JPH0264186A - フッ素系粘着テープまたはシート - Google Patents

フッ素系粘着テープまたはシート

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JPH0264186A
JPH0264186A JP63215488A JP21548888A JPH0264186A JP H0264186 A JPH0264186 A JP H0264186A JP 63215488 A JP63215488 A JP 63215488A JP 21548888 A JP21548888 A JP 21548888A JP H0264186 A JPH0264186 A JP H0264186A
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JP
Japan
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fluorine
layer
thickness
sheet
thin film
Prior art date
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Pending
Application number
JP63215488A
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English (en)
Inventor
Susumu Ueno
進 上野
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Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、フッ素系基材よりなる粘着テープまたはシー
トに関し、特には基材と粘着剤との密着力を高めると共
に、耐熱性を著しく向上せしめ、かつ背面との付着力を
低下せしめた粘着テープまたはシートに関するものであ
る。
(従来の技術と問題点) フッ素系粘着テープ、特にPTFE系粘着テープは、そ
のすぐれた電気特性、耐熱性、非粘着性、耐薬品性等の
特性により、電気絶縁用、ヒートシール用、ロールラッ
ピング用、その他滑り性、非粘着性を求める用途に使用
されている。
しかしながら、フッ素系フィルムは、その基材の持つ非
粘着性の特性故に、粘着剤との密着性が悪く、フッ素系
基材上に粘着剤を塗工した粘着テープまたはシートを使
った場合には、例えば使用時粘着剤の剥離現象を生じた
り、あるいは高温雰囲気中でのズレを生じたりする問題
を生じ、このため密着性、耐熱性にすぐれた粘着テープ
またはシートの開発が要望されている。
これを解決する方法として、フッ素系基材の表面を金属
Na−NHa溶液で処理する方法が提案され、これは特
に密着性に問題のあるPTFE系基材の表面処理に利用
されているが、この処理では、表面に炭化層ができ、着
色する上に表面電気特性が損なわれると云う問題点を有
すると共に、その製造工程において公害上、安全上の問
題もあり、より優れた密着性を有し、上記欠点のないフ
ッ素系粘着テープまたはシートの開発が要望されている
(問題解決のための手段) 本発明者等は、これらの問題点について、鋭意研究を重
ねた結果、フッ素含有量が基材のフッ素含有量の15〜
65%、酸素含有量がC原子100個当り10個以上3
0個以下である、厚さ0、005〜0.5μmの表面層
を有するフッ素系基材であって、該表面層上に形成され
た厚さ0.5〜10μmの架橋シリコーンTI MN上
に、厚さ10〜200μmのシリコーン粘着剤層を形成
したフッ素系粘着テープまたはシートが密着性、耐熱性
、電気特性に優れ、かつ、着色のないことを見出し、本
発明に到達した6以下本発明の詳細な説明する。
本発明の提案するフッ素系粘着テープまたはシートは次
に示すように4暦から構成される。
第1層  フッ素系基材 第2層  表面層(0,005〜0.5 um)フッ素
含有量が基材の15〜65%、酸素含有量がC原子10
0個当り10個以上30個以下。
第31  架橋シリコーン粘着剤層N(0,5〜10μ
m) 第4N  シリコーン粘着剤層 3〜4官能官能性シロキサン上少なくとも25モル%以
