暮
するすべての光硬化・注フレキン#J刷版に通用すると
有利である。史に、光嵐廿体を含有する他の非ゴム弾性
の積層性印刷版に通用することもできる@一般に、本方
法は固体重合体層の粘滑性を低下させるのに好適である
。
するすべての光硬化・注フレキン#J刷版に通用すると
有利である。史に、光嵐廿体を含有する他の非ゴム弾性
の積層性印刷版に通用することもできる@一般に、本方
法は固体重合体層の粘滑性を低下させるのに好適である
。
一般式1の化曾物において、
Yは場合によりtIt換さルている芳香族又はヘテロ環
式芳香族の、場合によF)A役アルケニレン鎖9時に(
CsへCs )アルケニレン金片して又は不飽和環−C
−原子を介してMfしている揚せにより部分水素化され
ている基を衣わし、この基は更にmftにより特にアリ
ール又eよAr (CB″−Ca )アルケニレンによ
シ直洟さ1ており、かつ Kは塩素原子、臭素原子又は沃素原子、殊に塩素原子を
表わす。
式芳香族の、場合によF)A役アルケニレン鎖9時に(
CsへCs )アルケニレン金片して又は不飽和環−C
−原子を介してMfしている揚せにより部分水素化され
ている基を衣わし、この基は更にmftにより特にアリ
ール又eよAr (CB″−Ca )アルケニレンによ
シ直洟さ1ており、かつ Kは塩素原子、臭素原子又は沃素原子、殊に塩素原子を
表わす。
好適なIt置換基例に次の通りで必る:ハログン、殊に
塩素及びX素、殊に炭素原子1〜31固を有する場合に
より置換されている低級アルキル基、場合によジ置換さ
れている7リール基、ニトロ基、スルホニル基、アルキ
ルメルカプト基、フェニルメルカプト基、アシル感アリ
ールオキシ基、ヒドロキシ基及び殊にアルコA”/ M
* %に有利にはハロrン、フェニル又はフェノキシ
によりf換されかつ各々のメチレン基が〇−又はS架橋
基によシ代えられていてもよい(CaNO8)アルコキ
シ基、韮びにフェノキシ基、シクロアルコキシi及びア
ルケニルオキシ基。
塩素及びX素、殊に炭素原子1〜31固を有する場合に
より置換されている低級アルキル基、場合によジ置換さ
れている7リール基、ニトロ基、スルホニル基、アルキ
ルメルカプト基、フェニルメルカプト基、アシル感アリ
ールオキシ基、ヒドロキシ基及び殊にアルコA”/ M
* %に有利にはハロrン、フェニル又はフェノキシ
によりf換されかつ各々のメチレン基が〇−又はS架橋
基によシ代えられていてもよい(CaNO8)アルコキ
シ基、韮びにフェノキシ基、シクロアルコキシi及びア
ルケニルオキシ基。
便用することのでさる芳gj族基にはフェニル着、双環
式基又は多環式基が含まれ、ヘテロ環式芳香族化会物も
また包含される。
式基又は多環式基が含まれ、ヘテロ環式芳香族化会物も
また包含される。
好適な芳香族iの例には次のものが言まnる:ナフタリ
ン、アントラセン、7エナントレン。
ン、アントラセン、7エナントレン。
キノリン、イソキノリン、ベンゾフラン、ベンゾビラン
、ゾベンゾ7ラン、ベンゾチオフェン。
、ゾベンゾ7ラン、ベンゾチオフェン。
ゾベンゾチオ7エン、アセナンテン、ペングオキサゾー
ル、フルオレン、テトラヒドロ7エナントレン及ヒジヒ
ドロ7エナリン。
ル、フルオレン、テトラヒドロ7エナントレン及ヒジヒ
ドロ7エナリン。
Yがアリール基又はアルアルケニルSt−表わす場合、
この基はへログン、殊に項素、アルコキシ、殊に(CI
S−06)アルコキシ、アルキル。
この基はへログン、殊に項素、アルコキシ、殊に(CI
S−06)アルコキシ、アルキル。
1ic(C1〜C4)フルキル、アリルオキシ、ヒドロ
キシ、又はアルキルによジ置換されていてもよいアミン
により置換されていると有利である。
キシ、又はアルキルによジ置換されていてもよいアミン
により置換されていると有利である。
アリールがフェニルである場合、これは2位及び/又は
4位で置換されていると有利であるが、置換基がアルコ
キシでめる場合には3泣及び/又は4位でも置換される
。
4位で置換されていると有利であるが、置換基がアルコ
キシでめる場合には3泣及び/又は4位でも置換される
。
前記の置換基は、Yが株に(CaNO3) yルケニレ
ン金含有するアルフルケニレン基を狭わす場合にも該当
し得る。スチリル−及び7エ二ルデタゾエニル化曾物が
殊に優れている。
ン金含有するアルフルケニレン基を狭わす場合にも該当
し得る。スチリル−及び7エ二ルデタゾエニル化曾物が
殊に優れている。
妹に、アルケニル基によりトリアゾン環に結会している
芳香族基には仄のものが含まれるニスチリル−4−メf
ルスチリルー、4−クロロステリル−2−ヒドロ中ジス
チリルー4−メトキシステリル−4−6−ブトキシスチ
リル−4−アミルオキシスチリル−4−7リルオキシス
テリルー 6−メドキシー4−ヒドロキシ−スチリル−
2,4−ゾメトΦジスチリル−6,4−ジメトキシスチ
リル−4−ゾメチルアミノスチリルー、フェニル−ブタ
ジェニル−4−ジメチルアミノフェニル−ブタジェニル
及び3−(N−エチル−ベンゾオキサシリル−2−イデ
ン)−プロペン−1−イル−0 Yが、トリアゾン環にアルケニル基金介して納会してい
