JPH026489A - 有機ケイ素第四アンモニウム抗菌性化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は抗菌剤、より詳しくは、生物活性を有する新規
な第四アンモニウム塩化合物に関する。

〔従来の技術とその課題〕

抗菌剤は、生成物、材ｔｉｔおよび系の微生物汚染およ
び悪化を防くために使われる化学組成物である。抗菌剤
および組成物の特定の適用範囲は、例えば、化粧品、消
毒剤、衛生化剤、食品、動物飼料、冷却水、金工液、病
院および医学利用、プラスチックおよび樹脂、石油、パ
ルプおよび紙、布、ラテックス、接着剤、なめし革およ
び皮革、並びに塗料用スラリーである。抗菌剤および組
成物の種々のカテゴリーのうち、第四アンモニウム化合
物は、利用において薬の最も大きなりラスのうちの１つ
である。低濃度では、第四アンモニウムタイプの抗菌剤
は、静菌性、静置菌性、静藻性、静胞子性および抗結核
性である。中濃度では１．それらは殺菌性、殺真菌性、
膜薄性、および親油性ウィルスに対して殺ウイルス性で
ある。シリコン第四アンモニウム塩化合物は周知である
。しかしながら、知るかぎりでは誰も、抗菌的に有効な
物質として有用性のある、本発明に係る新規化合物の群
の有機シリコン第四アンモニウム化合物を開示しζいな
い。本発明の新規組成物群は、微生物汚染および悪化を
防ぐ作用をし、そして本発明中に示される新規組成物の
新しく且つ今までに開示されていない群は、現存する抗
菌性処置剤を上回る利点および独特な特徴を有し、そし
てそれらを上回る改良された結果を提供する。従って、
現存する従来技術の化合物の欠点は、改良され且つ新し
い抗菌剤が提供される本発明によって克服される。

〔課題を解決するための手段〕

本発明は、次の一般式のうらの１つにより表わされる新
規化合物群に関する。

八　　ＣＩ （Ｒ’　Ｏ）　：ｌＳ　ｉ　（ＣＩ□）、−Ｎ−（Ｃ１
１□）、−Ｎ”−Ｒ”’　　　（１）（Ｃ１１□）ｙ　
　　　Ｂ ＣＯ□Ｒ” ＣＩ−Ｂ 上式中、ＡおよびＢはそれぞれ独立的に、メチル、エチ
ルおよびプロピル基から成る群から’Ｍ　ｔＪ＜され；
Ｒ′はメチル、エチル、プロピル、イソブじオビルおよ
びブチル基から成る群から選択され；Ｒｓｒは、ベンジ
ル、Ｃ１ン３（ＣＦ２）Ｘ−１Ｃ１１１１１１１３７、
ＣＦ　ｘ　（Ｃ１１２）　Ｘ−１−（Ｃ１ｌｚ）ｘＳｉ
Ｒ’　ｕ（Ｏ１ｌ’　）ｖＲ、アルギル、アルケニル、
アリールおよびアリールアルキル基から成る群から選択
され； Ｒ″′はＣＩｌ□−Ｇであり； ここで、ＧはＲｒ　、Ｒｒｒ、エーテル、ケトン、エス
テルおよびＣＯ□Ｒ基から成る群から選択され； Ｕはθ〜２の数値を有し； Ｖはｕ＋ｖが２を超えないという条件で０〜２の数値を
有し； Ｘは０−１８の数値を有し； １は２の数値を有し； ｌは２〜１　Ｂの数値を有し；そして ［ンは、Ｒ’、Ｒ”およびＲ″′である。

そのようなカテゴリーの新規化合物の代表的な例および
本明細Ｍ中に開示される発明に関するものは、例えば次
のように命名できるニ ジメチル−２（ジメチルアミノ）エチル−３（トリメト
キシシリル）プロビルアンモニラムクじＩライ　ド、 ＮＮ−ジメチル−Ｎ（メトキシカルボニル）メチル−Ｎ
’、Ｎ’−ジメチル−Ｎ’（３（１−リメトキシシリル
）プロピル）エチレンジアンモニウムジクロライ１′、 Ｎ−ベンジル−Ｎ、Ｎ−ジメチル−Ｎ’、Ｎ’−ジメチ
ルーＮ’（３（１−リメトキシシリル）プロピル）エチ
レンジアンモニウムクロライド、３　（Ｎ−２（メトキ
シカルボニルエチル）−Ｎ−３（トリメトキシシリル）
プロピル）アミノプロピルジメチル（エトキシカルボニ
ルメチル）アンモニウムクロライド、 ３　（Ｎ−２（、メトキシカルボニルエチル）−Ｎ−３
（トリメトキシシリル）プロピル）アミノプロピルベン
ジルジメチルアンモニウムクロライド、Ｎ、Ｎ、Ｎ−ベ
ンジルジメチル−Ｎ’、Ｎ’Ｎ′−ヘンシル−２（メト
キシカルボニルエ・ｙ−ル）３（トリット−１−シシリ
ルプしｌピル）プ［ｌピレン−１，３−ジアンモニウム
ジクロライド、３（Ｎ、２（メトキシカルボニルエチル
）−Ｎ。

３（トリメトキシシリルプロピル））アミノプロピルジ
メチル−５−（イソプロポキシカルボニルペンチル）ア
ンモニウムクロライド、 ３（Ｎ、２（メトキシカルボニルエチル）−Ｎ。

