JPH0262180B2 - - Google Patents
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- JPH0262180B2 JPH0262180B2 JP59170832A JP17083284A JPH0262180B2 JP H0262180 B2 JPH0262180 B2 JP H0262180B2 JP 59170832 A JP59170832 A JP 59170832A JP 17083284 A JP17083284 A JP 17083284A JP H0262180 B2 JPH0262180 B2 JP H0262180B2
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- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 21
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 13
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 8
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 210000000601 blood cell Anatomy 0.000 description 1
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/10—Investigating individual particles
- G01N15/14—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry
- G01N15/1456—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry without spatial resolution of the texture or inner structure of the particle, e.g. processing of pulse signals
- G01N15/1459—Optical investigation techniques, e.g. flow cytometry without spatial resolution of the texture or inner structure of the particle, e.g. processing of pulse signals the analysis being performed on a sample stream
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
- G01N33/48—Biological material, e.g. blood, urine; Haemocytometers
- G01N33/50—Chemical analysis of biological material, e.g. blood, urine; Testing involving biospecific ligand binding methods; Immunological testing
- G01N33/53—Immunoassay; Biospecific binding assay; Materials therefor
- G01N33/5302—Apparatus specially adapted for immunological test procedures
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- Health & Medical Sciences (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、フローサイトメータ等に用いられ、
検体に光を照射し、発生した散乱光の測定値を照
射光の中心位置を基に補正する粒子解析装置に関
するものである。
検体に光を照射し、発生した散乱光の測定値を照
射光の中心位置を基に補正する粒子解析装置に関
するものである。
[従来の技術]
フローサイトメータとは、高速で流れる細胞浮
遊溶液に例えばレーザー光を照射し、その散乱光
による光電信号を検出し細胞の性質・構造を解明
する装置であり、細胞化学、免疫学、血液学、腫
瘍学、遺伝学等の分野で近年使用されつつある。
遊溶液に例えばレーザー光を照射し、その散乱光
による光電信号を検出し細胞の性質・構造を解明
する装置であり、細胞化学、免疫学、血液学、腫
瘍学、遺伝学等の分野で近年使用されつつある。
このフローサイトメータに用いられる従来の粒
子解析用光学系では、第1図に示すようにフロー
セル1の中央部の例えば70μm×20μmの微小な矩
形状断面を有する流通部2内を、シース液に包ま
れて通過する血球細胞などの検体Sに、図示しな
いレーザー光源からの平行光を第2図に示すよう
にレンズ3を介して集光し、照射光の直進方向の
前方散乱光をレンズ4を介して光電検出器5で受
