JPS62299814A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents

液晶表示装置の製造方法

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JPS62299814A
JPS62299814A JP14365186A JP14365186A JPS62299814A JP S62299814 A JPS62299814 A JP S62299814A JP 14365186 A JP14365186 A JP 14365186A JP 14365186 A JP14365186 A JP 14365186A JP S62299814 A JPS62299814 A JP S62299814A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal molecules
layer
alignment
silane coupling
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JP14365186A
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Yoichi Ono
陽一 小野
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Seiko Epson Corp
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Seiko Epson Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は液晶表示装置の製造方法、特に液晶分子を一方
向に傾斜配向せしめる配向層の形成方法に関する。
〔従来の技術〕
従来の液晶表示装置の配向処理方法としては。
特開昭55−143523の様にポリアミック酸を溶剤
に溶解し基板上に塗布した後、加熱処理により脱水閉環
してイミド結合を行なわせポリイミド系高分子被膜を形
成する工程及び前記ポリイミド系高分子被膜をそれぞれ
一方向に配向処理する工程とからなっていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
先ず、従来技術の問題点を挙げる前に1本発明ht必要
に至った背景を述べて、なぜ従来技術では問題なのかを
より明らかにしたい。
最近の液晶表示装置の発展けめざオしくボータ7’ ル
T Vやパーソナルコンピュータの表示用としてCRT
に継ぐ表示装置に成長してキている。ところで、特にパ
ーソナルコンピュータ用の表示装置として大型で大容量
の液晶表示装置の要求が強く出されており、この要求を
実現するためにはダイナミヅク駆動特性を現在のTNタ
イプより著しく改善させ1表示品質を高めたものを低コ
ストで作る必要hT−ある。そこで前記要求を満足する
表示方式として、液晶分子のツイスト角を従来のTNタ
イプより大幅に大きくして複屈折性を利用するスーパー
TN方式(以下BTN方式と称す)が提案され、現在各
社で勢力的に研究されてbる。
EITN方式で最もI要な技術と[2で、大きなツイス
ト角(通常180°〜270° )でも液晶分子を安定
均一に配向せしめる配向技術と、複屈折性を利用する几
めに高精度のセル厚制御技術の2点が挙げられる。本発
明は前者に関するので後者についての説明は省略する。
前者の技術において、i#大のポイントは液晶分子のチ
ルト角(電圧無印加状nにおいて液晶分子が基板平面と
なす角度)を少なくとも5W以上、好ましくけ10〜5
0°の範囲で安定的に形成できる配向処理方法を確立す
ることである。
しかし前述の従来技術では液晶分子のチルト角h;せb
ぜい数麿桿であり、STN方式の配向処理に用いると、
低チルト角のためツイスト状態が不安定になり逆ツイス
トによる低ツイスト角現象が生じてしまい、目的の性能
が得られないという問題点を有する。
ま友一般的に知られている方法として、SZOを基板に
対して斜め方向から真空蒸着して一定の規則性を持たせ
た蒸着111により液晶分子を配向せしめる斜蒸着法が
あり、この方法によれば液晶分子のチルト角を0〜30
°の範囲で制御できるb−欠点として大型基板上に均一
に蒸着膜を形成することh;困難のために均一配向が得
られないこと、さらには真空装置内での基板のセット位
置、角度をシビアーに管理しなければならず工数が増え
て高コストになってしまうこと等により量産技術には不
適である。
そこで本発明けこのような問題涜を解決するもので、そ
の目的とするところは液晶分子のチルト角の大きな均一
配向を量産的な方法により低コストで提供するところK
ある。
〔問題点を解決する几めの手段〕
本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶分子を配列せ
しめる配向層を形成する工程が、少なくとも液晶分子が