３（トリメトキシシリルプロピル））アミノプロピルジ
メチルペンチルアンモニウムクロライド、３　（Ｎ　（
３（メトキシメチル−３，３，３−トリフルオロプロビ
ルシリルプロボキシ力ルポニルエチル）　１−Ｎ−（３
（ｌリメトギシシリルプロピル））〕アミツブ「１ピル
ジメチル−５（イソプロポキシカルボニルペンチル）ア
ンモニウムクロライド、 ３　　（Ｎ　（３（メト−１−ジメチル−３，３，３−
トリフルオ【コブｍＪビルシリルプロボキシ力ルポニル
エチル）　ｌ　−ｔｌ−（３（１−リフ１−キジシリル
プロピル））〕アアミノプロピルジメチルペンチルアン
モニウムクロライド、および ３　（Ｎ　［３（メトキシメチル−３，３，３−トリフ
ルオロプロビルシリルプロボキシ力ルポニルエナル）　
１−Ｎ−（３（＋−リメトキシシリルブロピル）ｌ）−
Ｎ’、Ｎ’−ジメチルアミン−１゜３゜ 以後および面易化のために、次の第四アンモニウム化合
物１１０はそれぞれＱｕａｔ　１　１０と称され、そし
てそのような化合物の一般式は下記に示されており前記
で命名された１１ｕａＬ　１　１０に相当する。

化合物Ｎａ１ｌは、口ｕａＬＮｏ、９および１０のため
の中間体である。上記に言及したように、そのような新
規化合物は抗菌的に活性な薬剤としての有用性がある。

ｌ− （ＭｅＯ）　：＋５ｉ（ＣＩｌｚ）　ＪＭｅｚＣｌｌｚ
ＣＩＩＪＭｅｚ　　　　　　　　１ＣＩ−（’：１ ＣＩ！ｚｃＯＪｅ ｌ− Ｉ Ｈ２Ｐｈ （Ｃｌｌｚ）　ｓｃＯｚｃＩＩＭｅｚ Ｃｌ （Ｍｅｎ）　３Ｓ　ｉ　（ＣＩｌ　２）　３Ｎ−ＣＩｌ
　２ＣＩＩ　ｚｃＩＩ　ｚ−ＮＭｅｚ（Ｃｌｌｚ）　、
ｃＯｚＭｅ　　（ＣＩ！、）　４ＣＩ＋＋１（Ｃ１ｌｚ
）　５ｃＯｚｃＩ団ｅ２ ＣＯｚ（Ｃ１ｌｚ）：＋ＳｉＭｅ（Ｃｌｌｚ）ｚｃＦ３
Ｍｅ （Ｃ１１□）４ＣＩ＋３ （Ｍｅｎ）　ｉｓｉ　（Ｃｌｌｚ）　、Ｎ−ＣＩＩｚＣ
ＩＩｚＣ１１２−ＮＭｅｚ（ＣＨｚ）ｚ　　　　　　Ｃ
Ｉ Ｃｏｘ（Ｃ１ｌｚ）ｆｆｓｉＭｅ（Ｃ１ｌｚ）ｚｃＦ＋
Ｍｅ （Ｍｅｎ）　ｉｓｉ　（Ｃ１ｌｚ）　Ｊ−ＣＩｌｚＣＩ
ＩｚＣＩＩＪＭｅｚ（Ｃ１１２）２　　　　　　　　　
　　　　　１１ＣＯ２（ＣＩｌ２）　３ＳｉＭｅ（Ｃ１
ｌｚ）　ｚＣＦ：＋Ｍｅ 上式中、Ｍｅはメチルであり、そしてＰｈはフェニルで
ある。

従って、本発明の目的は、生物学的活性を有する第四ア
ンモニウム塩化合物の新しいシリーズを提供することで
ある。

それらおよび他の［］的、本明細書中に定義される特徴
並びに利点は、下記の本発明の詳細な説明から容易に明
らかになるであろう。

〔具体的な説明〕

本発明は、生物学的活性を有し、そしてＭｅ叶中５０％
の固体としてジー第四アミン塩およびモノー第四アミン
塩を含む、第四アンモニウム塩化合物に関する。これら
塩は、エステル、フル第１コカーボン、ベンジル、アミ
ンおよびアルキル官能価を含む。式（１）に示される一
般式のジー第四アンモニウム塩を調製した。

式（２）に示される一般式のモノー第四アンモニウム塩
もまた調製した。

れＣＩＩｚＣＯｚＭｅおよびｃ＋＋ｚｐｈである）　Ｑ
ｕａｔ２−３の調製は、Ｑｕａｔ　１をメタノール中酢
酸クロロメチルおよび塩化ベンジルと共に還流すること
により、行った。前駆体としてのアミン゛’１３”は、
式（４）に示されるように調製した。

式（１）の化合物の調製は、２当世の３−（トノメト−
１−シンリル）プロビルク１コライド（以後ＴＭＳＰＣ
と称する）およびＩ当量のＮ、Ｎ、Ｎ’Ｎ′−テトラメ
チルエチレンジアミンをメタノール中で還流することに
より開始し、ジー４原子誘導体を提供せしめた。この反
応は、Ｑｕａｉｌを生ぜしめた。