光し、検体Sの大きさの情報を得る。また、照射
光の直進方向に対して直交する方向の側方散乱光
は、レンズ6と光電検出器7により検出し、検体
Sの内部状態の情報を得ることができる。また、
細胞に蛍光標識を施して細胞化学的な解析を行う
場合には、図示しないバリアフイルタ、集光レン
ズ6、光電検出器7の組み合わせにより測光が可
能である。
子解析用光学系では、第1図に示すようにフロー
セル1の中央部の例えば70μm×20μmの微小な矩
形状断面を有する流通部2内を、シース液に包ま
れて通過する血球細胞などの検体Sに、図示しな
いレーザー光源からの平行光を第2図に示すよう
にレンズ3を介して集光し、照射光の直進方向の
前方散乱光をレンズ4を介して光電検出器5で受
光し、検体Sの大きさの情報を得る。また、照射
光の直進方向に対して直交する方向の側方散乱光
は、レンズ6と光電検出器7により検出し、検体
Sの内部状態の情報を得ることができる。また、
細胞に蛍光標識を施して細胞化学的な解析を行う
場合には、図示しないバリアフイルタ、集光レン
ズ6、光電検出器7の組み合わせにより測光が可
能である。
一般に、照射光としてはレーザー光を使用する
ことが多いが、レーザー光の場合にはその強度分
布は、第3図に示す特性Aのようにガウス分布を
呈している。一方、検体Sを構成しシース液で包
まれた粒子は、流通部2の中央部を通過するか
ら、レーザー光の光軸位置が流通部2の中央部に
一致すれば、粒子には強度aの最も強い光が照射
され、効率の良い測定ができる。ところが、レー
ザー光の光軸が流通部2の中央部から第3図のB
に示すようにずれると、流通部2の中央部を通過
する粒子に照射されるレーザー光の強さは、ガウ
ス分布に従つて強度bのように弱いものとなり、
得られる散乱光も弱くなる。このように、従来装
置ではレーザー光の光軸が流通部2の中央部から
ずれると、同一粒子を測定しても同一の光検出信
号が得られなくなり、測定精度には限界がある。
ことが多いが、レーザー光の場合にはその強度分
布は、第3図に示す特性Aのようにガウス分布を
呈している。一方、検体Sを構成しシース液で包
まれた粒子は、流通部2の中央部を通過するか
ら、レーザー光の光軸位置が流通部2の中央部に
一致すれば、粒子には強度aの最も強い光が照射
され、効率の良い測定ができる。ところが、レー
ザー光の光軸が流通部2の中央部から第3図のB
に示すようにずれると、流通部2の中央部を通過
する粒子に照射されるレーザー光の強さは、ガウ
ス分布に従つて強度bのように弱いものとなり、
得られる散乱光も弱くなる。このように、従来装
置ではレーザー光の光軸が流通部2の中央部から
ずれると、同一粒子を測定しても同一の光検出信
号が得られなくなり、測定精度には限界がある。
[発明の目的]
本発明の目的は、前述の照射光の入射位置の変
動による測定値のばらつきを除去するために、得
られた散乱光の検出信号を照射光の入射位置の検
出信号により補正することにより、精度の良い安
定した測定が可能な粒子解析装置を提供すること
にある。
動による測定値のばらつきを除去するために、得
られた散乱光の検出信号を照射光の入射位置の検
出信号により補正することにより、精度の良い安
定した測定が可能な粒子解析装置を提供すること
にある。
[発明の概要]
上述の目的を達成するための本発明の要旨は、
被検位置の粒子に所定強度分布を持つた照射光を
照射し、集光光学系を介して粒子からの散乱光又
は蛍光を受光して粒子解析を行う粒子解析装置に
おいて、前記照射光の強度分布の中心位置を検出
して、検出された中心位置により前記照射光の前
記集光光学系に対する位置ずれを検知する位置ず
れ検知部と、該位置ずれ検知部からの出力を基に
前記受光される散乱光又は蛍光の出力を補正する
ための演算部とを備えたことを特徴とするもので
ある。
被検位置の粒子に所定強度分布を持つた照射光を
照射し、集光光学系を介して粒子からの散乱光又
は蛍光を受光して粒子解析を行う粒子解析装置に
おいて、前記照射光の強度分布の中心位置を検出
して、検出された中心位置により前記照射光の前
記集光光学系に対する位置ずれを検知する位置ず
れ検知部と、該位置ずれ検知部からの出力を基に
前記受光される散乱光又は蛍光の出力を補正する
ための演算部とを備えたことを特徴とするもので
ある。
[発明の実施例]
本発明を第4図以下に図示の実施例を基に詳細
に説明する。ここで、第4図は構成図、第5図は
散乱光検出器の信号波形図、第6図は位置検出器
の信号波形図である。なお、第2図と同一の符号
は同一の部材を表している。
に説明する。ここで、第4図は構成図、第5図は
散乱光検出器の信号波形図、第6図は位置検出器
の信号波形図である。なお、第2図と同一の符号
は同一の部材を表している。
第4図において、図示しないレーザー光源から
の平行光がレンズ3により流通部2の検体Sを照
射し、その前方散乱光をレンズ4、光電検出器5
により受光し、側方散乱光レンズ6、光電検出器
7により受光することは第2図の場合と同様であ
る。ここで、レンズ3とフローセル1との間に光
分割器8が斜設され、レーザー照射光の一部をレ
ンズ9を介して位置検出器10に導くようになつ
ている。光電検出器5、光電検出器7、位置検出
器10の出力は、補正回路11に入力され、更に
