JPH0271888A - 反応管洗浄装置 - Google Patents
反応管洗浄装置Info
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- JPH0271888A JPH0271888A JP63222670A JP22267088A JPH0271888A JP H0271888 A JPH0271888 A JP H0271888A JP 63222670 A JP63222670 A JP 63222670A JP 22267088 A JP22267088 A JP 22267088A JP H0271888 A JPH0271888 A JP H0271888A
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Landscapes
- Cleaning In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１既 要〕
半導体ウェーハ表面に多結晶シリコン膜、酸化シリコン
膜、窒化シリコン膜等を形成する際に、反応管の内壁に
付着した多結晶シリコン等の堆積物を洗浄する反応管洗
浄装置に関し、 半導体ウェーハ表面に多結晶シリコン膜等を形成する際
に半導体ウェーハを垂直にセットして反応管内部に載置
されて、多結晶シリコン膜、酸化シリコン膜等が表面に
付着した被洗浄物、例えば熱処理治具の洗浄をも可能な
らしめる反応管洗浄装置を供給することを目的とし、 反応管を垂直に拘持して、反応管を回転させる回転筒と
、反応管の開口を挿通し反応管内部を上下運動して、横
方向に液体と気体を噴射する噴射ノズルを有する反応管
洗浄装置において、回転筒の内壁に、被洗浄物を懸吊可
能とする支竿を植設すると共に、噴射ノズルより被洗浄
物に噴射され被洗浄物より落下する液体を受けて、反応
管内部を通して液体を落下させる漏斗状をした液受を周
設して構成する。
膜、窒化シリコン膜等を形成する際に、反応管の内壁に
付着した多結晶シリコン等の堆積物を洗浄する反応管洗
浄装置に関し、 半導体ウェーハ表面に多結晶シリコン膜等を形成する際
に半導体ウェーハを垂直にセットして反応管内部に載置
されて、多結晶シリコン膜、酸化シリコン膜等が表面に
付着した被洗浄物、例えば熱処理治具の洗浄をも可能な
らしめる反応管洗浄装置を供給することを目的とし、 反応管を垂直に拘持して、反応管を回転させる回転筒と
、反応管の開口を挿通し反応管内部を上下運動して、横
方向に液体と気体を噴射する噴射ノズルを有する反応管
洗浄装置において、回転筒の内壁に、被洗浄物を懸吊可
能とする支竿を植設すると共に、噴射ノズルより被洗浄
物に噴射され被洗浄物より落下する液体を受けて、反応
管内部を通して液体を落下させる漏斗状をした液受を周
設して構成する。
半導体ウヱーハ表面に多結晶シリコン膜等を形成するさ
いに、反応管の内壁に付着した多結晶シリコン等の堆積
物を洗浄する反応管洗浄装置に関する。
いに、反応管の内壁に付着した多結晶シリコン等の堆積
物を洗浄する反応管洗浄装置に関する。
半導体素子の製造工程には、半導体ウェーハ表面に多結
晶シリコン膜等を形成するための成膜工程がある。
晶シリコン膜等を形成するための成膜工程がある。
多結晶ソリコン膜等の成膜作業で使用する反応管の内壁
や熱処理治具の表面にも、多結晶シリコン膜等が同時に
付着する。
や熱処理治具の表面にも、多結晶シリコン膜等が同時に
付着する。
この成膜作業で操り返して使用された反応管の内壁や熱
処理治具の表面には、多結晶シリコン膜等が厚く堆積す
る。
処理治具の表面には、多結晶シリコン膜等が厚く堆積す
る。
このため、成膜作業中に表面に堆積した多結晶シリコン
膜等からの脱ガスが多くなる。
膜等からの脱ガスが多くなる。
この結果、半導体ウェーハ表面に形成された多結晶シリ
コン膜等の物理的特性等に悪影響することになる。
コン膜等の物理的特性等に悪影響することになる。
従って、５〜１５回程度繰り返して成膜作業で使用され
た反応管や熱処理治具は洗浄して、内壁や表面に付着し
た多結晶シリコン膜等の堆積物を除去する必要がある。