２　（ＭｅＯ）Ｊｓｉ（Ｃ１１２）ＪＣｌ　＋　Ｍｅ２
ＮＣＩＩ２ＣＩ１．ＮＭｅ。

（Ｍｅｎ）　ｚｓｉ（Ｃ１ｌｚ）　ＪＭｅｚＣＩｌｚＣ
ＩＩｚＮＭｅｚ　＋＋＋＋＋　Ｘ　−一−−ｐＧＣ質世
スペクトル（ＧＣＭＳ）分析は、第一生成物のピークが
アミン“Ｉ３”であり、そして第二生成物のピークが式
（８）の“ビスーボディ°°アミン°’１４″゛である
ことを示した。

Ｍ　ｅ　ＯＩＩ （ＭｅＯ）３ｓｉ（Ｃｌｌｚ）３ｃＩ　　＋　　ｌｌｚ
Ｎ（Ｃｌｌｚ）ＪｌｌｉＭｅｚ　−−−”式（１）に示
されるような（ただしＲはそれぞ（ＭｑＯ）：＋Ｓｉ（
ＣＩｌｔ）Ｊｌｌ（Ｃｌｌｚ）ｆｆＮＭｅｚ　＋　ｌＩ
ｚＮ（Ｃｌｌｚ）ＪＮＭｅｚ（Ｍｅｎ）　３Ｓ　ｉ　（
Ｃｌｌｚ）　Ｊｌｌ　（Ｃｌｌｚ）　３ＮＭｅＺ（（Ｍ
ａｃ）　ａｓｉ　（Ｃ１ｌｚ）　３１Ａ Ｎ　（Ｃ１１２）　ＪＭｅｚ 式（９）に要約されるようにし７て、アミン”１３”を
りｌコロ酢酸メチルと反応させた。

（Ｍｅｎ）　３ｓｉ　（Ｃｌｌｚ）　Ｊ　（ＣＩｌｔ）
　３ＮＭｅｚＲ＝　　ＣＯ２Ｍｅ、Ｐｈ アクリル酸メチルへの第二アミンのマイケル付加により
第ニアミノ部位をアミノ、部位に転換する方法を行い、
そしてアクリル酸メチルへのアミン“１３°°のマイケ
ル付加が、式（１０）に示されるようなジアミン１５を
生ぜしめた。

（Ｍｅｎ）　ａｓｉ　（Ｃｌｌ２）　：１Ｎ（ＣＩＩＺ
）　ＪＭｅｚｌｈ ＣＩＩｚＣＯｚＭｅ ジアミン１５の５つの４原子塩誘導体を調製した。クロ
ロ酢酸メチルの誘導体は、該アミンとクロロ酢酸メチル
とを混合することにより調製され、粘稠なシロップとし
てＱｕａｔ４を１１供した。ベンジルＱｕａｔ５は塩化
ベンジルから同様にして調製された。このベンジル４原
子塩を、大過剰の塩化ベンジルを使って再度調製すると
、反応の終わりに、塩化ベンジルに比例して多量の出発
アミンを生じさせた。

過剰の塩化ベンジルを添加することにより反応を続行し
て、Ｑｕａｔ６のジー第四アンモニウムを形成せしめた
。ジアミン１５と６−クロロヘキサン酸イソプロピルと
の誘導体は、前記のようにして調製された。この反応は
ＧｕａＬ７を提供した。ｎ−ペンチルクロライドを使っ
てＱｕａｔ８も調製した。

アミン“１３”のフッ素含有誘導体も調製した。活性化
された白金触媒を使って、アリルアクリレ−１−を３（
３，３，３−１−リフルオしりプロピルメ１弓１−ンメ
チルシランと反応させると、式（１１）に示されるアク
リレート１６を与えたｉこのクロロシランを、当量のト
リエチルアミンを含むメタノールと反応させ、メト−１
−ジシラン１７を生ぜしめた。

ｅ Ｉ ＣＩ□＝ＣＯ□−ＣＩＩ□Ｃ１ｈＣＩｌ□５ｉＣＩＩ□
Ｃ１ｌ□ＣＦ３門ｅ ｅ０１１ Ｍｅ ｅ 出発アミンおよびアクリレートエステルは、マイケル付
加物１１を生しさせた。

（Ｍｅｎ）　ｘｓ　ｉ　（Ｃｌｌ　ｚ）　Ｊｌｌ　（ｅ
ｌｌ　ｚ）　ｔＮＭｅ　ｚ１３　　（Ｍｅｎ）　３ｓｉ
　（ＣＩｌｔ）　Ｊ（Ｃｌｌｚ）　ＪＭｅｚＣ１１□ ＣＩＩｚＣ１’＋ 該材料の全ての揮発性成分を除き、そしてそれぞれＱｕ
ａｔ９および口ｕａＬ１０に相当する６−クロロヘキサ
ン酸イソプロピルおよびｎ−ペンチルクロライドの４原
子誘導体を作成するために分割した。

次の詳細な例と共に理解すると、上の簡単な反応式は、
３−クロロプロピルトリメトキシシランとテトラメチル
エチレンジアミンとの反応に続き適当なハロ化合物との
メタノール還流により、ジー第四アミンが調製され得る
ことを示す。上式はまた、Ｎ、Ｎ〜ジメチル−Ｎ’　−
（３（トリメチルシリル）プロピル）エチレンジアミン
が、様々な官能価の第四アミンのための１１コ駆体とな
ることを示す。アクリレートへのアミン水素のマイケル
付加は、様々な官能価を導入する有効な方法であること
がわかる。全ての４原子塩および前駆体は、核’ｌｌ気
共鳴（ＮＭＲ）分光分析法およびＩＲ分光分析法により
分析され、そして指定された構造と一敗した。