ないアリールS全表わす揚会、このアリール基はフェニ
ル、ナフチルあるいは前記の双環式又は多環式の、また
へテロ環式の化会物の1つでらると有利である。これは
前日己の一般的な置倶基金有するかめるいはアリール又
はAr (C2〜C6)アルケニルでtIty4されて
いてもよい。このItf!A基を有する芳香族澁が7エ
二ルである場合、Ar (C2〜Ca )アルケニルに
よる置換が優れている。Ar (CB )アルケニル基
が殊に優れており、殊にこの置換基は4位に存在する。
芳香族基には仄のものが含まれるニスチリル−4−メf
ルスチリルー、4−クロロステリル−2−ヒドロ中ジス
チリルー4−メトキシステリル−4−6−ブトキシスチ
リル−4−アミルオキシスチリル−4−7リルオキシス
テリルー 6−メドキシー4−ヒドロキシ−スチリル−
2,4−ゾメトΦジスチリル−6,4−ジメトキシスチ
リル−4−ゾメチルアミノスチリルー、フェニル−ブタ
ジェニル−4−ジメチルアミノフェニル−ブタジェニル
及び3−(N−エチル−ベンゾオキサシリル−2−イデ
ン)−プロペン−1−イル−0 Yが、トリアゾン環にアルケニル基金介して納会してい
ないアリールS全表わす揚会、このアリール基はフェニ
ル、ナフチルあるいは前記の双環式又は多環式の、また
へテロ環式の化会物の1つでらると有利である。これは
前日己の一般的な置倶基金有するかめるいはアリール又
はAr (C2〜C6)アルケニルでtIty4されて
いてもよい。このItf!A基を有する芳香族澁が7エ
二ルである場合、Ar (C2〜Ca )アルケニルに
よる置換が優れている。Ar (CB )アルケニル基
が殊に優れており、殊にこの置換基は4位に存在する。
殊に、この場合に使われるアリールはフェニルである。
Yが、II&s合VCより置換されているフェニルを表
わす例を次に記載する: フェニル−4−クロルフェニル−4−メトキシフェニル
−2,4−ジクロロフェニル4−フェニルフェニル−0 YdjAr(Cl−Ca )アルケニルによシ置換され
ているフェニルを表わす場合の例f:久にdd域する: 4−スチリルフェニル−4−p−/)キシスチリル−フ
ェニル−4−p−メチルスチリル−フェニル−4−p−
/ロロスチリルー フェニル−4−o−/コロステリル
−フェニル4−m−クロロスチリル−フェニル−4−p
−ブロモスチリル−フェニル−4−m。
わす例を次に記載する: フェニル−4−クロルフェニル−4−メトキシフェニル
−2,4−ジクロロフェニル4−フェニルフェニル−0 YdjAr(Cl−Ca )アルケニルによシ置換され
ているフェニルを表わす場合の例f:久にdd域する: 4−スチリルフェニル−4−p−/)キシスチリル−フ
ェニル−4−p−メチルスチリル−フェニル−4−p−
/ロロスチリルー フェニル−4−o−/コロステリル
−フェニル4−m−クロロスチリル−フェニル−4−p
−ブロモスチリル−フェニル−4−m。
p−1メトキシスチリル−フェニル−4−p−!)l/
スチリル−フェニル−4−m B mgP−)リメトキ
システリルフェニル−4−p−ヘキシルスチリル−フェ
ニル−6−クロロ−4−ステリル−フェニル−5−/ク
ロー4−m−クロロスチリル−フェニル−6−クロロ−
4−p−メチルステリル−フェニル−及ヒ2−スチリル
−フェニル−0 Yがナフチル基である場合、それは一般式fl:〔式中 Ylは氷菓又は−0Y3.殊にoy3t−弐わし、Y、
はH,CL、 Br、低級のアルキル1.アルケニル
基、アリール基又は場合により置換されている( C1
″−C,)アルコキシ基s!A’ic水素。
スチリル−フェニル−4−m B mgP−)リメトキ
システリルフェニル−4−p−ヘキシルスチリル−フェ
ニル−6−クロロ−4−ステリル−フェニル−5−/ク
ロー4−m−クロロスチリル−フェニル−6−クロロ−
4−p−メチルステリル−フェニル−及ヒ2−スチリル
−フェニル−0 Yがナフチル基である場合、それは一般式fl:〔式中 Ylは氷菓又は−0Y3.殊にoy3t−弐わし、Y、
はH,CL、 Br、低級のアルキル1.アルケニル
基、アリール基又は場合により置換されている( C1
″−C,)アルコキシ基s!A’ic水素。
(C1−03)アルキル基又は(Cz−C3)アルコキ
シ基を表わし、かつ Y3はハロゲン、殊に塩素又はX素、アリール基又はア
リールオキシ基によffltmされていてもよくかつそ
れぞれのメチレン基がO又はS架倫iによシ代えられて
いてもよいCCx−Cm)アルキル基、シクロアルキル
晶、アルケニル基又はアリール基、殊に(Cz〜C4)
アルキル−又はアルコキシアルキル基と表わすかあるい
はYlとYλが一緒になってアルキレン基T:表わし、
殊にこれはナフタリン核と納会して5−又は6員環を形
成する〕に相応する。
シ基を表わし、かつ Y3はハロゲン、殊に塩素又はX素、アリール基又はア
リールオキシ基によffltmされていてもよくかつそ
れぞれのメチレン基がO又はS架倫iによシ代えられて
いてもよいCCx−Cm)アルキル基、シクロアルキル
晶、アルケニル基又はアリール基、殊に(Cz〜C4)
