JPH0284437A - ポリボロシラザン及びその製造方法 - Google Patents
ポリボロシラザン及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0284437A JPH0284437A JP6916989A JP6916989A JPH0284437A JP H0284437 A JPH0284437 A JP H0284437A JP 6916989 A JP6916989 A JP 6916989A JP 6916989 A JP6916989 A JP 6916989A JP H0284437 A JPH0284437 A JP H0284437A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- polysilazane
- borane
- formula
- molecular weight
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229920001709 polysilazane Polymers 0.000 claims abstract description 91
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 62
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 20
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 9
- 125000005103 alkyl silyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 47
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 23
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 17
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 14
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 14
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 7
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 27
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 3
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 64
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- -1 polysiloxanes Polymers 0.000 description 43
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 36
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 26
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 24
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 23
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 20
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 16
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 14
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 14
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 13
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 11
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 10
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 10
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 10
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 10
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 9
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 9
- 238000000034 method Methods 0.000 description 9
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N diethyl ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 7
- 229920001002 functional polymer Polymers 0.000 description 7
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 6
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 5
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 4
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N furosemide Chemical compound C1=C(Cl)C(S(=O)(=O)N)=CC(C(O)=O)=C1NCC1=CC=CO1 ZZUFCTLCJUWOSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 4
- AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 2-Methylpentane Chemical compound CCCC(C)C AFABGHUZZDYHJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910008423 Si—B Inorganic materials 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 3
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000001664 diethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N(*)C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 3
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFMOJHVRFMOIGF-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethoxy-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound COB1OB(OC)OB(OC)O1 ZFMOJHVRFMOIGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XFONVDHRGBVINM-UHFFFAOYSA-N CBBBBBBBBBBC Chemical compound CBBBBBBBBBBC XFONVDHRGBVINM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N Cyclopentane Chemical compound C1CCCC1 RGSFGYAAUTVSQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N Phosphine Chemical compound P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241000220317 Rosa Species 0.000 description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- BGECDVWSWDRFSP-UHFFFAOYSA-N borazine Chemical compound B1NBNBN1 BGECDVWSWDRFSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNTOJPXOCKCMKR-UHFFFAOYSA-N boron;pyridine Chemical compound [B].C1=CC=NC=C1 NNTOJPXOCKCMKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N bromoform Chemical compound BrC(Br)Br DIKBFYAXUHHXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 244000309464 bull Species 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 125000003963 dichloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N dichlorosilane Chemical compound Cl[SiH2]Cl MROCJMGDEKINLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAFYLCKQPJOORN-UHFFFAOYSA-N diethylborane Chemical compound CCBCC FAFYLCKQPJOORN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHJMYJRJHPVRGT-UHFFFAOYSA-N difluoromethylboron Chemical compound [B]C(F)F MHJMYJRJHPVRGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoboron Chemical compound [B]N(C)C YPTUAQWMBNZZRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- AIGRXSNSLVJMEA-FQEVSTJZSA-N ethoxy-(4-nitrophenoxy)-phenyl-sulfanylidene-$l^{5}-phosphane Chemical compound O([P@@](=S)(OCC)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 AIGRXSNSLVJMEA-FQEVSTJZSA-N 0.000 description 2
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 2
- 238000007710 freezing Methods 0.000 description 2
- 230000008014 freezing Effects 0.000 description 2
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N methylcyclopentane Chemical compound CC1CCCC1 GDOPTJXRTPNYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- BZBAYMUKLAYQEO-UHFFFAOYSA-N phenylborane Chemical compound BC1=CC=CC=C1 BZBAYMUKLAYQEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 239000000565 sealant Substances 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N tributyl borate Chemical compound CCCCOB(OCCCC)OCCCC LGQXXHMEBUOXRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N trimethyl borate Chemical compound COB(OC)OC WRECIMRULFAWHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N trimethylphosphine Substances CP(C)C YWWDBCBWQNCYNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- GJLPUBMCTFOXHD-UPHRSURJSA-N (11z)-1$l^{2},2$l^{2},3$l^{2},4$l^{2},5$l^{2},6$l^{2},7$l^{2},8$l^{2},9$l^{2},10$l^{2}-decaboracyclododec-11-ene Chemical compound [B]1[B][B][B][B][B]\C=C/[B][B][B][B]1 GJLPUBMCTFOXHD-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBHHDMSIQLFSLX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6-hexaethyl-1,3,5,2,4,6-triazatriborinane Chemical compound CCB1N(CC)B(CC)N(CC)B(CC)N1CC ZBHHDMSIQLFSLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCHQMXUQYONIOI-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6-hexamethyl-1,3,5,2,4,6-triazatriborinane Chemical compound CB1N(C)B(C)N(C)B(C)N1C LCHQMXUQYONIOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGRMITBWUVWUEB-UHFFFAOYSA-N 1-$l^{1}-oxidanyl-3-methylbenzene Chemical group CC1=CC=CC([O])=C1 UGRMITBWUVWUEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWDYAQAYBIOZSZ-UHFFFAOYSA-N 1-[amino(butyl)boranyl]butane Chemical compound CCCCB(N)CCCC KWDYAQAYBIOZSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOSNXLLDJZCKGS-UHFFFAOYSA-N 1-[amino(propyl)boranyl]propane Chemical compound CCCB(N)CCC HOSNXLLDJZCKGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIKKFQZRIYHPFD-UHFFFAOYSA-N 1-bromohex-1-enyl-bis(2-methylpentyl)borane Chemical compound CCCCC=C(Br)B(CC(C)CCC)CC(C)CCC PIKKFQZRIYHPFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPKFVRWIISEVCW-UHFFFAOYSA-N 1-butane boronic acid Chemical compound CCCCB(O)O QPKFVRWIISEVCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxybutane Chemical compound CCCCOCC PZHIWRCQKBBTOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006073 1-ethyl-1-butenyl group Chemical group 0.000 description 1
- QQFRNLSOJBVKJO-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1,3,5,2,4,6-triazatriborinane Chemical compound CN1BNBNB1 QQFRNLSOJBVKJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTWJUVSLJRLZFF-UHFFFAOYSA-N 2$l^{2},3$l^{2},4$l^{2},5$l^{2},6$l^{2},7$l^{2},8$l^{2},9$l^{2},11$l^{2},12$l^{2}-decaborabicyclo[8.1.1]dodecane Chemical compound [B]1C2[B]C1[B][B][B][B][B][B][B][B]2 JTWJUVSLJRLZFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFKITCXQNITTDV-UHFFFAOYSA-N 2,2-dichloroethoxyboron Chemical compound [B]OCC(Cl)Cl JFKITCXQNITTDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQEOZNPKBKCSPK-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tributyl-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound CCCCB1OB(CCCC)OB(CCCC)O1 DQEOZNPKBKCSPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSTKHPZCCNFRLD-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-tricyclohexyl-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound C1CCCCC1B1OB(C2CCCCC2)OB(C2CCCCC2)O1 YSTKHPZCCNFRLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JMAQTHFIHWVLJK-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triethoxy-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound CCOB1OB(OCC)OB(OCC)O1 JMAQTHFIHWVLJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVRPRGWIJQKENN-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound CCB1OB(CC)OB(CC)O1 QVRPRGWIJQKENN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVWCXYPJHTZDEU-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trifluoro-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound FB1OB(F)OB(F)O1 FVWCXYPJHTZDEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBBSAMQTQCPOBF-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound CB1OB(C)OB(C)O1 GBBSAMQTQCPOBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOXXGUAZBWSUSS-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triphenyl-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane Chemical compound O1B(C=2C=CC=CC=2)OB(C=2C=CC=CC=2)OB1C1=CC=CC=C1 VOXXGUAZBWSUSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWBIJARKDOFDAN-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethyl-1,4-dioxane Chemical compound CC1COC(C)CO1 AWBIJARKDOFDAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-Lutidine Substances CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAHJWRIUZFGLKS-UHFFFAOYSA-N 2-[amino-(2,4,6-trimethylphenyl)boranyl]-1,3,5-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C)=C1B(N)C1=C(C)C=C(C)C=C1C ZAHJWRIUZFGLKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYTVPRWAGRDIIR-UHFFFAOYSA-N 2-aminoethyl diphenyl borate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OB(OCCN)OC1=CC=CC=C1 VYTVPRWAGRDIIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOJAKAVWXKPERV-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole;trifluoroborane Chemical compound FB(F)F.CC1=NC=CN1 AOJAKAVWXKPERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUFYDXXSDUOIFR-UHFFFAOYSA-N 2-methylprop-2-enyl(dipropyl)borane Chemical compound CCCB(CCC)CC(C)=C WUFYDXXSDUOIFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XIVQREWNGVEEGW-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropoxy(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(OCC(C)C)C1=CC=CC=C1 XIVQREWNGVEEGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCEUQZFYWODGAU-UHFFFAOYSA-N 2-n,2-n,4-n,4-n,6-n,6-n-hexamethyl-1,3,5,2,4,6-trioxatriborinane-2,4,6-triamine Chemical compound CN(C)B1OB(N(C)C)OB(N(C)C)O1 ZCEUQZFYWODGAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- TYOYHSHTXRZSAV-UHFFFAOYSA-N 3-methylbut-2-enyl(dipropyl)borane Chemical compound CCCB(CCC)CC=C(C)C TYOYHSHTXRZSAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVQIKJMSUIMUDI-UHFFFAOYSA-N 3-pyrroline Chemical compound C1NCC=C1 JVQIKJMSUIMUDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSAMTNWZBYOWMZ-UHFFFAOYSA-N 4-methylaniline;trifluoroborane Chemical compound FB(F)F.CC1=CC=C(N)C=C1 LSAMTNWZBYOWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIDWALLOVCBJOG-UHFFFAOYSA-N 5-chloropent-1-enyl-bis(3-methylbutan-2-yl)borane Chemical compound CC(C)C(C)B(C(C)C(C)C)C=CCCCCl ZIDWALLOVCBJOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKMNLMKLTIDWDQ-UHFFFAOYSA-N 7-bromo-3-methyl-7-borabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound C1B(Br)CC2CC(C)CC1C2 WKMNLMKLTIDWDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCTVRMFHOAFMKU-UHFFFAOYSA-N 7-methoxy-7-borabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound C1CCC2CB(OC)CC1C2 DCTVRMFHOAFMKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UNGDGQYONLTNJZ-UHFFFAOYSA-N 9-methoxy-9-borabicyclo[3.3.1]nonane Chemical compound C1CCC2CCCC1B2OC UNGDGQYONLTNJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMCAIOZZHFFUPV-UHFFFAOYSA-N BBBCC Chemical compound BBBCC HMCAIOZZHFFUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRTHJADILGDYLW-UHFFFAOYSA-N BBBCCB Chemical compound BBBCCB PRTHJADILGDYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSVUUIANZYCFFQ-UHFFFAOYSA-N BC(Br)Br.C1=CC=NC=C1 Chemical compound BC(Br)Br.C1=CC=NC=C1 QSVUUIANZYCFFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTXKNBFYALSSNK-UHFFFAOYSA-N BC(C)C(C)C Chemical compound BC(C)C(C)C BTXKNBFYALSSNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGVWAKATIIZEMH-UHFFFAOYSA-N BC=CCCCC Chemical compound BC=CCCCC PGVWAKATIIZEMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSYDRLLJCXORGN-UHFFFAOYSA-N BCC(Br)Br Chemical compound BCC(Br)Br GSYDRLLJCXORGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPSZSJRQZHMGFH-UHFFFAOYSA-N BCC(Cl)Cl Chemical compound BCC(Cl)Cl RPSZSJRQZHMGFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKQMPWPPMKBFRB-UHFFFAOYSA-N BCCC(OC)OC Chemical compound BCCC(OC)OC HKQMPWPPMKBFRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVSGBYNSRPNDX-UHFFFAOYSA-N BCCOC(C)(C)C Chemical compound BCCOC(C)(C)C OCVSGBYNSRPNDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGYXMIZXEMQDTP-UHFFFAOYSA-N BCOCN(C)C Chemical compound BCOCN(C)C MGYXMIZXEMQDTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NKTXAINCASAJIW-UHFFFAOYSA-N BOC(F)F Chemical compound BOC(F)F NKTXAINCASAJIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWVXCNAZWSOCE-UHFFFAOYSA-N BOC(N(C)C)N(C)C Chemical compound BOC(N(C)C)N(C)C FZWVXCNAZWSOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVLWEHCBJKBSFR-UHFFFAOYSA-N BOC(O)O Chemical compound BOC(O)O CVLWEHCBJKBSFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N Boron trifluoride etherate Chemical compound FB(F)F.CCOCC KZMGYPLQYOPHEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSTAEVFQLVBPKH-UHFFFAOYSA-N BrB.CP(C)C Chemical compound BrB.CP(C)C SSTAEVFQLVBPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VSOVXOUIMBBPOF-UHFFFAOYSA-N BrBBr.CN(C)C Chemical compound BrBBr.CN(C)C VSOVXOUIMBBPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQINSURQLSUOMC-UHFFFAOYSA-N BrBCN(C)C Chemical compound BrBCN(C)C VQINSURQLSUOMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHDXMIXOLLEXCD-UHFFFAOYSA-N CC1=C(C(=C(C=C1)B)C)C Chemical compound CC1=C(C(=C(C=C1)B)C)C YHDXMIXOLLEXCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDADWIFNTIYXLO-UHFFFAOYSA-N CCN1BNBNB1 Chemical compound CCN1BNBNB1 NDADWIFNTIYXLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMZUCOCQYFZAC-UHFFFAOYSA-N CN(C)C(B)N(C)C Chemical compound CN(C)C(B)N(C)C MYMZUCOCQYFZAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMJYUKFIVQEWDG-UHFFFAOYSA-N CNC.FBF Chemical compound CNC.FBF GMJYUKFIVQEWDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSZUMIIEGNRBJU-UHFFFAOYSA-N CP(C)C.BrC(Br)B Chemical compound CP(C)C.BrC(Br)B ZSZUMIIEGNRBJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GLHXHWUDOMEPFT-UHFFFAOYSA-N ClB.C1CCOC1 Chemical compound ClB.C1CCOC1 GLHXHWUDOMEPFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGHCROXYALFLR-UHFFFAOYSA-N ClB.CCN(CC)CC Chemical compound ClB.CCN(CC)CC FRGHCROXYALFLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CEKMDEXBTKQNBL-UHFFFAOYSA-N ClB.CNC Chemical compound ClB.CNC CEKMDEXBTKQNBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIXBCRDEBFGIEQ-UHFFFAOYSA-N ClB.CP(C)C Chemical compound ClB.CP(C)C SIXBCRDEBFGIEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQRCEGLLWXERDH-UHFFFAOYSA-N ClB.CSC Chemical compound ClB.CSC RQRCEGLLWXERDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FMYVBSZICCPYEY-UHFFFAOYSA-N ClB1N(BNBN1)Cl Chemical compound ClB1N(BNBN1)Cl FMYVBSZICCPYEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZXYUMKEALHJGZ-UHFFFAOYSA-N FBF.CN(C)C Chemical compound FBF.CN(C)C FZXYUMKEALHJGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWFFIZIPFPLES-UHFFFAOYSA-N FC(=C[B])F Chemical compound FC(=C[B])F QTWFFIZIPFPLES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJNDUOFCKQDNLX-UHFFFAOYSA-N IB.CN(C)C Chemical compound IB.CN(C)C KJNDUOFCKQDNLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTXNVFSMMVLRFS-UHFFFAOYSA-N IB.CP(C)C Chemical compound IB.CP(C)C MTXNVFSMMVLRFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPVMAMPCGCPARN-UHFFFAOYSA-N N.CB(C)C Chemical compound N.CB(C)C GPVMAMPCGCPARN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYKUBUPNWBQYQC-UHFFFAOYSA-N NC.BC#N Chemical compound NC.BC#N BYKUBUPNWBQYQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAYNGOLVBGBROC-UHFFFAOYSA-N NC.FBF Chemical compound NC.FBF YAYNGOLVBGBROC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCPOFBDTZXURPG-UHFFFAOYSA-N OC(=CB)O Chemical compound OC(=CB)O KCPOFBDTZXURPG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUMGZBWLOVNUMF-UHFFFAOYSA-N [B]1B2B1[B]2 Chemical compound [B]1B2B1[B]2 DUMGZBWLOVNUMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N [N].[Si] Chemical compound [N].[Si] UMVBXBACMIOFDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHYSHMZGBQMTLC-UHFFFAOYSA-N [amino(methyl)boranyl]methane Chemical compound CB(C)N NHYSHMZGBQMTLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N aluminium isopropoxide Chemical compound [Al+3].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJORGWKNPGCDW-UHFFFAOYSA-N aminoboron Chemical compound N[B] TVJORGWKNPGCDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- ADKFPZYATUZKCR-UHFFFAOYSA-N anisole;trifluoroborane Chemical compound FB(F)F.COC1=CC=CC=C1 ADKFPZYATUZKCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- DXMVWIOLBPUSSD-UHFFFAOYSA-N azane boranylformonitrile Chemical compound N.BC#N DXMVWIOLBPUSSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BATOHIFNOUYPBN-UHFFFAOYSA-N azane;trimethyl borate Chemical compound N.COB(OC)OC BATOHIFNOUYPBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 description 1
- UZGBPDKVSUINRI-UHFFFAOYSA-N bis(3-methylbutan-2-yl)-oct-1-enylborane Chemical compound CCCCCCC=CB(C(C)C(C)C)C(C)C(C)C UZGBPDKVSUINRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHAXQSFPTJUMLT-UHFFFAOYSA-N bis(3-methylbutan-2-yl)boron Chemical compound CC(C)C(C)[B]C(C)C(C)C VHAXQSFPTJUMLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOMXMAJQSQCWGR-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl)-methylborane Chemical compound C=CB(C)C=C YOMXMAJQSQCWGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVUXQFWWVPAINE-UHFFFAOYSA-N borane hydrazine Chemical compound B.NN HVUXQFWWVPAINE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LURMJOBTAQFDRC-UHFFFAOYSA-N boranylformonitrile;n,n-dimethylmethanamine Chemical compound BC#N.CN(C)C LURMJOBTAQFDRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLBCUYOEARDDDH-UHFFFAOYSA-N boranylformonitrile;n-methylmethanamine Chemical compound BC#N.CNC BLBCUYOEARDDDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOLLFQLRYSLRHQ-UHFFFAOYSA-N boranylformonitrile;pyridine Chemical compound BC#N.C1=CC=NC=C1 DOLLFQLRYSLRHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYANAUSDHIFLFQ-UHFFFAOYSA-N borinic acid Chemical compound OB UYANAUSDHIFLFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N boron tribromide Chemical compound BrB(Br)Br ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMEKEHSRPZAOGO-UHFFFAOYSA-N boron triiodide Chemical compound IB(I)I YMEKEHSRPZAOGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVYPHUYXKVVURH-UHFFFAOYSA-N boron;2-methylpropan-2-amine Chemical compound [B].CC(C)(C)N PVYPHUYXKVVURH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEWFZHAHZPVQES-UHFFFAOYSA-N boron;n,n-diethylethanamine Chemical compound [B].CCN(CC)CC VEWFZHAHZPVQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRJRPHROCLHMHK-UHFFFAOYSA-N boron;n,n-dimethylmethanamine Chemical compound [B].CN(C)C LRJRPHROCLHMHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVJFCWCVLJOKRP-UHFFFAOYSA-N boron;n-ethylethanamine Chemical compound [B].CCNCC XVJFCWCVLJOKRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N boron;n-methylmethanamine Chemical compound [B].CNC RJTANRZEWTUVMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRTALTYTFFNPAC-UHFFFAOYSA-N boroxin Chemical compound B1OBOBO1 BRTALTYTFFNPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGHFMEQKWMSOKE-UHFFFAOYSA-N bromo(dibutyl)borane Chemical compound CCCCB(Br)CCCC KGHFMEQKWMSOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSCAKCMWXRUSSO-UHFFFAOYSA-N bromo(dicyclopentyl)borane Chemical compound C1CCCC1B(Br)C1CCCC1 FSCAKCMWXRUSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRDRHLAEIODTGH-UHFFFAOYSA-N bromo(diethyl)borane Chemical compound CCB(Br)CC NRDRHLAEIODTGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABQPEYRVNHDPIO-UHFFFAOYSA-N bromo(dimethyl)borane Chemical compound CB(C)Br ABQPEYRVNHDPIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBGHDJKQIZXRRY-UHFFFAOYSA-N bromo(dimethyl)borane;trimethylphosphane Chemical compound CB(C)Br.CP(C)C VBGHDJKQIZXRRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZILXUJBQGJWPO-UHFFFAOYSA-N bromo(dipentyl)borane Chemical compound CCCCCB(Br)CCCCC CZILXUJBQGJWPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XADXBBARFYCIQU-UHFFFAOYSA-N bromo(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(Br)C1=CC=CC=C1 XADXBBARFYCIQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NROGCXKJHUMQBG-UHFFFAOYSA-N bromo-bis(2-bromohex-1-enyl)borane Chemical compound CCCCC(Br)=CB(Br)C=C(Br)CCCC NROGCXKJHUMQBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTYJFHZWRUJGLY-UHFFFAOYSA-N bromo-di(butan-2-yl)borane Chemical compound CCC(C)B(Br)C(C)CC MTYJFHZWRUJGLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQRNIOMHNXJPFD-UHFFFAOYSA-N bromoborane methylsulfanylmethane Chemical compound BrB.CSC AQRNIOMHNXJPFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005228 bromoform Drugs 0.000 description 1
