JPH0288261A - Ledアレイの収率を改善する方法 - Google Patents

Ledアレイの収率を改善する方法

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JPH0288261A
JPH0288261A JP1202690A JP20269089A JPH0288261A JP H0288261 A JPH0288261 A JP H0288261A JP 1202690 A JP1202690 A JP 1202690A JP 20269089 A JP20269089 A JP 20269089A JP H0288261 A JPH0288261 A JP H0288261A
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parallel
led
wafer
diode
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Daniel C Abbas
ダニエル・コーネリアス・アバス
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Eastman Kodak Co
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    • HELECTRICITY
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L33/005Processes
    • H01L33/0062Processes for devices with an active region comprising only III-V compounds
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、半導体発光ダイオードアレイの製造に関する
ものであり、特に使用可能な品質を有するLEDアレイ
の収率を改善した発光ダイオード(LED)アレイの製
造方法に関する。
更に詳しく述べると、本発明は光学プリンタ用に使用可
能、コンバクl−1高密度なるLEDアレイの生産収率
向上を達成した電子/光学プリンタ用に設計された集積
LEDアレイ製造法の改善に関する。
(従来の技術) 文章及び画像情報の発生及び伝送は益々ディジタル化さ
れた電子形態になりつつあり、斯かる情報を低コストの
高速プリンタから直接ハードコピーをとる必要が益々増
大している。このニーズを満たす有力な一方法は、電子
/光学プリンタに使用される高密度、コンパクトのLE
D線形アレイ(array)を提供することである。L
EDアレイシステムは、光源がコンパクトで高密度なる
明らかな利点に加え、斯かる使用に関し更に信頼性に富
み、かつ、安価なる利点を約束するものである。
電子/光学プリンタのLEDアレイは発光強度が一様な
るを要すという厳しい要求が課せられている。この要求
は、プリント用では重要なことである。LEDアレイを
表示用に用いる場合には、眼が対数的検出器であって光
強度の変化に比較的鈍感なので、この−機作はプリンタ
はど限界的ではない。しかしながら、プリント用途はL
ED線形アレイが感光材料を横切る相対運動に係わり、
十分の何パーセント程の小さな強度変化でもラスタバン
ド(rasf、erbanding)効果をもたらすで
あろう。
固体形態、半導体発光体の製造に使用される材料には、
プリンタで使用されるLEDアレイの性質に影響する特
性が多数あり、装置の製造方法も多岐にわたる。これら
諸点は大部分ベルヒ(A、A、Bergh)及びディー
ン(P、J、Dean)著の「発光ダイオード(”Li
gbL−EmittingDiodes”) Jなる底
置(Clarendon Press、0xford、
1976年刊)及びグーチ(C,H,Gooch )著
の「インジェクシコンエレクトロルミネッセンス製造(
”Injection EIecLroluonine
scentDevices J (John Wile
y & 5ons、London、1973年刊)に記
載されている。これらの初期文献が完璧なので、LED
アレイ製造に関する詳しい議論は不必要であろう。しか
しながら、光学プリント用LEDアレイ製造時の特に重
要な一特性が、以下で議論するようにLEDアレイ完成
品における暗線欠陥の発生に関係するのである。LED