アルキル−又はアルコキシアルキル基と表わすかあるい
はYlとYλが一緒になってアルキレン基T:表わし、
殊にこれはナフタリン核と納会して5−又は6員環を形
成する〕に相応する。
8−トリアゾニル基及びアルコキシ基がナフタリン環の
1,4−又は2.6−位に存在する化合物も優れている
。
1,4−又は2.6−位に存在する化合物も優れている
。
アルコキシ基中に含まれる炭素原子の数は開始剤の光化
学的作用に対して著しくは作用しない0で、−0Y5中
のC原子a七8個に制限することは厳密なものではなく
、例えばノニルオキシ2i!、ドデシルオキシ基又はオ
クタデシルオキシ基により中断されていてもよい。
学的作用に対して著しくは作用しない0で、−0Y5中
のC原子a七8個に制限することは厳密なものではなく
、例えばノニルオキシ2i!、ドデシルオキシ基又はオ
クタデシルオキシ基により中断されていてもよい。
詳細にはYrl、欠のナフチル基を包含する:す7トー
1−イル−す7トー2−イル−2−メトキシナフト−1
−イル−4−メトキシナフト−1−イル−5−メトキシ
ナフト−1−イル−14−エトキシナツト−1−イル−
4−ブトキシナツト−1−イル−11−メトキシナフト
−2−イル−6−メドキシナフトー2−イル−96−ノ
ドキシナフト−2−イル−6−ニトキシナフトー2−イ
ル−4,5−ジメトキシナフト−1−イル−4,7−ジ
メト午シナフトー1−イル−4−(2−メトΦジエチル
〕−ナフトー1−イル−4−(2−エトキシエチルクー
ナフト−1−イル−4−(2−シトキシエチル〕−す7
トー1−イル−5−メチル−6−メドキシナフトー2−
イル−及び4−(2−エトキシクーエトキシナフト−1
−・fルー。
1−イル−す7トー2−イル−2−メトキシナフト−1
−イル−4−メトキシナフト−1−イル−5−メトキシ
ナフト−1−イル−14−エトキシナツト−1−イル−
4−ブトキシナツト−1−イル−11−メトキシナフト
−2−イル−6−メドキシナフトー2−イル−96−ノ
ドキシナフト−2−イル−6−ニトキシナフトー2−イ
ル−4,5−ジメトキシナフト−1−イル−4,7−ジ
メト午シナフトー1−イル−4−(2−メトΦジエチル
〕−ナフトー1−イル−4−(2−エトキシエチルクー
ナフト−1−イル−4−(2−シトキシエチル〕−す7
トー1−イル−5−メチル−6−メドキシナフトー2−
イル−及び4−(2−エトキシクーエトキシナフト−1
−・fルー。
Yl及びY2が一緒になってアルキレン基ヲ形戟して、
殊にそれがナフタリン核に結付して5−又は6j4mで
形成する化合物も時に潰れている。その有利なものはア
セナフト−5−イルである。
殊にそれがナフタリン核に結付して5−又は6j4mで
形成する化合物も時に潰れている。その有利なものはア
セナフト−5−イルである。
Yによって表わさ几る他の浚れ7を多環式基には次のも
のが挙げられる: 4−メトヤシ−アンドラン−1−イル−7エナントリー
9−イル−、ベンゾピラン−6−イル−キノール−3−
イル−及びゾベンゾチェン−6−イル一 一般式Iに相応する化合物は公知で69、例えば米国時
ff第第577977考 h”イy 国籍n公RN 23 [] 6248号Fy
im*)。
のが挙げられる: 4−メトヤシ−アンドラン−1−イル−7エナントリー
9−イル−、ベンゾピラン−6−イル−キノール−3−
イル−及びゾベンゾチェン−6−イル一 一般式Iに相応する化合物は公知で69、例えば米国時
ff第第577977考 h”イy 国籍n公RN 23 [] 6248号Fy
im*)。
米国特許第3954475号明細r#(=西ドイツ国特
許公開第2243621号明細書)、米Ln特a’Fi
4239850号qm誉、西トイy(5特許公開第27
18259号明#:i’、 F!jiドイツ国!#吐公
開第2934758号明測書、西ドイツ国特許公開jg
3337024最明細誉に記載されている。
許公開第2243621号明細書)、米Ln特a’Fi
4239850号qm誉、西トイy(5特許公開第27
18259号明#:i’、 F!jiドイツ国!#吐公
開第2934758号明測書、西ドイツ国特許公開jg
3337024最明細誉に記載されている。
範囲300〜5 [J Onm K吸収ピーク含有する
7リールー又はへタリールービス−トリハログツメチル
−5−)リアシンを使用すると虞れている。
7リールー又はへタリールービス−トリハログツメチル
−5−)リアシンを使用すると虞れている。
不発明方!!i!i−において、数種の、殊に2櫨又は
3種のアリール−又はヘタリール−ビスートリハロrツ
メチルーB−,トリアゾンの混合物を使用することもで
きる。
3種のアリール−又はヘタリール−ビスートリハロrツ
メチルーB−,トリアゾンの混合物を使用することもで
きる。
前記のトリアジン晒導体に対して使用することのできる
浴剤は殆んどの有−溶剤、例えば脂肪族及び芳香族の炭
化水X、八へr7炭化水襠。
浴剤は殆んどの有−溶剤、例えば脂肪族及び芳香族の炭
化水X、八へr7炭化水襠。
エーテル、エステル、ケトン、アルコール、ツメチルホ
ルムアミド等でるる。少なくとも2櫨の溶剤の混合v!