- HONPTVUJQCHXMJ-UHFFFAOYSA-N butoxy(diethyl)borane Chemical compound CCCCOB(CC)CC HONPTVUJQCHXMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIFVJZUKWXFANO-UHFFFAOYSA-N butoxy(difluoro)borane Chemical compound CCCCOB(F)F JIFVJZUKWXFANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AASVOBMQZFGUBD-UHFFFAOYSA-N butoxy(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(OCCCC)C1=CC=CC=C1 AASVOBMQZFGUBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTUSSIKKPFNVDP-UHFFFAOYSA-N butoxy(dipropyl)borane Chemical compound CCCCOB(CCC)CCC CTUSSIKKPFNVDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVBWAGCLIHFWIH-UHFFFAOYSA-N butyl(dichloro)borane Chemical compound CCCCB(Cl)Cl ZVBWAGCLIHFWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCATUVFXGPFBSD-UHFFFAOYSA-N butyl(difluoro)borane Chemical compound CCCCB(F)F QCATUVFXGPFBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHLVEDLOVFDBTO-UHFFFAOYSA-N butyl(dimethoxy)borane Chemical compound CCCCB(OC)OC GHLVEDLOVFDBTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DWRRVNLDMSAADZ-UHFFFAOYSA-N butyl-bis(prop-2-enyl)borane Chemical compound CCCCB(CC=C)CC=C DWRRVNLDMSAADZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- OEERIBPGRSLGEK-UHFFFAOYSA-N carbon dioxide;methanol Chemical compound OC.O=C=O OEERIBPGRSLGEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- PBBOKJIYEZCTEH-UHFFFAOYSA-N chloro(dicyclohexyl)borane Chemical compound C1CCCCC1B(Cl)C1CCCCC1 PBBOKJIYEZCTEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRJQLUNGZQZONS-UHFFFAOYSA-N chloro(diethyl)borane Chemical compound CCB(Cl)CC PRJQLUNGZQZONS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBOQYRKDOSNKFJ-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethoxy)borane Chemical compound COB(Cl)OC OBOQYRKDOSNKFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJGJBRMHVVAZOU-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)borane Chemical compound CB(C)Cl DJGJBRMHVVAZOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHUWBNXXQFWIKW-UHFFFAOYSA-N chloro(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(Cl)C1=CC=CC=C1 DHUWBNXXQFWIKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWQYQXVOVIJDDH-UHFFFAOYSA-N chloro(dipropyl)borane Chemical compound CCCB(Cl)CCC MWQYQXVOVIJDDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUAABZNAMNVVRP-UHFFFAOYSA-N chloro-bis(2-chlorohex-1-enyl)borane Chemical compound CCCCC(Cl)=CB(Cl)C=C(Cl)CCCC YUAABZNAMNVVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQPXYBBZSHPAKW-UHFFFAOYSA-N chloro-bis(2-methylpropyl)borane Chemical compound CC(C)CB(Cl)CC(C)C XQPXYBBZSHPAKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUAMSWJNLCWBJQ-UHFFFAOYSA-N chloro-bis(ethenyl)borane Chemical compound C=CB(Cl)C=C IUAMSWJNLCWBJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOALEFQKAOQICC-UHFFFAOYSA-N chloroborane Chemical compound ClB UOALEFQKAOQICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005565 cyclic polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- VLJUMGOIDQJAOH-UHFFFAOYSA-N cyclohexylborane Chemical compound BC1CCCCC1 VLJUMGOIDQJAOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKVXABOILVNHCI-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl(dimethoxy)borane Chemical compound COB(OC)C1CCCC1 XKVXABOILVNHCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJJHMFMQMRGJOW-UHFFFAOYSA-N cyclopentylborane Chemical compound BC1CCCC1 IJJHMFMQMRGJOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTTDFSNKIMAQTB-UHFFFAOYSA-N cyclopentylboronic acid Chemical compound OB(O)C1CCCC1 VTTDFSNKIMAQTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- KRKUCIKOPBDOST-UHFFFAOYSA-N di(butan-2-yl)-methoxyborane Chemical compound CCC(C)B(OC)C(C)CC KRKUCIKOPBDOST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBBRLYPDUORJEZ-UHFFFAOYSA-N diaminoboron Chemical compound N[B]N KBBRLYPDUORJEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000950 dibromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- OUWQBUBQXAQZEV-UHFFFAOYSA-N dibromo(2-methylpentyl)borane Chemical compound CCCC(C)CB(Br)Br OUWQBUBQXAQZEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEXJIZFBHGLOHE-UHFFFAOYSA-N dibromo(3,3-dimethylbut-1-enyl)borane Chemical compound CC(C)(C)C=CB(Br)Br BEXJIZFBHGLOHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEZSZFNYFNSKRA-UHFFFAOYSA-N dibromo(4-methylpent-2-en-2-yl)borane Chemical compound CC(C)C=C(C)B(Br)Br AEZSZFNYFNSKRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLEHTIGHDNOCIX-UHFFFAOYSA-N dibromo(butyl)borane Chemical compound CCCCB(Br)Br OLEHTIGHDNOCIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FINGVWSKUCNMPW-UHFFFAOYSA-N dibromo(hex-3-en-3-yl)borane Chemical compound CCC=C(CC)B(Br)Br FINGVWSKUCNMPW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGDVOAWBEIKPAK-UHFFFAOYSA-N dibromo(hexyl)borane Chemical compound CCCCCCB(Br)Br UGDVOAWBEIKPAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFBZCLIJTPEKOQ-UHFFFAOYSA-N dibromo(phenyl)borane Chemical compound BrB(Br)C1=CC=CC=C1 GFBZCLIJTPEKOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICTQPPLMSQQYGD-UHFFFAOYSA-N dibromo-(2-methylcyclopentyl)borane Chemical compound CC1CCCC1B(Br)Br ICTQPPLMSQQYGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PGSRDLGPKTVELT-UHFFFAOYSA-N dibromoborane methylsulfanylmethane Chemical compound CSC.BrBBr PGSRDLGPKTVELT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHSZOSZANSAHI-UHFFFAOYSA-N dibromomethylborane Chemical compound BC(Br)Br PFHSZOSZANSAHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- INVPQTFQRFNBFL-UHFFFAOYSA-N dibutyl(chloro)borane Chemical compound CCCCB(Cl)CCCC INVPQTFQRFNBFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOFUUCBGZJBZLT-UHFFFAOYSA-N dibutyl(cyclohexen-1-yloxy)borane Chemical compound CCCCB(CCCC)OC1=CCCCC1 HOFUUCBGZJBZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJCJRYWLRAKMPL-UHFFFAOYSA-N dibutyl(hexoxy)borane Chemical compound CCCCCCOB(CCCC)CCCC GJCJRYWLRAKMPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSNXXCRLUQFPDP-UHFFFAOYSA-N dibutyl(pent-2-en-3-yloxy)borane Chemical compound CCCCB(CCCC)OC(CC)=CC ZSNXXCRLUQFPDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPWHRWHZWQSFKF-UHFFFAOYSA-N dibutyl(prop-2-enyl)borane Chemical compound CCCCB(CC=C)CCCC JPWHRWHZWQSFKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVVMHZRGSHTZDB-UHFFFAOYSA-N dibutylboron Chemical compound CCCC[B]CCCC OVVMHZRGSHTZDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQSHJMNOJVBDQ-UHFFFAOYSA-N dichloro(dec-5-en-5-yl)borane Chemical compound CCCCC=C(B(Cl)Cl)CCCC WDQSHJMNOJVBDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQMZKFDUDGMBFY-UHFFFAOYSA-N dichloro(octyl)borane Chemical compound CCCCCCCCB(Cl)Cl ZQMZKFDUDGMBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NCQDQONETMHUMY-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)borane Chemical compound ClB(Cl)C1=CC=CC=C1 NCQDQONETMHUMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLDVRTBAVSDFHV-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)borane;n,n-diethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CC.ClB(Cl)C1=CC=CC=C1 QLDVRTBAVSDFHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N dichloro(phenyl)silicon Chemical compound Cl[Si](Cl)C1=CC=CC=C1 XNAFLNBULDHNJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMLFCQYNWULLLD-UHFFFAOYSA-N dichloro(propan-2-yl)borane Chemical compound CC(C)B(Cl)Cl LMLFCQYNWULLLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDFWSNNGAFVTKM-UHFFFAOYSA-N dichloro(propyl)borane Chemical compound CCCB(Cl)Cl HDFWSNNGAFVTKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBMCKUNBFWVWQJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-(2,3,4,5,6-pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(B(Cl)Cl)C(F)=C1F RBMCKUNBFWVWQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LERAWFKJKSEXJT-UHFFFAOYSA-N dichloro-(2-methylcyclopentyl)borane Chemical compound CC1CCCC1B(Cl)Cl LERAWFKJKSEXJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVYKBZIMZNCXJR-UHFFFAOYSA-N dichloro-(4-methylphenyl)borane Chemical compound CC1=CC=C(B(Cl)Cl)C=C1 HVYKBZIMZNCXJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCBDXMRLVTYWJJ-UHFFFAOYSA-N dichloroborane methylsulfanylmethane Chemical compound CSC.ClBCl MCBDXMRLVTYWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOXBRFPCHWHRPH-UHFFFAOYSA-N dichloroboranylformonitrile;pyridine Chemical compound ClB(Cl)C#N.C1=CC=NC=C1 VOXBRFPCHWHRPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YOODLSJCDALOBI-UHFFFAOYSA-N dichloromethylborane Chemical compound BC(Cl)Cl YOODLSJCDALOBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTLDWMOYTRJNMF-UHFFFAOYSA-N dicyclohexyl(methoxy)borane Chemical compound C1CCCCC1B(OC)C1CCCCC1 PTLDWMOYTRJNMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNYOSXARXANYPB-UHFFFAOYSA-N dicyclohexylborane Chemical compound C1CCCCC1BC1CCCCC1 XNYOSXARXANYPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSSGPAJRPONBJS-UHFFFAOYSA-N dicyclopentyl(methoxy)borane Chemical compound C1CCCC1B(OC)C1CCCC1 MSSGPAJRPONBJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KJKICZJZVGRCDT-UHFFFAOYSA-N diethyl(2-methylpent-4-en-2-yloxy)borane Chemical compound CCB(CC)OC(C)(C)CC=C KJKICZJZVGRCDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPWVOMOCEVHLFE-UHFFFAOYSA-N diethyl(2-methylprop-2-enyl)borane Chemical compound CCB(CC)CC(C)=C FPWVOMOCEVHLFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTYZHRQSGMKRCS-UHFFFAOYSA-N diethyl(3-methylbut-2-enyl)borane Chemical compound CCB(CC)CC=C(C)C XTYZHRQSGMKRCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVRXGHXPRFKIIV-UHFFFAOYSA-N diethyl(hex-5-en-3-yloxy)borane Chemical compound CCB(CC)OC(CC)CC=C DVRXGHXPRFKIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWMGUWISFHUWRX-UHFFFAOYSA-N diethyl(hexoxy)borane Chemical compound CCCCCCOB(CC)CC NWMGUWISFHUWRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FESAXEDIWWXCNG-UHFFFAOYSA-N diethyl(methoxy)borane Chemical compound CCB(CC)OC FESAXEDIWWXCNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCQZSLIVUXEOKQ-UHFFFAOYSA-N diethyl(methyl)borane Chemical compound CCB(C)CC SCQZSLIVUXEOKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLJCNIBCUJMZOV-UHFFFAOYSA-N diethyl(prop-2-enyl)borane Chemical compound CCB(CC)CC=C JLJCNIBCUJMZOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HUQOFZLCQISTTJ-UHFFFAOYSA-N diethylaminoboron Chemical compound CCN([B])CC HUQOFZLCQISTTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADEAZBLSUNLCQN-UHFFFAOYSA-N diethylborinic acid Chemical compound CCB(O)CC ADEAZBLSUNLCQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXWSKKHBVPLXKD-UHFFFAOYSA-N difluoro(phenoxy)borane Chemical compound FB(F)OC1=CC=CC=C1 DXWSKKHBVPLXKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WATLWUFSKRFBOD-UHFFFAOYSA-N difluoro(phenyl)borane Chemical compound FB(F)C1=CC=CC=C1 WATLWUFSKRFBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVCCBJJGNWDLST-UHFFFAOYSA-N difluoro(propoxy)borane Chemical compound CCCOB(F)F LVCCBJJGNWDLST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRZMJFRZMNWFKE-UHFFFAOYSA-N difluoroborane Chemical compound FBF LRZMJFRZMNWFKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDZPQERMTPAPLD-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(3-methylbuta-1,2-dienyl)borane Chemical compound COB(OC)C=C=C(C)C CDZPQERMTPAPLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BINBUVDYVMWEGQ-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(methyl)borane Chemical compound COB(C)OC BINBUVDYVMWEGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJMJJGCCNUPJBI-UHFFFAOYSA-N dimethoxy(phenyl)borane Chemical compound COB(OC)C1=CC=CC=C1 MJMJJGCCNUPJBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQVWLDGWZDLNGR-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-(2-methylcyclopentyl)borane Chemical compound COB(OC)C1CCCC1C JQVWLDGWZDLNGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAWRKITUPUFMHV-UHFFFAOYSA-N dimethoxyborane Chemical compound COBOC VAWRKITUPUFMHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMLFPSKPTROTFV-UHFFFAOYSA-N dimethylborane Chemical compound CBC GMLFPSKPTROTFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWEKVSRZLQDNFL-UHFFFAOYSA-N dimethylborinic acid Chemical compound CB(C)O HWEKVSRZLQDNFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N dimethylsulfide Substances CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VIGVRXYWWFPORY-UHFFFAOYSA-N diphenylborinic acid Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(O)C1=CC=CC=C1 VIGVRXYWWFPORY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- JDVIRCVIXCMTPU-UHFFFAOYSA-N ethanamine;trifluoroborane Chemical compound CCN.FB(F)F JDVIRCVIXCMTPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXYQFUKJZRPXCZ-UHFFFAOYSA-N ethanol;trifluoroborane Chemical compound CCO.FB(F)F JXYQFUKJZRPXCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWMJRMPOKXSHHI-UHFFFAOYSA-N ethenylboron Chemical compound [B]C=C RWMJRMPOKXSHHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- BVBBICKLCGKYME-UHFFFAOYSA-N