た反応管や熱処理治具は洗浄して、内壁や表面に付着し
た多結晶シリコン膜等の堆積物を除去する必要がある。
従来から広く使用されている反応管の洗浄方法は、反応
管を垂直にして反応管の円周方向に回転させて、この反
応管の内部を挿通して噴射ノズルを上下に往復させなが
ら、噴射ノズルから反応管の内壁に弗硝酸や弗酸等の溶
液を噴射して多結晶シリコン膜等の堆積物を化学的に溶
解してから、洗浄液、例えば純水を噴射して反応管の内
壁に付着している弗硝酸や弗酸等の溶液を洗い流した後
、最後に気体、例えば窒素ガスを噴射して、反応管の内
壁に付着している純水を乾燥させるものであった。
管を垂直にして反応管の円周方向に回転させて、この反
応管の内部を挿通して噴射ノズルを上下に往復させなが
ら、噴射ノズルから反応管の内壁に弗硝酸や弗酸等の溶
液を噴射して多結晶シリコン膜等の堆積物を化学的に溶
解してから、洗浄液、例えば純水を噴射して反応管の内
壁に付着している弗硝酸や弗酸等の溶液を洗い流した後
、最後に気体、例えば窒素ガスを噴射して、反応管の内
壁に付着している純水を乾燥させるものであった。
上記の従来の反応管の洗浄方法を第２図の従来の反応管
内壁の洗浄に使用される洗浄装置の部分側断面図に対応
させて説明する。
内壁の洗浄に使用される洗浄装置の部分側断面図に対応
させて説明する。
ｌは反応管、２は回転筒、４は固定バンド、４ａは支持
棒、５は噴射ノズル、６は供給管、Ａは反応管ｌと回転
筒２の回転方向で、反応管１は図に示してない駆動装置
によりＡ方向に回転する回転筒３内部に植設した支持棒
４ａの先端の固定バンド４により、回転筒２の略中心に
固定され、回転筒２の回転により回転されて上記したよ
うな洗浄法によって洗浄される。
棒、５は噴射ノズル、６は供給管、Ａは反応管ｌと回転
筒２の回転方向で、反応管１は図に示してない駆動装置
によりＡ方向に回転する回転筒３内部に植設した支持棒
４ａの先端の固定バンド４により、回転筒２の略中心に
固定され、回転筒２の回転により回転されて上記したよ
うな洗浄法によって洗浄される。
一方、第３図は熱処理治具２を洗浄する従来の洗浄法を
示す工程順側断面図である。
示す工程順側断面図である。
（１）は熱処理治具２の表面の堆積物を化学的に溶解す
る弗硝酸や弗酸等の溶液の入った浸漬槽７中に熱処理治
具２が浸漬された状態、（２）は（１）の処理が完了し
て熱処理治具２の表面に付着している溶液を洗浄する純
水の入った浸漬槽７中に熱処理治具２が浸漬された状態
、（３）は（１）と（２）の処理が終了して熱処理治具
２の表面に付着している純水を、エアーガン８により窒
素ガスを熱処理治具２に噴射して乾燥を行なっている状
態、 で示すような作業順序により熱処理治具２の洗浄は行わ
れていた。
る弗硝酸や弗酸等の溶液の入った浸漬槽７中に熱処理治
具２が浸漬された状態、（２）は（１）の処理が完了し
て熱処理治具２の表面に付着している溶液を洗浄する純
水の入った浸漬槽７中に熱処理治具２が浸漬された状態
、（３）は（１）と（２）の処理が終了して熱処理治具
２の表面に付着している純水を、エアーガン８により窒
素ガスを熱処理治具２に噴射して乾燥を行なっている状
態、 で示すような作業順序により熱処理治具２の洗浄は行わ
れていた。
以上説明したように、反応管１と熱処理治具２の洗浄装
置は全く異なついたために、洗浄装置への投資が重複す
ること、設備費の高いクリーンルームの必要スペースが
増加し、且つ熱処理治具２の洗浄は手作業で行っている
ために洗浄工数が増加する等により半導体素子の製造コ
ストを押し上げる要因にもなっていた。
置は全く異なついたために、洗浄装置への投資が重複す
ること、設備費の高いクリーンルームの必要スペースが
増加し、且つ熱処理治具２の洗浄は手作業で行っている
ために洗浄工数が増加する等により半導体素子の製造コ
ストを押し上げる要因にもなっていた。
本発明は上記のような問題を解決するため、熱処理治具
２の洗浄を反応管１に用いる洗浄装置で行える反応管洗
浄装置の改良を目的とする。
２の洗浄を反応管１に用いる洗浄装置で行える反応管洗
浄装置の改良を目的とする。
上記の目的を達成するための本発明の構成を、本発明の
