JPH0254105A - 測長装置 - Google Patents

測長装置

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JPH0254105A
JPH0254105A JP20478688A JP20478688A JPH0254105A JP H0254105 A JPH0254105 A JP H0254105A JP 20478688 A JP20478688 A JP 20478688A JP 20478688 A JP20478688 A JP 20478688A JP H0254105 A JPH0254105 A JP H0254105A
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JP
Japan
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deviation
microscope
fine movement
movement mechanism
reference position
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Pending
Application number
JP20478688A
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English (en)
Inventor
Kiyoshi Nagasawa
潔 長澤
Kozo Ono
耕三 小野
Kojiro Ogata
緒方 浩二郎
Takeshi Murayama
健 村山
Yoshihiro Hoshino
星野 吉弘
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Construction Machinery Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Construction Machinery Co Ltd filed Critical Hitachi Construction Machinery Co Ltd
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Publication of JPH0254105A publication Critical patent/JPH0254105A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、微小な長さを高精度で測定する測長装置に関
する。
〔従来の技術〕
近年、各種技術分野においては装置が微小化又は高精度
化され、これに伴い装置の製造時における各部の寸法も
厳格な管理が必要となり、このため、サブμmオーダの
精度で測定可能な測長装置が要望されるようになった。
ここで、上記のように高精度の測長が必要である対象物
として、テレビジョン、コンピュータの表示等に使用さ
れる液晶表示装置を例示して説明する。
第6図は液晶表示装置の電極の配置図である。
図で、1は基板、2は基板1上に縦横に多数配置された
電極である。例えば、図で横方向の長さが400mmの
基板1上に電極2が横方向1列に6700個配列されて
いる。これら各電極2は同一寸法に形成されなければな
らず、かつ、互いに正確な間隔で配置される必要がある
。即ち、第6図に示すように、電極2の寸法ΔX、Δy
はどの電極も所定の許容範囲で等しくなければならず、
又、隣接する電極2間の寸法xI+Y+は正確でなけれ
ばならない。したがって、このような電極パターンを製
造するための原板(マスク)における上記寸法ΔX、Δ
)’l  XI +  )’lは厳格に管理されなけれ
ばならない。そして、このためには、高精度の測長装置
が必要である。例えば、上記の例では、寸法ΔXは30
μm、寸法X、は60μmであるので、測長装置として
はサブμmオーダの精度のものが要望される。このよう
な装置の測定に使用される測長装置を寸法x1の測定を
例にとって第7図により説明する。
第7図は従来の測長装置の系統図である。図で、5は図
示しない空気定盤上に支持されたステージ、6はステー
ジ5上を図で左右に移動可能な移動台、7は移動台6を
駆動するモータである。移動台6は、モータ7の回転軸
に連結され周面に螺旋状のねじが形成されている軸(螺
軸)に螺合する螺子を有し、モータ7の回転により左右
に移動する構成となっている。8は移動台7に固定され
たテーブル、9はテーブル8上に載置された被測長対象
