JPS62299814A - 液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置の製造方法Info
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- JPS62299814A JPS62299814A JP14365186A JP14365186A JPS62299814A JP S62299814 A JPS62299814 A JP S62299814A JP 14365186 A JP14365186 A JP 14365186A JP 14365186 A JP14365186 A JP 14365186A JP S62299814 A JPS62299814 A JP S62299814A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
3、発明の詳細な説明
〔産業上の利用分野〕
本発明は液晶表示装置の製造方法、特に液晶分子を一方
向に傾斜配向せしめる配向層の形成方法に関する。
向に傾斜配向せしめる配向層の形成方法に関する。
従来の液晶表示装置の配向処理方法としては。
特開昭55−143523の様にポリアミック酸を溶剤
に溶解し基板上に塗布した後、加熱処理により脱水閉環
してイミド結合を行なわせポリイミド系高分子被膜を形
成する工程及び前記ポリイミド系高分子被膜をそれぞれ
一方向に配向処理する工程とからなっていた。
に溶解し基板上に塗布した後、加熱処理により脱水閉環
してイミド結合を行なわせポリイミド系高分子被膜を形
成する工程及び前記ポリイミド系高分子被膜をそれぞれ
一方向に配向処理する工程とからなっていた。
先ず、従来技術の問題点を挙げる前に1本発明ht必要
に至った背景を述べて、なぜ従来技術では問題なのかを
より明らかにしたい。
に至った背景を述べて、なぜ従来技術では問題なのかを
より明らかにしたい。
最近の液晶表示装置の発展けめざオしくボータ7’ ル
T Vやパーソナルコンピュータの表示用としてCRT
に継ぐ表示装置に成長してキている。ところで、特にパ
ーソナルコンピュータ用の表示装置として大型で大容量
の液晶表示装置の要求が強く出されており、この要求を
実現するためにはダイナミヅク駆動特性を現在のTNタ
イプより著しく改善させ1表示品質を高めたものを低コ
ストで作る必要hT−ある。そこで前記要求を満足する
表示方式として、液晶分子のツイスト角を従来のTNタ
イプより大幅に大きくして複屈折性を利用するスーパー
TN方式(以下BTN方式と称す)が提案され、現在各
社で勢力的に研究されてbる。
T Vやパーソナルコンピュータの表示用としてCRT
に継ぐ表示装置に成長してキている。ところで、特にパ
ーソナルコンピュータ用の表示装置として大型で大容量
の液晶表示装置の要求が強く出されており、この要求を
実現するためにはダイナミヅク駆動特性を現在のTNタ
イプより著しく改善させ1表示品質を高めたものを低コ
ストで作る必要hT−ある。そこで前記要求を満足する
表示方式として、液晶分子のツイスト角を従来のTNタ
イプより大幅に大きくして複屈折性を利用するスーパー
TN方式(以下BTN方式と称す)が提案され、現在各
社で勢力的に研究されてbる。
EITN方式で最もI要な技術と[2で、大きなツイス
ト角(通常180°〜270° )でも液晶分子を安定
均一に配向せしめる配向技術と、複屈折性を利用する几
めに高精度のセル厚制御技術の2点が挙げられる。本発
明は前者に関するので後者についての説明は省略する。
ト角(通常180°〜270° )でも液晶分子を安定
均一に配向せしめる配向技術と、複屈折性を利用する几
めに高精度のセル厚制御技術の2点が挙げられる。本発
明は前者に関するので後者についての説明は省略する。
前者の技術において、i#大のポイントは液晶分子のチ
ルト角(電圧無印加状nにおいて液晶分子が基板平面と
なす角度)を少なくとも5W以上、好ましくけ10〜5
0°の範囲で安定的に形成できる配向処理方法を確立す
ることである。
ルト角(電圧無印加状nにおいて液晶分子が基板平面と
なす角度)を少なくとも5W以上、好ましくけ10〜5
0°の範囲で安定的に形成できる配向処理方法を確立す
ることである。
しかし前述の従来技術では液晶分子のチルト角h;せb
ぜい数麿桿であり、STN方式の配向処理に用いると、
低チルト角のためツイスト状態が不安定になり逆ツイス
トによる低ツイスト角現象が生じてしまい、目的の性能
が得られないという問題点を有する。
ぜい数麿桿であり、STN方式の配向処理に用いると、
低チルト角のためツイスト状態が不安定になり逆ツイス
トによる低ツイスト角現象が生じてしまい、目的の性能
が得られないという問題点を有する。
ま友一般的に知られている方法として、SZOを基板に