被処理基板面に垂直に配列する垂直配向処理を長鎖アル
キル基を有するシランカップリング剤を用いて行なう工
程、肢配向処理層上に前記長鎖フルキル基を有するシラ
ンタップリング剤より低分子量のシランカップリング剤
を用いて積層処理する工程、及び該積層上を一方向にラ
ビング処理する工程からなることを肴微とする。
〔作用〕
本発明の上記構成による作用をシランカップリング剤を
用いた場合を例にとって説明する。
シランカップリング剤は分子中に有機官能基と無機官能
基の両官能基を有するため、有機物と無 5一 種物との仲介作用を行なう゜眩作用は一般式がB −日
i  (OR’  )。
のシランカップリング剤を用いた場合、次のように表わ
される。
R−Bj −(OR’)戸’−* u−sj(oH)。
(式中R,R’けアルキル基を示す) シランカップリング剤を液晶分子を一定の方向に配列せ
しめる配向層に用いた場合、有機物は液晶分子、無機物
はガラス基板であり、シランカップリング剤の無機官能
基−OR’が加水分解して。
−OHとなってガラス基板表面の一〇、Hと強固なシロ
キサン結合を作るためガラス基板!!面に安定した配向
層を形成できる。更に液晶分子のチルト角に関してけ、
シランカップリング剤の有機官能基が関与し1本発明者
の実験結果によれば有機官能基の種類よりも該官能基の
分子長が最も影響することがわかっている。このことは
分子間引力に比べ分子立体効果が支配的であることを意
味する。
これらのことから液晶分子のチルト角が大針く、かつ均
一配向が達成できる配向層を鋭意研究した結果本発明に
至っtわけであり、第1図を用いて詳細に説明する。
ガラス基板1の表面を有機官能基側が長鎖アルキル基2
cLを有するシランカップリング剤で処理すると、無機
官能基側がガラス表面のOH基とシpl?サン結合を作
って第1図−倣)に示すカップリング構造になると推測
される。この場合、長鎖アルキル基の炭素数が14以上
になると液晶分子のチルト角htqo°81度(垂直配
列)を示し、12以下であるとチルト角htO°稈度(
水平配列)を示す友め炭素数14以上の長鎖アルキル基
を有するシランカップリング剤を使用することが必要で
ある。
さらに無機官能基の置換数として1〜3置換型であれば
よいが、処理の安定性から2また3置換型が望しい。次
Kmシランカップリング剤層上を有機官能基として短分
子鎖のアル中ル基2bを有するシランカップリング剤で
処理すると、前記長鎖アルキル基2αを有するシランカ
ップリング剤分子間に入り込入、ガラス表面とシcI−
v−サン結合を作って第1図−の)に示すカップリング
構造になると考えられる。この場合、短分子鎖フル千ル
基2bとして前記から炭素数12以下のアルキル基であ
ることが必要であり、該範囲で炭素数により液晶分子の
チルト角を制御できる。また無機官能基の置換数として
、こんどけ1あるいは2置換型が望ましい。、この理由
として、無機官能基が3置換型で有機官能基が短分子フ
ル千ル基2bを有するシランカップリング剤の場合、立
体障害が少ない友め無機官能基側の一部がガラス表面の
OH基とシIff千サン結合を作るIIJK互いの脱水
縮合によって巨大分子化され、最初に処理されたシラン
カップリング剤分子間に入り込めなくなり、この結果単
に積層されるだけKなってしまうためである。
次に液晶分子3に2次元的方向性を付与する九め天然ま
たは合成布等により一方向にラビング処理を行なうと、
第1図−(C)に示すよ5て方向性の有する溝が形成さ
れ、液晶分子3が教導に沿ってチルト角θで一定方向に
配列する。液晶分子のチルト角θけ、2度目の処理に用
いるシランカップリング剤のアルキル基2bの長さ及び
ラビング条件により、はぼ0〜60°の範囲で制御する
ことができる。
ま九前記シランカップリング剤の処理方法としては、デ
ィッピング法、スプレィ法、スピンナー法等いずれを用
いてもさしつか銀ない。但し、い−j’1lF)処理法
においても前記シラン力・ツブリング剤の溶媒組成、濃
度及び処理後のリンスに注意しなければならない。溶媒
組成としては、無機官能基側がアルコキシ基の場合、ア
ルコール:水が9:1〜1:9容量部の混合溶媒が望ま
しく、無機x 能基II h=ハロゲンの場合、ベンゼ
ン、トルエン。
キシレン等の純粋溶媒が望ましい。さらに前記シランカ
ップリング剤の濃度としては、a、o s vol、 
4〜5 voL Zの範囲が適当である。さらにシラン
力ツブリング剤の単分子層を均一に形成するためKけ、
処理後に溶媒だけKよる充分なリンスが必要である。上
記条件によりガラス基板表面1へ均一な配向層を形成で
きる。
〔実施例〕
を垂直配向処理を構造式が (haHs−INH(OHz)m 8i(OCRs)s
で表わされるシランカップリング剤をエチルアルコール
8部、水2部の混合溶媒K O,2vol、 優溶解し
、該処理液中に透明電極を有するガラス基板を約60秒
間浸漬後、水で充分リンスして120℃で30分間乾燥
して行なった。この後さらに構造式で表わされるシラン