Ａ、（ｌｕ吐１（７）を城 ＬＯＯｇ　（０，５０４モル〕のＴＭＳＰＣ１３１，５
ｇ　（０，２７２モル）のテトラメチルエチレンジアミ
ンおよび６４とのＭｅＯＩＩの溶液を５００戚の丸底フ
ラスコに入れ、そして加熱して還流させた。この反応液
をＧＣによりモニターすると、４４時間まで出発物質の
減少を示した。この時間の後、該反応液を室温まで冷却
し、そして５０°Ｃおよび０．２　ｍｍ１１ｇでのロー
タ１Ｊ−エバポレーションにより過剰の試薬を除去した
。生成したＱｕａｔｌの結晶に５００ｍ１部分のエーテ
ルを添加し、そして洗浄して汚染物を除去した。

拠よ り　　　Ｑｕａｔ２　の越 ５０　ｇ　（０，１５８モル）のＱｕａ口、１８．５ｇ
　（０，１７モル）のクロロ酢酸メチルおよび３０ｇの
ＭｅＯｌｌの溶液を５００ｄの丸底フラスコに入れ、そ
して撹拌しながら加熱して還流させた。還流温度は７ド
Ｃであった９反応をＧＣによりモニターすると、２１時
間後にはもはやり１コロ酢酸メチルの減少が起こらなか
った。Ｄｅａｎ−５Ｌａｒｋ取り出しデユープを配置し
、約１５ｇのメタノールを除去した。還流温度を３時間
の間７７°Ｃに上昇させた。ＧＣはり裏コロ酢酸メチル
の更なる減少を示さなかったが、還流をさらに４．５時
間続行し、そして室温に冷却した。

生成した化合物はＱｕａｔ２であった。

… ＣＧ＋徂ｔ３（７）澄−店 ５０ｇ（０，１６モル）のＱｕａｔ　１．４０．６ｇ　
（０，３２モル）の塩化ベンジルおよび２０ｇのＭｅｏ
ｌｌの溶液を５００ｄの丸底フラスコに入れ、そして撹
拌しながら加熱して還流させた。約５０％の塩化ベンジ
ルが消失するまで、反応をＧＣによりモニターした。

ＧＣは、ＧＣＭＳによりベンジルメチルエーテルと同定
された別のピークの出現を示した。粗生成物のロータリ
ーエバポレーションにより過剰の試薬を除去すると、淡
黄色の結晶生成物が生じた。Ｑｕａ　Ｌ３の結晶をテト
ラヒドロフラン（ＴＩＩＦ）およびメタノールで繰返し
洗浄して汚染物を除去し、そしてロータリーエバポレー
ションにより溶媒を除去した。

■ ２００ｇ　（１，０１モル）のＴＭＳＰＣｌｌｌｏｇ　
（１，０８Ｍ）のＮ、Ｎ−ジメチルプロピレンジアミン
および４５ＨのＭｅｒｉｔの撹拌溶液を、１りのフラス
コ中で加熱して還流させ、そしてＧＣによりモニターし
た。−晩（約２８時間）撹拌した後、ＧＣはＴＭＳＩ’
Ｃが消失したことを示しそして黄色の粘性液体が生成し
た。５．５ｇの粗生成物を６１ｄのＭｅＯＨ中０．９ｇ
のＮａＯＭｅと共に振とうすることにより、バイアル中
で小スケールの中和を行・った。ＧＣおよびＧＣ質量ス
ペクトル（ＧＣＭＳ）分析は、５：１の比においてＮ、
Ｎ−ジメチル−Ｎ’−（３−トリメトキシシリルプロピ
ル）プロピレンジアミン−１３およびＮ、Ｎ−ビス（３
−１−リメトキシシリルプロピル）−Ｎ’、Ｎ’　−ジ
メチルプロピレンジアミン−１，３を示した。残りの粗
生成物を１５０ｍ１のＭｅ０１１中７４ｇのＮａＯＭｅ
で室温にて０．５時間中和した。その混合物を静置して
おき、塩を除くため上清をデカンテーションした。ロー
タリーエバポレーションにより揮発分を除去すると、１
８８．４　ｇの粗生成物が残り、これを１１７−１３９
°Ｃ／　４　ｍ＋ｎ１１ｇの間でバルブ間フラッシュ蒸
留し、そして−７８℃で回収すると、９３．２ｇ　（Ｉ
’ｌｌ収率約４７％）を得た。蒸留物を８０°Ｃ／　０
．５　ａｎｌｌｇでのロータリーエバポレーションにか
け、残りの揮発分を除去すると、ＧＣ面積８４．４％の
Ｎ、Ｎ−ジメヂルーＮ′（３−トリメトキシプロピル）
プロピレンジアミン５０．１ｇを得た（収率２５．３％
）。

尉■二人 ２１８．４　ｇ　（１，１モル）のＴＭＳＰＣ１２７７
，０ｇ（２，７２モル）のＮ、Ｎ−ジメチルプロピレン
ジアミンおよび６０．０ｇのＭｅ叶の溶液を、周囲（２
７°Ｃ）温度にて、乾燥管を付けた丸底フラスコに入れ
た。