対して斜め方向から真空蒸着して一定の規則性を持たせ
た蒸着111により液晶分子を配向せしめる斜蒸着法が
あり、この方法によれば液晶分子のチルト角を0〜30
°の範囲で制御できるb−欠点として大型基板上に均一
に蒸着膜を形成することh;困難のために均一配向が得
られないこと、さらには真空装置内での基板のセット位
置、角度をシビアーに管理しなければならず工数が増え
て高コストになってしまうこと等により量産技術には不
適である。
対して斜め方向から真空蒸着して一定の規則性を持たせ
た蒸着111により液晶分子を配向せしめる斜蒸着法が
あり、この方法によれば液晶分子のチルト角を0〜30
°の範囲で制御できるb−欠点として大型基板上に均一
に蒸着膜を形成することh;困難のために均一配向が得
られないこと、さらには真空装置内での基板のセット位
置、角度をシビアーに管理しなければならず工数が増え
て高コストになってしまうこと等により量産技術には不
適である。
そこで本発明けこのような問題涜を解決するもので、そ
の目的とするところは液晶分子のチルト角の大きな均一
配向を量産的な方法により低コストで提供するところK
ある。
の目的とするところは液晶分子のチルト角の大きな均一
配向を量産的な方法により低コストで提供するところK
ある。
本発明の液晶表示装置の製造方法は、液晶分子を配列せ
しめる配向層を形成する工程が、少なくとも液晶分子が
被処理基板面に垂直に配列する垂直配向処理を長鎖アル
キル基を有するシランカップリング剤を用いて行なう工
程、肢配向処理層上に前記長鎖フルキル基を有するシラ
ンタップリング剤より低分子量のシランカップリング剤
を用いて積層処理する工程、及び該積層上を一方向にラ
ビング処理する工程からなることを肴微とする。
しめる配向層を形成する工程が、少なくとも液晶分子が
被処理基板面に垂直に配列する垂直配向処理を長鎖アル
キル基を有するシランカップリング剤を用いて行なう工
程、肢配向処理層上に前記長鎖フルキル基を有するシラ
ンタップリング剤より低分子量のシランカップリング剤
を用いて積層処理する工程、及び該積層上を一方向にラ
ビング処理する工程からなることを肴微とする。
本発明の上記構成による作用をシランカップリング剤を
用いた場合を例にとって説明する。
用いた場合を例にとって説明する。
シランカップリング剤は分子中に有機官能基と無機官能
基の両官能基を有するため、有機物と無 5一 種物との仲介作用を行なう゜眩作用は一般式がB −日
i (OR’ )。
基の両官能基を有するため、有機物と無 5一 種物との仲介作用を行なう゜眩作用は一般式がB −日
i (OR’ )。
のシランカップリング剤を用いた場合、次のように表わ
される。
される。
R−Bj −(OR’)戸’−* u−sj(oH)。
(式中R,R’けアルキル基を示す)
シランカップリング剤を液晶分子を一定の方向に配列せ
しめる配向層に用いた場合、有機物は液晶分子、無機物
はガラス基板であり、シランカップリング剤の無機官能
基−OR’が加水分解して。
しめる配向層に用いた場合、有機物は液晶分子、無機物
はガラス基板であり、シランカップリング剤の無機官能
基−OR’が加水分解して。
−OHとなってガラス基板表面の一〇、Hと強固なシロ
キサン結合を作るためガラス基板!!面に安定した配向
層を形成できる。更に液晶分子のチルト角に関してけ、
シランカップリング剤の有機官能基が関与し1本発明者
の実験結果によれば有機官能基の種類よりも該官能基の
分子長が最も影響することがわかっている。このことは
分子間引力に比べ分子立体効果が支配的であることを意
味する。
キサン結合を作るためガラス基板!!面に安定した配向
層を形成できる。更に液晶分子のチルト角に関してけ、
シランカップリング剤の有機官能基が関与し1本発明者
の実験結果によれば有機官能基の種類よりも該官能基の
分子長が最も影響することがわかっている。このことは
分子間引力に比べ分子立体効果が支配的であることを意
味する。
これらのことから液晶分子のチルト角が大針く、かつ均
一配向が達成できる配向層を鋭意研究した結果本発明に
至っtわけであり、第1図を用いて詳細に説明する。
一配向が達成できる配向層を鋭意研究した結果本発明に
至っtわけであり、第1図を用いて詳細に説明する。
ガラス基板1の表面を有機官能基側が長鎖アルキル基2
cLを有するシランカップリング剤で処理すると、無機
官能基側がガラス表面のOH基とシpl?サン結合を作
って第1図−倣)に示すカップリング構造になると推測
される。この場合、長鎖アルキル基の炭素数が14以上
になると液晶分子のチルト角htqo°81度(垂直配
列)を示し、12以下であるとチルト角htO°稈度(
水平配列)を示す友め炭素数14以上の長鎖アルキル基
を有するシランカップリング剤を使用することが必要で
ある。
cLを有するシランカップリング剤で処理すると、無機