カップリング剤で前記ガラス基板を前記と同様な方法に
より処理した0次に前記ガラス基板表面をロー“ラーに
巻いたサランにより、圧カフ00.9/c+a”で一方
向くラビング処理した。
次に通常の方法により液晶セルを組立て磁場中でチルト
角を測定したところ約18°であっt6同様に配向処理
された基板を用いて第2図に示す液晶分子のツイスト角
を240°になるようにし、一方の偏光板6の偏光軸を
液晶分子方向に対し45°ずらし、他方の偏光板6′の
偏光軸を偏光板6の偏光軸に対し90°にするように配
置して、複屈折性を利用するsTNTN方式晶表示装置
を製作し友。
液晶表示装置の配向性は均一配向状態であり、さらに1
00デエーテイによるダイナミック駆動を行なったとこ
ろTN方式に比べてコントラスト、視野角とも格段に優
れた表示が安定的に得られた。
垂直配向処理剤の構造式が 該処理剤層上に、処理する配向剤の構造式が(OHn)
z 5j(OOHs% で表わされるシランカップリング剤を用いて実施例1と
同様に処理して配向層を形成した。この後通常の方法に
より液晶セルを組立て出場中でチルト角を測定し友とこ
ろ約30°でもった。同様に配向処理されt基板を用い
て液晶分子のツイスト角を270°にした以外は実施例
1と同様のflTN方式の液晶表示装置を製作した結果
、実施例1よりも若干コントラストの優れた表示が得ら
れた。
なお垂直i向処簿剤及び垂直配向処理後に該処理層上へ
処理する配向剤としてシランカップリング剤以外の配向
剤を用いてもよい。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、液晶分子を一方向に
配列せしめる配向層S=影形成る工程が。
少なくとも液晶分子が被処理基板面に垂直に配列する垂
直配向処理を行なう工S、該配向処理層上に前記垂直配
向処理に用いた配向剤より低分子量の配向剤を用いて処
理する工程、#処理面上を一方向にラビング処理する工
程からなることKより基板表面に所定のチルト角と方向
性を有する均一な層を形成できるtめ、液晶分子のチル
ト角を0〜60°の範囲で制御可能となり、液晶分子の
ツイスト角90°以上大きくしても安定した配向を提供
することができる。
これKより本発明け、特に大型大容号表示に適するBT
NTN方式晶表示装置を低コストで提供できる。
【図面の簡単な説明】
第1図のGz) 、 (/l) 、 (clは本発明の
配向作用を示す模式図。 tx2図は本発明(よる液晶表示装置の断面図。 1・・・・・・・・・・基板 2・・川・・・・・配向層 2a・・・・・・長鎖アルキル基 2b・・・・・・短鎖アルキル基 3・・・・・・・・・・液晶分子 3′・・・・・・・・・・液晶層 4・・・・・・・・・・透明電極 5・・・・・・・・・パシール剤 6、d・・・・・・偏光板 以  上 1L図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)基板上に透明電極、該電極上に配向層を設けた一
    対の基板間に液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方
    法において、前記配向層を形成する工程が、少なくとも
    液晶分子が前記基板面に垂直に配列する垂直配向処理を
    行なう工程、該配向処理層上に他の配向処理層を積層す
    る工程、及び該積層上をラビング処理する工程からなる
    ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
  2. (2)前記垂直配向処理を行なう工程が、長鎖アルキル
    基を有するシランカップリング剤を用いる工程であるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第、項記載の液晶表示装
    置の製造方法。
  3. (3)前記他の配向処理層を積層する工程が、前記垂直
    配向処理に用いたシランカップリング剤より低分子量の
    シランカップリング剤を用いた工程であることを特徴と
    する特許請求の範囲第1項記載の液晶表示装置の製造方
    法。
JP14365186A 1986-06-19 1986-06-19 液晶表示装置の製造方法 Pending JPS62299814A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6314122A (ja) * 1986-07-04 1988-01-21 Canon Inc 液晶素子
JP2007127757A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Seiko Epson Corp 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器

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