物である原板を示す。9pは第6図に示す電極2を作成
するため原板9に構成された電極パターンである。電極
パターン9pは第6図に示す電極2を作成するため原板
9に構成された電極パターンである。電極パターン9p
は第6図に示す電極2の配置に等しく配置されている。
10はこれら電極パターン9pを観察する顕微鏡、11
は顕微鏡10を支持するスタンド、12は原板9を照明
する光源、13は光源12を支持すると共に光を顕微鏡
10に導く導光管である。14は顕微鏡10の視野内の
像を逼像するカメラであり、像に応じた電気信号を出力
する。
15はリニアエンコーダであり、スケール15aおよび
センサ15bで構成される。スケール15aはテーブル
8の側面に配置された多数の反射膜で構成されている。
この反射膜は、例えば5μmの巾を有し5μm間隔で配
置されている。センサ15bは発光素子スリット板およ
び受光素子より成り、反射膜で反射された発光素子から
の光を、スリット板を介して受光素子で受光する構成と
なっている。このリニアエンコーダ15によりテーブル
8の移動距離がサブμmオーダの精度で測定できる。こ
のようなリニアエンコーダは周知である。
16は画像処理装置を示し、画像処理部16aおよび表
示部16bで構成されている。画像処理部16aはカメ
ラ14からの信号に基づき顕微鏡10の視野内の像を表
示部16bに表示する処理を行なうとともに、後述する
ようにその像についての種々の処理を実行する。表示部
16bは等間隔に縦横に配列された微粒子(画素)で構
成されている。これらの画素は表示部16bにおける発
光単位であり、各画素が選択的に発光することにより、
映像が形成表示される。各画素は、画像処理部16aに
内蔵されたメモリのアドレスに対応せしめられているの
が通常である。どの画素を発光させるかの選択は、カメ
ラ14の信号に基づいて画像処理部16aで行なわれる
。17は測長装置における所定の演算制御を行なう制御
装置である。
次に、上記測長装置の動作を第8図(a)、(b)に示
す画像処理装置の表示像を参照しながら説明する。まず
、原板9をテーブル8上にセットし、顕微鏡lOの倍率
を電極パターン9pの全体像やその周辺が把握可能な程
度(例えば5倍)に低くする。次いで、カメラ14に撮
影され表示部16bに表示された顕微鏡10の視野を観
察しながら、制御装置17を介して(又は手動で)テー
ブル8を移動させ、最端部の電極パターン9p(この電
極パターンを9p+ とする)を顕微鏡10の視野にと
らえる。この状態で顕微鏡10の倍率を高倍率(例えば
200倍)とする。このとき、表示部16bに表示され
た顕微鏡10の視野内の映像が第8図(a)に示されて
いる。第8図(a)で、Aは顕微鏡10の視野、Cは顕
微鏡10の中心線に対応する中心線、9p+’は電極パ
ターン9p+の映像である。
電極パターン9p+ は顕微鏡10で拡大されているた
め、その映像91)+’は電極パターン9p+の掻く一
部であり、かつ、その縁部(エツジ)は図示のように凹
凸となって現われる。ところで、原板9における測長は
、各電極パターン9pのエツジ間を測定するのであるか
ら、エツジに凹凸が存在していては測定不可能となる。
このため、何等かの手段によりエツジを確定する必要が
ある。
このエツジの確定は、画像処理部16aにおいて、映像
9p+’の縁部の発光画素の位置を多数検出し、それら
の平均値を演算することにより行なわれる。なお、この
ようなエツジの確定方法は、投影分布法として周知であ
るので詳細な説明は省略する。第8図(a)に、確定し
たエツジが符号Eで示されている。画像処理部16aは
中心vACとエツジEとの間隔11を、その間の画素数
をカウントする(メモリのアドレスの差を演算する)こ
とにより求め、その値11を制御装置17に出力する。
次に、制御装置17はモータ7に指令信号を出力し、テ
ーブル8を移動して次の電極パターン9p(この電極パ
ターンを9pzとする。)を顕微鏡10の視野に入れ、
これを表示部16bに表示する。このときのテーブル8
の移動量lはリニアエンコーダ15により検出され、制
御装置17に出力される。第8図(b)に電極パターン
9pzが視野に入ったときの状態が示されている。第8
図(b・)で第8図(a)と同一部分には同一符号が付
しである。9p2′は電極パターン9pzの映像を示す
。電極パターン9pzの映像9pZに対しても、電極パ
ターン9p+の映像9p+と全く同様にしてエツジEが
確定され、中心線Cとの間隔β2が求められ、この値1
2が制御装置17に出力される。ここで、リニアエンコ