官能基側がガラス表面のOH基とシpl?サン結合を作
って第1図−倣)に示すカップリング構造になると推測
される。この場合、長鎖アルキル基の炭素数が14以上
になると液晶分子のチルト角htqo°81度(垂直配
列)を示し、12以下であるとチルト角htO°稈度(
水平配列)を示す友め炭素数14以上の長鎖アルキル基
を有するシランカップリング剤を使用することが必要で
ある。
さらに無機官能基の置換数として1〜3置換型であれば
よいが、処理の安定性から2また3置換型が望しい。次
Kmシランカップリング剤層上を有機官能基として短分
子鎖のアル中ル基2bを有するシランカップリング剤で
処理すると、前記長鎖アルキル基2αを有するシランカ
ップリング剤分子間に入り込入、ガラス表面とシcI−
v−サン結合を作って第1図−の)に示すカップリング
構造になると考えられる。この場合、短分子鎖フル千ル
基2bとして前記から炭素数12以下のアルキル基であ
ることが必要であり、該範囲で炭素数により液晶分子の
チルト角を制御できる。また無機官能基の置換数として
、こんどけ1あるいは2置換型が望ましい。、この理由
として、無機官能基が3置換型で有機官能基が短分子フ
ル千ル基2bを有するシランカップリング剤の場合、立
体障害が少ない友め無機官能基側の一部がガラス表面の
OH基とシIff千サン結合を作るIIJK互いの脱水
縮合によって巨大分子化され、最初に処理されたシラン
カップリング剤分子間に入り込めなくなり、この結果単
に積層されるだけKなってしまうためである。
よいが、処理の安定性から2また3置換型が望しい。次
Kmシランカップリング剤層上を有機官能基として短分
子鎖のアル中ル基2bを有するシランカップリング剤で
処理すると、前記長鎖アルキル基2αを有するシランカ
ップリング剤分子間に入り込入、ガラス表面とシcI−
v−サン結合を作って第1図−の)に示すカップリング
構造になると考えられる。この場合、短分子鎖フル千ル
基2bとして前記から炭素数12以下のアルキル基であ
ることが必要であり、該範囲で炭素数により液晶分子の
チルト角を制御できる。また無機官能基の置換数として
、こんどけ1あるいは2置換型が望ましい。、この理由
として、無機官能基が3置換型で有機官能基が短分子フ
ル千ル基2bを有するシランカップリング剤の場合、立
体障害が少ない友め無機官能基側の一部がガラス表面の
OH基とシIff千サン結合を作るIIJK互いの脱水
縮合によって巨大分子化され、最初に処理されたシラン
カップリング剤分子間に入り込めなくなり、この結果単
に積層されるだけKなってしまうためである。
次に液晶分子3に2次元的方向性を付与する九め天然ま
たは合成布等により一方向にラビング処理を行なうと、
第1図−(C)に示すよ5て方向性の有する溝が形成さ
れ、液晶分子3が教導に沿ってチルト角θで一定方向に
配列する。液晶分子のチルト角θけ、2度目の処理に用
いるシランカップリング剤のアルキル基2bの長さ及び
ラビング条件により、はぼ0〜60°の範囲で制御する
ことができる。
たは合成布等により一方向にラビング処理を行なうと、
第1図−(C)に示すよ5て方向性の有する溝が形成さ
れ、液晶分子3が教導に沿ってチルト角θで一定方向に
配列する。液晶分子のチルト角θけ、2度目の処理に用
いるシランカップリング剤のアルキル基2bの長さ及び
ラビング条件により、はぼ0〜60°の範囲で制御する
ことができる。
ま九前記シランカップリング剤の処理方法としては、デ
ィッピング法、スプレィ法、スピンナー法等いずれを用
いてもさしつか銀ない。但し、い−j’1lF)処理法
においても前記シラン力・ツブリング剤の溶媒組成、濃
度及び処理後のリンスに注意しなければならない。溶媒
組成としては、無機官能基側がアルコキシ基の場合、ア
ルコール:水が9:1〜1:9容量部の混合溶媒が望ま
しく、無機x 能基II h=ハロゲンの場合、ベンゼ
ン、トルエン。
ィッピング法、スプレィ法、スピンナー法等いずれを用
いてもさしつか銀ない。但し、い−j’1lF)処理法
においても前記シラン力・ツブリング剤の溶媒組成、濃
度及び処理後のリンスに注意しなければならない。溶媒
組成としては、無機官能基側がアルコキシ基の場合、ア
ルコール:水が9:1〜1:9容量部の混合溶媒が望ま
しく、無機x 能基II h=ハロゲンの場合、ベンゼ
ン、トルエン。
キシレン等の純粋溶媒が望ましい。さらに前記シランカ
ップリング剤の濃度としては、a、o s vol、
4〜5 voL Zの範囲が適当である。さらにシラン
力ツブリング剤の単分子層を均一に形成するためKけ、
処理後に溶媒だけKよる充分なリンスが必要である。上
記条件によりガラス基板表面1へ均一な配向層を形成で
きる。
ップリング剤の濃度としては、a、o s vol、
4〜5 voL Zの範囲が適当である。さらにシラン
力ツブリング剤の単分子層を均一に形成するためKけ、