Jt使用することもできる。良好な溶屏力を有し、易揮
発性でありかう生理的に安全で必る溶沖j9例えばトル
エン、テトラヒドロ7ラン、酢ばエチル、メチルエチル
ケトン等のようなものが攪れている。
ルムアミド等でるる。少なくとも2櫨の溶剤の混合v!
Jt使用することもできる。良好な溶屏力を有し、易揮
発性でありかう生理的に安全で必る溶沖j9例えばトル
エン、テトラヒドロ7ラン、酢ばエチル、メチルエチル
ケトン等のようなものが攪れている。
溶剤中のトリアゾン誘導体の一度は広範に夏動してよ<
、0.1λt%乃至胞和値の範囲であってよい。磯良2
〜15iL童%、殊に2〜7ム菫慢を有する浴′M、倉
使用すると殊にχれでいる。
、0.1λt%乃至胞和値の範囲であってよい。磯良2
〜15iL童%、殊に2〜7ム菫慢を有する浴′M、倉
使用すると殊にχれでいる。
本発明による戊処理溶液は付m釣に少麓のり溶性バイン
ダーl また可溶性染料を官有してもよい。好適なバイ
ンダーとしては不積層注崖台体2例えば塩化ビニリデン
共λ会体、環化ゴム。
ダーl また可溶性染料を官有してもよい。好適なバイ
ンダーとしては不積層注崖台体2例えば塩化ビニリデン
共λ会体、環化ゴム。
ポリカーボネート、ポリアクリレート、ポリスチレン、
ポリアミド等が挙げられる。
ポリアミド等が挙げられる。
7!j−ルー又Uへタリールービス−トリハロrツメチ
ルー〇−トリアシフ1部当りバインダー Ll、Ll
1〜1部、殊に0,05〜0.5都金使用することがで
きる。相対的に4tnバインダー宮倉は、溶剤で簡単に
除去し得る不粘漕注皮膜金印刷版上に生成する。
ルー〇−トリアシフ1部当りバインダー Ll、Ll
1〜1部、殊に0,05〜0.5都金使用することがで
きる。相対的に4tnバインダー宮倉は、溶剤で簡単に
除去し得る不粘漕注皮膜金印刷版上に生成する。
バインダーの添加により、そのX金体がVi層性の低下
に関与するので、アリール−又はヘタリールーピスート
リハc7rツメチル−8−トリアゾンの一度を低めるこ
とができる。一般に、50%までのトリアジン誘導体t
バインダーにより代えることがでさ、その際に本発明方
法の有利な特注を損なうことはない。トリアゾ/#sI
導体の一部をバインダーに代えることにより処理溶液の
コストのJlrJ減という利点が得られる。
に関与するので、アリール−又はヘタリールーピスート
リハc7rツメチル−8−トリアゾンの一度を低めるこ
とができる。一般に、50%までのトリアジン誘導体t
バインダーにより代えることがでさ、その際に本発明方
法の有利な特注を損なうことはない。トリアゾ/#sI
導体の一部をバインダーに代えることにより処理溶液の
コストのJlrJ減という利点が得られる。
光硬化性1−中に含有される光硬化注化廿物として′i
L曾体金体金含有もよく、これは露光の際にそれ自体が
架橋するか又は感光性架庸剤VCよって*傭して不#性
になる。殊に、光硬化性層は、弾性バインダーに刀Uえ
て、エチレン系不飽和のラジカル重合可能な化合物及び
露光の際にフリーラジカル金形成する光開始利金含有す
る光五廿性層である。この種の混合物は公知であり、例
えば前記の刊行物にMd載されている。
L曾体金体金含有もよく、これは露光の際にそれ自体が
架橋するか又は感光性架庸剤VCよって*傭して不#性
になる。殊に、光硬化性層は、弾性バインダーに刀Uえ
て、エチレン系不飽和のラジカル重合可能な化合物及び
露光の際にフリーラジカル金形成する光開始利金含有す
る光五廿性層である。この種の混合物は公知であり、例
えば前記の刊行物にMd載されている。
便用することのできるエラストマーは任意の型の天然又
は合成ゴムである。ビニル化会物のグロック共ム曾体2
例えばスチレン及びジエン。
は合成ゴムである。ビニル化会物のグロック共ム曾体2
例えばスチレン及びジエン。
列えばブタジェン又はイソプレンが漬れている。
−iに、多1曲アルコールのアクリル酸−又はメタクリ
ル戚エステル、例えばヘキサンゾオー/’−1,6−ゾ
アクリレート及びヘキサンジオール−1,6−ツメタク
リレートt]1合性のエチレン系不飽和単濾体として使
用する。しかしながら、層はアクリル酸及びメタクリル
販と一価又は多価アルコールとの他のエステルを含有し
ていてもよい。史に、他の不飽和単麓体、例えば脂肪族
モノカルボン酸のビニルエステル又はマレイン戚エステ
ル及CF7マル酸エステル等r’I5!用することもで
きる。
ル戚エステル、例えばヘキサンゾオー/’−1,6−ゾ
アクリレート及びヘキサンジオール−1,6−ツメタク
リレートt]1合性のエチレン系不飽和単濾体として使
用する。しかしながら、層はアクリル酸及びメタクリル
販と一価又は多価アルコールとの他のエステルを含有し
ていてもよい。史に、他の不飽和単麓体、例えば脂肪族
モノカルボン酸のビニルエステル又はマレイン戚エステ
ル及CF7マル酸エステル等r’I5!用することもで
きる。
弾性バインダー1都当クエチレン系不飽和単臓体0.U
5〜0.3部を便用する。
5〜0.3部を便用する。
凪放物中Q元開、Ca刑として多くの物質を使用するこ
とができる。例は基本物質のベンゾフェノン、ベンゾイ
ン、ペンシル、ペンゾルモノヶタール、フルオレノン、
チオキサントン、多核キノン、アクリジン及びキノキサ
リンから誘導されるもの、及びトリクロロメチル−8−
トリアゾン、西ドイツlA待奸公開第3333450最
明細曹によるトリへロrツメチル基金含有するカルボニ