の暗線欠陥は、市販の発光半導体ウェハーに線状の結晶
不規則が存在することに起因する。 LEDの製造時に
この線状結晶不規則の作用を克服することが、本発明の
主なる目0勺である。
(発明が解決しようとする課題) 本発明の主たる一目的は、本目的に使用可能な品質を持
ったLEDアレイの生産収率を改善することにより、高
品質、コンパクト、高密度かつ比較的低コストの電子/
光学プリンタ用集積LEDアレイチップを製造する方法
を提供することである。
(課題を解決するための手順) 本発明の一特徴は、各々主軸に沿って配列された一連の
ダイオードからなる集積(integrated)発光
半導体ダイオードアレイを製造する方法であって、ダイ
オード完成品に暗線欠陥を発生させる可能性のある平行
な線状結晶不規則を含む共通の半導体ウェハー内に複数
のダイオードアレイを形成すること: 該ウェハーを分割して各一以上のダイオードアレイを含
む複数のチップを製造すること;及び各アレイ内ダイオ
ードのダイオード間発光一様性に基づいて使用すべきダ
イオードアレイを)X択することからなり: ダイオードアレイの形成に先立って各半導体ウェハーを
検査し、その平行線状の結晶不規則の性質及び整列線(
alignment )を定めること;及び半導体ウェ
ハー上に該平行線状の結晶不規則に対して主軸を平行に
したダイオードアレイを形成すること を包含するステップを特徴とする集積発光半導体ダイオ
ードアレイの製造方法に導かれる。
製作後のLEDアレイを動作中に顕微鏡で検査すると、
LEDの一部に多数の平行、線状の暗線欠陥が頻繁に見
い出される。これを暗線欠陥(DLDdark−1in
e defect、)と称する。第1図は、電極9を付
けて形成したLEDアレイを有する半導体チッ17を示
し、図中アレイ内の最初の三個のLEDデバイスがその
幅を横切って伸長する暗線欠陥(DLD )を有するこ
とがうかがわれる。このDLDはアレイ全長に伸長する
こともある。導光(conductiBight)測定
により、DLDを有するLEDは、通常、DLDのない
相当LEDよりも光出力が低いことが測定された。更に
(LEDアレイを製造するもとの)所与ウェハー上で二
辺上のアレイがDLDを示す場合には、そのDLDの暗
線は常に互いに平行であることも認められた。
DLDを更に詳しく調べるため、第2図に示すようなレ
ーザホトルメンネセンス顕v&鏡を用いてDLDを検査
した。この装置を用いて、11で示したウェハーに51
5nmの単色光源を照射した。この光源はアルゴンレー
ザ12で発生させ、ビームエキスパンダー13を通して
検査ウェハー11上に結像させたものである。照射によ
り形成されたホトルミネッセンス像を、引き続き、接眼
レンズ要素14、フィルタ!5及び顕1i[対物レンズ
16からなる顕V&鏡を介して観察した。第1図に示し
たようなLEDアレイの製作過程各種段階におけるウェ
ハーを検査することにより、暗線欠陥が購入した出発半
導体基材材料中に存在することが確定された。出発ウェ
ハーは、基材上にn型のGaAs1□N第一エビタキシ
ヤル成長層と該第−エピタキシャル層上に各約20ミク
ロン厚みのGaAso、 7PO,3第二工ピタキシヤ
ル成長層を形成した厚み約381ミクロンのn型砒化ガ
リウム基材からなるものであった。これらの測定から、
暗線欠陥は購入したウェハー上のエピタキシャル層内に
存在する結晶学的欠陥に基づくものであって、LEDア
レイ処理時に導入されたものではないことが確定された
。暗線欠陥密度は、エピタキシャルロット間のみならず
所与ロット内でも大幅に変化することも測定された。少
数ではあったが、暗線の間隔が極めて狭く且つ交差して
いたケース、すなわち広く観察される平行線に加えてそ
れに垂直な平行線の組が認められるケースもあった。ま
た、その平行暗線は交差した表面起伏の組に対して常に
平行であり、その一以上が肉眼でウェハー表面上に認め
られることも観察された。これらの起伏(undula
tions)は、エピタキシャル層の成長時に格子が結
晶面に沿って滑ることに起因することが知られている。
暗線欠陥は以前から産業界にも知られており、ブロック
(L、BIok)著のJournal of Crys
tal Growth、31250(1975) ;メ
ッツ(S、t4etz)著のApplied Phys
ics Letters、30,296(1977) 
:及びベルヒ(A、A、Bergh)及びディーン(p
、J、Dean)によるLight−emiしt、in