一実施例の部分側断面を示す第１図と従来の洗浄装置の
部分側断面を示す第２図により説明する。
一実施例の部分側断面を示す第１図と従来の洗浄装置の
部分側断面を示す第２図により説明する。
本発明は第１図の従来の反応管の洗浄装置に、第２図に
示すように回転筒３の内壁に、被洗浄物２を懸吊可能と
する支竿１２を植設すると共に、噴射ノズル５より被洗
浄物２に噴射され被洗浄物２より落下する液体を受けて
、反応管１内部を通して液体を落下させる漏斗状をした
液受１１を周設して構成する。
示すように回転筒３の内壁に、被洗浄物２を懸吊可能と
する支竿１２を植設すると共に、噴射ノズル５より被洗
浄物２に噴射され被洗浄物２より落下する液体を受けて
、反応管１内部を通して液体を落下させる漏斗状をした
液受１１を周設して構成する。
次に作用を第１図の本発明の一実施例の部分側断面図に
より説明する。
より説明する。
反応管１が回転筒１３内部の略中心に固定バンド４と支
持棒４ａを介して拘持されると共に、回転筒１３内壁に
植設された支竿１２が熱処理治具２を懸吊した状態であ
る。
持棒４ａを介して拘持されると共に、回転筒１３内壁に
植設された支竿１２が熱処理治具２を懸吊した状態であ
る。
かかる状態において、図に示してない駆動装置によって
回転筒１３がＢ方向に回転すると反応管１と熱処理治具
２もＢ方向に回転する。
回転筒１３がＢ方向に回転すると反応管１と熱処理治具
２もＢ方向に回転する。
次ぎに、示してない制御装置によって、噴射ノズル５が
回転筒２の開口を挿通して回転筒２の略中心を上下運動
しながら、逐次的に弗硝酸や弗酸等の溶液、純水、窒素
ガスを支竿１２に懸吊された熱処理治具２の表面と反応
管１の内壁に噴射するようにすることで反応管洗浄装置
で熱処理治具２の洗浄が可能となる。
回転筒２の開口を挿通して回転筒２の略中心を上下運動
しながら、逐次的に弗硝酸や弗酸等の溶液、純水、窒素
ガスを支竿１２に懸吊された熱処理治具２の表面と反応
管１の内壁に噴射するようにすることで反応管洗浄装置
で熱処理治具２の洗浄が可能となる。
次に第１図の本発明の一実施例を説明する。
第１図は本実施例による半導体治具洗浄装置の部分側断
面図で、第２図の従来の反応管洗浄装置に、回転筒１３
は従来の反応管洗浄装置の回転筒３の上部内壁に、熱処
理治具２を：５吊する支竿１２植設すると共に、噴射ノ
ズルから熱処理治具２に噴射された液体を受けて、反応
管１の内部を通して液体を落下させる漏斗状をした液受
１１を周設したしたものである。
面図で、第２図の従来の反応管洗浄装置に、回転筒１３
は従来の反応管洗浄装置の回転筒３の上部内壁に、熱処
理治具２を：５吊する支竿１２植設すると共に、噴射ノ
ズルから熱処理治具２に噴射された液体を受けて、反応
管１の内部を通して液体を落下させる漏斗状をした液受
１１を周設したしたものである。
以上の説明から明らかなように、本発明による反応管洗
浄装置は、熱処理治具の洗浄が可能となると共に反応管
と同時に洗浄もできることになることにより、洗浄装置
への重複投資が回避できること、設備費の高いクリーン
ルームの必要スペースを削減できること、且つ熱処理治
具２の洗浄が自動化できることとなり洗浄工数が削減さ
れる等により半導体素子の製造コストトの引き下げに寄
与させることが可能となる。
浄装置は、熱処理治具の洗浄が可能となると共に反応管
と同時に洗浄もできることになることにより、洗浄装置
への重複投資が回避できること、設備費の高いクリーン
ルームの必要スペースを削減できること、且つ熱処理治
具２の洗浄が自動化できることとなり洗浄工数が削減さ
れる等により半導体素子の製造コストトの引き下げに寄
与させることが可能となる。
４ａは支持棒、
６は供給管、
１１はン夜受
１２は支竿
Ａは反応管と熱処理治具と回転筒の回転方向、Ｂはノズ
ルの運動方向を示す。
ルの運動方向を示す。
第１図は本発明の一実施例の部分側断面図、第２図は従
来の反応管洗浄装置の部分側断面図第３図はは従来の熱
処理治具洗浄法を示す工程順側断面図を示す。 図において ■は反応管、 ２は熱処理治具、 ３．１３は回転台、 ４は固定バンド、 ６伊瀬口 ニャミづ７≦９ｒ弓６）−１？、之÷Ｌイ列のａタラ−