記憶回路12、表示部13に接続されている。
の平行光がレンズ3により流通部2の検体Sを照
射し、その前方散乱光をレンズ4、光電検出器5
により受光し、側方散乱光レンズ6、光電検出器
7により受光することは第2図の場合と同様であ
る。ここで、レンズ3とフローセル1との間に光
分割器8が斜設され、レーザー照射光の一部をレ
ンズ9を介して位置検出器10に導くようになつ
ている。光電検出器5、光電検出器7、位置検出
器10の出力は、補正回路11に入力され、更に
記憶回路12、表示部13に接続されている。
本発明の実施例は上述の構成を有するので、フ
ローセル1の流通部2中を検体Sが通過すると、
検体Sによる前方散乱光はレンズ4、光電検出器
5により、側方散乱光はレンズ6、光電検出器7
により検出され、両者の出力は共に補正回路11
に入力される。一方、照射光は光分割器8で分割
され、レンズ9を介して位置検出器10において
レーザー光の中心の流通部2の中央部からの位置
ずれが検出され、補正回路11にその測定値が入
力され、光電検出器5,7で得られた値を補正
し、その結果は記憶回路12に刻々と記憶され、
最終的には正規化された前方散乱光、側方散乱光
による情報が例えばヒストグラムデータとして表
示部13に表示される。
ローセル1の流通部2中を検体Sが通過すると、
検体Sによる前方散乱光はレンズ4、光電検出器
5により、側方散乱光はレンズ6、光電検出器7
により検出され、両者の出力は共に補正回路11
に入力される。一方、照射光は光分割器8で分割
され、レンズ9を介して位置検出器10において
レーザー光の中心の流通部2の中央部からの位置
ずれが検出され、補正回路11にその測定値が入
力され、光電検出器5,7で得られた値を補正
し、その結果は記憶回路12に刻々と記憶され、
最終的には正規化された前方散乱光、側方散乱光
による情報が例えばヒストグラムデータとして表
示部13に表示される。
ここで、流通部2の中央部からのレーザー光の
中心の位置ずれによつて、散乱光強度を補正する
方法を第5図、第6図により説明する。前述した
ように、レーザー光の中心の位置ずれに応じて検
体Sに照射する光の強さはガウス分布状に変化す
るので、光電検出器5,7から得られる散乱光の
検出信号もガウス分布状に変化することになる。
中心の位置ずれによつて、散乱光強度を補正する
方法を第5図、第6図により説明する。前述した
ように、レーザー光の中心の位置ずれに応じて検
体Sに照射する光の強さはガウス分布状に変化す
るので、光電検出器5,7から得られる散乱光の
検出信号もガウス分布状に変化することになる。
第5図に示すように、レーザー光の中心が流通
部2の中央部にあるときに得られる散乱光の検出
強度IをI0、レーザー光の中心が流通部2の中央
部からの距離Rがdだけずれた時の信号をIdとす
ると、IdにI0/Idなる係数を乗ずればI0が求まる。
また、I0/Idはdを知ることができればガウス分
布から直ちに知り得る値であるから、レーザー光
の中心の流通部2の中央部からのずれdが測定で
きれば、容易に正しい強度I0が得られる。このず
れdは第6図に示すように流通部2の中央部にレ
ーザー光の中心があるとき、中心に光が当るよう
に電荷結合素子(CCD)等の光センサから成る
位置検出器10を配置して測定する。即ち、第3
図に示すように分布がAからBにずれると、位置
検出器10上の光強度分布は第6図に示すA′か
らB′へと変化する。ピークの位置はレーザー光
の中心位置に対応しているので、光強度の検出に
よつてずれdを測定できる。このようにして、レ
ーザー光の中心の位置ずれを検出して散乱光の測
定値を補正する。
部2の中央部にあるときに得られる散乱光の検出
強度IをI0、レーザー光の中心が流通部2の中央
部からの距離Rがdだけずれた時の信号をIdとす
ると、IdにI0/Idなる係数を乗ずればI0が求まる。
また、I0/Idはdを知ることができればガウス分
布から直ちに知り得る値であるから、レーザー光
の中心の流通部2の中央部からのずれdが測定で
きれば、容易に正しい強度I0が得られる。このず
れdは第6図に示すように流通部2の中央部にレ
ーザー光の中心があるとき、中心に光が当るよう
に電荷結合素子(CCD)等の光センサから成る
位置検出器10を配置して測定する。即ち、第3
図に示すように分布がAからBにずれると、位置
検出器10上の光強度分布は第6図に示すA′か
らB′へと変化する。ピークの位置はレーザー光
の中心位置に対応しているので、光強度の検出に
よつてずれdを測定できる。このようにして、レ
ーザー光の中心の位置ずれを検出して散乱光の測
定値を補正する。
上述の実施例の他に、例えば位置検出器10に
入射する光をレンズ3の前から取り出すことも可
能であるし、或いは検体Sもレーザー光の中心に
対して多少ずれることがあるから、レーザー光の
位置検出だけでなく検体Sの位置検出も同時に行
い、双方の位置検出信号により散乱光の検出信号
に補正を施すことも可能である。このようにすれ
ば、実施例より更に精度の良い測定値が得られ
る。
入射する光をレンズ3の前から取り出すことも可
能であるし、或いは検体Sもレーザー光の中心に
対して多少ずれることがあるから、レーザー光の
位置検出だけでなく検体Sの位置検出も同時に行