ーダ15で検出された移動量lは、最初の視野において
顕微鏡10の中心線に対向する原板9上の位置と、次の
視野において顕微鏡10の中心線に対向する原板9上の
位置との間の間隔に等しい。したがって、第8図(a)
、  (b)に示す視野の場合、制御装置17は入力さ
れた値1t、、12.lを加算して測定値L (L=1
.+I1.+1)を得る。各電極パターン9pの間隔は
、第6図に示す電極2の間隔xI 、x2 +  x3
・・・・・・・・・と同じように、最端部の電極パター
ン(9p+)のエツジEを基準とし、上述のような方法
で、当該エツジEからの間隔として測定される。又、寸
法)’l1y21y3・・・・・・・・・の測定も、同
様の手段で行なわれる。さらに、寸法ΔX、Δyも、同
−電極パターンの対向するエツジを顕微鏡の視野に入れ
ることにより同様の手段で行なわれる。
上記測長方向と直交する方向における各電極パターン9
の間隔の測定は、テーブル8から一旦原板9を外し、載
置方向を90°変更して再度テーブル8に載置すること
により行なわれるが、このような手間を省くため、ステ
ージ5の下に移動方向が直交するステージを重ね、リニ
アエンコーダ15が配置されている側面と隣接する側面
にさらに他のリニアエンコーダを設けて2軸(X軸、Y
軸)の測長装置を構成してもよい。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、一般に、レンズには球面収差が存在し、レン
ズ中心部の像に対してレンズ周辺部の像が歪むことが知
られている。したがって、顕微鏡10の視野内に入った
像は視野の周辺部ではある程度歪をもった像となる。そ
して、この像は歪をもったままカメラ14に撮影され、
これが表示部16bに表示れることになる。それ故、第
8図(a)に示す電極パターン9p+ の映像9p+は
、それが視野の周縁近くに位置することから、可成りの
歪をもった映像である。一方、第8図(b)に示す電極
パターン9pgの映像9pzのエツジは視野の中心線C
に近いため、歪みは少ないが、僅かながら歪が存在する
のを避けることはできない。この結果、確定されたエツ
ジEは正確なエツジとはならず、結局、測定に誤差を含
み測定精度が低下するという問題があった。
さらに、顕微鏡10はその視野の中央部分と周辺部分と
では解像力に差があり、このため、画部分の輝度に差を
生じ、同一像であってもそれが視野の中心部分にあると
きの輝度に比較して周辺部分にあるときの輝度は低下す
る。ところで、カメラ14は顕微鏡10の視野内に存在
する像をその輝度に比例した電気信号として画像処理部
16aに出力する。そして、画像処理部16aは、この
電気信号(電圧)をある電圧レベルと比較し、入力され
た電圧が当該レベル以上にあるとき表示部16bにおけ
る対応する画素を発光させる処理を行なう。この場合、
上記電圧レベルは、光源の輝度の低下や周辺部からの反
射光の入射等を考慮して、入力電圧の最大値と最小値の
1/2に設定されるのが通常である。上記の処理を第9
図(a)。
(b)、  (C)により説明する。
第9図(a)は電極パターン9pの平面図、第9図(b
)、  (C)は画像処理部の入力信号の波形図であり
、横軸に顕微鏡の視野内の距離、縦軸に入力信号の電圧
がとっである。第9図(b)に示す波形は電極パターン
9pが9i鏡10の視野の中心部分にあるときの波形(
Fl)を、又、第9図(C)は周辺部分にあるときの波
形(F2)を示す。−点鎖線で示す電圧レベルV31は
各電圧波形F1.Fzにおける最大値と最小値の1/2
の電圧レベルを示し−4これが前記の設定レベルとなる
今、第9図(b)に示すように電極パターン9pが視野
の中心部分にある場合、何等かの理由により輝度が低下
すると入力される電圧レベルも低下し、破線で示す波形
F1°に変化する。これにしたがって、設定レベルV、
も二点鎖線で示す設定レベルvsgに変化する。この結
果、表示部16bに表示される電極パターン9pのエツ
ジ部分の映像には微小な誤差Δl、を生じる。ただし、
図で、この誤差Δ11は理解を容易にするため誇張して
描かれており、実際には値Δβ1はほぼOである。
次に、第9図(c)に示すように電極パターン9pが視
野の周辺部分にある場合、上記のように輝度が低下する
と電圧波形は破線で示す波形F、1に変化し、設定レベ
ルも二点ti 4%で示すレベル■、2に変化する。こ
のため、上記と同様に表示部16bに表示される電極パ
ターン9pのエツジ部分の映像に誤差Δ12を生じる。
この誤差Δltも誇張して描かれているが、第9図(b
)に示す誤差Δ11に比較して極度に大きな値(Δ2.