９λ゛Ｊν々Ｔ（宜りレワ第 １ 図
来の反応管洗浄装置の部分側断面図第３図はは従来の熱
処理治具洗浄法を示す工程順側断面図を示す。 図において ■は反応管、 ２は熱処理治具、 ３．１３は回転台、 ４は固定バンド、 ６伊瀬口 ニャミづ７≦９ｒ弓６）−１？、之÷Ｌイ列のａタラ−
９λ゛Ｊν々Ｔ（宜りレワ第 １ 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 半導体ウェーハの熱処理工程に用いる耐熱材料よりなる
円筒状の反応管を垂直に拘持して、反応管を回転させる
回転筒と、反応管の開口を挿通し反応管内部を上下運動
して、横方向に液体と気体を噴射する噴射ノズルを有す
る反応管洗浄装置において、 上記回転筒（３）の内壁に、被洗浄物（２）を懸吊可能
とする支竿（１２）を植設すると共に、噴射ノズル（５
）より該被洗浄物（２）に噴射され該被洗浄物（２）よ
り落下する液体を受けて、反応管（１）内部を通して液
体を落下させる漏斗状をした液受（１１）を周設して、
反応管（１）と被洗浄物（２）の洗浄を可能にしたこと
を特徴とする反応管洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63222670A JP2576602B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 反応管洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63222670A JP2576602B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 反応管洗浄装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0271888A true JPH0271888A (ja) | 1990-03-12 |
| JP2576602B2 JP2576602B2 (ja) | 1997-01-29 |
Family
ID=16786088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63222670A Expired - Lifetime JP2576602B2 (ja) | 1988-09-05 | 1988-09-05 | 反応管洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2576602B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0437028A (ja) * | 1990-06-01 | 1992-02-07 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリコン製ウエハ支持ボート |
| CN114772919A (zh) * | 2022-04-13 | 2022-07-22 | 浙江富通光纤技术有限公司 | 预制棒的加工工艺 |
-
1988
- 1988-09-05 JP JP63222670A patent/JP2576602B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0437028A (ja) * | 1990-06-01 | 1992-02-07 | Toshiba Ceramics Co Ltd | シリコン製ウエハ支持ボート |
| CN114772919A (zh) * | 2022-04-13 | 2022-07-22 | 浙江富通光纤技术有限公司 | 预制棒的加工工艺 |
| CN114772919B (zh) * | 2022-04-13 | 2023-08-18 | 浙江富通光纤技术有限公司 | 预制棒的加工工艺 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2576602B2 (ja) | 1997-01-29 |
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