ethoxy(diethyl)borane Chemical compound CCOB(CC)CC BVBBICKLCGKYME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNXBQXQHHCFOSU-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dipentyl)borane Chemical compound CCCCCB(OCC)CCCCC FNXBQXQHHCFOSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBGWUWMCKYGGIY-UHFFFAOYSA-N ethoxy(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(OCC)C1=CC=CC=C1 YBGWUWMCKYGGIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWSFPDWZCWBPRI-UHFFFAOYSA-N ethoxy(dipropyl)borane Chemical compound CCCB(CCC)OCC QWSFPDWZCWBPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYUQNYXHNCJGBN-UHFFFAOYSA-N ethyl(difluoro)borane Chemical compound CCB(F)F LYUQNYXHNCJGBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVAQYKMRHRVDTF-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethoxy)borane Chemical compound CCB(OC)OC LVAQYKMRHRVDTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOROTCSPKMPOQB-UHFFFAOYSA-N ethyl(dimethyl)borane Chemical compound CCB(C)C QOROTCSPKMPOQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXQYHDILUFBCFV-UHFFFAOYSA-N ethyl(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(CC)C1=CC=CC=C1 MXQYHDILUFBCFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOUBUFOFBHNEAP-UHFFFAOYSA-N ethylborane Chemical compound BCC BOUBUFOFBHNEAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAVZHTXVORCEHP-UHFFFAOYSA-N ethylboronic acid Chemical compound CCB(O)O PAVZHTXVORCEHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZDMAATUUPBFFG-UHFFFAOYSA-N ethynyl(difluoro)borane Chemical compound FB(F)C#C HZDMAATUUPBFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLODKUVHHRFYRQ-UHFFFAOYSA-N ethynylborane Chemical compound BC#C RLODKUVHHRFYRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 229960004979 fampridine Drugs 0.000 description 1
- LOGBIHSWKLLNDY-UHFFFAOYSA-N fluoro(dimethoxy)borane Chemical compound COB(F)OC LOGBIHSWKLLNDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVBRZOLXXOIMQG-UHFFFAOYSA-N fluoroborane Chemical compound FB BVBRZOLXXOIMQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N heptamethylene Natural products C1CCCCCC1 DMEGYFMYUHOHGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWFKSQSXNUNYAC-UHFFFAOYSA-N hex-1-enylboronic acid Chemical compound CCCCC=CB(O)O GWFKSQSXNUNYAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTPBHKVBUYYMFF-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol;trifluoroborane Chemical compound FB(F)F.CCCCCCO RTPBHKVBUYYMFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCEXWHHOKRMTGF-UHFFFAOYSA-N hexoxy(dipropyl)borane Chemical compound CCCCCCOB(CCC)CCC GCEXWHHOKRMTGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEGKMWMOGLVJDA-UHFFFAOYSA-N hexyl(dimethoxy)borane Chemical compound CCCCCCB(OC)OC NEGKMWMOGLVJDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTYLBWPBZDOMGJ-UHFFFAOYSA-N hexyl-bis(prop-2-enyl)borane Chemical compound CCCCCCB(CC=C)CC=C CTYLBWPBZDOMGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- OZDMLJPVUZSCAP-UHFFFAOYSA-N iodoborane Chemical compound IB OZDMLJPVUZSCAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JMZFEHDNIAQMNB-UHFFFAOYSA-N m-aminophenylboronic acid Chemical compound NC1=CC=CC(B(O)O)=C1 JMZFEHDNIAQMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBXYCUKPDAAYAS-UHFFFAOYSA-N methanol;trifluoroborane Chemical compound OC.FB(F)F JBXYCUKPDAAYAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- BEQHHTPEGVHORR-UHFFFAOYSA-N methoxy(dimethyl)borane Chemical compound COB(C)C BEQHHTPEGVHORR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMIAJOTUJWTXEH-UHFFFAOYSA-N methoxy(diphenyl)borane Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(OC)C1=CC=CC=C1 YMIAJOTUJWTXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JJAMWEZYDXGSET-UHFFFAOYSA-N methoxy(dipropyl)borane Chemical compound CCCB(OC)CCC JJAMWEZYDXGSET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTGXTOBGSNIFAU-UHFFFAOYSA-N methoxy-bis(2-methylpropyl)borane Chemical compound CC(C)CB(OC)CC(C)C UTGXTOBGSNIFAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PLFLRQISROSEIJ-UHFFFAOYSA-N methylborane Chemical compound CB PLFLRQISROSEIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTMKRRPZPWUYKK-UHFFFAOYSA-N methylboronic acid Chemical compound CB(O)O KTMKRRPZPWUYKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- VNQSSFGOEZFILM-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylethanamine;tribromoborane Chemical compound BrB(Br)Br.CCN(CC)CC VNQSSFGOEZFILM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDZWDSBMTFWZRI-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylethanamine;trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl.CCN(CC)CC NDZWDSBMTFWZRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDULQHNASHILIU-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylethanamine;triphenylborane Chemical compound CCN(CC)CC.C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VDULQHNASHILIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylethylamine Chemical compound CCN(C)C DAZXVJBJRMWXJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRKOFLFTLOYVNR-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;tribromoborane Chemical compound CN(C)C.BrB(Br)Br HRKOFLFTLOYVNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLZCCKWZRHTOMS-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;trichloroborane Chemical compound CN(C)C.ClB(Cl)Cl OLZCCKWZRHTOMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWDCGMCLKHZVNI-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;trifluoroborane Chemical compound CN(C)C.FB(F)F QWDCGMCLKHZVNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VERGQDBUNPIGMN-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;trimethylborane Chemical compound CB(C)C.CN(C)C VERGQDBUNPIGMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMBSTQHASVJSQE-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylmethanamine;triphenylborane Chemical compound CN(C)C.C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VMBSTQHASVJSQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AQUNAUXSDRXFGF-UHFFFAOYSA-N n,n-diphenylaniline;trimethylborane Chemical compound CB(C)C.C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AQUNAUXSDRXFGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FNQHCCZDHSHINU-UHFFFAOYSA-N n-(dimethylaminoboranyl)-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)BN(C)C FNQHCCZDHSHINU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCFRGNTWICAUIP-UHFFFAOYSA-N n-[bis(diethylamino)boranyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)B(N(CC)CC)N(CC)CC KCFRGNTWICAUIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOLWORTYZPSMAK-UHFFFAOYSA-N n-[bis(dimethylamino)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(N(C)C)N(C)C SOLWORTYZPSMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBOTZJGFGTZTSP-UHFFFAOYSA-N n-[bis(methylamino)boranyl]methanamine Chemical compound CNB(NC)NC YBOTZJGFGTZTSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBDPZBLACZIAPS-UHFFFAOYSA-N n-[bromo(dimethylamino)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(Br)N(C)C UBDPZBLACZIAPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDEOEFUEBJGEJJ-UHFFFAOYSA-N n-[bromo(phenyl)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(Br)C1=CC=CC=C1 SDEOEFUEBJGEJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBSHTTACKKNNQK-UHFFFAOYSA-N n-[but-1-enoxy(chloro)boranyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCC=COB(Cl)N(CC)CC YBSHTTACKKNNQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJYRERTWTNVNOM-UHFFFAOYSA-N n-[but-3-en-2-yl(dimethylamino)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound C=CC(C)B(N(C)C)N(C)C UJYRERTWTNVNOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKELGEJPUYJFBE-UHFFFAOYSA-N n-[butyl(fluoro)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CCCCB(F)N(C)C CKELGEJPUYJFBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PDBTXQYEIPAQAL-UHFFFAOYSA-N n-[chloro(cyclopenten-1-yloxy)boranyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)B(Cl)OC1=CCCC1 PDBTXQYEIPAQAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQQAGTBDQDYFOL-UHFFFAOYSA-N n-[chloro(diethylamino)boranyl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)B(Cl)N(CC)CC LQQAGTBDQDYFOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYAJQQLLLCSMJL-UHFFFAOYSA-N n-[chloro(dimethylamino)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(Cl)N(C)C VYAJQQLLLCSMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJUVAEJCDOGMQS-UHFFFAOYSA-N n-[chloro(phenyl)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(Cl)C1=CC=CC=C1 FJUVAEJCDOGMQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTWSQOFNNMPHFM-UHFFFAOYSA-N n-[chloro(phenyl)boranyl]-n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)B(Cl)C1=CC=CC=C1 CTWSQOFNNMPHFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVYYRWHZTMHINH-UHFFFAOYSA-N n-[chloro(phenyl)boranyl]-n-propylpropan-1-amine Chemical compound CCCN(CCC)B(Cl)C1=CC=CC=C1 RVYYRWHZTMHINH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBEYCABCISNOGN-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(1h-pyrrol-2-yl)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(N(C)C)C1=CC=CN1 FBEYCABCISNOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLSACQGNYHQMIT-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(fluoro)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(F)N(C)C CLSACQGNYHQMIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZOOFJONYUGURT-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(phenyl)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(N(C)C)C1=CC=CC=C1 RZOOFJONYUGURT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFTHVBVWZGJZBT-UHFFFAOYSA-N n-[dimethylamino(propan-2-yl)boranyl]-n-methylmethanamine Chemical compound CC(C)B(N(C)C)N(C)C PFTHVBVWZGJZBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PKAVMDKPWRYDIL-UHFFFAOYSA-N n-[methyl(methylamino)boranyl]methanamine Chemical compound CNB(C)NC PKAVMDKPWRYDIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIEGRKLLRQXJAN-UHFFFAOYSA-N n-[methylamino(phenyl)boranyl]methanamine Chemical compound CNB(NC)C1=CC=CC=C1 DIEGRKLLRQXJAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- YYENLXVSFYHWFN-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-[chloro(phenyl)boranyl]butan-1-amine Chemical compound CCCCN(CCCC)B(Cl)C1=CC=CC=C1 YYENLXVSFYHWFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDLDOBYJYUDLPP-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-[chloro-(dibutylamino)boranyl]butan-1-amine Chemical compound CCCCN(CCCC)B(Cl)N(CCCC)CCCC HDLDOBYJYUDLPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XCQRCIZCPMZXFM-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-dibromoboranylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(B(Br)Br)CCCC XCQRCIZCPMZXFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDQQZXOIMOSGMD-UHFFFAOYSA-N n-butyl-n-dichloroboranylbutan-1-amine Chemical compound CCCCN(B(Cl)Cl)CCCC NDQQZXOIMOSGMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEDIEQUDDYJCFW-UHFFFAOYSA-N n-dibromoboranyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)B(Br)Br DEDIEQUDDYJCFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCVBPATYWJESTP-UHFFFAOYSA-N n-dibromoboranyl-n-methylmethanamine Chemical compound CN(C)B(Br)Br KCVBPATYWJESTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDBVDZUTPPMZNN-UHFFFAOYSA-N n-dibromoboranyl-n-propylpropan-1-amine Chemical compound CCCN(B(Br)Br)CCC LDBVDZUTPPMZNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUOVYWCVKZEHAF-UHFFFAOYSA-N n-dibutylboranyl-n-methylmethanamine Chemical compound CCCCB(N(C)C)CCCC WUOVYWCVKZEHAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYFUACSSDDWTEK-UHFFFAOYSA-N