>Δll)となる。即ち、電極パターン9pが視野の周
辺部分にあると、僅かな輝度の変化にしたがってそのエ
ツジ部分の映像に誤差Δ12を生じることになる。この
結果、確定されたエツジEは上記球面収差の場合と同様
に正確さを欠き、測定精度が低下するという問題があっ
た。
これらの問題について、モータ7を制御してテーブル8
を移動させ、電極パターン9pのエツジを顕微鏡10の
視野の中心に位置せしめることも考えられるが、モータ
7、これに連結された螺軸、および移動台6に設けられ
螺軸と螺合する螺子より成る移動機構は反応速度が遅く
、かつ、移動台6およびテーブル8の重量による慣性が
大きいので、エツジを視野の中心に位置づけようとする
とハンチングを生じ、当該位置づけはほとんど不可能で
ある。又、螺軸と螺子との間には微小のガタが存在し、
これも上記位置づけを不可能としている。さらに、仮に
手動等の他の手段でエツジを視野の中心に位置づけるこ
とができたとしても、それには相当時間を要する。そし
て、顕微鏡10の光源12には相当大きな出力の光源が
使用され、電極パターン9pはこの光源に照射されてい
るので、上記位置合せに時間がかかると、電極パターン
9pは光源の輻射熱により膨張し、位置合せが終了した
ときは膨張したエツジに位置合せをしたことになり、位
置合せ自体が無意味となる。又、仮に、電極パターン9
pの熱膨張を考慮しなくても、位置合せに相当な時間を
消費すると、数千の電極パターン9pの測定には長時間
を要するという問題も生じることとなる。
本発明の目的は、上記従来技術の課題を解決し、被測長
物の測長基準位置をIJI徽鏡の視野の中心部において
確定することができ、ひいては測定精度を向上させるこ
とができる測長装置を提供するにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するため、第1の発明は、被測長物を裁
置する台と、この台に対向し前記被測長物を視る顕微鏡
と、この顕微鏡の視野の像の測定基準位置を確定すると
ともにこの測定基準位置と前記顕微鏡の中心線との偏差
を演算する画像処理装置とを備えた測長装置において、
前記台を移動させる移動機構と、前記台の移動距離を測
定する測定手段と、平行たわみ梁変位機構で構成される
微動機構と、この微動機構を前記偏差だけ移動させこの
移動毎に前記測定基準位置の確定と前記偏差の算出を行
なわせる制御手段と、前記偏差が零であるときの前記微
動機構の駆動電圧に基づき当該微動機構の変位を演算す
る演算手段とを設けたことを特徴とする。又、第2の発
明は、上記第1の発明における移動機構および測定手段
を除いたその他の機構を備え、微動機構の駆動電圧に基
づいて測定を行なうことを特徴とする。
(作 用〕 第1の発明では、被測定物を台に載置し、移動機構によ
り被測長物を移動させてこれを顕微鏡の視野内に入れ、
その像を電気信号に変換して画像処理装置に入力する。
画像処理装置では入力された信号に基づき映像を作成す
るとともに測定端となる測定基準位置を確定し、この測
定基準位置と前記視野の中心との間の偏差を求める。こ
の偏差は微動機構に出力され、微動機構は当該偏差分だ
け変位する。この変位終了後、制御手段の指令により画
像処理装置は変位した位置において再び測定基準位置の
確定および偏差の算出を行なう。算出された偏差は微動
機構に入力されその偏差だけ台を変位させる。この動作
は、所定回数又は偏差がOになるまで制御手段により繰
返えされる。偏差がOのなったとき微動機構の駆動電圧
は記憶され、この状態から引続いて微動機構が駆動され
る場合には、次の測定基準位置における偏差がOになっ
たときの微動機構の駆動電圧も記憶され、両駆動電圧に
基づいて2つの測定基準位置間の変位即ち寸法が演算さ
れる。
第2の発明では、第1の発明における微動機構の駆動電
圧に基づく演算のみが実施される。
〔実施例〕