上含有する1〜4官能官能性シロキサン単位より選択さ
れた配合からなる。
第1Nを形成するフッ素系基材としては、PTFE、 
CTFE、 PVDF、 PVF、 ETFE、 FE
P、 PFA等の各種フィルムまたはシート及びPTF
E等のフッ素系樹脂を含浸したガラスクロス、ケブラー
クロス等の基材が例示されるが、これらの中で特に密着
性に問題のあるPTFE系フィルムまたはシート及びP
TFE含浸ガラスクロス、ケブラークロスは本発明の対
象として特に好適である。
第2層を形成する表面改質Mは、フッ素系樹脂を低温プ
ラズマ、電子線、紫外線、オゾン等にさらすことによっ
て得られるが、この中で低温プラズマが本発明の目的に
最も良く合致する。低温プラズマ処理方法としては、ア
ルゴン、酸素、窒素、空気、ヘリウム等無機ガスの流通
下、ガス圧0、001〜10トルの真空容器内の陽陰電
極間に10kHz〜100MH2の高周波電力を印加す
ることによって行われる。フッ素基材表面のフッ素及び
酸素含有量を前記範囲内に保つためには、両電極間に1
.0OOV以上の電圧、10A以上の電流を生じさせ、
なおかつ陽電極に単位面積当り0、6W/cm”以上の
高周波電力を印加することが必要である。また、陽陰電
極間距離については2〜20μmが適当であり、陽電極
については耐電圧10.0OOV以上のガラス、ホーロ
ー、セラミックコートされた金属棒状電極を使用するの
が、電圧、電流のバランスを取る上で有効である。
表面のフッ素含有量が、基材のフッ素含有量の65%以
上、酸素含有量がC原子100個当り10個以下の場合
には基材と粘着剤の密着性は不十分なものとなり、本発
明の目的は達せらねない、また、フッ素含有量を15%
以下まで低下せしめた場合には、酸素含有量も低下し、
基材と粘着剤との密着力も低下してしまう。表面のフッ
素含有量を減することのみを優先して、高い印加電力を
与えたり、あるいはプラズマ中での曝露時間を長くした
場合には、フィルムの変形、収縮、着色等を生じるので
好ましくない。陽電極に印加する高周波電力としては、
陽電極の単位面積当り0、6〜6 W/cm”が適当で
ある。
第3層を形成する0、5〜10μmの架橋シリコーン薄
膜層は、架橋構造のシリコーン薄膜であり、1〜4官能
官能性シロキサン単位より任意の割合で選択されたシロ
キサンを架橋し、オリゴマーとしたものである。シリコ
ーン薄膜の柔軟性、密着性、耐溶剤性、耐熱性等は、3
〜4官能官能性シロキサン上含有量によって、著しく影
響される。特に、このシリコーン薄膜は、基材と良く密
着し、基材の柔軟性に追随する適応性と耐久性を合せ持
つことが必須の要件となる。このため、基材の持つ柔軟
性によってやや異なるが、3〜4官能性シロキサン単位
が少なくとも25%以上含まれていることが望ましい、
薄膜を形成する手段としては、プラズマ重合、コーティ
ング等の方法があるが、経済性の点より、コーティング
による方法が好ましい、この場合、オリゴマー状態で塗
布し、これを加熱キュアーすることにより、架橋重合さ
せる手段が密着性を上げる意味で好ましい。
第4層を形成するシリコーン粘着剤は、通常のシリコー
ン粘着剤の中から目的とする粘着力、塗工性等の物性を
考慮して選択すればよい、暦形成繻ドクター法、リバー
スロール法等の手段で、10〜150μm、好ましくは
20〜70LLmの厚さになるように塗布され、これを
乾燥後、所定の温度でキュアし、そのまま巻き取るか、
あるいは、離型紙を介在させて巻き取る0以上のように
第1Nであるフッ素系基材に第2〜第4Nを積石するこ
とにより、本発明の提案する密着性、耐熱性の良好な粘
着テープ、またはシートが得られる。
(発明の効果) 本発明の粘着テープまたはシートは、フッ素系基材と粘
着剤層がプラズマ処理層および架橋シリコーン薄膜層と
の密着力が非常に強固であるが故に、密着性、耐熱性等
に優れた特徴を示すものである。また、金属Na−NH
4処理のように表面にカーボン暦が形成されず、着色の
ない、かつ電気特性に優れた粘着テープまたはシートが
得られ、産業上極めて高い利用価値を有する。
次に、本発明を具体例を挙げて説明するが、本発明はこ
れらに限定されるものではない。
(実施例1) 厚さ100μmのPTFEフィルム(ヨドフロンF4、