n-dichloroboranyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)B(Cl)Cl YYFUACSSDDWTEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRRUSOCHDSAASP-UHFFFAOYSA-N n-dichloroboranyl-n-methylaniline Chemical compound ClB(Cl)N(C)C1=CC=CC=C1 HRRUSOCHDSAASP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTSSKLOGOSLNSZ-UHFFFAOYSA-N n-dichloroboranyl-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N(B(Cl)Cl)C1=CC=CC=C1 NTSSKLOGOSLNSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SQJYZIVNKOIKKX-UHFFFAOYSA-N n-dichloroboranyl-n-propan-2-ylpropan-2-amine Chemical compound CC(C)N(B(Cl)Cl)C(C)C SQJYZIVNKOIKKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTIBLMPHJJTOBX-UHFFFAOYSA-N n-diethylboranyl-n-methylmethanamine Chemical compound CCB(CC)N(C)C ZTIBLMPHJJTOBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVMBQWIXRYWXRM-UHFFFAOYSA-N n-difluoroboranyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)B(F)F CVMBQWIXRYWXRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFWIBQJOWFJVOO-UHFFFAOYSA-N n-dimethoxyboranyl-n-methylmethanamine Chemical compound COB(OC)N(C)C GFWIBQJOWFJVOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCCRZPYBCHRPNM-UHFFFAOYSA-N n-dimethylboranyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)B(C)C PCCRZPYBCHRPNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUAGRGPXYOEKCF-UHFFFAOYSA-N n-dimethylboranyl-n-methylmethanamine Chemical compound CB(C)N(C)C BUAGRGPXYOEKCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZZLAEGLZAZVHT-UHFFFAOYSA-N n-dimethylboranylaniline Chemical compound CB(C)NC1=CC=CC=C1 NZZLAEGLZAZVHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BORTXUKGEOWSPS-UHFFFAOYSA-N n-dimethylboranylmethanamine Chemical compound CNB(C)C BORTXUKGEOWSPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTGAZRGDPPWCJD-UHFFFAOYSA-N n-diphenylboranyl-n-methylmethanamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1B(N(C)C)C1=CC=CC=C1 RTGAZRGDPPWCJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIEQIUIIWKIARP-UHFFFAOYSA-N n-dipropylboranyl-n-methylmethanamine Chemical compound CCCB(N(C)C)CCC GIEQIUIIWKIARP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N n-ethyl-n-methylethanamine Chemical compound CCN(C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAVXDZCVZXPQQQ-UHFFFAOYSA-N n-methylmethanamine;trichloroborane Chemical compound CNC.ClB(Cl)Cl QAVXDZCVZXPQQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003506 n-propoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- HUMMCEUVDBVXTQ-UHFFFAOYSA-N naphthalen-1-ylboronic acid Chemical compound C1=CC=C2C(B(O)O)=CC=CC2=C1 HUMMCEUVDBVXTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- CHNLPLHJUPMEOI-UHFFFAOYSA-N oxolane;trifluoroborane Chemical compound FB(F)F.C1CCOC1 CHNLPLHJUPMEOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABWPXVJNCQKYDR-UHFFFAOYSA-N pentylboronic acid Chemical compound CCCCCB(O)O ABWPXVJNCQKYDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VENBJVSTINLYEU-UHFFFAOYSA-N phenol;trifluoroborane Chemical compound FB(F)F.OC1=CC=CC=C1 VENBJVSTINLYEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N phenylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=CC=C1 HXITXNWTGFUOAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPRUMANMDWQMNF-UHFFFAOYSA-N phenylethane boronic acid Chemical compound OB(O)CCC1=CC=CC=C1 VPRUMANMDWQMNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- GMDGXJQUWIQOLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylborane Chemical compound BCC=C GMDGXJQUWIQOLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N propan-2-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-] ZGSOBQAJAUGRBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYVLEIJQPVCHKW-UHFFFAOYSA-N propoxy(dipropyl)borane Chemical compound CCCOB(CCC)CCC DYVLEIJQPVCHKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAQOMSTTXPGKTN-UHFFFAOYSA-N propylboronic acid Chemical compound CCCB(O)O JAQOMSTTXPGKTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIDBPGQMXLGRGE-UHFFFAOYSA-N pyridine;tribromoborane Chemical compound BrB(Br)Br.C1=CC=NC=C1 FIDBPGQMXLGRGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGVLWUCRGFFMN-UHFFFAOYSA-N pyridine;trifluoroborane Chemical compound FB(F)F.C1=CC=NC=C1 DKGVLWUCRGFFMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJSXSXUHWBSPEP-UHFFFAOYSA-N pyridine;triphenylborane Chemical compound C1=CC=NC=C1.C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WJSXSXUHWBSPEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GGWBHVILAJZWKJ-KJEVSKRMSA-N ranitidine hydrochloride Chemical compound [H+].[Cl-].[O-][N+](=O)\C=C(/NC)NCCSCC1=CC=C(CN(C)C)O1 GGWBHVILAJZWKJ-KJEVSKRMSA-N 0.000 description 1
- 239000012925 reference material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- YUPAWYWJNZDARM-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yl)borane Chemical compound CCC(C)B(C(C)CC)C(C)CC YUPAWYWJNZDARM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZTKBVWUYLHTIBB-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)borane Chemical compound CC(C)B(C(C)C)C(C)C ZTKBVWUYLHTIBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005270 trialkylamine group Chemical group 0.000 description 1
- UNOTVSGKNOCEBT-UHFFFAOYSA-N tribenzylborane Chemical compound C=1C=CC=CC=1CB(CC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 UNOTVSGKNOCEBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPTNKFSPIBTCCQ-UHFFFAOYSA-N tribromoborane;trimethylphosphane Chemical compound CP(C)C.BrB(Br)Br PPTNKFSPIBTCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKUGCCNXWFQNAL-UHFFFAOYSA-N tribromoborane;triphenylphosphane Chemical compound BrB(Br)Br.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QKUGCCNXWFQNAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOFPNEADTSBYFQ-UHFFFAOYSA-N tributan-2-yl borate Chemical compound CCC(C)OB(OC(C)CC)OC(C)CC MOFPNEADTSBYFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMHHITPYCHHOGT-UHFFFAOYSA-N tributylborane Chemical compound CCCCB(CCCC)CCCC CMHHITPYCHHOGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQLGKWNTIJLNBT-UHFFFAOYSA-N trichloroborane;trimethylphosphane Chemical compound CP(C)C.ClB(Cl)Cl VQLGKWNTIJLNBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJIEGRXJXEJLO-UHFFFAOYSA-N trichloroborane;triphenylphosphane Chemical compound ClB(Cl)Cl.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 XXJIEGRXJXEJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOOITXALNJLNMB-UHFFFAOYSA-N tricyclohexyl borate Chemical compound C1CCCCC1OB(OC1CCCCC1)OC1CCCCC1 BOOITXALNJLNMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJXLNIDKIYXLBL-UHFFFAOYSA-N tricyclohexylborane Chemical compound C1CCCCC1B(C1CCCCC1)C1CCCCC1 SJXLNIDKIYXLBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKCNGGFCZHLNJL-UHFFFAOYSA-N tricyclopentylborane Chemical compound C1CCCC1B(C1CCCC1)C1CCCC1 HKCNGGFCZHLNJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N triethyl borate Chemical compound CCOB(OCC)OCC AJSTXXYNEIHPMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N triethylborane Chemical compound CCB(CC)CC LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARKAHXSISIUBDA-UHFFFAOYSA-N trifluoroborane;trimethylphosphane Chemical compound CP(C)C.FB(F)F ARKAHXSISIUBDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGYWCCCNKVKQSJ-UHFFFAOYSA-N trifluoroborane;triphenylphosphane Chemical compound FB(F)F.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UGYWCCCNKVKQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMHWWOSZMMORNT-UHFFFAOYSA-N trihexylborane Chemical compound CCCCCCB(CCCCCC)CCCCCC NMHWWOSZMMORNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N trimethylborane Chemical compound CB(C)C WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWPBSVUEGFJXIN-UHFFFAOYSA-N trinaphthalen-1-ylborane Chemical compound C1=CC=C2C(B(C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)C=3C4=CC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 PWPBSVUEGFJXIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DTBRTYHFHGNZFX-UHFFFAOYSA-N trioctyl borate Chemical compound CCCCCCCCOB(OCCCCCCCC)OCCCCCCCC DTBRTYHFHGNZFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGJDNTCMTVTFAS-UHFFFAOYSA-N trioctylborane Chemical compound CCCCCCCCB(CCCCCCCC)CCCCCCCC OGJDNTCMTVTFAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLPJTCGUKOBWRJ-UHFFFAOYSA-N tripentyl borate Chemical compound CCCCCOB(OCCCCC)OCCCCC JLPJTCGUKOBWRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXWJXWPMAPFOU-UHFFFAOYSA-N tripentylborane Chemical compound CCCCCB(CCCCC)CCCCC LFXWJXWPMAPFOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N triphenyl borate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OB(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical compound C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Substances C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N tripropan-2-yl borate Chemical compound CC(C)OB(OC(C)C)OC(C)C NHDIQVFFNDKAQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LTEHWCSSIHAVOQ-UHFFFAOYSA-N tripropyl borate Chemical compound CCCOB(OCCC)OCCC LTEHWCSSIHAVOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMPKTELQGVLZTD-UHFFFAOYSA-N tripropylborane Chemical compound CCCB(CCC)CCC ZMPKTELQGVLZTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QFLCKJNDYQEVBZ-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylprop-2-enyl)borane Chemical compound CC(=C)CB(CC(C)=C)CC(C)=C QFLCKJNDYQEVBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHJSLDBKUGXPMI-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropyl) borate Chemical compound CC(C)COB(OCC(C)C)OCC(C)C LHJSLDBKUGXPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDSSGQHOYWGIKC-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylpropyl)borane Chemical compound CC(C)CB(CC(C)C)CC(C)C XDSSGQHOYWGIKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZMMTBDONLVQMH-UHFFFAOYSA-N tris(3-methylbutan-2-yl)borane Chemical compound CC(C)C(C)B(C(C)C(C)C)C(C)C(C)C UZMMTBDONLVQMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LEIHCYASDULBKZ-UHFFFAOYSA-N tris(4-methylphenyl)borane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1B(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 LEIHCYASDULBKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWPRLKGQGBUYQD-UHFFFAOYSA-N tris(but-2-enyl)borane Chemical compound CC=CCB(CC=CC)CC=CC MWPRLKGQGBUYQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGBHPZUKKNSAOS-UHFFFAOYSA-N tris(ethenyl)borane Chemical compound C=CB(C=C)C=C ZGBHPZUKKNSAOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQNVJDSEWRGEQR-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) borate Chemical compound C=CCOB(OCC=C)OCC=C RQNVJDSEWRGEQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULHDSMBBOXGDRG-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl)borane Chemical compound C=CCB(CC=C)CC=C ULHDSMBBOXGDRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMCWFMOZBTXGKI-UHFFFAOYSA-N tritert-butyl borate Chemical compound CC(C)(C)OB(OC(C)(C)C)OC(C)(C)C ZMCWFMOZBTXGKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWWBSHOPAPTOMP-UHFFFAOYSA-N tritert-butylborane Chemical compound CC(C)(C)B(C(C)(C)C)C(C)(C)C HWWBSHOPAPTOMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B35/00—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
- C04B35/515—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
- C04B35/58—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides
- C04B35/584—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride
- C04B35/589—Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on borides, nitrides, i.e. nitrides, oxynitrides, carbonitrides or oxycarbonitrides or silicides based on silicon nitride obtained from Si-containing polymer precursors or organosilicon monomers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
