JPH0262516A - 配向膜の作成方法 - Google Patents
配向膜の作成方法Info
- Publication number
- JPH0262516A JPH0262516A JP21443188A JP21443188A JPH0262516A JP H0262516 A JPH0262516 A JP H0262516A JP 21443188 A JP21443188 A JP 21443188A JP 21443188 A JP21443188 A JP 21443188A JP H0262516 A JPH0262516 A JP H0262516A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- coating
- precursor
- substrate
- polyphenylene vinylene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title 1
- -1 polyphenylene vinylene Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 claims abstract description 10
- 239000002243 precursor Substances 0.000 claims abstract description 9
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 5
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims abstract description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 2
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 abstract description 30
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract description 8
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 7
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 238000001354 calcination Methods 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N Dimethyl sulfide Chemical compound CSC QMMFVYPAHWMCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N octadecyltrimethoxysilane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC SLYCYWCVSGPDFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 description 2
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 2
- MLNCEQPFSFGNIW-UHFFFAOYSA-N heptadecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC MLNCEQPFSFGNIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- IJJXVFCJVQEXHZ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(heptadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC IJJXVFCJVQEXHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N triethoxy(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC FZMJEGJVKFTGMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXNJHBYHBDPTQF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(tetradecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC AXNJHBYHBDPTQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(bromomethyl)benzene Chemical group BrCC1=CC=C(CBr)C=C1 RBZMSGOBSOCYHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical group ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 1