g Diodes (発光ダイオード) ” 、 C1
arendonPres、0xford、1976第2
62−294頁 その他の文献に報告されている。暗線
欠陥は、エピタキシャル層の成長時に非放射線不純物に
より歪場(sLrain−field)誘起された滑り
面欠陥の装飾(decoration)に基づくものと
考えられている。一般に観察される水準では、この暗線
欠陥は表示用に設計された個別分離(d 1screL
e)発光デバイスの作動時には有害作用をもたらすこと
はない、実際、出発ウェハーの供給業者の中には、顕微
鏡的欠陥に関する材料品質評価をしない者もいる。彼等
は試験ウェハーから幾つかの個別分離LEDを製作して
、その平均発光強度を品質管理の基礎としている。この
ような品質管理標準は、表示用分離LEDデバイスとい
う大多数のLED用途に関してはおそらく適当であろう
。斯かる用途では、たとえ個別分離デバイスの一部に暗
線欠陥が偶々用れても、製造業者は望むならば製作時に
選び出すことができる。これは、個別分l LEDデバ
イスが発光効率に応じて区分・販売されることが多い事
実に因るのである。この理由で暗線デバイスは廃棄され
ずに低効率発光デバイスとして販売される。事実、暗線
の効果は普通は表示用に広く用いられるLEDデバイス
の寸法に較べて極めて局限されたものであり、かつ、各
種表示用途では効率変化許容度が極めて大きいため、暗
線効果は大部分の産業分野で注目されてはいない。
光学プリンタ用に設計されたアレイに使用する個々のL
EDは、表示用の個別分1LEDデバイス及びLEDア
レイ用のそれよりもはるかに小さい。この事情を第3図
に示すが、同図には暗線欠陥を22で示した個別分離L
ED装置21を左手に示し、光学プリンタアレイ用に設
計されたLEDデバイス23を右手に示す。このLED
デバイス23も暗線欠陥24を有する。個別分1LED
21は、約0.0645平方ミリメ−トルの正方形発光
面を有する。これに対し、光学プリンタLED23の発
光面は4032平方マイクロメートルの正方形である。
はるかに小さな光学プリンタLEDデバイス23の発光
域は暗線欠陥の影響を受ける割合が大きく、その暗線欠
陥は個別分離デバイス21の場合よりも小さな光LED
デバイス23の発光強度及び発光効率にはるかに大きな
衝撃を与える。
前述に加え、プリント用に設計されたLEDアレイでは
、−機作の要求が表示用のものよりはるかに苛酷である
。これは、人間の眼が対数的検出器であって強度変化を
積算して感じ、光強度の小変化には鈍感であることに因
る。しかしながら、感光記録媒体は小さな強度変化に極
めて敏感であることが多く、従って−アレイ内容LED
すなわちアレイ内容LED間の発光面を横切る変化が、
プリンタの再生ハードコピーに現れる。更には、暗線欠
陥はAl1−、GaつAs固体状態発光半導体デバイス
の作動寿命に有害なることも知られており、ベルヒ及び
ディーンの前記底置”Li、1ht−emitting
 Diodesに報告されている。
以上の全理由により、暗線欠陥を有するLEDアレイは
、プリント用としては排除しなければならない。
電子/光学プリンタ用の小型LEDアレイに及ぼす暗線
欠陥の衝撃を減らすため、第2図に示したようなレーザ
ーホトルミネッセンス顕微鏡をLED製造プロセスの特
定点で使用し、最終製品中の暗線欠陥の効果を最小にす
る。第4図及び第5図は、その技法を示す図である。第
4図は被験ウェハー11がレーザエレクトロルミネッセ
ンス類1iitMの接眼レンズに現れる状態を示す、第
4図のウェハー11は一般的にlOで示される複数の互
いに平行がっ相隔たった暗線欠陥を有する。ウェハー1
1の表面上に25で示した複数のLEDアレイを第4図
に示すような長軸配向で製作したならば、実質的に全て
のLEDアレイ25は、出発ウェハー11内に平行線状
の結晶不規則が存在する結果形成された暗線欠陥と交差
して、その悪影響を受けるであろう。第5図は、第4図
のウェハーに類似したウェハー検体を示すものである。
第5図のLEDアレイ25は、第4図とは対照的に、L
EDアレイ25の長軸が暗線欠陥10に平行になるよう
本発明に従って適正な配向にすること及びウェハー11
表面上にLEDアレイ25を定めるに際して亜鉛拡散マ
スクのパターニングを使用することにより形成されたも
のである。この方法により仕上げLEDアレイ中の暗線
欠陥を防止する統計的確率は大幅に改善され、従って良
好なLEDアレイの収率は向上する。
第5図に示した方法に加えて、購入ウェハーを処理する