以下、本発明を図示の実施例に基づいて説明する。
第1図は本発明の実施例に係る測長装置の系統図である
。図で、第7図に示す部分と同一部分には同一符号を付
して説明を省略する。Xは座標軸を示す。17’は第7
図に示す制御装置17に相当する制御装置である。18
は移動台6とテーブル8との間に設けられた微動機構で
ある。この微動機構18の構成は第2図により詳細に説
明する。
19は微動機構18の駆動を制御する微動コントローラ
である。
ここで、第1図に示す微動機構18の構成を説明する。
第2図は微動機構の斜視図である。図で、25は剛性の
高い部材より成る中心剛体部、26aは中心剛体部25
か°らY軸方向に張出した張出し部、26bは中心剛体
部25から張出し部26aと反対向きに張出した張出し
部、27aは中心剛体部25からX軸方向に張出した張
出し部、27bは中心剛体部25から張出し部27aと
反対向きに張出した張出し部である。28a、28bは
それぞれ張出し部26a、26bの端部下端に設けられ
移動台6に固定される固定部、29a、29bはそれぞ
れ張出し部27a、27bの端部上端に設けられテーブ
ル8を連結するテーブル連結部である。
張出し部26a、26b、27a、27b、固定部28
a、28b、およびテーブル連結部29a、29bはそ
れぞれ中心剛体部25と同じ部材で構成され、中心剛体
部25とともに1つのブロックから加工成形される。
26 F、、、  26 Fxbはそれぞれ張出し部2
6a。
26bに構成された平行たわみ梁変位機構(平行たわみ
梁変位機構については後述する。)であり、互いに中心
剛体部25に対して対称的に構成されている。平行たわ
み梁変位機構26 F、、、 26Fxbは共働してX
軸方向の並進変位(中心剛体部25のX軸方向の変位)
を発生する。27F、、、27FVbはそれぞれ張出し
部27a、27bに構成された平行たわみ梁変位機構で
あり、互いに中心剛体部25に対して対称的に構成され
ている。平行たわみ梁変位機構27 F、、、  27
 F、bは共働してY軸方向の並進変位(中心剛体部2
5のY軸方向の変位)を発生する。上記平行たわみ梁変
位機構26F、□ 26 FXb、27 Fy−927
Fybは各張出し部26 a、  26 b、  27
 a、  27 bの所定個所に所定の貫通孔を形成す
ることにより構成される。
平行たわみ梁変位機構26F、、は、貫通孔30を形成
することにより構成される2つの互いに平行な平板状の
たわみ梁31、および貫通孔30内に中心剛体部25と
張出部26aから突出した突起間に装架された圧電アク
チュエータ32)ならびにたわみS31の所定個所に貼
着されたひずみゲージGで構成される。他の平行たわみ
梁変位機構26 FXb、27 Fy−、27Fybも
同様な構成を有する。なお、平行たわみ梁変位機構の構
成および動作については、例えば特開昭61−2098
46号公報に提示されている。
次に、この微動機構の動作を説明する。今、平行たわみ
梁変位機構26F、□ 26FKbの各圧電アクチュエ
ータ32に等しい電圧を印加すると、その平行たわみ梁
31が印加電圧に応じて変形し、微動機構はX軸方向に
並進変位する。この変位は中心剛体部25、平行たわみ
梁変位機構27F、、。
27 F、いおよび固定部29a、29bを介してテー
ブル8に伝達され、テーブル8は同量だけX軸方向に並
進変位する。同様に、平行たわみ梁変位機構27F□、
26F、bの圧電アクチュエータに同一電圧を印加した
場合、テーブル8はY軸方向に並進変位する。なお、本
実施例では用いないが、これら各平行たわみ梁変位機構
を同時に駆動すると、合成された並進変位を得ることが
できる。
上記の変位作動中、各ひずみゲージGはたわみ梁31の
たわみを検出することにより微動機構の実際の変位量を
検出する。したがって、この検出された変位量に基づい