- 125000005678 ethenylene group Chemical group [H]C([*:1])=C([H])[*:2] 0.000 description 1
- RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N hexadecyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC RSKGMYDENCAJEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXHVOZIUKIKLTH-UHFFFAOYSA-N icosyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC AXHVOZIUKIKLTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008040 ionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- WZZMHOBVLAEJOD-UHFFFAOYSA-N methylsulfanylmethane;hydrobromide Chemical compound [Br-].C[SH+]C WZZMHOBVLAEJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000005518 polymer electrolyte Substances 0.000 description 1
- HDYOCGKYEWQGDZ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(nonadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC HDYOCGKYEWQGDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVKDNKCAGJVMMY-UHFFFAOYSA-N triethoxy(tetradecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC SVKDNKCAGJVMMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPUHSHGIVZSPFO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(nonadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC PPUHSHGIVZSPFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCXXOYOABWDYBF-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(pentadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC[Si](OC)(OC)OC LCXXOYOABWDYBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[産業上の利用分野]
、本発明は液晶表示体用液晶セルの配向膜の作成方法に
関する。 〔発明の概要〕 近年、液晶表示体の技術の発展は著しく、液晶テレビ等
への応用が可能となった。この液晶表示体は第1図に示
すごとく二枚の透明な電極12が形成された基板11と
液晶14と配向膜13より成っている。 液晶テレビに使われるアクティーブマトリクス駆動の場
合、画素が独立に駆動されるため、配向技術に関しては
従来の技術で問題にならなかった。しかし、この場合、
歩とどまつが悪く高価に成る欠点がある6 一方、単純マトリクス駆動方式によれば、安価になる可
能性があるためアクティープ方式の代替が考えられてい
る。 これら新方式は、SBE方式、NTN方式等とよばれて
いる。この技術の重要な点は、従来の液晶表示体の液晶
分子が90度ツイストしていたのに対して、180度以
上ツイストしていることである。 [将来の技術] 従来の配向膜の作成方法は単にPVA樹脂やポリイミド
樹脂を塗布してからラビングする方法であった。 [発明が解決しようとする課題] しかし、従来の配向膜の作成方法においては液晶表示体
の表示品位が悪いという問題点があった。そこで本発明
では、新規配向膜の作成方法を提供することによって液
晶表示体の表示品位を上げ、さらに表示体の生産性を上
げ、安価な表示体を提供することを目的とするものであ
る。 〔課題を解決するための手段1 本発明の配向膜の作成方法は次の工程よりなる。市販の
硫化ジアルキルとα、α′−ジクロローP−キシレン(
α、α′−ジブロモーP−キシレン)より、まずP−キ
シレン−ビス(ジメチルスル)オニウムクロライド)[
P−キシレン−ビス(ジメチルスル くる。得られたモノマーの水溶液をアルカリ水溶液と混
合、反応させ、高分子電解質を得る.(但し、Rはアル
コキシキ基、ジアルキルサルフィドはハロゲン原子を意
味する.) この電解質溶液から透析膜により低分子化合物やイオン
性化合物等を除去する,残った溶液を濃縮し、ポリフェ