。ポリボロシラザンを前駆体とする5i−N−B系セラ
ミックスは、耐熱性、高硬度を有するため、高温用複合
材料の強化材等として有用であり、宇宙・航空産業、自
動車産業等での広範な応用が期待できる。
のホウ素化合物と有機ケイ素化合物を反応させて得られ
るポロシロキサン、オルガノボロシラン、ホウ素含有カ
ルボシランについては多く報告されている。
いオリゴマー程度の大きさの化合物を用いた例が知られ
ているにすぎない(特公昭57−26608号公報)。
リオルガノ(ヒドロ)シラザン等種々報告されているが
、ホウ素を含有したポリボロシラザンについては、従来
知られていない。
ウムなどのメタルを含むポリメタロシラザンについて開
示したが、さらに研究を進める過程でポリボロシラザン
を熱分解して得られるセラミックスが著しい耐熱性を有
することを見い出した。また、セラミックスにホウ素を
導入することによって硬度の向上、導電率の調整などを
図ることができる。
(高温強度)等を示すセラミックスを提供するポリボロ
シラザン及びその製造方法を提供することを目的とする
。
下記一般式(i)または(ii )または(iii )
または(iv) R6R? R6R7 (i) −B−;(ii) −N−B−N−;(市)
−0−B−0−; (式中、R6は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1
〜20個を有するアルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルアミノ
基、水酸基、又はアミノ基であり、R7はR6のうち窒
素原子を有する基の窒素原子に結合している残基であり
、式(iv)では各3個の窒素原子及びホウ素原子から
なる合計6個の原子のうち少なくとも2個が架橋に使わ
れ、残りの原子にはR&が結合することができる。)で
表わされる架橋結合を有し、B / S i原子比が0
.01〜3の範囲内かつ数平均分子量が約200〜50
0 、000の新規ポリボロシラザンを提供することに
よって達成される。
): R” R’ (式中、R’ 、R” 、R3はそれぞれ独立に水
素原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基
、アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結す
る基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミ
ノ基、アルコキシ基を表わす。
ある。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式%式%()
: [[) (これらの式中、R4は同一でも異なっていてもよく、
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個を有す
るアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、水酸基又は
アミノ基であり、LはB(R’)2と錯体を形成する化
合物である。)で表わされるホウ素化合物を反応させて
得られるホウ素/ケイ素原子比が0.01〜3の範囲内
かつ数平均分子量が約200〜500,000の新規ポ
リボロシラザンが提供される。
より高分子量のポリシラザンにホウ素化合物を反応させ
て、ホウ素を含む高分子量のポロシラザン構造を有する
ことを特徴とする化合物である。すなわち、本発明は、
ポリボロシラザンを生成する原料として用いるポリシラ
ザンに第1の特徴を有する。
の反応によって得られるポリマー化合物の構造は、ホウ
素化合物の種類に依存する。
いる場合、得られるポリボロシラザンは、ポリシラザン
の主骨格中の少なくとも一部のケイ素原子に結合した水
素原子および/または窒素原子に結合した水素原子とホ
ウ素アルコキシドとが反応して、そのケイ素原子および
/または窒素原子がホウ素アルコキシドと縮合した側鎖
基あるいは、環状、架橋構造を有することを特徴とする
化合物である。
の反応では、ホウ素アルコキシド(B(OR’)ff)
の有機基(R’)が、Si −H結合の水素原子を引き
抜いてR’Hを生じて脱離することにより、5i−0−
B結合が形成される。
ドとの反応ではホウ素アルコキシドにより、N−H結合
の水素原子が引き抜かれ、下記のようにN−0−B結合
又はN−B結合(以下、これらをN−Y−8結合として
表わす)が形成される。
ので、出発ホウ素アルコキシドの種類あるいは反応条件
に応じて、生成するポリボロシラザンはホウ素に関して
1〜3官能性の重合体であることができる。、1官能性
重合体はポリシラザンの主鎖のSiおよび/またはNに
ペンダント基が導入された下記構造を有する。
〜32〜3官能性ではポリシラザン骨格にB原子を介し
て環状、架橋構造が形成される。環状構造はホウ素アル
コキシドエ分子内の2個の官能基が、ポリシラザンの隣
り合うケイ素原子及び窒素原子と縮合した構造が含まれ
る。架橋構造はホウ素アルコキシドの2個以上の官能基
が、2分子以上のポリシラザンと縮合した場合に生じる
。
造を同時に有するものもある。通常、ポリシラザンとホ
ウ素アルコキシドとの反応により、(Vl)又は(■)
で示した重合体が得られる。
上の変化は、ポリシラザンの骨格を基本に新たにペンダ
ント基、あるいは環状、架橋構造が形成されることであ
る。
)+のうち、ハロゲン原子を有する物質との反応では、
ホウ素化合物8X、(R’)z−(Xはハロゲン原子、
m=1.2.3)のハロゲン原子が、Si −H結合の
水素原子を引き抜いてHXを生じて脱離することにより
、Si −B結合が形成される。
するホウ素化合物との反応では、N −H結合の水素原
子が引き抜かれ、下記のようにN−B結合が形成される
。
より、最大3官能性であることができるので、生成する
ポリボロシラザンはホウ素に関して1〜3官能性の重合
体であることができる。1官能性重合体はポリシラザン
の主鎖のSiおよび/またはNにペンダント基が導入さ
れた下記構造を有する。
〜32〜3官能性ではポリシラザン骨格にB原子を介し
て環状、架橋構造が形成される。環状構造はホウ素化合
物1分子内の2個の官能基が、ポリシラザンの隣り合う
ケイ素原子及び窒素原子と縮合した構造が含まれる。架
橋構造はホウ素化合物の2個以上の官能基が、2分子以
上のポリシラザンと縮合した場合に生じる。
造を同時に有するものもある。
)sのうち水素原子を有する物質との反応では、ホウ素
化合物BH−(R’)z−の水素原子が、Si −H結
合の水素原子を引き抜いてH2を生じて脱離することに
より、St −B結合を形成される。
i−all−+ (R’) z−+ )lz一方、ポリ
シラザンのN−H結合と水素原子を有するホウ素化合物
との反応では、N−H結合の水素原子が引き抜かれ、下
記のようにN−B結合が形成される。
BX、−+(R’):+−−+Hzホウ素化合物BH−
(R’)s−は水素原子の数により、最大3官能性であ
ることができるので、ホウ素原子化合物BX−(R’)
3−について説明したと同様の構造を有するポリボロシ
ラザンを生成することができる。
)zのうち、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、了り−ル基、アルキルアミノ基を有する物質との
反応では、ホウ素化合物B (R’) 3の有機基が、
Si −H結合の水素原子を引き抜いてR’Hを生じて
脱離することにより、Si −B結合が形成される。
B(R’)z+R’H但し、アルキルアミノ基の内、窒
素原子に結合する基の一方が水素原子の場合は、脱水素
反応が起き、下記の反応により5i−N−B結合が形成
される。
ケニル基、シクロアルキル基、アリール基、アルキルア
ミノ基を有するホウ素化合物との反応では、N−H結合
の水素原子が引き抜かれ、下記のようにN−B結合が形
成される。
できるので、出発ホウ素化合物の種類あるいは反応条件
に応じて、生成するポリボロシラザンは前記のホウ素化
合物BX、(R’) ff−*やBH,(R’) x−
を用いた場合と同様の構造を有する。
)sのうち、アミノ基、水酸基を有する物質との反応で
は、ホウ素化合物BZい(R’) 3−(Zはアミノ基
または水酸基)のZ中の水素原子が、Si −H結合の
水素原子を引き抜いてHlを生じて脱離することにより
、5t−N−B結合あるいは5t−0−B結合が形成さ
れる。
ペンダント基が導入された下記構造を有する。
を有するホウ素化合物との反応では、N−H結合の水素
原子が引き抜かれ、下記のようにN−N−B結合あるい
はN−0−B結合が形成される。
基の数により、最大3官能性であることができるので、
生成するポリボロシラザンはホウ素に関して1〜3官能
性の重合体であることができる。1官能性2〜3官能性
重合体ではポリシラザン骨格にB原子を介して環状、架
橋構造が形成される。環状構造はホウ素化合物1分子内
の2個の官能基が、ポリシラザンの隣り合うケイ素原子
及び窒素原子と縮合した構造が含まれる。架橋構造はホ
ウ素化合物の2個以上の官能基が、2分子以上のポリシ
ラザンと縮合した場合に生じる。
造を同時に有するものもある。
B)iとの反応では、ホウ素化合物(R’OB) 、の
R4が、Si −H結合の水素原子を引き抜いてR’H
を生じて脱離することにより、Si −B結合が形成さ
れる。
反応では、N−H結合の水素原子が引き抜かれ、下記の
ようにN−B結合が形成される。
ができるので、出発ホウ素化合物の種類あるいは反応条
件に応じて、生成するポリボロシラザンはホウ素化合物
に関して1〜3官能性の重合体であることができる。1
官能性重合体はポリシラザンの主鎖のSiおよび/また
はNにペンダント基が導入された下記構造を有する。
または窒素原子と縮合した構造が含まれる。
分子以上のポリシラザンと縮合した場合に生じる。
物を介して環状、架橋構造が形成される。
構造を同時に有するものもある。
き抜かれ、下記のようにN−B結合またはN−N結合が
形成される。
て脱離することにより、St −B結合またはSt −
N結合が形成される。
は反応条件に応じて、生成するポリボロシラザンはホウ
素化合物に関して1〜6官能性の重合体であることがで
きる。■官能性重合体はポリシラザンの主鎖のStおよ
び/またはNにペンダント基が導入された下記構造を有
する。
物を介して環状、架橋構造が形成される。
シラザン1分子内の2個のケイ素原子および/または窒
素原子と縮合した構造が含まれる。
N− また、3〜6官能性重合体の中には上記の環状構造と架
橋構造を同時に有するものもある。
反応では、錯体形成物質りとポリシラザンとは反応しな
いため、反応機構及び生成物の構造は、基本的にポリシ
ラザンとB(R’)3との反応と同じである。
t−H結合、あるはいN−H結合を有するポリシラザン
であるが、ポリシラザン単独は勿論のこと、ポリシラザ
ンと他のポリマーとの共重合体やポリシラザンと他の化
合物との混合物でも利用できる。
は架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数
の構造を同時に有するものがあり、これら単独でもある
いは混合物でも利用できる。
うなものがあるが、これらに限定されるものではない。
素、炭素原子数1〜5個のアルキル基、炭素原子数2〜
6個のアルケニル基、炭素原子数5〜7個のシクロアル
キル基、アリール基、炭素原子数1〜4個のアルキルシ
リル基、炭素原子数1〜5個のアルキルアミノ基、炭素
原子数1〜5個のアルコキシ基からなる群から選ばれる
ことが立体障害が小さいので好ましく、より好ましくは
水素原子、メチル基、エチル基、ビニル基、アリル基、
メチルアミン基、エチルアミノ基、メトキシ基及びエト
キシ基から選ばれる。
るものは、ベルヒドロポリシラザンであり、その製造法
は例えば特開昭60−145903号公報、D、5ey
ferthらCommunication of Am
、Cer、Soc、+C13、January 198
3.に報告されている。これらの方法で得られるものは
、種々の構造を有するポリマーの混合物であるが、基本
的には分子内に鎖状部分と環状部分を含み、 +5iHJH)i +5iHJ)” +5illi)
c (a f b 十c = 1 )の化学式で表
わすことができる。ベルヒドロポリシラザンの構造の一
例を示すと下記の如くである。
基を有するポリシラザンの製造法は、D、5eyfer
thらPolym、Prepr、 + Am、CheI
Il、 Sac、 、 Div。
告されている。この方法により得られるポリシラザンは
、繰り返し単位が−f 5iHzNC)Is +−の鎖
状ポリマーと環状ポリマーであり、いずれも架橋構造を
もたない。
を有するポリオルガノ(ヒドロ)シラザンの製造法は、
D、5eyferthらPolym、Prepr、 、
Am。
、25+ 10(1984)、特開昭61−89230
号公報に報告されている。これらの方法により得られる
ポリシラザンには、→R”5iHNtlを繰り返し単位
として、主として重合度が3〜5の環状構造を有するも
のや CR25iHNH)x ((R”5iH)+、 s N
) I−X (0,4< x < 1 )の化学式で示
せる分子内に鎖状構造と環状構造を同時に有するものが
ある。
を有するポリシラザン、またRI及びR2ナー に有機基、R3に水素原子を有するものは−f−R’R
”5iNR3←を繰り返し単位として、主に重合度が3
〜5の環状構造を有している。
外のものの代表例をあげる。
ferthらCom+munication of
Am、Cer、Soc、、C−132、July 1
984.が報告している様な分子内に架橋構造を有する
ものもある。−例を示すと下記の如くである。
様なR’5iXs (X :ハロゲン)のアンモニア分
解によって得られる架橋構造を有するポリシラザン(R
’Si (N)l)+1)、あるいはR’Si:h及び
R%5iXzの共アンモニア分解によって得られる下記
の構造を有するポリシラザンも本発明の出発原料として
用いることかできる。
)で表わされる単位からなる主鎖骨格を有するが、一般
式(I)で表わされる単位は、上記にも明らかな如く環
状化することがあり、その場合にはその環状部分が末端
基となり、このように環状化されない場合には、主鎖骨
格の末端はRI R2、R2と同様の基又は水素であ
ることができる。ポリシラザンには、以上の如く有機溶
媒に可溶なもののほか、例えば下図に示すものの様に有
機溶媒に不溶なものも原料として利用できるが、これら
はホウ素アルコキシドとの反応生成物も有機溶媒に不溶
であるため、応用面での制限を受けることになる。
Soc、Chim、Fr、、183(1962)(Si
zNり 、 M、B111y、Bull、Soc、Ch
im、Fr、、1550(1961)(Six(NH)
J −(Siz(Nll)n) −M、 B111y、
Comp t、 Rend 、 、 250.416
3 (1960) ;251 、1639 (1960
)本発明で用いるポリシラザンは、約100〜50.0
00の数平均分子量を有するもので、環状ポリシラザン
、鎖状ポリシラザンあるいはそれらの混合物から構成さ
れる。本発明において好ましく用いられる原料ポリシラ
ザンは、数平均分子量的250〜20,000、より好
ましくは約500〜10,000である。分子量が小さ
すぎると、ホウ素化合物との反応生成物も低分子量とな
り1.性状が粘性液体のため、応用面で制限をうけるば
かりでなく、焼成工程中の飛散量が太き、く、セラミッ
クス収率が低くいので好ましくない。分子量が大きすぎ
ると、ホウ素化合物との反応生成物が溶媒不溶またはゲ
ルになりやすいため、好ましくない。
I)、B(R’)、 : L・・・(V)、〔これらの
式中、R’、Lは前記定義の通りである。〕のいずれか
で表わされる化合物である。
のとして、フルオロボラン、トリブロモボラン、トリフ
ルオロボラン、トリクロロボラン、ジフルオロボラン、
シイオドボラン、イオドボラン、ジブロモメチルボラン
、ジクロロメチルボラン、ジフルオロメチルボラン、ジ
フルオロメトキシボラン、シイオドメチルボラン、エチ
ニルジフルオロボラン、ジフルオロビニルボラン、ジブ
ロモエチルボラン、ジクロロエチルボラン、ジクロロエ
トキシボラン、エチルジフルオロボラン、エチルシイオ
ドボラン、ブロモジメチルボラン、ジブロモ(ジメチル
アミノ)ボラン、クロロジメチルボラン、クロロジメト
キシボラン、フルオロジメチルボラン、フルオロジメト
キシボラン、ジクロロイソプロピルボラン、ジクロロプ
ロピルボラン、ジフルオロプロポキシボラン、ブロモ(
ジメチルアミノ)メチルボラン、クロロジビニルボラン
、ジブロモブチルボラン、ブチルジクロロボラン、ブチ
ルジフルオロボラン、ブトキシジフルオロボラン、ブロ
モジエチルボラン、ジブロモ(ジエチルアミノ)ボラン
、クロロジエチルボラン、クロロジェトキシボラン、ジ
クロロ(ペンタフルオロフェニル)ボラン、ジクロロ(
ジエチルアミノ)ボラン、(ジエチルアミノ)ジフルオ
ロボラン、ブロモビス(ジメチルアミノ)ボラン、クロ
ロビス(ジメチルアミノ)ボラン、ビス(ジメチルアミ
ノ)フルオロボラン、ジブロモフェニルボラン、ジクロ
ロフェニルボラン、ジフルオロフェニルボラン、ジフル
オロフェノキシボラン、シイオドフェニルボラン、ジブ
ロモ(1,3−ジメチル−1−ブテニル)ボラン、ジブ
ロモ(3,3−ジメチル−1−ブテニル)ボラン、ジブ
ロモ(1−エチル−1−ブテニル)ボラン、ジブロモ−
1−へキセニルポラン、ジブロモ(2−メチルシクロペ
ンチル)ボラン、2−メチルシクロペンチル−ジクロロ
ボラン、ジブロモヘキシルボラン、ジブロモ(2−メチ
ルペンチル)ボラン、ジエルメトキシボラン、ジブロモ
(ジプロピルアミノ)ボラン、クロロジプロピルボラン
、クロロ(1、1。
ロピルアミノ)ボラン、ブチル(ジメチルアミノ)フル
オロボラン、ジクロロ(4−メチルフェニル)ボラン、
ジクロロ(メチルフェニルアミノ)ボラン、ブロモ(ジ
メチルアミノ)フェニルボラン、クロロ(ジメチルアミ
ノ)フェニルボラン、9−ブロモー9−ボラビシクロ(
3、3。
1〕ノナン、ジエチルアミノクロロ−(1−ブテニルオ
キシ)ボラン、ジクロロオクチルボラン、ブロモビス(
1−メチルプロピル)ボラン、ブロモジブチルボラン、
ジブロモ(ジブチルアミノ)ボラン、クロロビス(2−
メチルプロピル)ボラン、ジブチルクロロボラン、ジク
ロロ(ジブチルアミノ)ボラン、ジブチルフルオロボラ
ン、・ブロモビス(ビニチルアミノ)ボラン、クロロビ
ス(ジエチルアミノ)ボラン、ジクロロ(2、4゜6−
ドリメチルフエニル)ボラン、3−ブロモ−7−メチル
−3−ボラビシクロ(3,3,1)ノナン、(ジエチル
アミノ)クロロ(シクロペンテニルオキシ)ボラン、ジ
クロロ(1、2、3、4゜5−ペンタメチル−2,4−
シクロペンタジェン−1−イル)ボラン、ジブロモ(1
、2、3、4゜5−ペンタメチル−2,4−シクロペン
タジェン−1−イル)ボラン、シイオド(1、2、3、
4゜5−ペンタメチル−2,4−シクロペンタジェン−
1−イル)ボラン、クロロジシクロペンチルバラン、ク
ロロ(°ジエチルアミノ)フェニルボラン、ブロモジシ
クロペンチルボラン、(1−ブチル−1−へキセニル)
ジクロロボラン、ブロモジペンチルボラン、クロロジフ
ェニルボラン、ブロモジフェニルボラン、ジクロロ(ジ
フェニルアミノ)ボラン、クロロ(ジイソプロピルアミ
ノ)フェニルボラン、クロロ(ジプロピルアミノ)フェ
ニルボラン、ブロモビス(2−ブロモ−1−へキセニル
)ボラン、クロロビス(2−クロロ−1−へキセニル)
ボラン、クロロジシクロヘキシルボラン、クロロジー1
−へキセニルボラン、クロロ(1−エチル−1−ブテニ
ル)(1、1、2−)ジメチルプロピル)ボラン、クロ
ロ−1−ヘキセニル(1゜1.2−)ジメチルプロピル
)ボラン、〔メチル(4−7”ロモフェニル)アミノコ
クロロ(フェニル)ボラン、クロロ(2−フェニルエチ
ニル)(1゜1.2−)ジメチルプロピル)ボラン、ク
ロロ(ジブチルアミノ)フェニルボラン、クロロオクチ
ル(1,1,2−)ジメチルプロピル)ボラン、クロロ
ビス(ジブチルアミノ)ボラン、フルオロビス(2,4
,6−)リメチルフェニル)ボラン、(1−ブロモ−1
−へキセニル)ビス(2−メチルペンチル)ボラン、(
1−ブロモ−1−へキセニル)ジクロロボラン、ビス(
1−ブチル−1−へキセニル)クロロボラン、(5−ク
ロロ−1−ペンテニル)ビス(1,2−ジメチルプロピ
ル)ボラン、などがある。
ロオキシメトキシボラン、ジメトキシボラン、メトキシ
ジメチルボラン、メチルジメトキシボラン、トリメトキ
シボラン、エチルジメトキシボラン、ジメチルアミノメ
トキシメチルボラン、(ジメチルアミノ)ジメトキシボ
ラン、ジエチルメトキシボラン、ジメトキシプロピルボ
ラン、ビス(ジメチルアミノ)メトキシボラン、エトキ
シジエチルボラン、ブチルジメトキシボラン、ジェトキ
シエチルボラン、トリエトキシボラン、シクロペンチル
ジメトキシボラン、メトキシジプロピルボラン、ジメト
キシフェニルボラン、(2−メチルシクロペンチル)ジ
メトキシボラン、ブトキシジエチルボラン、エトキシジ
プロピルボラン、ヘキシルジメトキシボラン、3−メト
キシ−3−ボラビシクロ−(3,3,1)ノナン、9−
メトキシ−9−ボラビシクロ(3,3,1)ノナン、ジ
ブチルメトキシボラン、メトキシビス(l−メチルプロ
ピル)ボラン、メトキシビス(2−メチルプロピル)ボ
ラン、プロポキシジプロピルボラン、トリイソプロポキ
シボラン、トリプロポキシボラン、ブトキシジプロピル
ボラン、ジブチルエトキシボラン、ジエチル(ヘキシル
オキシ)ボラン、ジブトキシエチルボラン、ジーter
t−ブトキシエチルボラン、ジシクロペンチルメトキシ
ボラン、ジブチルプロポキシボラン、エトキシジペンチ
ルボラン、(ヘキシルオキシ)ジプロピルボラン、トリ
ブトキシボラン、トリーter t−ブトキシボラン、
トリス(2−ブトキシ)ボラン、トリス(2−メチルプ
ロポキシ)ボラン、メトキシジフェニルボラン、ジシク
ロヘキシル(メトキシ)ボラン、ジブチル(2−ペンテ
ン−3−イルオキシ)ボラン、ジブトキシペンチルボラ
ン、エトキシジフェニルボラン、(2−アミノエトキシ
)ジフェノキシボラン、ジブチル(1−シクロへキセニ
ルオキシ)ボラン、プトキシジペンチルボラン、ジブチ
ル(ヘキシルオキシ)ボラン、ジブトキシヘキシルボラ
ン、ジヘキシルオキシプロビルボラン、トリペンチルオ
キシボラン、ブトキシジフェニルボラン、(2−メチル
プロポキシ)ジフェニルボラン、ジフェノキシフェニル
ボラン、トリフエノキシボラン、トリシクロへキシルオ
キシボラン、メトキシビス(2,4,6−)リメチルフ
ェニル)ボラン、トリベンジルオキシボラン、トリス(
3−メチルフェノキシ)ボラン、トリオクチルオキシボ
ラン)トリノニルオキシボラン、トリオクタデシルオキ
シボランなどがある。
ボラン、ビニルボラン、ジハイドロキシビニルボラン、
2−プロペニルボラン、エチニルジメトキシボラン、メ
チルジビニルボラン、トリビニルボラン、1−ヘキセニ
ルジハイドロキシボラン、ジメトキシ(3−メチル−1
,2−ブタジェンニル)ボラン、ジエチル−2−プロペ
ニルボラン、ジフェノキシ(2−フェニルエチニル)ボ
ラン、(ジエチルアミノ)ジェチニルボラン、ジエチル
アミノジー1−プロピニルボラン、2−ブテニルジエチ
ルボラン、ジエチル(2−メチル−2−プロペニル)ボ
ラン、ビス(ジメチルアミノ)(1−メチル−2−プロ
ペニル)ボラン、2−プテニルビス(ジメチルアミノ)
ボラン、トリー2−プロペニルボラン、トリ(2−プロ
ペニルオキシ)ボラン、ジエチル(3−メチル−2−ブ
テニル)ボラン、2−プロペニルジプロピルボラン、(
ジエチルアミノ)ジー1−プロピニルボラン、ブチルジ
ー2−プロペニルボラン、2−ブテニルジプロピルボラ
ン、ジエチル(1−エチル−2−プテニル)ボラン、(
2−メチル−2−プロペニル)ジプロピルボラン、ジエ
チル(1,1−ジメチル−3−ブテン−1−イルオキシ
)ボラン、ジエチル(1−ヘキセン−4−イルオキシ)
ボラン、9−(2−プロペニル)−9−ボラビシクロ〔
3゜3.1〕ノナン、ジブチル−2−プロペニルボラン
、(3−メチル−2−ブテニル)ジプロピルボラン、9
−(2−ブテニル)−9−ボラビシクロ(3,3,13
ノナン、トリー2−ブテニルボラン、トリス(2−メチ
ル−2−プロペニル)ボラン、ヘキシルジー2−プロペ
ニルボラン、2−ブテニルジブチルボラン、ビス(1,
2−ジメチルプロピル)(2−フェニルエチニル)ボラ
ン、ビス(1,2−ジメチルプロピル)−1−オクテニ
ルボランなどが挙げられる。
して、アミノボラン、ジアミノボラン、アミノジメチル
ボラン、(ジメチルアミノ)ボラン、ジメチル(メチル
アミノ)ボラン、メチルビス(メチルアミノ)ボラン、
トリス(メチルアミノ)ボラン、(ジメチルアミノ)ジ
メチルボラン、ビス(ジメチルアミノ)ボラン、ビス(
ジメチルアミノ)メチルボラン、アミノジプロピルボラ
ン、(ジエチルアミノ)ジメチルボラン、(ジメチルア
ミノ)ジエチルボラン、トリス(ジメチルアミノ)ボラ
ン、イソプロピルビス(ジメチルアミノ)ボラン、ジメ
チル(フェニルアミノ)ボラン、ビス(メチルアミノ)
フェニルボラン、ビス(ジメチルアミノ)−1−ピロリ
ルボラン、アミノジブチルボラン、ジエチルボラン、ジ
メチルアミノジプロピルボラン、ビス(ジメチルアミノ
)フェニルボラン、ジブチル(ジメチルアミノ)ボラン
、ジーter t−ブチル(ジメチルアミノ)ボラン、
ジブチル(ジエチルアミノボラン、トリス(ジエチルア
ミノ)ボラン、ジメチルアミノジフェニルボラン、アミ
ノビス(2,4,6−トリメチルフエニル)ボランなど
が挙げられる。
ロオキシボラン、ジハイドロオキシ(メチル)ボラン、
ハイドロオキシジメチルボラン、エチルジハイドロオキ
シボラン、ジハイドロオキシプロピルボラン、2−フエ
ニルジハイドロオキシボラン、ジエチルハイドロオキシ
ボラン、ブチ°ルジハイドロオキシボラン、シクロペン
チルジハイドロオキシボラン、ペンチルジハイドロオキ
シボラン、(3−アミノフヱニル)ジハイドロオキシボ
ラン、フエニルジハイドロオキシボラン、ヘブチルジハ
イドロオキシボラン、ジハイドロオキシ(2−フェニル
エチル)ボラン、ジハイドロオキシ(1−ナフタレニル
)ボラン、ハイドロオキシビス(2,4,6−1−リメ
チルフェニル)ボラン、ハイドロオキシジフェニルボラ
ンなどが挙げられる。
ン、ジメチルボラン、エチルボラン、トリメチルボラン
、ジエチルボラン、エチルジメチルボラン、ジエチルメ
チルボラン、3−メチル−2−ブチルボラン、トリエチ
ルボラン、(1、1゜2−トリメチルプロピル)ボラン
、ジブチルボラン、トリイソプロピルボラン、トリプロ
ピルボラン、ビス(3−メチル−2−ブチル)ボラン、
ビス(1,1,2−)ジメチルプロピル)ボラン、トリ
ーter t−ブチルボラン、トリブチルボラン、トリ