前にまずレーザホトルミネッセンス顕微鏡を用いて、仕
上げLED内に暗線欠陥をもたらす平行線状に結晶不規
則に関してウェハーを検査してスクリーニングする。ウ
ェハー中の線状結晶不規則の密度及び程度が多すぎる場
合、処理前にそれを収り除くのである。しかしながら、
線状結晶不規則の数やその程度が過大でないならば、そ
のレーザホトルミネッセンス顕微鏡を用い、第4及び5
図に示したようにウェハー面上の線状結晶不規則の配向
を定める6次に第6図に示したような方法に従い、或い
は前引用したベルヒ及びデインの底置” LighL−
emitting Diodes ”に記載されたその
他の好適既知方法によりLEDアレイを製作する。斯か
る処理では、第5図に示したように、LEDアレイはそ
の長軸を平行線状の結晶不規則に平行にして製作される
。これは、本明細書に前述したように、肉眼で観察可能
な優勢度の強い線状結晶不規則を視覚的に観察すること
により達成される。このようにすると、時折全アレイが
暗線欠陥で駄目になる事もある。しかしながら、大部分
のアレイ25は暗線の間に入る。これと対照的に軸を暗
線欠陥lOに対し垂直にしてアレイ25を製作すると、
はぼ全部のアレイが暗線欠陥を持つLEDを数個有する
ことになり、前述の理由で電子/光学プリンタに使用で
きなくなる。
第6図に示したプロセスフロー図は、本発明に従う電子
/光学プリンタ用に使用可能なLEDアレイの提供に使
用される好適LEDアレイ製造方法を、ステップ毎に簡
単に説明するものである。拳法の初めに、入荷ウェハー
の平行線状結晶不規則を検査して、結晶不規則の密度及
び程度が過大なものを収り除くスクリーニング伴業を行
なう。残ったウェハーについて前述の眼に見える結晶不
規則の表面起伏を観察することにより、仕上げLED中
に存在することになるDLDの配向をチエツクする。
次にこの選択されたウェハーに刻み目を付けて2゜54
cm X 2.54CI11平方のチップに切断し、約
457ミクロンの厚みになるまで研磨する0次にこのチ
ップを洗浄・エツチングすると、プラズマ窒化ケイ素マ
スキング層を沈積させる準備が整う、マスキング層沈積
ステップ完了後、第5図に関連して説明したように、チ
ップ面内の眼に見える平行な線状結晶不規則にLEDア
レイの長軸を平行にした光レジストマスクを用いるホト
レジスト法により、拡散マスキング層内にパターニング
で開口部を定める。次に拡散プロセスの一方法を用い、
パターニングによる開口部を通してチップ内に亜鉛を拡
散させる。亜鉛拡散ステップを終えるとPコンタクトの
金属化沈積及びバターニングの準備が完了する。このス
テップではアルミニウムメタリゼーシゴンによるリフト
−オフバターニング法を用いる。
バターニングのあと、アルミニウムを合金化し、ウェハ
ー上に窒化ケイ素反射防止コーティングを沈積させる。
次にウェハーをホウケイ酸ナトリウムガラスの円板上に
載せ、約330ミクロンの最終厚みまでラッピング・研
磨する。該円板からチップを収り出す前に化学エツチン
グしてラッピング損傷を除去する0次Ni/Au−Ge
/Niの裏面メタリゼーション層を真空蒸着して合金化
する。金を真空蒸着させてLEDアレイの裏面メタリゼ
ーションが完成する。チップの最終処理ステップは、反
射防止コーティングに孔を開けて接合パッドを露出させ
るステップである。この時点でLEDチップの電気的試
験が行える状態になる。大サイズの正方チップを先ずは
ダイシングソウ(dicing saw)を用い、次に
適当なヘッダー上に載せて所望寸法のLEDアレイに切
断してデバイスに仕上げる。最後に超音波ワイヤボンデ
ィングを用いて各LEDをヘッダー上のリードアウトパ
ターンに接続する。
第7図は、簡単に前述したように本発明に従つて製作し
、電子/光学プリント用に好適なLEDアレイ完成品の
部分断面図である。前述の1−GaA5P/GaAs出
発基盤31は、窒化ケイ素アンダーコーティング34内
の開口部を経由する亜鉛の拡散域より形成されたp域3
2及び33を有する。アンダーコーティング34はマス
クとして機能すると同時にアレイ内の各LEDを電気絶
縁する。アルミニウムのコンタクト35は、P層32及
び33を電気接続する。窒化ケイ素の反射防止コーティ
ング36をアレイの頂面上に沈積してアレイ内ダイオー
ドからの光放出効率を改善する。該反射防止コーティン
グにはコンタクト35との電気接続を可能とする適当な
開口部(図示されていない)が設けられている。 Ni