ニレンビニレン前駆体を得る.この前駆体とシラン系化
合物を極性溶媒にとかす。 得られた溶液を液晶表示体用透明電極付き基板に塗布し
た後、乾燥、焼成する.しかる後、ラビング処理をほど
こす.このようにして得られた基板を用い、液晶表示体
を組み立てれば、目的とする高品位の表示体を得ること
が出来る。 シラン系統の化合物としては、n−テトラデシルトリメ
トキシシラン、n−ペンタデシルトリメトキシシラン、
n−ヘプタデシルトリメトキシシラン、n−ヘプタデシ
ルトリメトキシシラン、n−オクタデジルトリメトキシ
シラン、n−ノナデシルトリメトキシシラン、セチルト
リメトキシシラン、n−テトラデシルトリエトキシシラ
ン、n−ペンタデシルトリメトキシシラン、n−ヘプタ
デシルトリエトキシシラン、n−ヘプタデシルトリエト
キシシラン、n−オクタデジルトリエトキシシラン、n
−ノナデシルトリエトキシシラン、セチルトリエトキシ
シラン、アラキルトリエトキシシラン等、考えられる。 乾燥、焼成条件は原料の種類、液晶と基板との角度等に
より適宜選択される。 塗布方法としては、スピンコード法、デイピング法,キ
ャスティング法、へヶ塗布等いずれも使用出来るが、ス
ピンコード法が優れている。 [作 用] 本発明の配向膜の作成方法によれば、配向膜はポリフェ
ニレンビニレン樹脂中にシラン系化合物が分散した膜よ
りなる.このため液晶分子はポリフェニレンビニレン樹
脂より基板に対して水平方向の力を受け、シラン系統の
化合物から垂直方向の力を受ける.その結果液晶分子は
基板に対しである角度を持つことになる.そのため従来
の配向方法では、180度以上分子を捻った場合、無理
がかかり配向が乱れ、表示品位が落ちていたのに対して
、歪エネルギーが放散され、液晶分子が安定的に配向し
、表示品位がおちることはない.配向膜の安定性に関し
ても,耐熱性に優れ、安定なポリフェニレンビニレン樹
脂が基本と成るため問題はない。 また、本発明の方法によれば、ポリフェニリンビニレン
樹脂の溶媒に期用な前駆体を経るため、均一な溶液を用
いることが出来、さらに均一に塗布することが出来、非
常に優れた配向膜ができる.ポリフェニレンビニレン樹
脂自身はほとんどの溶媒に溶けず非常に安定なるため、
膜自身も非常に安定となる。 以下、実施例により本発明の詳細を示す。
関する。 〔発明の概要〕 近年、液晶表示体の技術の発展は著しく、液晶テレビ等
への応用が可能となった。この液晶表示体は第1図に示
すごとく二枚の透明な電極12が形成された基板11と
液晶14と配向膜13より成っている。 液晶テレビに使われるアクティーブマトリクス駆動の場
合、画素が独立に駆動されるため、配向技術に関しては
従来の技術で問題にならなかった。しかし、この場合、
歩とどまつが悪く高価に成る欠点がある6 一方、単純マトリクス駆動方式によれば、安価になる可
能性があるためアクティープ方式の代替が考えられてい
る。 これら新方式は、SBE方式、NTN方式等とよばれて
いる。この技術の重要な点は、従来の液晶表示体の液晶
分子が90度ツイストしていたのに対して、180度以
上ツイストしていることである。 [将来の技術] 従来の配向膜の作成方法は単にPVA樹脂やポリイミド
樹脂を塗布してからラビングする方法であった。 [発明が解決しようとする課題] しかし、従来の配向膜の作成方法においては液晶表示体
の表示品位が悪いという問題点があった。そこで本発明
では、新規配向膜の作成方法を提供することによって液
晶表示体の表示品位を上げ、さらに表示体の生産性を上
げ、安価な表示体を提供することを目的とするものであ
る。 〔課題を解決するための手段1 本発明の配向膜の作成方法は次の工程よりなる。市販の
硫化ジアルキルとα、α′−ジクロローP−キシレン(
α、α′−ジブロモーP−キシレン)より、まずP−キ
シレン−ビス(ジメチルスル)オニウムクロライド)[
P−キシレン−ビス(ジメチルスル くる。得られたモノマーの水溶液をアルカリ水溶液と混
合、反応させ、高分子電解質を得る.(但し、Rはアル
コキシキ基、ジアルキルサルフィドはハロゲン原子を意
味する.) この電解質溶液から透析膜により低分子化合物やイオン
性化合物等を除去する,残った溶液を濃縮し、ポリフェ
ニレンビニレン前駆体を得る.この前駆体とシラン系化
合物を極性溶媒にとかす。 得られた溶液を液晶表示体用透明電極付き基板に塗布し
た後、乾燥、焼成する.しかる後、ラビング処理をほど
こす.このようにして得られた基板を用い、液晶表示体
を組み立てれば、目的とする高品位の表示体を得ること
が出来る。 シラン系統の化合物としては、n−テトラデシルトリメ
トキシシラン、n−ペンタデシルトリメトキシシラン、
n−ヘプタデシルトリメトキシシラン、n−ヘプタデシ
ルトリメトキシシラン、n−オクタデジルトリメトキシ
シラン、n−ノナデシルトリメトキシシラン、セチルト
リメトキシシラン、n−テトラデシルトリエトキシシラ
ン、n−ペンタデシルトリメトキシシラン、n−ヘプタ
デシルトリエトキシシラン、n−ヘプタデシルトリエト
キシシラン、n−オクタデジルトリエトキシシラン、n
−ノナデシルトリエトキシシラン、セチルトリエトキシ
シラン、アラキルトリエトキシシラン等、考えられる。 乾燥、焼成条件は原料の種類、液晶と基板との角度等に
より適宜選択される。 塗布方法としては、スピンコード法、デイピング法,キ
ャスティング法、へヶ塗布等いずれも使用出来るが、ス