撹拌しながら、温度が５分間に渡って３６℃まで自発的
に上宣し、次いで冷却し始めた。撹拌溶液を９９°Ｃに
加熱した。ＧＣ分析は、出発試薬が新しい生成物へ向け
て反応していることを示した。

２．５時間後そして１０３°ＣのＱ高温度においては、
ＧＣはもはや該混合物の変化を示さなかった。

３７°Ｃまで冷却後、１５０ｍｊ２のＭｅ叶中６０．０
ｇのＮａＯＭｅのスラリーを添加し、アミン塩酸塩を中
和した。

温度が自発的に４７°Ｃに上昇し、混合物を４５分間撹
拌し、そして室温まで冷却した。ロータリーエバポレー
ションにより過剰の揮発分を除去すると１８５．５ｇの
残渣が残り、これはＣＣにより９１．６％のＮ、Ｎ−ジ
メチル−Ｎ’　−（３−１−リメトキシプロピル）プロ
ピレンジアミンおよび５．２％のＮ、Ｎ−ビス（３−ト
リメトキシプロピル）−Ｎ’Ｎ′−ジメチル−プロピレ
ンジアミンが示された。

最終生成物を室温で放置しておくと、二相混合物が生成
した。上相がＮ、Ｎ−ジメチル−Ｎ′（３−トリメトキ
シプロピル）プロピレンジアミン（ＮＤＴＰＯ）であり
、そして下相力（ＭｅＯＨおよびｆｌｃｃｌ＋可溶性ポ
リマーであった。

開ヱニ旦 ４８１．２ｇ　（２，４２モル）のＴＭＳＰＣ１７４０
，０ｇ（，７，２６モル）のＮ、Ｎ−ジメチルプロピレ
ンジアミンおよび１４０ｇのＭｅｒｉｔを使って上の反
応を繰り返した。反応液を３時間還流し、そして室温ま
で冷却した。ロータリーエバポレーションによる溶媒の
除去後、ＮＤＴＰＯが得られた。

５００−の丸底フラスコに、５２．８　ｇ　（０，２モ
ル）のＮ、Ｎ−ジメチル−Ｎ’　−（３（）リメトキシ
シリル）プロピル）プロピレンジアミン−１，３および
５２．０ｇ　（０，６モル）のアクリル酸メチルおよび
約２５０ｐｐｍ　（ｗ　／　ｗ　）の２．６−シヒドロ
キシー４−メチルフェノール（ＢＩＩＴ）の溶液を入れ
た。

この溶液を加熱して空気中（ＣａｚＳＯ４乾燥管）４．
５時間還流し、そしてＧＣにより分析し、出発のアミン
が消滅し生成物が形成したことを示した。粗混合物を４
０　’Ｃ／　５　ｍｌｌｌ１１ｇにてロータリーエバポ
レーションにより揮発分を取り除くと、６８．７ｇのジ
アミン１５が残る。

２５０ｄの丸底フラスコに、加熱マントル、マグネチッ
クスクーラー、温度計および乾燥管を有する還流冷却器
を備えつけた。これに、反応混合物を入れそしてこれを
加熱して還流させた。６０°Ｃ／　４−８　＋ｎ＋ｌ１
１１ｇでのじＩ−タリーエバポレージ田ンにより、反応
混合物から揮発物を除去した。この混合物を溶媒で洗浄
し、そして粘稠な液体として単離した。

劃ｊ：」− １、クロロ酢酸メチルによる４原子化□口ｕａｔ４の合
成 １０．５ｇ　（０，０３モル）のジアミン１５．３．２
１３ｇ（０，０３モル）のクロロ酢酸メチルおよび２０
．０ｇのＭｅＯＩＩの溶液をフラスコに入れた。３時間
還流後、ＧＣは出発物質が消失していることを示した。

全部で１３．５ｇ　（粗収率９８％）のｕｕａＬ４が得
られた。

劃Ｖｌ−Ｃ ２、塩化ベンジルによる４原子化□０ｕａＬ５の合成 １０．５ｇ　（０，０３モル）のジアミン１５．４．０
ｇ（０，０３モル）の塩化ベンジルおよび１５ｇのＭｅ
ｏｌｌの溶液をフラスコに入れ、そして加熱して還流せ
しめた。１．５時間後、ＧＣは５〜ｌＯ％のベンジルが
アミンと共に存在することを示した。この反応液を一晩
（約１５時間）還流させておいた。

ＧＣは、塩化ベンジルが消失しそして少量のアミンがま
だ残っていることを示した。この反応の副生成物として
ベンジルメチルエーテルが形成された。エーテル中で粗
生成物を十分に洗浄することにより、過剰のアミンおよ
び他の残余物を除去した。ロータリーエバポレーション
後、Ｌｏｇ（粗収率７０％）の（ｌｕａｔ５が得られた
。

例Ｖｌ−二扶 ３．２当祉の塩化ヘンシルによる４原子化□ＱｕａＬ６
の合成 １０．５ｇ（０，０３モル）のジアミン１５、ｌＯ，Ｏ
ｇ（０，１０モル）の塩化・ベンジルおよび４０ｇのＭ
ｅｏｌｌの溶液を還流下で９２時間加熱して出発のアミ
ンを全て消失させた。エーテルでの洗浄に続くロータリ
ーエバポレーションを繰り返すと、白色の結晶物質とし
てＱｕａＬ６を得た。