ス(1−メチルプロピル)ボラン、トリス(2−メチル
プロピル)ボラン、トリペンチルボラン、トリス(1,
2−ジメチルプロピル)ボラン、トリヘキシルボラン、
トリオクチルボラン、などが挙げられる。
ロペンチルボラン、シクロヘキシルボラン、ジシクロヘ
キシルボラン、シクロヘキシル(1,1,2−)ジメチ
ルプロピル)ボラン、トリシクロペンチルボラン、トリ
シクロヘキシルボランR4としてアリール基を有するも
の、トリー1−ナフチルボラン、トリス(2,4,6−
トリメチルフエニル)ボラン、トリベンジルボラン、ト
リス(4−メチルフェニル)ボラン、トリフェニルボラ
ン、フェニルボラン、エチルジフェニルボランなどが挙
げられる。
ることができる。
キシン、トリメチルボロキシン、トリメトキシボロキシ
ン、トリエチルボロキシン、トリエトキシボロキシン、
トリフェニルボロキシン、トリフエノキシボロキシン、
トリス(4−エチニルフェニル)ボロキシン、トリス(
ジメチルアミノ)ボロキシン、トリブチルボロキシン、
トリプトキシボロキシン、トリシクロヘキシルボロキシ
ンなどを挙げることができる。
−)リフルオロボラジン、ボラジン、1−メチルボラジ
ン、2,4.6−)リクロロー1゜3.5−1−リメチ
ルボラジン、2,4.6−1−リブロモ−1,3,5−
)リメチルボラジン、2゜4.6−)リフルオロ−1,
3,5−)リメチルボラジン、1.3.5−)リメチル
ポラジン、2゜4 、6−トリメチルボラジン、2.4
.6−)リメトキシボラジン、2.4−ジクロロ−1,
3゜5.6−チトラメチルボラジン、2−クロロ−1゜
3.4,5.6−ペンタメチルボラジン、2.4゜6−
ドリクロロー1.3.5−トリエチルボラジン、ヘキサ
メチルボラジン、1.3.5−)リエチルボラジン、2
、4 、6−)リエチルボラジン、1.3.5−トリ
プロピルボラジン、2.4.6−ドリエチルー1.3.
5−)リメチルボラジン、1.3.5−)リブチル−2
,4,6−)ジクロロボラジン、ヘキサエチルボラジン
、2.4.6−ドリクロロー1.3.5−トリフェニル
ボラジン、2,4.6−)リフェニルボラジン、2,4
゜6ニトリ(ジエチルアミノ)ボラジン、2,4゜6−
トリ(ビス(トリメチルシリル)アミノ)ボラジン、2
、4 、6−トリス(ジメチルアミノ)1.3.5−
)リメチルボラジン、1.3.5−トリメチル−2,4
,6−1リフエニルボラジンなどを挙げることができる
。
ボラン−ヒドラジン、トリフルオロボラン−メタノール
、シアノボラン−アンモニア、ジフルオロボラン−メチ
ルアミン、ボラン−メチルアミン、トリプロモボランー
ジメチルサルサアイド、トリクロロボランージメチルサ
ルサアイド、トリフルオロボラン−ジメチルエーテル、
トリフルオロボラン−エタノール、ボラン−イソシアノ
メタン、ジブロモボラン−ジメチルサルファイド、ジク
ロロボラン−ジメチルサルファイド、トリクロロボラン
−ジメチルアミン、トリフルオロボラン−エチルアミン
、シアノボラン−メチルアミン、ブロモボラン−ジメチ
ルサルファイド、クロロボラン−ジメチルサルファイド
、ジフルオロボラン−ジメチルアミン、イオドポランー
ジメチルサルファイド、クロロボラン−ジメチルアミン
、ボラン−ジメチルアミン、ボラン−ジメチルフォスフ
イン、トリブロモボラン−トリメチルフォスフイン、ト
リブロモボラン−トリメチルアミン、トリクロロボラン
−トリメチルアミン、トリクロロボラン−トリメチルフ
ォスフイン、トリフルオロボラン−トリメチルアミン、
トリフルオロボラン−トリメチルフォスフイン、トリイ
オドボランートリメチルフォスフィン、シアノボラン−
ジメチルアミン、ジフルオロボラン−トリメチルアミン
、ブロモボラン−トリメチルフォスフイン、クロロボラ
ン−トリメチルフォスフイン、フルオロボラン−トリメ
チルアミン、イオドボランートリメチルアミン、イオド
ボランートリメチルフォスフィン、ボラン−トリメチル
アミン、トリメチルボラン−アンモニア、トリメトキシ
ボラン−アンモニア、ボラン−トリメチルフォスファイ
ト、ボラン−トリメチルフォスフイン、トリフルオロボ
ラン−2−メチルイミダゾール、トリフルオロボラン−
テトラヒドロフラン、クロロボラン−テトラヒドロフラ
ン、トリクロロボラン−ジエチルエーテル、トリフルオ
ロボラン−ジエチルエーテル、ジブロモボラン−ジエチ
ルエーテル、ジクロロボラン−ジエチルエーテル、シア
ノボラン−トリメチルアミン、ブロモボラン−ジエチル
エーテル、ジブロモボラン−トリメチルアミン、ジブロ
モメチルボラン−トリメチルフォスフイン、クロロボラ
ン−ジエチルエーテル、ボラン−tert−ブチルアミ
ン、ボラン−ジエチルアミン、トリブロモボラン−ピリ
ジン、トリクロロボラン−ピリビン、トリフルオロボラ
ン−ピリジン、ボラン−ピリジン、ボラン−4−アミノ
ピリジン、ブロモジメチルボラン−トリメチルフォスフ
イン、ジクロロシアノボラン−ピリジン、トリフルオロ
ボラン−フェノール、シアノボラン−ピリジン、ジブロ
モメチルボラン−ピリジン、ボラン−4−メチルビリジ
ン、トリフルオロボラン−1−ヘキサノール、トリブロ
モボラン−トリエチルアミン、トリクロロボラン−トリ
エチルアミン、クロロボラン−トリエチルアミン、ボラ
ン−トリエチルアミン、トリメチルボラン−トリメチル
アミン、ボラン−トリス(ジメチルアミノ)フォスフイ
ン、トリフルオロボラン−メトキシベンゼン、トリフル
オロボラン−4−メチルアニリン、ボラン−2,6−シ
メチルピリジン、トリフルボラン−ジブチルエーテル、
フエニルジクロロボラン−トリエチルアミン、トリブロ
モボラン−トリフェニルフォスフイン、トリクロロボラ
ン−トリフェニルフォスフイン、トリフルオロボラン−
トリフェニルフォスフイン、ボラン−トリフェニルアミ
ン、ボラン−トリフェニルフォスフイン、トリメチルボ
ラン−トリフェニルアミン、トリフェニルボラン−トリ
メチルアミン、トリフェニルボラン−ピリジン、トリフ
ェニルボラン−トリエチルアミン、などを挙げることが
できる。
ン(9)、ペンタボラン(11) 、ヘキサボラン(1
0) 、ヘキサボラン(12) 、オクタボラン(12
)、オクタボラン(18) 、イソノナボラン(15)
、ノナボラン(15) 、デカボラン(14) 、1
、1’ビペンタボラン(9L1.2’−ビベンタボラ
ン(9)、2.2’−ビペンタボラン(9)、1カルバ
ヘキサボラン(7L2−カルバヘキサボラン(9)、1
.2−ジカルバヘキサボラン(6)、1.2−ジカルバ
ペンタボラン(7)、2.4−ジカルバヘブタボラン(
7)、2.3−ジカルバヘキサボラン(8)、1.7−
ジカルバオクタボラン(8)、1.2−ジカルバドデカ
ボラン(12)、1.7−ジカルバドデカボラン(12
)、1.12−ジカルバドデカボラン(12)を用いて
も良好な結果が得られる。
市されていないものでも上市のものと同様の方法で製造
可能である。
〜50万、好ましくは800〜20万の範囲内である。
法にも係り、この方法は、主として一般式(I): (式中、R1、Rz 、R’aはそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する
基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ
基、アルコキシ基を表わす。
原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式%式%()
: (これらの式中、R4は同一でも異なっていてもよく、
水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個を有す
るアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、水酸基又は
アミノ基であり、LはB(R’)sと錯体を形成する化
合物である。)で表わされるホウ素化合物を反応させて
、ホウ素/ケイ素原子比が0.O1〜3の範囲内かつ数
平均分子量が約200〜500.000の新規ポリボロ
シラザン、を得ることを特徴とする。
能なものを用いることができるが、ホウ素化合物との反
応性の点で、式(I)におけるR’Rt、及びR3は立
体障害の小さい基が好ましい。
Sのアルキル基が好ましく、水素原子及びCI−zのア
ルキル基がさらに好ましい。
応性の点で、式(II)〜(V)におけるR4は水素原
子及びハロゲン原子及びc+−z。のアルキル基及びア
ルコキシ基が好ましく、水素原子及びハロゲン原子及び
01〜1゜のアルキル基及びアルコキシ基がさらに好ま
しく、水素原子及びハロゲン原子及びCI〜4のアルキ
ル基及びアルコキシ基が最も好ましい、−船釣には、式
(II)〜(V)のR4は水素原子、ハロゲン原子、炭
素原子数1〜10個のアルキル基、炭素原子数1〜10
個のアルコキシ基、炭素原子数1〜10個のアリール基
から選ばれることが好ましく、メチル基、エチル基、n
−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、i−ブ
チル基、t−ブチル基、フェニル基、ベンジル基、トリ
ル基、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i
−プロポキシ基、n−ブトキシ基、i−ブトキシ基、t
−ブトキシ基、及びフェノキシ基から選ばれることがよ
り好ましい。ポリシラザンとホウ素化合物との混合比は
、M / S i原子比が0.001から60になるよ
うに、好ましくは0.01から5になるように、さらに
好ましくは0.05から2.5になる様に加える。ホウ
素化合物の添加量をこれより増やすとポリシラザンとの
反応性を高めることなく、単にホウ素化合物が未反応の
まま回収され、また、少ないと顕著な高分子量化が起こ
らない。
用する時に比べて反応制御が難しく、ゲル状物質が生成
する場合もあるので、一般に有機溶媒を用いた方が良い
。溶媒としては、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂
環式炭化水素の炭化水素溶媒、ハロゲン化炭化水素、脂
肪族エーテル、脂環式エーテル類が使用できる。好まし
い溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、
ブロモホルム、塩化エチレン、塩化エチルデン、トリク
ロロエタン、テトラクロロエタン等のハロゲン化炭化水
素、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、エチルブ
チルエーテル、ブチルエーテル、1.2−ジオキシエタ
ン、ジオキサン、ジメチルジオキサン、テトラヒドロフ
ラン、テトラヒドロビラン等のエーテル類、ペンタン、
ヘキサン、イソヘキサン、メチルペンタン、ヘプタン、
イソへブタン、オクタン、イソオクタン、シクロペンク
ン、メチルシクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチル
ベンゼン等の炭化水素等である。
下でポリシラザンとホウ素化合物との反応を行なうのが
好ましい。この場合、塩基性条件とは、反応系に塩基性
化合物、例えば、第3級アミン類や立体障害性の基を有
する第2級アミン類、フォスフイン等を共存させること
を意味する。このような塩基性条件は、反応溶媒中に塩
基性化合物を添加することによって形成し得る他、反応
溶媒として塩基性溶媒または塩基性溶媒と前記非塩基性
溶媒との混合物を用いることによって形成することがで
きる。塩基性化合物の添加量は、反応溶媒100重量部
に対し少なくとも5重量部、好ましくは20重量部以上
である。塩基性化合物の添加量がこれより少なくなると
、著しい高分子量化の効果がなくなる。
びホウ素化合物を分解しないものであれば任意のものが
使用できる。このようなものとしては、例えば、トリメ
チルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルア
ミン及びトリエチルアミン等のトリアルキルアミン、ピ
リジン、ピコリン、ジメチルアニリン、ピラジン、ピリ
ミジン、ピリダジン及びこれらの誘導体等の第3級アミ
ン類の他、ピロール、3−ピロリン、ピラゾール、2−
ピラゾリル、及びそれらの混合物等を挙げることができ
る。
い。ポリボロシラザンの高分子量化をさらに進めるには
溶媒の沸点以上で反応させることもできるが、ポリボロ
シラザンの熱分解によるゲル化を防ぐため、一般に40
0℃以下、好ましくは一78℃〜300℃にするのが好
ましい。
ないが、減圧下では、低沸点成分が留去され、収率が低
下するので好ましくない。反応時間は、一般に30分間
から1日程度であるが、ポリボロシラザンの高分子量化
をさらに進めるには、反応時間を延長することが好まし
い。
シラザンあるいは生成物のポリボロシラザンの酸化や加
水分解を防ぐため、乾燥させた不活性雰囲気、例えば乾
燥窒素、乾燥アルゴン等が好ましい。
で有利である。
は、ホウ素化合物の減圧留去あるいはゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィー、高速液体クロマトグラフィー
によって分離することができる。
シラザンの一部のケイ素−水素結合がホウ素化合物の水
素原子またはハロゲン原子または有機基と縮合し、新た
にケイ素−(酸素)−ホウ素結合またはケイ素−窒素−
ホウ素結合を形成し、かつ/または、ポリシラザンの一
部の窒素−水素結合もホウ素化合物と縮合した構造を存
する重合体である。本発明の新規ポリボロシラザンは、
前記のように数平均分子量100〜so、 oooのポ
リシラザンを原料として用い、ホウ素化合物残基、結合
によって架橋高分子化、またはペンダント基導入による
高分子化することによって形成されることから、その分
子量は、当然のことながら、原料ポリシラザンよりも増
加されたものとなる。−般的には、本発明の目的とする
新規ポリボロシラザンは、数平均分子量200〜500
、000、好ましくは、800〜200.000を有
する。本発明によるポリボロシラザンの場合、ポリボロ
シラザン中のホウ素原子とケイ素原子との比は0.01
以上3以下の範囲内にあり、かつ有機溶媒に可溶である
。
架橋構造や分子量が増加するので、凝固性が向上し、常
温ですみやかな賦形化が可能である。また、高分子量で
あることによって、高温焼成時の蒸発損失が小さ(でき
、セラミックス収率が向上する0例えば、本発明のポリ
ボロシラザンによれば70%以上、さらには80%以上
のセラミック収率が得られる。
真空中で焼成することにより、簡単にセラミックスに変
換される。雰囲気ガスとしては窒素が好都合であるが、
アルゴン、アンモニアを用いることもできる。また、窒
素、アンモニア、アルゴン、水素等の混合ガスを利用す
ることもできる。
とする。焼成温度が低すぎると焼成に長時間を要し、ま
たあまり高くしてもエネルギーコスト的に不利である。
分の範囲内とする。昇温速度がおそすぎると焼成に長時
間を要し、またはやすぎると熱分解、収縮が一時に起こ
るためセラミックス中のクラック発生原因となる。ポリ
ボロシラザンの熱分解が主としておこる600°C以下
の温度範囲において昇温速度を0.5℃/分〜50°C
/分に制御することで良好な結果が得られる。
焼成すると非晶質セラミックスが得られて、弾性率等の
高温強度に優れるという特徴を有する。例えば、120
0’C〜1300″Cで1時間程度保持しても非晶質を
保つ。しかしながら、本発明によって提供されるポリボ
ロシラザンを焼成して得られるセラミックスはさらに耐
熱性に優れ、1500’C以上で、好ましいものは17
00”C以上で加熱してもまだ非晶質を保つという著し
い性質を示す。一般的に多結晶物質は粒界が破壊源とな
るため、非晶質物質に比べ機械的強度が劣る。本発明に
よって提供されるポリボロシラザンを焼成して得られる
セラミックスは、1700°Cにおいても非晶質を保つ
ため、優れた高温機械的強度を有する。1700″Cで
非晶質ということはSt −N系では理論的にほぼ最高
値と考えられるものであり、また結晶質の5i−N系で
も1700″Cはその耐熱性の上限に近いことを考える
と、この効果は極めて優れたものであることがわかる。
次のような効果がある。
ンから得られるセラミックスは、原料ポリシラザンから
得られるセラミックスに比べ、耐熱性が向上することが
知られているが、ポリボロシラザンから得られるセラミ
ックスは、これらの金属の場合以上の耐熱性を有し、高
温機械強度の向上が図れる。
成後5i−N−B系セラミックスに変換されるため、高
性能の複合セラミックス成形体を得ることができる。
ス中にホウ素が共存するため、セラミックスの硬度の向
上が図れる。
クスの導電率を広い範囲から選択できる。
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフ
ラスコに脱気した乾燥ピリジン490dを入れ、これを
氷冷した。次にジクロロシラン51.6gを加えると白
色固体状のアダクト<5iHzCl 2 ・2CSH
6N)が生成した。反応混合物を水冷し、攪拌しながら
、水酸化す) IJウム管及び活性炭管を通して精製し
たアンモニア51.0 gを吹き込んだ。
用いて洗浄した後、更に窒素雰囲気下でろ過し、ろ液8
50戚を得た。濾液5dから溶媒を減圧留去すると樹脂
固体ベルヒドロポリシラザン0.102gが得られた。
たところ、980であった。また、このポリマーのIR
(赤外吸収)スペクトル(溶媒:乾燥0−キシレン;ペ
ルヒドロポリシラザンの濃度:10.2 g / l
)を検討すると、波数(C11−’) 3350(見か
けの吸光係数ε= 0.55Le g−’cn+−’)
及び1175のNHに基づく吸収;2170(ε=3.
14)のSiHに基づく吸収; 1020〜820のS
iH及び5iNSiに基づく吸収を示すことが確認され
た。またこのポリマーの’HNMR(プロトン核磁気共
鳴)スペクトル(60MH2溶媒cocf3/基準物質
TMS )を検討すると、いずれも幅広い吸収を示して
いることが確認された。即ち64.8及び4.4 (b
r 、 5iH);1、5 (br 、 NH)の吸収
が確認された。
テトラヒドロフラン450dを入れ、これをドライアイ
ス−メタノール浴で冷却した。次にジクロロシラン46
.2gを加えた。この溶液を冷却し、攪拌しながら無水
メチルアミン44.2gを窒素との混合ガスとして吹き
込んだ。
ロフランを用いて洗浄した後、さらに窒素雰囲気下でろ
過してろ液820dを得た。溶媒を減圧留去すると粘性
油状N−メチルシラザンが8.4g得られた。得られた
ポリマーの数平均分子量は、GPCにより測定したとこ
ろ1100であった。
カルスターラー、ジュワーコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つロフ
ラスコに乾燥ジクロロメタン3001dlおよびメチル
ジクロロシラン24.3 g (0,211sol)を
入れ、水冷した。攪拌しながら、水酸化ナトリウム管お
よび活性炭管を通して精製したアンモニア18.1 g
(1,06mol)を吹き込んだ。
タンを用いて洗浄後、更に窒素雰囲気下でろ過した。ろ
液から溶媒を減圧留去すると無色透明のメチル(ヒドロ
)シラザンを8.81g得た。
ろ、380であった。
乾燥トルエン500dを入れ、これを氷冷した。次にフ
エニルジクロロシラン52.1gを加えた。
および活性炭管を通して精製したアンモニア30.0g
を窒素との混合ガスとして吹き込んだ。
ルポリシラザンが6.8g得られた。得られたポリマー
の数平均分子量は、GPCにより測定したところ380
であった。
溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度;5.10重量%
)100dを内容積300mの耐圧反応容器に入れ、ト
リメチルボレート4.0 cc (0,035mof)
を加え密閉系で160°Cで3時間攪拌しながら反応を
行なった。反応前後で圧力は1.0 kg / cff
l上昇した。
より、水素およびメタンであった。室温に冷却後、乾燥
φ−キシレン100rdを加え、圧力3〜5m+sHg
、温度50〜70°Cで溶媒を除いたところ、5.45
gの白色粉末が得られた。この粉末は、トルエン、テト
ラヒドロフラン、クロロホルムおよびその他の有機溶媒
に可溶であった。
たところ、2100であった。また、そのIRスペクト
ルの分析の結果、波数(cm−’) 3350および1
175のNHに基づく吸収; 2170のSiHに基づ
く吸収; 1020〜820のSinおよび5iNSi
に基づく吸収、 2960 、2940 、2840の
CHに基づく吸収;1090のSiOに基づく吸収;
1550〜1300のBOに基づく吸収を示すことが確
認された。さらに前記重合体粉末の’ HNMRスペク
トル(CDCj23. TMS)を分析した結果、64
.8 (br 、 5iHz) 、δ4.7(br。
、63.6 (br 、 CLO)δ1.4 (br
、 NH)の吸収が観測された。また、前記重合体の元
素分析結果は、重量基準でS i : 42.4%、
N : 25.9%、 C: 8.8%。
であった。
溶液(メチルポリシラザンの濃度; 10.4重量%)
100#11!を内容積300戚の耐圧反応容器に入れ
、三塩化ホウ素17.3 g (0,283mol)を
加え、密閉系で20゛Cで3時間攪拌しながら反応を行
なった。
留去したところ無色透明なゴム状固体が8.2g得られ
た。この物質の数平均分子量はGPCにより測定したと
ころ1440であった。
レン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度;5.84重
量%)100dを内容積300dの耐圧反応容器に入れ
、ピリジン・ボラン錯体4.0 cc (0,0396
mol)を加え、密閉系で80°Cで3時間攪拌しなが
ら反応を行なった。反応前後で圧力は0.2kg/cd
上昇した0発生した気体はGC測定により水素であった
。実施例1と同様に溶媒を減圧留去すると、赤かっ色面
体が4.98g得られた。この物質の数平均分子量は、
GPCにより測定したところ170,000であった。
ン溶液(N−メチルシラザンの濃度;4.95重量%)
100dを内容積300戚の耐圧反応容器に入れ、トリ
ブチルボレート4.0 cc (0,OL48mol)
を加え、密閉系で120°Cで3時間攪拌しながら反応
を行なった。反応前後で圧力は0.8 kg / ci
上昇した。
、淡黄色ゴム状固体が5.03g得られた。この物質の
数平均分子量は、GPCにより測定したところ1880
であった。
液(フェニルポリシラザンの濃度;3.65重量%)8
0dを内容積300dの耐圧反応容器に入れ、ホウ酸1
.26 g (0,0204sol)を加え、密閉系で
60°で1時間攪拌しながら反応を行なった。
温に冷却後、実施例1と同様に溶媒を減圧留去すると、
白色固体が2.46g得られた。この物質の数平均分子
量は、GPCにより測定したところ3.2040であっ
た。
溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度;5.37重量%
)100dを内容積300−の耐圧反応容器に入れ、1
,3.5−1−ジメチルボラジン3.2戚(0,037
6sol)を加え、密閉系で120°Cで3時間攪拌し
ながら反応を行なった。反応前後で圧力は0、3 kg
/ cd上昇した0発生した気体はGC測定により、
水素であった。室温に冷却後、実施例1と同様に溶媒を
減圧留去したところ、4.86gの白色粉末が得られた
。この粉末は、トルエン、テトラヒドロフラン、クロロ
ホルムおよびその他の有機溶媒に可溶であった。この重
合体粉末の数平均分子量はGPCにより測定したところ
2430であった。
溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度;6.32重量%
)100!niを内容積300m1!(7)耐圧反応容
器に入れ、トリメトキシボロキシン5.5 m (0,
0379sol)を加え、密閉系で140°Cで3時間
撹拌しながら反応を行なった。反応前後で圧力は0.2
kg / crl上昇した0発生した気体はGC測定
により、水素およびメタンであった。室温に冷却後、実
施例1と同様に溶媒を減圧留去したところ、5.77g
の白色粉末が得られた。この粉末は、トルエン、テトラ
ヒドロフラン、クロロホルムおよびその他の有機溶媒に
可溶であった。この重合体粉末の数平均分子量はGPC
により測定したところ194oであった。
1000°Cまで昇温速度3°C/分で加熱し、熱分解
することで白色固体を88.0重量%の収率で得た。得
られたセラミックスの粉末X線回折測定を行なったとこ
ろ、非晶質であることが確認された。この固体の元素分
析結果は、重量基準で、S i : 40.7%、
N ;33.5%、 C: 1.57%。
度10°C/分で加熱焼成して灰色固体を得た。
に示す如く、非晶質状態を保っていることが確認された
。
1000″Cまで昇温速度3°C/分で加熱し、熱分解
することで淡かっ色囲体を82.0重量%の収率で得た
。得られたセラミックスの粉末X線回折測定を行なった
ところ、非晶質であることが確認された。この固体の元
素分析結果は、重量基準で、S i : 43.5%
、 N ; 38.7%、 C: 0.70%。
’C/分で加熱焼成して黒灰色固体を得た。この物質の
粉末X線回折測定を行なったところ、第2図に示す如く
、非晶質状態を保っていることが確認された。
速度10°C/分で加熱焼成して黒灰色固体を得た。こ
の物質の粉末X線回折測定を行なったところ、第3図に
示す如く、2θ=20.5’ ニα−5i、N。
5iJnノ(110)回折線、2θ=26.4°ニα−
5iffN4(7) (200)回折線、2θ=30.
9°にα−3i、N、の(201)回折線、2θ=31
.7°にα−5i3N、の(002)回折線、2θ−3
4,5’にα−3i3N、の(102)回折線、2θ=
35.2°にα−5i J4(7) (210)回折線
、2θ=38.8°にα−5i3N4の(211)回折
線、2θ=39.4’ ニ(r−5iJ4(7) (1
12)回折線、2θ=40.l°ニa−5izNaCD
(300)回折線、2θ=41.8″ニα−Si!N
aノ(202)回折線、2θ−43,4@にα−5iJ
4の(301)回折線、2θ−46,9’にα−5is
N4の(220)回折線、2θ=48.2@にα−5i
3N4の(212)回折線、2θ=48.8°にα〜5
iJsの(310)回折線、さらに、2θ=23.3”
にβ−3i3N4の(110)回折線、2θ=26.9
°にβ−3i3Nmの(200)回折線、2θ=33.
6°にβ−3t山の(101)回折線、2θ=36.0
’にβ−5iJaの(210)回折線、2θ=41.4
°にβ−3i3N4の(201)回折線、2θ=49.