ルメチレンへテロ環又は例えば西ドイツ国特吐公開第3
133419最明細誓に記載されているような7シルホ
スフインオキシド化合物でるる。一般に、開始剤は層の
不揮JA性成分に対して0.01〜10重f%、JAに
0.05〜5X″i饅の麓で便用する。
とができる。例は基本物質のベンゾフェノン、ベンゾイ
ン、ペンシル、ペンゾルモノヶタール、フルオレノン、
チオキサントン、多核キノン、アクリジン及びキノキサ
リンから誘導されるもの、及びトリクロロメチル−8−
トリアゾン、西ドイツlA待奸公開第3333450最
明細曹によるトリへロrツメチル基金含有するカルボニ
ルメチレンへテロ環又は例えば西ドイツ国特吐公開第3
133419最明細誓に記載されているような7シルホ
スフインオキシド化合物でるる。一般に、開始剤は層の
不揮JA性成分に対して0.01〜10重f%、JAに
0.05〜5X″i饅の麓で便用する。
史Vこ、元麓会注ノーはI?蔵注、唆写挙動及び他の峙
・注と改良する給薯加吻も含有してよい。常用の小IN
:J物ンよ、例えば熱嵐合を防止する阻止剤。
・注と改良する給薯加吻も含有してよい。常用の小IN
:J物ンよ、例えば熱嵐合を防止する阻止剤。
染料、酸化防止剤、オゾン屯裂防止剤、可蚕MIJ及び
’iX科である。
’iX科である。
元j@会性ノーは均一であるか又は異なる111i或を
有する相互にλねた数1面のノーよ#)成っていてもよ
い。例えば、二層から成る光重合性ノーを使用すること
ができ、この場合には亘曾侵に支持材から遠い側の層が
支持材に面したノーよシも硬質である。一般に、光重合
性層全体の厚さは0.05〜7趨、殊に0.2〜5a+
i+である。
有する相互にλねた数1面のノーよ#)成っていてもよ
い。例えば、二層から成る光重合性ノーを使用すること
ができ、この場合には亘曾侵に支持材から遠い側の層が
支持材に面したノーよシも硬質である。一般に、光重合
性層全体の厚さは0.05〜7趨、殊に0.2〜5a+
i+である。
当朶界で知らルているように、光重合性層は現塚取中で
可溶性でめる不活、lf性の薄いλ分体ノー、例えば0
J′浴性ポリアミドよシ成る増及びより厚い剥龍可能な
保護機で41覆することができる。−j綻に重合体J−
は厚さ1〜2oμm及び保護膜は厚さ約50〜200μ
m倉荷する。
可溶性でめる不活、lf性の薄いλ分体ノー、例えば0
J′浴性ポリアミドよシ成る増及びより厚い剥龍可能な
保護機で41覆することができる。−j綻に重合体J−
は厚さ1〜2oμm及び保護膜は厚さ約50〜200μ
m倉荷する。
九ム金体ノー用の優れた寸法安定な支片用フィルムとし
ては厚さ50〜3LIOμmの透明なノラスナックフイ
ルム1例えばポリエステル、ポリ刀−ボネート、ポリイ
ミド等のフィルムを便用する。ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムは殊に優れている。販支持材を元嵐台体膚
とゴム弾性ベースシートとの閾に配属し孟うとする礪廿
、支R#Vよより肉薄の厚さに、例えば10μmまで肉
薄にしてもよい。一般に、ポリエチレンテレフタレート
フィルムの異面を接層注層あるいは接層促進物質を含有
する層で4&覆する。
ては厚さ50〜3LIOμmの透明なノラスナックフイ
ルム1例えばポリエステル、ポリ刀−ボネート、ポリイ
ミド等のフィルムを便用する。ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムは殊に優れている。販支持材を元嵐台体膚
とゴム弾性ベースシートとの閾に配属し孟うとする礪廿
、支R#Vよより肉薄の厚さに、例えば10μmまで肉
薄にしてもよい。一般に、ポリエチレンテレフタレート
フィルムの異面を接層注層あるいは接層促進物質を含有
する層で4&覆する。
厚さ0.5〜Z尻属のコ9ム弾江の光重合性層t−公知
方法で、層成分の溶液を蒸発させるか、平行なプレート
の間で物質な混線物質を成形するか又は広j陥スリット
ノズルを通して押出成形し、次いで帯材をカレンダー仕
上げすることにより生成することができる。最後に挙げ
た方法にょ9光重合性層を生成する際に、熱時に、カレ
ンダー中に存在する間に接盾注)fit k指片する支
持フィルム及び保護フィルムに前記の層を接合すると有
利である。
方法で、層成分の溶液を蒸発させるか、平行なプレート
の間で物質な混線物質を成形するか又は広j陥スリット
ノズルを通して押出成形し、次いで帯材をカレンダー仕
上げすることにより生成することができる。最後に挙げ
た方法にょ9光重合性層を生成する際に、熱時に、カレ
ンダー中に存在する間に接盾注)fit k指片する支
持フィルム及び保護フィルムに前記の層を接合すると有
利である。
非感光注軟買ゴムシート又は弾性7オームシートを支持
フィルムの裏面に施す一曾、支持フィルムの両面Vc接
漕注層で施すべきである。支持フィルムの裏面上の接層
・註ノーは、支愕フィルムC元厘合性層と接合する前、
その間又はその説で施すことができる。ラミネー)k1
操作工程で生成しない礪会、未保譲の接膚注層茫貼合せ
工程中に、簡単に剥罐し得るフィルムで4&覆して、貼
会せ機ロールの汚れから保護ナベきである。
フィルムの裏面に施す一曾、支持フィルムの両面Vc接
漕注層で施すべきである。支持フィルムの裏面上の接層
・註ノーは、支愕フィルムC元厘合性層と接合する前、
その間又はその説で施すことができる。ラミネー)k1
操作工程で生成しない礪会、未保譲の接膚注層茫貼合せ