ピンコード法が優れている。 [作 用] 本発明の配向膜の作成方法によれば、配向膜はポリフェ
ニレンビニレン樹脂中にシラン系化合物が分散した膜よ
りなる.このため液晶分子はポリフェニレンビニレン樹
脂より基板に対して水平方向の力を受け、シラン系統の
化合物から垂直方向の力を受ける.その結果液晶分子は
基板に対しである角度を持つことになる.そのため従来
の配向方法では、180度以上分子を捻った場合、無理
がかかり配向が乱れ、表示品位が落ちていたのに対して
、歪エネルギーが放散され、液晶分子が安定的に配向し
、表示品位がおちることはない.配向膜の安定性に関し
ても,耐熱性に優れ、安定なポリフェニレンビニレン樹
脂が基本と成るため問題はない。 また、本発明の方法によれば、ポリフェニリンビニレン
樹脂の溶媒に期用な前駆体を経るため、均一な溶液を用
いることが出来、さらに均一に塗布することが出来、非
常に優れた配向膜ができる.ポリフェニレンビニレン樹
脂自身はほとんどの溶媒に溶けず非常に安定なるため、
膜自身も非常に安定となる。 以下、実施例により本発明の詳細を示す。
【実 施 例1
実施例1
α′ージブロムーPーキシレン2.6グラムをジメチル
フォルムアミド20ミリリツトルに溶解し、続いて硫化
ジメチル2,48グラムを加え、−昼夜放置し、結晶を
析出させ、濾過、裂取した、得られたP−キシレン−ビ
ス(ジメチルスルフオニウムブロマイド)038グラム
を3ミリリツトルの純水に溶かした水溶液に、0.04
グラムの水酸化ナトリウムを溶かした3ミリリツトルの
水溶液を加え、チッソガスを流しながら、4−5度Cで
撹拌、混合を、1時間おこなった。 しかる後、得られた水溶液を透析チューブ(ユニオンカ
ーバイド社製)にいれ、純水中に三日間浸漬し、低分子
化合物やイオン性低分子化合物を除去した。このように
して得られた高分子水溶液を真空下に放置し、水を蒸発
させ、ポリフェニレンビニレンの前駆体をえた。この前
駆体0.13グラムとn−オクタデジルトリメトキシシ
ラン0.05グラムをエタノール4ミリリツトルに溶解
した。この溶液をスピンコード法により回転数1500
rpmで基板に塗布した。 この基板を100度Cで2時間乾燥した後、200度C
で1.5時間焼成した。 焼成後、この基板を送り速度0.6メ一トル/分で、回
転数400rpmで回転している1表面にナイロン繊維
が植毛されている直径80ミリメートルの回転体の下を
移送し、ラビング処理を施した。このようにして得た基
板をラビング方向が220度になるように液晶セルを組
立、液晶を充填し、液晶表示体を組み立てたところ、非
常に表示品位の良い液晶表示体が得られた。 実施例2 実施例1のn−オクタデジルトリメトキシシランの代わ
りに、n−テトラデシルトリメトキシシランを使用した
以外は実施例1と同様にして配向膜を作り、液晶表示体
を組み立てたところ表示品位の良い表示体が得られた。 実施例3 実施例1のn−オクタデジルトリメトキシシランの代わ
りに、アラキルトリメトキシシランを使用した以外は実
施例1と同様にして配向膜を作り、液晶表示体を組み立
てたところ表示品位の良い表示体が得られた。 実施例4 実施例】のn−オクタデジルトリメトキシシランのかわ
りにn−オクタデジルトリエトキシシランを使用した以
外は実施例1と同様にして配向膜を作り、液晶表示体を
組み立てたところ表示品位の良い表示体が得られた。 以上実施例を述べたが、本発明は以上の実施例に限定さ
れるものではなく、広く他の原料、溶媒、塗布条件、乾
燥、焼成条件においても適用出来るものである。 [発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、表示容量の大きい液
晶表示体用液晶パネルを量産性良く、安価に提供できる
ものである。
フォルムアミド20ミリリツトルに溶解し、続いて硫化
ジメチル2,48グラムを加え、−昼夜放置し、結晶を
析出させ、濾過、裂取した、得られたP−キシレン−ビ
ス(ジメチルスルフオニウムブロマイド)038グラム
を3ミリリツトルの純水に溶かした水溶液に、0.04
グラムの水酸化ナトリウムを溶かした3ミリリツトルの
水溶液を加え、チッソガスを流しながら、4−5度Cで
撹拌、混合を、1時間おこなった。 しかる後、得られた水溶液を透析チューブ(ユニオンカ
ーバイド社製)にいれ、純水中に三日間浸漬し、低分子
化合物やイオン性低分子化合物を除去した。このように
して得られた高分子水溶液を真空下に放置し、水を蒸発
させ、ポリフェニレンビニレンの前駆体をえた。この前
駆体0.13グラムとn−オクタデジルトリメトキシシ
ラン0.05グラムをエタノール4ミリリツトルに溶解
した。この溶液をスピンコード法により回転数1500
rpmで基板に塗布した。 この基板を100度Cで2時間乾燥した後、200度C
で1.5時間焼成した。 焼成後、この基板を送り速度0.6メ一トル/分で、回
転数400rpmで回転している1表面にナイロン繊維
が植毛されている直径80ミリメートルの回転体の下を
移送し、ラビング処理を施した。このようにして得た基
板をラビング方向が220度になるように液晶セルを組
立、液晶を充填し、液晶表示体を組み立てたところ、非
常に表示品位の良い液晶表示体が得られた。 実施例2 実施例1のn−オクタデジルトリメトキシシランの代わ
りに、n−テトラデシルトリメトキシシランを使用した
以外は実施例1と同様にして配向膜を作り、液晶表示体