淀川化成製)をプラズマ処理し、下記の表面構造を有す
る表面改質PTFEを得た。
a1表表面膜厚さ 0.03μm (オスミュウム酸で
染色後透過型電子顕微鏡にて測定)。
b、フッ素含有量 基材の48%。
C4酸素含有量  C原子100個当り14個。
(b、c、はESCAにて測定した) この表面層上に、下記の配合よりなる架橋シリコーンオ
リゴマーを乾燥後の膜厚さで1μmになるように塗布し
た。
4官能性シロキサン単位 40モル% 3官能性シロキサン単位  5モル% 2官能性シロキサン単位 50モル% l官能性シロキサン単位  5モル% 以上を混合しトルエン50%溶液とした。
架橋触媒BPO1,○%対温溶液添加 このオリゴマーを80℃で2分乾燥後、170℃で5分
間乾燥することにより、強固に密着した架橋シリコーン
膜を有するPTFEフィルムを得た。
次いで、シリコーン粘着剤KR−130(信越化学工業
側製)を乾燥後の膜厚さで50μmになるように塗布し
、70℃、2分間乾燥後、155℃、15分間硬化させ
ることにより、粘着テープを得た。これをサンプルAと
する。
(比較例1) 実施例1で得たと同じプラズマ処理PTFEフィルム上
に乾燥後の膜厚さで50μmになるようにシリコーン粘
着剤にR−130(信越化学工業側製)を塗布し、70
℃、2分間乾燥後、155℃、15分間硬化させること
により粘着テープを得た。これをサンプルBとする。
(比較例2) プラズマ処理を行わない100μm PTFEフィルム
(ヨドフロンF4 、淀川化成製)を用い、実施例1と
同様に架橋性シリコーン薄膜を有するPTFEフィルム
を得た0次いで、シリコーン粘着剤に’R−130(信
越化学工業■製)を乾燥後の膜厚さで50μmになるよ
うに塗布し、70℃、2分間乾燥後、 155℃、15
分間硬化させることにより、粘着テープを得た。これを
サンプルCとする。
サンプルA%B%Cについての特性評価方法を下記に示
し、評価結果を第1表に示す。
(評価方法) 髭1力胴亙殊 粘着剤塗布面どうしを貼り合せ、2にg圧着ローラーで
3往復圧着する。次いで、155℃で15分間加熱キュ
ア後、支持板で固定した状態で、180゜剥離強度を測
定した。なお、引張スピードは50mm/minで行っ
た。
180′1 はがし    l SO3304板に幅20關の粘着テープをはりつけ18
0°で引きはがした時の粘着力を測定した。
なお、引張スピードは、300 mm/minで行った
虹然−試摺 サンプルを25cmX 50cmにカットし、一端の2
5cmX 50cm部分をステンレス板にはりつける。
他端に500grの荷重をつけたのち、これを所定の温
度に設定した恒温槽に入れ、30分後のズレ量を測定し
た。
第1表

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、フッ素含有量が基材のフッ素含有量の15〜65%
    、酸素含有量がC原子100個当り10個以上30個以
    下である、厚さ0.005〜0.5μmの表面層を有す
    るフッ素系基材であって、該表面層上に形成された厚さ
    0.5〜10μmの架橋シリコーン薄膜層上に、厚さ1
    0〜200μmのシリコーン粘着剤層を形成してなるこ
    とを特徴とするフッ素系粘着テープまたはシート。 2、架橋シリコーン薄膜層が1〜4官能性シロキサン単
    位より選択され、かつ、3〜4官能性シロキサン単位を
    少なくとも25モル%以上含有する請求項1記載のフッ
    素系粘着テープまたはシート。
JP63215488A 1988-08-30 1988-08-30 フッ素系粘着テープまたはシート Pending JPH0264186A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009024042A (ja) * 2007-07-17 2009-02-05 Nitto Denko Corp ケーブル結束用粘着テープおよびその製造方法
WO2021145382A1 (ja) * 2020-01-16 2021-07-22 日東電工株式会社 粘着テープ

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