い、双方の位置検出信号により散乱光の検出信号
に補正を施すことも可能である。このようにすれ
ば、実施例より更に精度の良い測定値が得られ
る。
[発明の効果]
以上説明したように本発明に係る粒子解析装置
は、照射光の中心位置を検出することにより散乱
光の出力を補正し、光源の不安定性による影響を
排除し、精度の高い安定した解析を行うことが可
能である。
は、照射光の中心位置を検出することにより散乱
光の出力を補正し、光源の不安定性による影響を
排除し、精度の高い安定した解析を行うことが可
能である。
第1図はフローセルの斜視図、第2図は従来装
置の構成図、第3図は流通部内の粒子とレーザー
光の強度分布図、第4図以下は本発明に係る粒子
解析装置の一実施例を示し、第4図はその構成
図、第5図は散乱光検出器の信号波形図、第6図
は位置検出器の信号波形図である。 符号1はフローセル、2は流通部、3,4,
6,9はレンズ、5,7は光電検出器、8は光分
割器、10は位置検出器、11は補正回路、12
は記憶回路、13は表示部である。
置の構成図、第3図は流通部内の粒子とレーザー
光の強度分布図、第4図以下は本発明に係る粒子
解析装置の一実施例を示し、第4図はその構成
図、第5図は散乱光検出器の信号波形図、第6図
は位置検出器の信号波形図である。 符号1はフローセル、2は流通部、3,4,
6,9はレンズ、5,7は光電検出器、8は光分
割器、10は位置検出器、11は補正回路、12
は記憶回路、13は表示部である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 被検位置の粒子に所定強度分布を持つた照射
光を照射し、集光光学系を介して粒子からの散乱
光又は蛍光を受光して粒子解析を行う粒子解析装
置において、前記照射光の強度分布の中心位置を
検出して、検出された中心位置により前記照射光
の前記集光光学系に対する位置ずれを検知する位
置ずれ検知部と、該位置ずれ検知部からの出力を
基に前記受光される散乱光又は蛍光の出力を補正
するための演算部とを備えたことを特徴とする粒
子解析装置。 2 前記照射光の強度分布の中心位置の検出は、
照射光路中に光分割器を介在して前記照射光の一
部を取り出すことにより行うようにした特許請求
の範囲第1項記載の粒子解析装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59170832A JPS6148747A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 粒子解析装置 |
US06/753,871 US4643566A (en) | 1984-07-20 | 1985-07-11 | Particle analyzing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59170832A JPS6148747A (ja) | 1984-08-16 | 1984-08-16 | 粒子解析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6148747A JPS6148747A (ja) | 1986-03-10 |
JPH0262180B2 true JPH0262180B2 (ja) | 1990-12-25 |
Family
ID=15912156
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59170832A Granted JPS6148747A (ja) | 1984-07-20 | 1984-08-16 | 粒子解析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6148747A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022014125A1 (ja) | 2020-07-14 | 2022-01-20 | Jfeスチール株式会社 | 脱水素装置及び鋼板の製造システム、並びに鋼板の製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11273334B2 (en) | 2015-10-22 | 2022-03-15 | Scott Technologies, Inc. | Respirator mask with voice transmittal feature |
-
1984
- 1984-08-16 JP JP59170832A patent/JPS6148747A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022014125A1 (ja) | 2020-07-14 | 2022-01-20 | Jfeスチール株式会社 | 脱水素装置及び鋼板の製造システム、並びに鋼板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6148747A (ja) | 1986-03-10 |
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