処理後に溶媒だけKよる充分なリンスが必要である。上
記条件によりガラス基板表面1へ均一な配向層を形成で
きる。
を垂直配向処理を構造式が
(haHs−INH(OHz)m 8i(OCRs)s
で表わされるシランカップリング剤をエチルアルコール
8部、水2部の混合溶媒K O,2vol、 優溶解し
、該処理液中に透明電極を有するガラス基板を約60秒
間浸漬後、水で充分リンスして120℃で30分間乾燥
して行なった。この後さらに構造式で表わされるシラン
カップリング剤で前記ガラス基板を前記と同様な方法に
より処理した0次に前記ガラス基板表面をロー“ラーに
巻いたサランにより、圧カフ00.9/c+a”で一方
向くラビング処理した。
で表わされるシランカップリング剤をエチルアルコール
8部、水2部の混合溶媒K O,2vol、 優溶解し
、該処理液中に透明電極を有するガラス基板を約60秒
間浸漬後、水で充分リンスして120℃で30分間乾燥
して行なった。この後さらに構造式で表わされるシラン
カップリング剤で前記ガラス基板を前記と同様な方法に
より処理した0次に前記ガラス基板表面をロー“ラーに
巻いたサランにより、圧カフ00.9/c+a”で一方
向くラビング処理した。
次に通常の方法により液晶セルを組立て磁場中でチルト
角を測定したところ約18°であっt6同様に配向処理
された基板を用いて第2図に示す液晶分子のツイスト角
を240°になるようにし、一方の偏光板6の偏光軸を
液晶分子方向に対し45°ずらし、他方の偏光板6′の
偏光軸を偏光板6の偏光軸に対し90°にするように配
置して、複屈折性を利用するsTNTN方式晶表示装置
を製作し友。
角を測定したところ約18°であっt6同様に配向処理
された基板を用いて第2図に示す液晶分子のツイスト角
を240°になるようにし、一方の偏光板6の偏光軸を
液晶分子方向に対し45°ずらし、他方の偏光板6′の
偏光軸を偏光板6の偏光軸に対し90°にするように配
置して、複屈折性を利用するsTNTN方式晶表示装置
を製作し友。
液晶表示装置の配向性は均一配向状態であり、さらに1
00デエーテイによるダイナミック駆動を行なったとこ
ろTN方式に比べてコントラスト、視野角とも格段に優
れた表示が安定的に得られた。
00デエーテイによるダイナミック駆動を行なったとこ
ろTN方式に比べてコントラスト、視野角とも格段に優
れた表示が安定的に得られた。
垂直配向処理剤の構造式が
該処理剤層上に、処理する配向剤の構造式が(OHn)
z 5j(OOHs% で表わされるシランカップリング剤を用いて実施例1と
同様に処理して配向層を形成した。この後通常の方法に
より液晶セルを組立て出場中でチルト角を測定し友とこ
ろ約30°でもった。同様に配向処理されt基板を用い
て液晶分子のツイスト角を270°にした以外は実施例
1と同様のflTN方式の液晶表示装置を製作した結果
、実施例1よりも若干コントラストの優れた表示が得ら
れた。
z 5j(OOHs% で表わされるシランカップリング剤を用いて実施例1と
同様に処理して配向層を形成した。この後通常の方法に
より液晶セルを組立て出場中でチルト角を測定し友とこ
ろ約30°でもった。同様に配向処理されt基板を用い
て液晶分子のツイスト角を270°にした以外は実施例
1と同様のflTN方式の液晶表示装置を製作した結果
、実施例1よりも若干コントラストの優れた表示が得ら
れた。
なお垂直i向処簿剤及び垂直配向処理後に該処理層上へ
処理する配向剤としてシランカップリング剤以外の配向
剤を用いてもよい。
処理する配向剤としてシランカップリング剤以外の配向
剤を用いてもよい。
以上述べたように本発明によれば、液晶分子を一方向に
配列せしめる配向層S=影形成る工程が。
配列せしめる配向層S=影形成る工程が。
少なくとも液晶分子が被処理基板面に垂直に配列する垂
直配向処理を行なう工S、該配向処理層上に前記垂直配
向処理に用いた配向剤より低分子量の配向剤を用いて処
理する工程、#処理面上を一方向にラビング処理する工
程からなることKより基板表面に所定のチルト角と方向
性を有する均一な層を形成できるtめ、液晶分子のチル
ト角を0〜60°の範囲で制御可能となり、液晶分子の
ツイスト角90°以上大きくしても安定した配向を提供
することができる。
直配向処理を行なう工S、該配向処理層上に前記垂直配
向処理に用いた配向剤より低分子量の配向剤を用いて処
理する工程、#処理面上を一方向にラビング処理する工
程からなることKより基板表面に所定のチルト角と方向
性を有する均一な層を形成できるtめ、液晶分子のチル
ト角を0〜60°の範囲で制御可能となり、液晶分子の
ツイスト角90°以上大きくしても安定した配向を提供
することができる。
これKより本発明け、特に大型大容号表示に適するBT
NTN方式晶表示装置を低コストで提供できる。