てフィードバック制御を行なえば、微動機構の正確な変
位を実施することができる。又、ひずみゲージGのひず
み量と並進変位の変位量とは比例関係にあり、さらに、
微小範囲内において、ひずみゲージGのひずみ量と圧電
アクチュエータ32の印加電圧も比例関係にある。
以上、微動機構18の構成および動作について説明した
。次に、第1図に示す本実施例のX軸方向の寸法xt 
I  XZ *  X3 + ・・・・・・・・・の測
定動作を第3図に示すフローチャートを参照しながら説
明する。まず、制御装置17′に予め定められている電
極パターン9pの間隔lを設定するとともに、測定間隔
の穂数Nも設定し、又、制御装置17′のメモリの所定
アドレスの数値iを0とし、さらにリニアエンコーダを
リセットしておく・(第3図に示す手順s+)。なお、
上記数値iは測定回数をカウントするための値である。
次に、制御装置17′は顕微鏡10のレボルバ(図示さ
れていない)を駆動せしめ、顕微鏡10の倍率を5倍に
する(手順SZ)。これにより、最端部の電極パターン
9の全体像を目視により顕微鏡10の視野内に収めるこ
とができる。測定者は手動で最端部の電極パターン9p
を視野に捕捉し、焦点を合せる。
制御装置17′はそのときのフォーカス位置を記憶する
(手順S、)、この状態で、レボルバにより顕微鏡10
の倍率が5倍から200倍に切換えられ(手順S4)、
さきに記憶されたフォーカス位置に自動的に設定される
(手順Ss)。これにより、顕微鏡10の視野内の像は
、カメラ14を介して画像処理部16aに電気信号とし
て入力され、表示部16bに第8図(a)に示すように
表示される。
この状態において、制御装置17′は画像処理部tea
に対して、エツジを確定し、確定したエツジと視野の中
心との間の偏差を算出するように指令する(手順S、)
。画像処理部16aは前述した処理によりエツジ確定お
よび偏差演算を実行し、算出した偏差を制御装置17′
へ出力する。
制御装置17′は偏差が0であるか否か、即ち、確定し
たエツジが視野の中心にあるか否かを判断する(手順S
、)。多くの場合、この偏差はOにはならない。もし偏
差がOであれば、処理は後述する手順S、に移行する。
制御装置17′は偏差が0でない場合、微動コントロー
ラ19に対して当該偏差を出力し、微動機構18を駆動
する(手順5ll)。微動コントローラ19はフィード
バック制御により所定の平行たわみ梁変位機構を前記偏
差だけ正確に変位させる。これによりテーブル8はその
分だけ移動し、さきに確定したエツジは視野の中心に一
致する。
ところで、さきに確定したエツジは視野の中心からずれ
た位置において確定されたものであるので、前述のよう
に誤差が含まれていて正確なエツジとはなっていない。
したがって、制御装置17′は上記のようにエツジが視
野の中心に位置せしめられた状態で、再び画像処理部1
6aに対してエツジの確定と偏差の算出を指令する(手
順S、)。
画像処理部16aはこの指令に応じて再度視野の中心で
のエツジ確定処理を行ない(この確定されたエツジは、
さきに確定されたエツジと異なる)、偏差を算出し、こ
れを制御装置17′に出力する。
制御装置17′はこの偏差が0か否かを判断しく手順5
ho) 、Oでなければ手順S、〜SIOを繰返えす。
この繰返えしにより、エツジは視野の中心のより近くで
確定されてゆくこととなり、最終的に確定されたエツジ
は視野の中心と一致する。
ここで、制御装置17′はリニアエンコーダ15のセン
サ15bの検出信号を読取る(手順S1.)。
この値をLとする。次に、制御装置17′は測定値演算
(即ち、測長結果の演算)を、上記読取られた値りから
前回読取られた値L′を減算することにより算出する(
手順S1□)。なお、この場合、顕微鏡10の視野内に
あるのは最端部の電極パターン9pであり測長を開始し
たばかりであるので、値りと値L′とは等しく、手順S