9゜にβ−Si:+N、の(310)回折線が認められ
、結晶質の窒化珪素であることが確認された。
ムキャップ、温度計、及びマグネティ・ンクスクーラー
を装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、四つ
ロフラスコに参考例1で得られたベルヒドロポリシラザ
ンのベンゼン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度74
.45重量%)63.4gを入れ、攪拌しながらジルコ
ニウムテトライソプロポキシド4.OOg (12,2
請mol)を乾燥ベンゼン6.0 dに溶解させたもの
を注射器を用いて加え還流させながら、反応させた。
ジルコノシラザンが淡黄色固体として得られた。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ2100であ
った0元素分析の結果、同ポリマーはSi :34,
0. Zr : 18.6. N : 13.0.
O:13.2゜C: 14.4およびH:5.1(各重
量%)の組成を有していた。
で焼成すると黒色固体が78重量%の収率で得られた。
に示す様に、非晶fZrO□相の回折線が観測された。
に結晶質の窒化珪素の生成が確認されているが、ポリヒ
ドロジルコノシラザンを前駆体とすると、非晶質ZrO
,相の生成により、窒化珪素の非晶質状態がより高温ま
で保持されている。
ラムキャップ、温度計、及びマグネティックスクーラー
を装置した。反応器内部を乾燥窒素で置換した後、四つ
ロフラスコに参考例1で得たベルヒドロポリシラザンの
ベンゼン溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度74.5
1重量%)110gを入れ、攪拌しながらチタンテトラ
イソプロポキシド6.30g (22,2mmol)を
乾燥ベンゼン6.5戚に溶解させたものを注射器を用い
て加えた。反応溶液は無色から淡褐色、紫色、黒色へと
変化した。反応終了後、溶媒を減圧留去すると、ポリヒ
ドロチタノシラザンが暗褐色固体として得られた。収率
は84.0重量%であった。
媒:乾燥ベンゼン)により測定したところ1840であ
った。ここで得られたポリマーは、ベルヒドロポリシラ
ザンとチタンアルコキシドが単に混合されたものではな
く、両物質の縮合反応により高分子量化したものである
。
:33.0. Ti : 9.8 、 N :1
4.0. O:11.8 、 C: 23.4およびH
:6.6(各重量%)の組成を有していた。
1時間焼成すると黒色固体が72重量%の収率で得られ
た。この物質のX線粉末回折測定を行なったところ、第
5図に示す様に、非晶1iTiN相の回折線のみが観測
された。ベルヒドロポリシラザンを同一条件で焼成する
とX線的に結晶質の窒素珪素の生成が確認されているが
、ポリヒドロチタノシラザンを前駆体とすると、非晶質
TiN相の生成により、窒化珪素の非晶質状態がより高
温まで保持されている。
:41.3. Ti : 12.9. N :2
0.5. O: 19.9゜C:4.5であった。
溶液(ベルヒドロポリシラザンの濃度;5.25重量%
)120dを内容積3001dの耐圧反応容器に入れ、
アルミニウムトリイソプロポキシド13.0g(mol
)を加え、密閉系で120”Cで3時間攪拌しながら反
応を行なった0反応前後で圧力は1.8kg/c−上昇
した。室温に冷却後、実施例1と同様に溶媒を減圧留去
すると、淡黄色固体が12.3g得られた。
°C/分で加熱し、熱分解することで灰白色固体が69
.8重量%の収率で得られた。この物質の粉末X線回折
測定を行なったところ、2θ=13.3゜にβ−5ia
1onの(100)回折線、2θ=23.1°にβ5i
a1onの(110)回折線、2θ=26.8°にβ−
5ia1onの(200)回折線、2θ=33.2’に
β−5ialonの(101)回折線、2θ=35.8
°にβ−5ialonの(210)回折線、2θ=38
.4°にβ−3ialonの(111)回折線、2θ=
40.8°にβ−5ialonの(201)回折線、2
θ=47.5°にβ−5ialonの(220) 、
(211)回折線、2θ=49.5°にβ−5ialo
nの(310)回折線、2θ=51.6’にβ−5ia
lonの(301)回折線、2θ=57.2°にβ−5
ialonの(221)回折線、2θ=59.1@にβ
−5ialonの(311)回折線が認められ、結晶質
のβ−5ialonであることが確認された。得られた
セラミックスの元素分析結果は、重量基準で、 Si : 38.9 、 N : 25.8 、 A
l : 21.9%。
の粉末X線回折図、第4図及び第5図はポリジルコノシ
ラザン及びポリチタノシラザンを焼成したセラミックス
の粉末X線回折図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、ポリシラザンに下記一般式(i)または(ii)ま
たは(iii)または(iv)で表わされる架橋結合を
有し、B/Si原子比が0.01〜3の範囲内かつ数平
均分子量が約200〜500,000の新規ポリポロシ
ラザン。 (i)▲数式、化学式、表等があります▼; (iii)−O−B−O−; (iv)▲数式、化学式、表等があります▼。 (式中、R^6は水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数
1〜20個を有するアルキル基、アルケニル基、シクロ
アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アルキルアミ
ノ基、水酸基、又はアミノ基であり、R^7はR^6の
うち窒素原子を有する基の窒素原子に結合している残基
であり、式(iv)では各3個の窒素原子及びホウ素原
子からなる合計6個の原子のうち少なくとも2個が架橋
に使われ、残りの原子にはR^6が結合することができ
る。)2、主として一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1、R^2、R^3はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する
基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ
基、アルコキシ基を表わす。 但し、R^1、R^2、R^3の少なくとも1個は水素
原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(II)、(
III)、(IV)又は(V): B(R^4)_3(II) (R^4BO)_3(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) B(R^4)_3:L(V) (これらの式中、R^4は同一でも異なっていてもよく
、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個を有
するアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、水酸基又
はアミノ基であり、LはB(R^4)_3と錯体を形成
する化合物である。)で表わされるホウ素化合物を反応
させて得られるホウ素/ケイ素原子比が0.01〜3の
範囲内かつ数平均分子量が約200〜500,000の
新規ポリポロシラザン。 3、主として一般式( I ): ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1、R^2、R^3はそれぞれ独立に水素
原子、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、
アリール基、またはこれらの基以外でケイ素に直結する
基が炭素である基、アルキルシリル基、アルキルアミノ
基、アルコキシ基を表わす。 但し、R^1、R^2、R^3の少なくとも1個は水素
原子である。) で表わされる単位からなる主骨格を有する数平均分子量
が約100〜5万のポリシラザンと、一般式(II)、(
III)、(IV)又は(V): B(R^4)_3(II) (R^4BO)_3(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(IV) B(R^4)_3:L(V) (これらの式中、R^4は同一でも異なっていてもよく
、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜20個を有
するアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、水酸基又
はアミノ基であり、LはB(R^4)_3と錯体を形成
する化合物である。)で表わされるホウ素化合物を反応
させて、ホウ素/ケイ素原子比が0.01〜3の範囲内
かつ数平均分子量が約200〜500,000の新規ポ
リポロシラザンを得ることを特徴とするポリポロシラザ
ンの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1069169A JP2760555B2 (ja) | 1988-03-24 | 1989-03-23 | ポリボロシラザン及びその製造方法 |
US07/466,962 US5030744A (en) | 1989-03-23 | 1990-01-18 | Polyborosilazane and process for producing same |
DE69022454T DE69022454T2 (de) | 1989-03-23 | 1990-01-23 | Verfahren zur Herstellung eines Polyborosilazanes. |
EP90300690A EP0389084B1 (en) | 1989-03-23 | 1990-01-23 | Process for producing a polyborosilazane |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-68221 | 1988-03-24 | ||
JP6822188 | 1988-03-24 | ||
JP1069169A JP2760555B2 (ja) | 1988-03-24 | 1989-03-23 | ポリボロシラザン及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0284437A true JPH0284437A (ja) | 1990-03-26 |
JP2760555B2 JP2760555B2 (ja) | 1998-06-04 |
Family
ID=26409447
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1069169A Expired - Lifetime JP2760555B2 (ja) | 1988-03-24 | 1989-03-23 | ポリボロシラザン及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2760555B2 (ja) |
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5164344A (en) * | 1991-06-26 | 1992-11-17 | Dow Corning Corporation | Borosilazanes as binders for the preparation of sintered silicon carbide monoliths |
US5292830A (en) * | 1991-06-20 | 1994-03-08 | Tonen Corporation | Thermosetting copolymers, silicon carbide-based fiber and processes for producing same |
JPH06220202A (ja) * | 1992-12-08 | 1994-08-09 | Bayer Ag | ポリマー状ボロシラザン類およびアルミノシラザン類、それらの製造方法およびそれらの使用 |
JPH07126393A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-16 | Tonen Corp | 熱硬化性ケイ素ホウ素含有共重合体及びその製法 |
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
DE4302211A1 (de) * | 1992-12-22 | 1997-09-04 | Dow Corning | Verfahren zur Herstellung von im wesentlichen polykristallinen Siliciumcarbidfasern |
US5863848A (en) * | 1991-09-27 | 1999-01-26 | Dow Corning Corporation | Preparation of substantially crystalline silicon carbide fibers from borosilazanes |
WO2011122497A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
WO2011125602A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2012023389A1 (ja) | 2010-08-20 | 2012-02-23 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2012032907A1 (ja) | 2010-09-07 | 2012-03-15 | リンテック株式会社 | 粘着シート、及び電子デバイス |
WO2013015096A1 (ja) | 2011-07-25 | 2013-01-31 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体及び電子部材 |
WO2013065812A1 (ja) | 2011-11-04 | 2013-05-10 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム及びその製造方法、ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
WO2013081003A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | リンテック株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材 |
EP2626378A1 (en) | 2009-03-17 | 2013-08-14 | LINTEC Corporation | Molded article, process for producing the molded article, member for electronic device, and electronic device |
WO2013133256A1 (ja) | 2012-03-06 | 2013-09-12 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、粘着フィルム、および電子部材 |
WO2013141318A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | リンテック株式会社 | 透明導電性積層体及び電子デバイス又はモジュール |
WO2013147093A1 (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2014157685A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2014157686A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 積層体及びその製造方法、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
US20170107344A1 (en) | 2014-03-31 | 2017-04-20 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
WO2017170547A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2019078069A1 (ja) | 2017-10-20 | 2019-04-25 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2020138206A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体 |
US10967618B2 (en) | 2016-03-18 | 2021-04-06 | Lintec Corporation | Curable composition for forming primer layer, gas barrier laminated film, and gas barrier laminate |
US11512231B2 (en) | 2017-03-28 | 2022-11-29 | Lintec Corporation | Gas barrier laminate |
CN115697941A (zh) * | 2020-06-09 | 2023-02-03 | 赛峰航空陶瓷技术公司 | 使用杂化交联共聚物制造复合材料部件的方法 |
US11760854B2 (en) | 2014-06-04 | 2023-09-19 | Lintec Corporation | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5350299A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-08 | Tokushiyu Muki Zairiyou Kenkiy | Process for preparing inorganic polymer whose main chain contains si b and o as elemental component |
JPH01252638A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-10-09 | Ethyl Corp | 有機ボロシラザン重合体 |
-
1989
- 1989-03-23 JP JP1069169A patent/JP2760555B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5350299A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-08 | Tokushiyu Muki Zairiyou Kenkiy | Process for preparing inorganic polymer whose main chain contains si b and o as elemental component |
JPH01252638A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-10-09 | Ethyl Corp | 有機ボロシラザン重合体 |
Cited By (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5292830A (en) * | 1991-06-20 | 1994-03-08 | Tonen Corporation | Thermosetting copolymers, silicon carbide-based fiber and processes for producing same |
US5164344A (en) * | 1991-06-26 | 1992-11-17 | Dow Corning Corporation | Borosilazanes as binders for the preparation of sintered silicon carbide monoliths |
US5863848A (en) * | 1991-09-27 | 1999-01-26 | Dow Corning Corporation | Preparation of substantially crystalline silicon carbide fibers from borosilazanes |
US5459114A (en) * | 1992-11-26 | 1995-10-17 | Tonen Corporation | Method for producing ceramic products |
JPH06220202A (ja) * | 1992-12-08 | 1994-08-09 | Bayer Ag | ポリマー状ボロシラザン類およびアルミノシラザン類、それらの製造方法およびそれらの使用 |
DE4302211A1 (de) * | 1992-12-22 | 1997-09-04 | Dow Corning | Verfahren zur Herstellung von im wesentlichen polykristallinen Siliciumcarbidfasern |
DE4302211C2 (de) * | 1992-12-22 | 2001-10-04 | Dow Corning | Verfahren zur Herstellung von im wesentlichen polykristallinen Siliciumcarbidfasern |
JPH07126393A (ja) * | 1993-10-28 | 1995-05-16 | Tonen Corp | 熱硬化性ケイ素ホウ素含有共重合体及びその製法 |
EP2626378A1 (en) | 2009-03-17 | 2013-08-14 | LINTEC Corporation | Molded article, process for producing the molded article, member for electronic device, and electronic device |
WO2011122497A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | リンテック株式会社 | 透明導電性フィルムおよびその製造方法並びに透明導電性フィルムを用いた電子デバイス |
WO2011125602A1 (ja) | 2010-03-31 | 2011-10-13 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2012023389A1 (ja) | 2010-08-20 | 2012-02-23 | リンテック株式会社 | 成形体、その製造方法、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2012032907A1 (ja) | 2010-09-07 | 2012-03-15 | リンテック株式会社 | 粘着シート、及び電子デバイス |
WO2013015096A1 (ja) | 2011-07-25 | 2013-01-31 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体及び電子部材 |
WO2013065812A1 (ja) | 2011-11-04 | 2013-05-10 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム及びその製造方法、ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
EP3636432A1 (en) | 2011-11-04 | 2020-04-15 | LINTEC Corporation | Gas barrier film, method for producing same, gas barrier film laminate, member for electronic devices, and electronic device |
WO2013081003A1 (ja) | 2011-11-30 | 2013-06-06 | リンテック株式会社 | ガスバリア性フィルムの製造方法、およびガスバリア性フィルムを備える電子部材又は光学部材 |
WO2013133256A1 (ja) | 2012-03-06 | 2013-09-12 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、粘着フィルム、および電子部材 |
WO2013141318A1 (ja) | 2012-03-22 | 2013-09-26 | リンテック株式会社 | 透明導電性積層体及び電子デバイス又はモジュール |
WO2013147093A1 (ja) | 2012-03-30 | 2013-10-03 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム積層体、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2014157685A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
WO2014157686A1 (ja) | 2013-03-29 | 2014-10-02 | リンテック株式会社 | 積層体及びその製造方法、電子デバイス用部材、並びに電子デバイス |
US10377870B2 (en) | 2014-03-31 | 2019-08-13 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
US20170107344A1 (en) | 2014-03-31 | 2017-04-20 | Lintec Corporation | Elongated gas barrier laminate and method for producing same |
US11760854B2 (en) | 2014-06-04 | 2023-09-19 | Lintec Corporation | Gas barrier laminated body, method for producing same, member for electronic device, and electronic device |
US10967618B2 (en) | 2016-03-18 | 2021-04-06 | Lintec Corporation | Curable composition for forming primer layer, gas barrier laminated film, and gas barrier laminate |
WO2017170547A1 (ja) | 2016-03-29 | 2017-10-05 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体、電子デバイス用部材及び電子デバイス |
US11512231B2 (en) | 2017-03-28 | 2022-11-29 | Lintec Corporation | Gas barrier laminate |
WO2019078069A1 (ja) | 2017-10-20 | 2019-04-25 | リンテック株式会社 | ガスバリアフィルム用基材、ガスバリアフィルム、電子デバイス用部材、及び電子デバイス |
WO2020138206A1 (ja) | 2018-12-27 | 2020-07-02 | リンテック株式会社 | ガスバリア性積層体 |
CN115697941A (zh) * | 2020-06-09 | 2023-02-03 | 赛峰航空陶瓷技术公司 | 使用杂化交联共聚物制造复合材料部件的方法 |
US11746060B2 (en) | 2020-06-09 | 2023-09-05 | Centre National De La Recherche Scientifique | Method for manufacturing a composite material part using a hybrid cross-linked copolymer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2760555B2 (ja) | 1998-06-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0284437A (ja) | ポリボロシラザン及びその製造方法 | |
EP0389084B1 (en) | Process for producing a polyborosilazane | |
EP0519496B1 (en) | Thermosetting copolymers, silicon carbide-based fiber and processes for producing same | |
Wideman et al. | Synthesis, characterization, and ceramic conversion reactions of borazine/silazane copolymers: New polymeric precursors to SiNCB ceramics | |
Terry et al. | Low-temperature pyrolytic transformations of tri-tert-butoxysiloxy derivatives of aluminum to aluminosilicate materials | |
EP0282561B1 (en) | Catalytic process for making compounds having a non-lewis acid/base group iiia metal to group va nonmetal bond | |
JPS60120725A (ja) | 有機金属共重合体およびその製造方法 | |
US5252684A (en) | Borazine derivatized hydridopolysilazane polymers | |
US5364920A (en) | Method of crosslinking polysilazane polymers | |
Yu et al. | Synthesis and characterization of a propargyl‐substituted polycarbosilane with high ceramic yield | |
JPH06293833A (ja) | 低酸素ポリメタロシラザン及びその製造方法 | |
JPS63191832A (ja) | 新規ポリアルミノシラザン及びその製造方法 | |
Bissinger et al. | Dimethylsiloxy-aluminiumdihalide dimers. Molecular structures of [Me2HSiOAlX2] 2 (X Cl, I) and [Me3SiOAl (BH4) 2] 2 | |
Jeon et al. | Olefin hydroboration of borazine with vinylsilanes as precursors of Si–B–C–N ceramics | |
JP3290463B2 (ja) | 熱硬化性ケイ素ホウ素含有共重合体及びその製法 | |
JPH0331326A (ja) | ランダム共重合シラザン及びその製法 | |
JPH0782380A (ja) | ポリボロシラザン及びその製法 | |
US5256753A (en) | Borazine derivatized polycarbosilane polymers and the ceramics derived therefrom | |
JPH0350161A (ja) | 窒化珪素質セラミツクス成形体 | |
JPH03119077A (ja) | コーティング用組成物 | |
JPH03170533A (ja) | ポリシラザン及びその製法 | |
Wideman | New polymeric precursors to SiNCB, BN, and La (3) Ni (2) B (2) N (3) materials | |
JPH05320356A (ja) | ポリボロシラザン及びその製造方法 | |
Beck | Lewis base-boranes and base-alanes: Molecular building blocks for the synthesis of boron-containing clusters and solid state materials | |
JPH03119062A (ja) | バインダー組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080320 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090320 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090320 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100320 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100320 Year of fee payment: 12 |