工程中に、簡単に剥罐し得るフィルムで4&覆して、貼
会せ機ロールの汚れから保護ナベきである。
多層フレキソ印刷板材料t−f法で処理して即使用可能
な印刷版ヲJA造する。初めに、印刷板材料を支持フィ
ルムを通して均一に露光することによシ印刷板基材を製
造する。保−フィルムの剥離後、その反対側の−A@J
をネガフィルム原稿を通して露光する。その後で、未露
光の硬化しなかった区域を好適な現像液で、例えばペル
クロロエチレンとn−ブタノールとの晶曾物で5e伊除
去する。
な印刷版ヲJA造する。初めに、印刷板材料を支持フィ
ルムを通して均一に露光することによシ印刷板基材を製
造する。保−フィルムの剥離後、その反対側の−A@J
をネガフィルム原稿を通して露光する。その後で、未露
光の硬化しなかった区域を好適な現像液で、例えばペル
クロロエチレンとn−ブタノールとの晶曾物で5e伊除
去する。
このように生成した積層性のエラストマー印刷版を、ま
ずは公知方法で、例えば一般に印刷板の製造に使われる
ような32Llワツト螢光官〔620ワツ)C7V灯〕
を僧えた露光装置を便って1U分間再露光して架橋反1
6を充結し、その後で本発明による処理上行なって粘盾
注を解消する。再露光は秋処理に先立って行なうべきで
ある。それというのも本発明による後処理の際に印刷版
上に存在するアリール−又はヘタリール−ビス−トリハ
ログツメチル−5−)リアゾ/が架+aを更に促進する
のに必要な化学−を着しく吸収することになるからであ
る。
ずは公知方法で、例えば一般に印刷板の製造に使われる
ような32Llワツト螢光官〔620ワツ)C7V灯〕
を僧えた露光装置を便って1U分間再露光して架橋反1
6を充結し、その後で本発明による処理上行なって粘盾
注を解消する。再露光は秋処理に先立って行なうべきで
ある。それというのも本発明による後処理の際に印刷版
上に存在するアリール−又はヘタリール−ビス−トリハ
ログツメチル−5−)リアゾ/が架+aを更に促進する
のに必要な化学−を着しく吸収することになるからであ
る。
再露光した、なお粘着性の印刷版の本発明による処理を
異なる方法で行なうことができる。
異なる方法で行なうことができる。
yv−ルー又はヘタリールービスートvハapy’ツメ
チル−a−トリアゾン溶液を印刷版上に吹付けるか、は
け塗を行なうか又は好2Ilな軟質性の吸収ロールでロ
ール掛けすることができる。
チル−a−トリアゾン溶液を印刷版上に吹付けるか、は
け塗を行なうか又は好2Ilな軟質性の吸収ロールでロ
ール掛けすることができる。
しかしまた印刷版tm液中に&漬することができる。処
理時間は1秒間乃至数分間であってよい。使用する溶液
の@度が高いほど、処理時間は短い。通常、am装約5
λtチの俗献を使用する一v11会には約10秒間の浸
漬で十分である。
理時間は1秒間乃至数分間であってよい。使用する溶液
の@度が高いほど、処理時間は短い。通常、am装約5
λtチの俗献を使用する一v11会には約10秒間の浸
漬で十分である。
これらの溶液で処理した訛、印刷版を乾燥させる。易揮
発性溶剤を使用する場合、印刷版金全中に短時間放置し
て乾燥させることができる。
発性溶剤を使用する場合、印刷版金全中に短時間放置し
て乾燥させることができる。
しかしまな、印刷版を熱風にさらしるるいは加熱相中に
置くことによシ乾燥することができる。
置くことによシ乾燥することができる。
その場せ、7リールービスートリハcF)I″ツメチル
8−トリアゾンの分解温度に達しないようにナベきであ
る。120°at−下廻る温度が優れている。
8−トリアゾンの分解温度に達しないようにナベきであ
る。120°at−下廻る温度が優れている。
しばしば、溶剤の蒸発後でもアリール−又はへタリール
ービス−トリハロゲン)t f A/ −9−トリアゾ
ン溶液で処理した印刷版はなお者しく粘着性である。そ
の場合には印刷版を長波長のσV巌に短時間再露光する
;*分にだけ先金に不積増注になる。この櫨の光mk放
射する任意の元諒をこのために使用することができる。
ービス−トリハロゲン)t f A/ −9−トリアゾ
ン溶液で処理した印刷版はなお者しく粘着性である。そ
の場合には印刷版を長波長のσV巌に短時間再露光する
;*分にだけ先金に不積増注になる。この櫨の光mk放
射する任意の元諒をこのために使用することができる。
例えば螢光管、水@蒸気灯及び金属へロrン化物灯がこ
れに関して挙げられる。処理した印刷版の再露光に必要
な元黛はレリーフ隊の形成に必要とされる光量の漁か約
1U%である。
れに関して挙げられる。処理した印刷版の再露光に必要
な元黛はレリーフ隊の形成に必要とされる光量の漁か約
1U%である。
粘7fI性の解消tも九らす反応機構はいまだ明らかで
はない。印刷版の表面は処理の際に水入的にfaされる
。恢から溶剤でぬぐっても粘着性の状態に戻ることはな
い。
はない。印刷版の表面は処理の際に水入的にfaされる
。恢から溶剤でぬぐっても粘着性の状態に戻ることはな
い。
実施例
次に本発明の優れた夾afllを詳説する。籍に記載の
ない限9、ナベでの「俤」及びに的割せは重電単位に関
するものである。「′JL]it部」(pbw)及び「
容量部J (pbv)はriJとr cm” JとO関
係である。
ない限9、ナベでの「俤」及びに的割せは重電単位に関
するものである。「′JL]it部」(pbw)及び「
容量部J (pbv)はriJとr cm” JとO関
係である。
例1〜5
板