例■ニー旦 ４．６−クロロヘキサン酸イソプロピルによる４原子化
□口ｕａｔ７の合成 １０．５ｇ　（０，０３モル）のジアミン１５．６．２
ｇ（０，０３モル）の６−クロロヘキサン酸イソプロピ
ルおよび１０．０　ｇのＭｅＯＩｌの溶液をフラスコに
入れ、そして加熱して還流させた。９０時間後、１．０
ｇ（５ミリモル）の３−クロロヘキサン酸イソプロピル
を混合物に添加した。６時間還流後、少なくとも５％の
アミンが存在し、そして加熱を止めた。

生成物のロータリーエバポレーションにより揮発物を除
去し、そして残余物の全てが除去されるまで洗浄を繰り
返すと、１５ｇ（９４％）のＱｕａｔ７が残った。

引Ｖｌ−Ｆ ５、　ペンチルクロライドによる４原子化□口ｕａｔ８
の合成 １０．５ｇ　（０，０３モル）のジアミン１５．６．４
ｇ（０，０６モル）のペンチルクロライドおよび５．０
ｇのメタノールの溶液をフラスコに入れ、そして加熱し
て６８時間還流し、ロータリーエバポレーションにより
′ａ縮した。洗浄に続くロータリーエバポレーションを
繰り返すと、１３．６ｇ　（粗収率９９％）のＱｕａｔ
８が得られた。

Ｊ！ハｌ 但 ０．７５ｇの活性化白金触媒を含む３０　ｇ　（０，２
８モル）のアリルアクリレートに、（３、３、３−トリ
フルオロプロピル）メチルク［２０シランヲ添加した。

このシランの添加は、２％０２／９８％Ｎ。

下７０°Ｃにて行い、そして温度が７５°Ｃを超えない
ように行った。添加が完了し、混合物を４４°Ｃに冷却
した後、２５ｇ（０，２５モル）の！ＥｔＮ３を含むメ
タノール１００滅を滴下により添加した。白色の塩が形
成された。その塩を濾別し、粗生成物をロータリーエバ
ポレージジンにより濃縮し、ペンタン中に再溶解し、濾
過し、そして５０°Ｃ／　４　＋ｎｍ１１ｇでのロータ
リーエバポレーションによりペンタンを除去した。７２
°Ｃ／　０．２　０．５　ｍｍ１１ｇでのパルプ対バル
ブ（ｂｕｌｂ−ｔｏ−ｂｕｌｂ）のフラッシュ蒸発によ
り生成物を単離すると、２０ｇ（収率２５％）のアクリ
レート１７を得た。アクリレート１７は例■において使
用する。

１９．４ｇ　（０，０７モル）のアクリレート１７およ
び１８．０ｇ　（０，０７モル）のジアミン１３の溶液
を２５０戒の丸底フラスコ中で加熱して１７時間還流さ
せた。この時間では全てのアクリレートが消失していた
。この還流混合物に３ｇ（０，０３モル）のアリルアク
リレ−１・を添加し、これが約２時間後に残りのアミン
を消失させた。ロータリーエバポレーションにより粗生
成物を濃縮した後、回収量は３６．４ｇ　（９７％）で
あった。この物質を更に精製しないで次の実験に使用し
た。

■ Ｊ　ジアミン１１の４ １、　６−クロロヘキサン酸イソプロピルによる４原子
化　　　Ｑｕａｔ９の合成 １７．６ｇ　（０，０３モル）のジアミン１１．８．０
ｇ（０，０４モル）の６−クロロヘキナン酸イソプロピ
ルおよび１０．０ｇのＭｅａｌ（の溶液を２５０ｍｆｆ
１の丸底フラスコ中で１４０時間還流し、そしてロータ
リーエハボレーションにより揮発物を除くと、２３ｇ（
９７％）のＱｕａＬ９を与えた。

２、　ペンチルクロライドによる４原子化□Ｑｕａｔｌ
Ｏの合成 １７．６ｇ　（０，０３モル）のジアミン１１．４．５
ｇ（０，０４モル）のペンチルクロライドおよび１０ど
のＭｅ叶の？８　？＆、を２５０ｍ１の丸底フラスコ中
で還流し、そしてロータリーエバポレーションにより揮
発分を除くと、２０ｇ（９５％）のＱｕａＬｌｏを与え
た。

本発明の化合物の耐久性および実用性を証明するために
、ブし１モフエノールプルーの水溶性ナトノウム塩のア
ニオンが、支持体上に存在する間に本発明の重合シラン
のカチオンと複合体形成し得ることに注目すべきである
。沈水に対して実質的にｎ色の複合体は、支持体上のカ
チオンの存在を定性的に示し、従って与えられた支持体
上の抗菌剤の程度を示す。色の標準に対する残りの青色
の強度の比較は、処理が適切に適用されたかどうかを決
定するためのチエツクとして用いられる。

方法は、蒸留水中ブロモフェノールブルーの０．０２〜
０．０４重量％溶液を調製することを含んで成る。この
溶液を、溶液１００ミリリットル当り数滴の飽和Ｎａｚ
Ｃ０，１溶液を使ってアルカリ性にする。この溶液２〜
３滴を、処理された支持体上に注ぎ、そして２分間放置
してお（。次いで支持体を多量の水道水で洗い、そして
■い色素について支持体を観察し、これを色の標準と比
較する。