12の演算結果は当然Oとなる。次いで、手順S L+
で読取られた値しは値L′として記憶される(手順51
3)。次に制御装置17′はメモリの予め定められたア
ドレスに記憶された値iに1を加算する(手順514)
そして、値iが(N+1)になったか否かを判断する(
手順514)。この場合、値iは(N+1)ではないの
で、処理は手順S4へ移行する。手順Sl&において、
制御装置17’はモータ7を駆動し、テーブル8を設定
値βだけ駆動する。この駆動はセンサ15bの出力値を
読取り、フィードバック制御を用いて行なわれる。この
結果、次の電極パターン9pが顕微鏡10の視野内に移
行することとなる。この電極パターン9pに対して制御
装置17′は再び手順S6〜S1.の処理を繰返す。
上記の処理の結果、各電極パターン9pのエツジは視野
の中心において確定されるとともに、最終的に確定され
たエツジは常に視野の中心と一致することとなる。した
がって、前回の最終エツジ確定から今回の最終エツジ確
定までの間のテーブル8の移動距離が隣接する電極パタ
ーン9pの間隔となり、これは手順S1□の演算により
求めることができる。手順315で、値iが数(N+1
)に等しくなったとき全測定が終了する。
次に、本実施例における各電圧パターン2のX軸方向の
寸法ΔXの測定動作を第4図(a)〜(d)に示す表示
像を参照しながら説明する。各図で、第8図に示す部分
と同一部分には同一符号を付して説明を省略する。第4
図(a)は電極パターン9p+の一方の縁部を顕微鏡1
0の視野Aに捕捉した状態を示す。この状態から、前述
と全く同様に、画像処理部16a1制御装置17′、微
動機構18、微動コントローラ19を用いて、エツジの
確定および確定したエツジを視野Aの中心Cに移動させ
る処理が実行される。第4図(b)はエツジEと中心C
とが一致した状態を示す。制御装置17′はこのときの
微動機構18の圧電アクチュエータ32に印加されてい
る電圧■。1を記憶する。
この状態から、さらに微動機構を駆動し、第4図(c)
に示すように、視野Aに電圧パターン9p、の他方の縁
部を捕捉する。そして、上記と同様の手法により、エツ
ジの確定と中心Cへの移動が実行される。この結果、電
極パターン9p+の映像9p1 ′は第4図(d)に示
す状態となり、その他方の縁部と中心Cとが一致する。
このときの微動機構18の圧電アクチュエータ32に印
加されている電圧VEzが制御装置17′に記憶される
制御装置17′は、電極パターン9p+の一方の縁部に
対する電圧■ゆ、と、同電極パターン9p2の他方の縁
部に対する電圧■。との差ΔV(Δ■”VE2  Vt
+)を演算する。さきに述べたように、微小範囲におい
て圧電アクチュエータ32の印加電圧とひずみゲージG
のひずみ量は比例し、又、ひずみゲージGのひずみ量と
微動機構18の並進変位量は比例するので、結局、上記
差の電圧Δ■は、電極パターン9p+の第4図(b)に
示す映像から第4図(d)に示す映像への変位量、即ち
寸法ΔXに比例することになる。したがって、上記電圧
ΔVに所定の定数を乗じることにより、寸法ΔXを得る
ことができる。他の電極パターンの寸法ΔXも同一の方
法により測定する。そして、この方法は、寸法XI +
  Xt *  x、、 l ・・・・・・・・・・・
・の測定過程において、その測定に何等の影響も与える
ことな〈実施できるは明らかであり、寸法XI+xt 
+  x、、 l・・・・・・・・・・・・と寸法ΔX
とを1つの測定装置により1つの測定動作で同時に測定
することができる。
なお、上記のようにX軸方向の寸法XI+X2・・・・
・・・・・・・・、ΔXの測定のみを行なう場合、微動
機構も対称位置にある一組の平行たわみ梁変位機構のみ
で構成してもよいのは明らかである。
このように、本実施例では、平行たわみ梁変位機構より
成る微動機構を操作して、視野の中心とエツジとが一致