5種の市販の7レキソ印刷JllをII!I7像に相応
して露光しかつ硬化していない未露光区域をそれぞれ好
適な市販の現像剤を便用して洗#隷云した。その後、印
刷版t−320ワツトUV灯により10分間再露光した
。次に、なお粘7jI注の印刷版を本発明方法によりト
ルエン中の2−スチルベニル−4,6−ビス−トリクロ
ロ1fk−8−) 177ゾンの6x量チ溶液で10秒
間処理し、即ち浴液中に浸漬し、短時間乾凍し、その盪
再度露光するが、今回は前記のUV灯を便って2分間で
あった。
して露光しかつ硬化していない未露光区域をそれぞれ好
適な市販の現像剤を便用して洗#隷云した。その後、印
刷版t−320ワツトUV灯により10分間再露光した
。次に、なお粘7jI注の印刷版を本発明方法によりト
ルエン中の2−スチルベニル−4,6−ビス−トリクロ
ロ1fk−8−) 177ゾンの6x量チ溶液で10秒
間処理し、即ち浴液中に浸漬し、短時間乾凍し、その盪
再度露光するが、今回は前記のUV灯を便って2分間で
あった。
この版は、表面で粘着性を示さなかった。更に、比較的
高いオゾンに対する抵抗性を有してい次。オゾンに対す
る抵抗性を試験するたメニ、印刷版を箱の中に置き、室
温でオゾン含jt 0.4ppm o空気にさらした。
高いオゾンに対する抵抗性を有してい次。オゾンに対す
る抵抗性を試験するたメニ、印刷版を箱の中に置き、室
温でオゾン含jt 0.4ppm o空気にさらした。
試験Wa来を次式に掲載する。
此吠例01〜C5
例1S5で使用し友市販のフレキソ印刷板を前記のよう
に露光しかつ現像した。次に、得られた印刷板金公知の
ように0.4 ][t%臭累水溶液中に浸漬し、1o分
間水洗し、かつ最tI1.に620ワット07灯金使っ
て10分間再露光した。
に露光しかつ現像した。次に、得られた印刷板金公知の
ように0.4 ][t%臭累水溶液中に浸漬し、1o分
間水洗し、かつ最tI1.に620ワット07灯金使っ
て10分間再露光した。
こルらの版も戒面粘盾・社を示さなかったが、例1〜5
にml載したようにオゾン含有g!fiで処理すると、
本発明による版よりも着しく低い抵抗性を示した。
にml載したようにオゾン含有g!fiで処理すると、
本発明による版よりも着しく低い抵抗性を示した。
試@結未を久淡に温域する。
表中に記載の時間は、オゾンを有仝気で処理した際に版
上に最初O1&裂が生じる時間るように7レキソ印刷版
に加工処理した。再露光時間は10分間であった。その
後、印刷版をトルエン中の2−スチルベニル−4$6−
ビス−トリクロロメチル−a−)リアシン4重量%及び
環化ゴム11量−で20秒間処理した。
上に最初O1&裂が生じる時間るように7レキソ印刷版
に加工処理した。再露光時間は10分間であった。その
後、印刷版をトルエン中の2−スチルベニル−4$6−
ビス−トリクロロメチル−a−)リアシン4重量%及び
環化ゴム11量−で20秒間処理した。
12Uワツ)UV灯で2分間再露光後に、非粘7#注印
刷版が得られ、これはオゾン含有空気に対して優れた抵
抗性e[していた・ 例7〜9 市販のフレキソ印刷板す、1 v ル(Cyrei■)
Hl、831!l金篇元し、現濃しかつ例1〜51/)
ように再露光し喪。その後、それぞれの版を久のアリー
ル−ビス−トリクロロメチル−8−トリアゾン1種でそ
れぞれトルエン中05ム童96浴go形で15秒間処理
した。
刷版が得られ、これはオゾン含有空気に対して優れた抵
抗性e[していた・ 例7〜9 市販のフレキソ印刷板す、1 v ル(Cyrei■)
Hl、831!l金篇元し、現濃しかつ例1〜51/)
ように再露光し喪。その後、それぞれの版を久のアリー
ル−ビス−トリクロロメチル−8−トリアゾン1種でそ
れぞれトルエン中05ム童96浴go形で15秒間処理
した。
例 6
市販の7レキン印刷板サイレル(Cyrsl■〕HLS
(Du Pont社〕を例1〜5に記載されてい使用
した露光装置に相応して、不粘性でありかつオゾン含I
V2気に対して優れた抵抗性を有する印刷版t−製造す
るのに次の露光時間が必要である。
(Du Pont社〕を例1〜5に記載されてい使用
した露光装置に相応して、不粘性でありかつオゾン含I
V2気に対して優れた抵抗性を有する印刷版t−製造す
るのに次の露光時間が必要である。
印刷版を乾燥しかつ120ワツ)UV灯を使って6分間
再露光した。
再露光した。
それぞれの場合に得られた印刷版は不粘層・社で、オゾ
ン含有空気に対して抵抗性でめった。
ン含有空気に対して抵抗性でめった。
これらのトリアゾン誘導体の混片物によっても良好鷹結
果が得られた。混合比は、使用した市販のフレキソ印刷
板の要件に相応して広範に^動させることができる。
果が得られた。混合比は、使用した市販のフレキソ印刷
板の要件に相応して広範に^動させることができる。
例10〜12
サイレル(Cyrel@ ) HLS mの市販の7レ
キソ印刷板を露光し、現像しかつ例1〜5のように再露
光した。印刷板金トルエン中の2−スチルベニル−4,
6−ビス−トリクロロメチルー8−トリアゾンの63[
ff11M液で処理した。
キソ印刷板を露光し、現像しかつ例1〜5のように再露
光した。印刷板金トルエン中の2−スチルベニル−4,
6−ビス−トリクロロメチルー8−トリアゾンの63[
ff11M液で処理した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、常法で再露光されている、フレキソ印刷に使用する