NTN方式晶表示装置を低コストで提供できる。
第1図のGz) 、 (/l) 、 (clは本発明の
配向作用を示す模式図。 tx2図は本発明(よる液晶表示装置の断面図。 1・・・・・・・・・・基板 2・・川・・・・・配向層 2a・・・・・・長鎖アルキル基 2b・・・・・・短鎖アルキル基 3・・・・・・・・・・液晶分子 3′・・・・・・・・・・液晶層 4・・・・・・・・・・透明電極 5・・・・・・・・・パシール剤 6、d・・・・・・偏光板 以 上 1L図
配向作用を示す模式図。 tx2図は本発明(よる液晶表示装置の断面図。 1・・・・・・・・・・基板 2・・川・・・・・配向層 2a・・・・・・長鎖アルキル基 2b・・・・・・短鎖アルキル基 3・・・・・・・・・・液晶分子 3′・・・・・・・・・・液晶層 4・・・・・・・・・・透明電極 5・・・・・・・・・パシール剤 6、d・・・・・・偏光板 以 上 1L図
Claims (3)
- (1)基板上に透明電極、該電極上に配向層を設けた一
対の基板間に液晶を封入してなる液晶表示装置の製造方
法において、前記配向層を形成する工程が、少なくとも
液晶分子が前記基板面に垂直に配列する垂直配向処理を
行なう工程、該配向処理層上に他の配向処理層を積層す
る工程、及び該積層上をラビング処理する工程からなる
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。 - (2)前記垂直配向処理を行なう工程が、長鎖アルキル
基を有するシランカップリング剤を用いる工程であるこ
とを特徴とする特許請求の範囲第、項記載の液晶表示装
置の製造方法。 - (3)前記他の配向処理層を積層する工程が、前記垂直
配向処理に用いたシランカップリング剤より低分子量の
シランカップリング剤を用いた工程であることを特徴と
する特許請求の範囲第1項記載の液晶表示装置の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14365186A JPS62299814A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | 液晶表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14365186A JPS62299814A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | 液晶表示装置の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62299814A true JPS62299814A (ja) | 1987-12-26 |
Family
ID=15343744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14365186A Pending JPS62299814A (ja) | 1986-06-19 | 1986-06-19 | 液晶表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62299814A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6314122A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-21 | Canon Inc | 液晶素子 |
JP2007127757A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Seiko Epson Corp | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
-
1986
- 1986-06-19 JP JP14365186A patent/JPS62299814A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6314122A (ja) * | 1986-07-04 | 1988-01-21 | Canon Inc | 液晶素子 |
JP2007127757A (ja) * | 2005-11-02 | 2007-05-24 | Seiko Epson Corp | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
JP4626488B2 (ja) * | 2005-11-02 | 2011-02-09 | セイコーエプソン株式会社 | 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 |
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