を組み立てたところ表示品位の良い表示体が得られた。 実施例3 実施例1のn−オクタデジルトリメトキシシランの代わ
りに、アラキルトリメトキシシランを使用した以外は実
施例1と同様にして配向膜を作り、液晶表示体を組み立
てたところ表示品位の良い表示体が得られた。 実施例4 実施例】のn−オクタデジルトリメトキシシランのかわ
りにn−オクタデジルトリエトキシシランを使用した以
外は実施例1と同様にして配向膜を作り、液晶表示体を
組み立てたところ表示品位の良い表示体が得られた。 以上実施例を述べたが、本発明は以上の実施例に限定さ
れるものではなく、広く他の原料、溶媒、塗布条件、乾
燥、焼成条件においても適用出来るものである。 [発明の効果] 以上述べたように本発明によれば、表示容量の大きい液
晶表示体用液晶パネルを量産性良く、安価に提供できる
ものである。
第1図は、液晶表示体の概念図である。
・基板
・電極
・配向膜
・液晶
Claims (1)
- (1)ポリフェニレンビニレンの前駆体 ▲数式、化学式、表等があります▼ とシラン化合物を溶解した溶液を透明電極付き基板に塗
布した後、乾燥、焼成し、ラビング処理をすることを特
徴とする配向膜の作成方法。 但し、Rはアルコキシ基またはジアルキルサルフィド基
[▲数式、化学式、表等があります▼R′、R″はアル
キル基を意味する。]を意味し、Xはハロゲン原子を意
味する。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21443188A JPH0262516A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 配向膜の作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21443188A JPH0262516A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 配向膜の作成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0262516A true JPH0262516A (ja) | 1990-03-02 |
Family
ID=16655670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21443188A Pending JPH0262516A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 配向膜の作成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0262516A (ja) |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP21443188A patent/JPH0262516A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100225234B1 (ko) | 콜레스테릭계 액정 화합물 및 이를 이용한 고분자 분산 액정표시소자 | |
JPH0262516A (ja) | 配向膜の作成方法 | |
TW201317275A (zh) | 液晶配向劑 | |
JP2780183B2 (ja) | 配向膜および液晶装置 | |
JPS62212625A (ja) | 液晶表示装置 | |
JPH0232321A (ja) | 配向膜の作成方法 | |
KR0147620B1 (ko) | 불소 함유 유기고분자 배향막재료 및 이를 채용한 액정표시소자 | |
WO2021103171A1 (zh) | 酞菁纳米球及其制备方法、以及彩色滤光片 | |
JPH0795163B2 (ja) | 表示セル | |
JP2506988B2 (ja) | 液晶配向膜 | |
JPH0261617A (ja) | 配向膜の作成方法 | |
JPH08245724A (ja) | サーモトロピック側鎖型液晶高分子およびこれを配向膜として採用した強誘電性液晶表示素子 | |
JP2780184B2 (ja) | 配向膜および液晶装置 | |
JPS62223725A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JPS62194229A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JPS62299814A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JPH04100020A (ja) | 液晶表示用セル | |
JPH04268389A (ja) | ゲストホスト型液晶光学素子 | |
JPH01303412A (ja) | 液晶素子及びその製造方法 | |
JPS62220925A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
JP2684428B2 (ja) | 液晶表示用セル | |
JP2684405B2 (ja) | 液晶表示用セル | |
JPH05265004A (ja) | 液晶配向膜及びそれを用いた液晶素子 | |
JPS62297818A (ja) | 液晶表示素子 | |
JP2791583B2 (ja) | 液晶配向膜 |