/AuGe/Ni/Auの裏面メタリゼーションコーテ
ィング37は、n−基盤上への電気接続を付与する。
(発明の効果) 本発明は、88−9ミクロンの中心上に各々実質的に7
903平方ミクロンの正方形発光素子を有し、電子/光
学プリンタ用に好適な多要素ガリウムーヒ素−燐の集積
発光ダイオードアレイを提供する。
得られるアレイは0.6%の電力効率及び3.1Ecm
 −2の放射発散度を有し、素子用の放射発散度の標準
閤差は2%未満である。この比較的低コストの集vEL
EDアレイは電子/光学プリント用に特に好適であり、
かつまた、高収率で製造可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は、電極を取り付けたLEDアレイを有する半導
体チップの平面図であり、LEDの一部表面上にある暗
線欠陥をレーザホトルミネッセンス顕微鏡の接眼レンズ
を通し見たように示したものである。 第2図は、半導体ウェハーに焦点を合わせたレーザホト
ルミネッセンス顕v&鏡の概要図であって、レーザ光ビ
ームを発するホトルミネッセンスで照射したウェハー表
面を頴V&鏡の接眼レンズから見ている状態を示したも
のである。 第3図は、二つの相異なる発光ダイオード表面の平面図
であって、一方は表示目的に使用されるタイプの一辺2
54ミクロンの正方形分MLEDであり、他方の各辺6
3.5ミクロンの小正方形LEDはプリント用に使用可
能なタイプのものである。 第4図は、アレイの長軸がウニA−面上番こ現れた平行
線上の結晶不規則の軸長に対して直角(こ配置されるよ
う半導体上にマスキングされた複数のLEDアレイの平
面図である。 第5図は、アレイの長軸がウエノ1−上の平行線上の結
晶不規則に平行に伸長するよう形成されたLEDアレイ
を有するウェハーの平面図である。 第6図は、本発明に従って構成されるLEDアレイの製
造方法と示す機能的フロー図である。 第7図は、第6図に示した方法で製作するLEDアレイ
の製造に使用される代表的LEDデノくイスの断面図で
ある。 1生へ1」 7・半導体チップ 8:LED  (発光ダイオード) 9:電極 10:DLD  (暗線欠陥) 11:半導体ウェハー 12:アルゴンレーザー 13:ビームエキスパンダ 14:[を鏡の接眼レンズ 15:フィルタ 16:i?J′i微鏡対物レンズ 21:光学表示用LED 22:21上のDLD 23:光学プリンタ用LED 24:23上のDLD 25 : LEDのアレイ 31:基板 32:P域 33:P域 34:窒化ケイ素コーティング 35ニアルミニウムコンタクト 36:反射防止コーティング 37:裏面メタリゼーシヲンコーテイ ング

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 主軸に沿って配列された一連のダイオードからなる集積
    発光ダイオードアレイを製造する方法であつて、 ダイオード完成品に暗線欠陥をもたらす可能性のある平
    行な線状の結晶不規則を含む共通の半導体ウェハー内に
    複数のダイオードアレイを形成すること; 該ウェハーを分割して各一以上のダイオードアレイを含
    む複数のチップを製造すること; 各アレイ内ダイオードのダイオード間発光一様性に基づ
    いて使用すべきダイオードアレイを選択することからな
    り、 半導体ウェハー上にダイオードアレイを形成することに
    先立って各半導体ウェハーを検査し、その平行な直線状
    結晶不規則の性質及び整列線を定めること; レーザホトルミネッセンス検査により、平行な線状結晶
    不規則の密度、特徴、程度及び間隔が更なる処理に不適
    当とされた被験ウェハーを廃棄すること;及び 出発半導体ウェハー面上の一以上を視覚的に観察できる
    平行な線状結晶不規則に対して平行にダイオードアレイ
    の長軸が伸長するようダイオードアレイの製造に用いる
    マスクを物理的に整列させることにより、ダイオードア
    レイをその主軸が平行な線状結晶不規則に対して平行に
    なるよう半導体ウェハー上に形成すること; からなるステップを特徴とする集積発光ダイオードアレ
    イを製造する方法。
JP1202690A 1988-08-05 1989-08-04 Ledアレイの収率を改善する方法 Pending JPH0288261A (ja)

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