ための、現像されたレリーフ印刷版を後処理する方法に
おいて、該レリーフ印刷版を、主に有機浴剤及びその中
に溶解している一般式 I : ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 〔式中Yは置換されていてもよい芳香族又はヘテロ環式
芳香族の、共役アルケニレン鎖を介して又は環系の不飽
和C原子を介して結合していてもよい、部分水素化され
ていてよい基を表わし、この基は更に置換されていてよ
く、かつKは塩素原子、臭素原子又は沃素原子を表わす
〕のアリール−又はヘタリール−ビス−トリハロゲノメ
チル−s−トリアジンより成る溶液で処理し、該レリー
フ印刷版を乾燥し、かつその後短時間UV線に再露光す
ることを特徴とする、フレキソ印刷に使用するための、
現像されたレリーフ印刷版の後処理法。 2、アリール−又はヘタリール−ビス−トリハロゲノメ
チル−s−トリアジン化合物が範囲0.1重量%乃至飽
和値の濃度で溶剤中に含まれている請求項1記載の方法
。 3、種々のアリール−又はヘタリール−ビス−トリハロ
ゲノメチル−s−トリアジンの混合物を使用する請求項
1又は2記載の方法。 4、アリール−又はヘタリール−ビス−トリハロゲノメ
チル−s−トリアジンが範囲300〜500nmの吸収
ピークを有する請求項1から3までのいずれか1項記載
の方法。 5、後処理溶液が付加的にバインダーを含有する請求項
1から4までのいずれか1項記載の方法。 6、バインダーが不粘着性重合体より成つていて、該重
合体がアリール−又はヘタリール−ビス−トリハロゲノ
メチル−s−トリアジン1部当り0.01〜1部の量で
後処理浴液中に含まれている請求項5記載の方法。 7、溶剤として脂肪族又は芳香族の炭化水素、ハロゲン
炭化水素、エーテル、エステル、ケトン及びアルコール
を使用する請求項1から6までのいずれか1項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (2)
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---|---|---|---|
DE3742275.8 | 1987-12-12 | ||
DE19873742275 DE3742275A1 (de) | 1987-12-12 | 1987-12-12 | Verfahren zur nachbehandlung von entwickelten reliefdruckformen fuer den flexodruck |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02979A true JPH02979A (ja) | 1990-01-05 |
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Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
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US5147891A (en) * | 1991-12-16 | 1992-09-15 | Betz Laboratories, Inc. | Biocidal compositions and use thereof containing a synergistic mixture of 3-iodo-2-propynyl-butyl carbamate and phenyl-(2-cyano-2-chlorovinyl) sulfone |
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1987
- 1987-12-12 DE DE19873742275 patent/DE3742275A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-12-06 US US07/280,426 patent/US4906551A/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-06 EP EP88120308A patent/EP0320742B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-12-06 DE DE3853517T patent/DE3853517D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-12 JP JP63312149A patent/JP2825513B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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DE3853517D1 (de) | 1995-05-11 |
JP2825513B2 (ja) | 1998-11-18 |
EP0320742A2 (de) | 1989-06-21 |
US4906551A (en) | 1990-03-06 |
DE3742275A1 (de) | 1989-06-22 |
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