分光光度定量には、次のテス１−が使われる。

ブロモフェノールのすトリウム塩を、処理された支持体
上のカチオンと複合体形成させることにより標準液から
なくす。プ［Ｊモフェノールブルー濃度の変化を分光光
度的にまたは色の標準との比較により測定し、それによ
りカチオン性シランによる支持体の処理のレベルが測定
可能である。

この方法は、蒸留水中にブロモフェノールブルーの０．
０２重１％の標準液を調製することを含んで成る。ブロ
モフェノールブルー溶液１００ミリリットル当り数滴の
飽和ＮａｚＣＯｉ？６液でアルカリ性にする。この溶液
の色は紫である。

ブランク溶液は、次の方法により、５８９ｎｍにセット
された分光光度計を使って１　ｃｍセルにおいて測定し
た時に１０〜１２％の透過率を与えるように調整される
。

容器の３／４を蒸留水で満たし、そして蒸留水５０　ｍ
ｌ　コとに２ｍｌの０．０２％標準ブロモフェノールブ
ルー溶液を添加する。水５０Ｉｎｌごとに０．０５ｍ１
の１％Ｔｒｉｔｏｎ＠　Ｘ−１００界面活性剤（Ｒｏｈ
ｍ　ａｎｄ　Ｈａａｓ。

フィラデルフィア、ペンシルバニア、ＵＳＡにより製造
）の水溶液を添加する。混合し、そして分光光度ａ１を
使って、最大吸光度を測定する。蒸留水で上限のゼロを
１００％透過度に調整する。セツティングした！υ大大
兄光度、使用するブロモフェノールブルー溶液の透過率
をチエツクする。必要であれば水またはブロモフェノー
ルブルー標準液でブランク溶液を１０〜１２％の透過率
に調整する。

処理された支持体試料を、該試料およびテスト’ｔ８　
’／（ｌの実質的撹拌のために十分大きなフラスコ中に
０．５　ｇの支持体標準を入れることによりテストする
。使用する溶液５Ｑｍｌを添加する。リスト作動域とう
機上で２０分間撹拌する。テストキューベットをテスト
溶液で満たず。粒状物質があれば遠心する。上で設定し
た波長での透過率％を測定する。その透過度を、既知の
濃度のカチオン性シランの幾つかの支持体試料を調製す
ることにより作成した標準曲線に対して比較する。例え
ば、既知の量、例えば０％、０．２５％、０．５０％、
０．７５％および１％にてカチオン性シランを含む試料
を分光光度的に読み取り、そして曲線をプロットする。

前述のテストは、ファイバーの重■に基づき０゜１％、
０．３％および０．５％のレベルの各化合物について実
施され、そして表面はレーヨンであった。その結果は下
の第１表に示され、シリーズＮｏ。

１は布試料を処理する際のオリジナルを示し、−方シリ
ーズＮｏ、　２は、硫酸ドデシルベンジルナ１．リウム
洗浄に続きアルコール塩洗浄および乾燥にかけた後に再
テストされた、同じシリーズＮ（１、■のオリジナル試
料のものを示す。未処理のレーヨンの対照試料も示す。

第−」−一に 本発明の化合物の抗菌活性を証明するために、次のテス
トを実施した。

表面処理されたレーヨンの抗菌活性は、７５０．０００
〜１，５００．０００カウントの肺炎桿菌（Ｋｌｅｂｓ
ｉｅｌ　ＩａＬ並訓社訓１憇濁液中０．７５ｇに量った
試料を１時間の接触時間の間県とうすることにより評価
された。該懸濁液を連続希釈し、接触前および接触後の
両者を培養した。懸濁液中目に見える有機体の数を測定
した。最初のカウントを基にして減少率を求めた。この
方法は、特定された接触時間について７５〜１００％の
減少能力を存するそれらの表面に向けられた。その結果
は、減少率として報告される。

このテストに使用された培地は、両者とも旧ｆｃｏ　　
Ｉ、ａｂｏｒａＬｏｒｉｅｓ、　　ＤｅｔｒｏｉＬ、　
　旧ｃｈｔｇａｎ、　　Ｕ、Ｓ、＾。

から入手可能のカタログＮα０００３−０１−（ｉの栄
養ブロスおよびカタログＮα０００２−０１−７のトリ
プトングルコース抽出物寒天培地であった。使用された
微生物は、Ａｍｅｒｉｃａｎ　Ｔｙｐｅ　Ｃｕ１ｔｕｒ
ｅ　Ｃｏ１１ｅｃｔｉｏｎ　；Ｒｏｃｋｖｉｌｌｅ、　
Ｍａｒｙｌａｎｄ、　Ｕ、Ｓ、へ１．カタログＮｏ、４
３５２の肺炎桿菌（Ｋｌｅｂｓｉｅｌｌａ　　ｎｅｕｍ
ｏｎｉａｅ）であった。

ゼロ接触時間のカウントを測定するのに使用する方法は
、各試料について２つの２５０ＩＩｄ／、のねじ込みキ
ャップ付アーレンマイヤーフラスコを使うことによって
行われた。各フラスコに７０−の無菌緩衝液を入れた。

各フラスコに無菌状態で５厩の該有機体を接種した。そ
のフラスコのキャップを締め、そしてリスト作動域とう
機上に置いた。それらを最大スピードで１分間振とうし
た。各フラスコをゼロ接触時間であるとみなし、そして
９ｄの無菌緩衝液を含む別々の試験管に各溶液１　ｍｌ
を移すことにより即座にサブサンプリングした。各試験
管を渦動ミキサーで撹拌し、次いで各溶液１−を、９　
ｍｌの無菌緩衝液を含む第二の２つの試験管に移した。

次に、各試験管を撹拌後、各試験管の１−を別々の無菌
ペトリ皿に移した。全（同じものも調製した。１７ｍｆ
ｌの溶解した（４２’Ｃ）トリプトングルコース抽出物
寒天培地を各皿に添加した。この皿を１０回時計回りに
そしてＩＯ回反時計回りに回転させた。次いでこれらを
３７°Ｃにて２４〜３６時間インキュベートした。コロ
ニーをカウントし、３０カウントと３００カウントとの
間のものを重要とみなした。２つの全く同じ試料を平均
化した。１時間後にバクテリアのカウントを測定するの
に使用する方法は、ゼロ接触時間でカウントを測定する
のに使ったものと本質的に同じであった。唯一の相違は
、プレートする注入■が１０°および１０−′希釈並び
に１０−２希釈にて行われたことであった。“減少率゛
′は次の弐により計算された。

にかげた後に再テストされた同じシリーズＮＯ，ｌのオ
リジナル試料のものを示す。未処理のレーヨンの対照試
料もまた示す。

上式中、Ａは、処理された支持体を含むフラスコについ
てのミリリソ１−ル当りのカウントであり；Ｂは、処理
された支持体の添加前の°“Ａ”を測定するのに使われ
るフラスコについてのミリリットル当りのゼロ接触時間
のカウントであり；そしてＣは、未処理の対照支持体に
ついてのミリリットル当りのゼロ接触時間のカウントで
ある。

前述のテストは、ファイバーの重量に基づき０．１％、
０．３％および０．５％のレベルで各化合物について行
われた。前述したように、表面はレーヨンであった。そ
の結果は下の第■表に示され、そしてシリーズＮα１は
布試料を処理する時のオリジナルを示し、シリーズＮα
２は、上の耐久性処理υ、ｂス １００．０ ８０．５ 化合物、組成物および方法において多くの変更を行うこ
とができることは、上記から明らかであろう。従って、
本明細書中に記載の発明の形式は、模範的なものであり
、本発明の範囲に関する限定とみなしてはならない。

本発明の化合物は、表面または他の材料上の微生物の数
の減少または除去が望まれる適用において有用である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、次の一般式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） および ▲数式、化学式、表等があります▼（II）、 〔上式中、ＡおよびＢはそれぞれ独立的に、メチル、エ
   チルおよびイソプロピル基から成る群から選択され； Ｒ′はメチル、エチル、プロピル、イソプロピルおよび
   ブチル基から成る群から選択され； Ｒ″はベンジル、ＣＦ＿３（ＣＦ＿２）＿ｘ−、ＣＨ＿
   １＿ＭＨ＿３＿７、ＣＦ＿３（ＣＨ＿２）＿ｘ−、−（
   ＣＨ−＿２）＿ｘＳｉＲ′ｕ（ＯＲ′）＿ｖＲ、アルキ
   ル、アルケニル、アリールおよびアリールアルキル基か
   ら成る群から選択され； Ｒ″はＣＨ＿２−Ｃであり； ここで、ＣはＲ′、Ｒ″、エーテル、ケトン、エステル
   およびＣＯ＿２Ｒ基から成る群から選択され； ￥ｕ￥は０〜２の数値を有し； ￥ｖ￥は￥ｕ￥＋￥ｖ￥が２を超えないという条件で０
   〜２の数値を有し； ￥ｘ￥は０〜１８の数値を有し； ￥ｙ￥は２の数値を有し； ￥ｚ￥は２〜１８の数値を有し；そして Ｒは、Ｒ′、Ｒ″およびＲ”′から成る群から選択され
   る〕 を有する化合物から選択される化合物。 ２、抗菌的に活性な表面を与える方法であって、次の一
   般式： ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） および ▲数式、化学式、表等があります▼（II）、 〔上式中、ＡおよびＢはそれぞれ独立的に、メチル、エ
   チルおよびイソプロピル基から成る群から選択され； Ｒ′はメチル、エチル、プロピル、イソプロピルおよび
   ブチル基から成る群から選択され； Ｒ″はベンジル、ＣＦ＿３（ＣＦ＿２）＿ｘ−、ＣＨ＿
   １＿８Ｈ＿３＿７、ＣＦ＿３（ＣＨ＿２）＿ｘ−、−（
   ＣＨ＿２）＿ｘＳｉＲ′ｕ（ＯＲ′）＿ｖＲ、アルキル
   、アルケニル、アリールおよびアリールアルキル基から
   成る群から選択され； Ｒ″′はＣＨ＿２−Ｃであり； ここで、ＣはＲ′、Ｒ″、エーテル、ケトン、エステル
   およびＣＯ＿２Ｒ基から成る群から選択され； ￥ｕ￥は０〜２の数値を有し； ￥ｖ￥は￥ｕ￥＋￥ｖ￥が２を超えないという条件で０
   〜２の数値を有し； ￥ｘ￥は０〜１８の数値を有し； ￥ｙ￥は２の数値を有し； ￥ｚ￥は２〜１８の数値を有し；そして Ｒは、Ｒ′、Ｒ″およびＲ″′から成る群から選択され
   る〕 を有する化合物から成る群から選択された化合物の抗菌
   的有効量を、該表面に適用することを含んで成る方法。