するまで、視野の中心部で繰返してエツジ確定を行なう
ようにしたので、レンズの球面収差や顕微鏡の中央部と
周辺部の解像力の差による誤差を生じることなく、正確
なエツジ確定を行なうことができ、ひいては精度の高い
測定を行なうことができる。又、圧電素子により駆動さ
れる平行たわみ梁変位機構を用いたので、微動機構を高
速で作動させることができ、光源の熱の影響を受けるこ
とは少なく、この点からも測定精度を向上させることが
できる。さらに、1つの測定装置で2種類の測定を同時
に行なうことができる。
第5図は本発明の他の実施例に係る測長装置の系統図で
ある。図で、第1図に示す部分と同一部分には同一符号
を付して説明を省略する。X、 Yは座標軸を示す。本
実施例はY軸およびY軸方向の測定が可能な2軸の測長
装置である。5x、5yはそれぞれY軸、Y軸方向の移
動機構が備えられているステージであり、ステージ5X
はステージ5Y上においてY軸方向に移動可能に設置さ
れている。7Xは移動台6をX軸方向に移動させるモー
タ、7Yは移動台6をY軸方向に移動させるモータ、即
ちステージ5XをY軸方向に移動させるモータである。
17”は制御装置である。この制御装置17”は第1図
に示す制御装置17”が1軸(Y軸)に関してのみの制
御装置であるのに対して2軸(Y軸、Y軸)に関しての
制御装置である点で異なるだけで基本的動作は両者同じ
である。
36はレーザヘッドであり、例えば2周波レーザヘッド
が用いられる。このレーザヘッドは僅かに異なる周波数
f、、f2のレーザ光を出力する。
37はレーザヘッド36からのレーザ光を直線方向およ
びこれと直角方向に分割するビームスプリッタである。
38X、38Yはレーザ光のうち周波数f1のレーザ光
のみを出力するインターフェロメータである。39はテ
ーブル8に固定されたL型ミラーであり、X軸方向の反
射を行なう部分39XおよびY軸方向の反射を行なう部
分39Yを有する。40X、40YはそれぞれY軸、Y
軸のレシーバであり、インタフェロメータ38X。
38Yから送られて(るレーザ光の周波数に基づいて所
定の信号を出力する。41はパルスコンパレータであり
、レーザヘッド36からの信号としシーμ40X、40
Yからの信号とに基づいてX軸方向およびY軸方向の変
位量を演算し、これを制御装置17”に出力する。レー
ザヘッド36、ビームスプリッタ37、インタフェロメ
ータ38X、38Y、L型ミラー39、レシーバ40X
40Y、およびパルスコンパレータ41によりレーザ測
長器が構成される。
本実施例の測長は、X軸、Y軸それぞれについてさきの
実施例の測長動作と同じ動作により行なわれるものであ
り、ただ、テーブル8の変位量の検出がリニアエンコー
ダ15の代わりにレーザ測長器で行なわれる点でのみ相
違する。したがって、本実施例の動作の説明はレーザ測
長器のX軸の測長動作の概略を述べるに留める。
レーザヘッド36からの各レーザ光はビームスプリッタ
37により分割され、その一方がインタフェロメータ3
8Xに入力され、かつ、周波数fのレーザ光のみミラー
39の部分39Xに照射される。この状態でテーブル8
が変位すると照射されたレーザ光には、ドツプラ効果に
よりドツプラ変調が発生し、ミラ一部分39Xから反射
されるレーザ光の周波数は(r+ ±Δr+)となる。
この反射レーザ光はインタフェロメータ38Xを経て周
波数ftのレーザ光とともにレシーバ40Xに入力され
、レシーバ40Xでは、これら2つのレーザ光の周波数
に基づき(fz −(ft ±Δf1))の演算がなさ
れ、これに応じた信号が出力される。一方、レーザヘッ
ド36からは各レーザ光の周波数の差に応じた信号(f
2   fl)が出力され、レシーバ40Xの信号とと
もにパルスコンパレータ41に入力される。パルスコン
パレータ41では再入力値に基づいて((fz   f
t)−fz   (ft ±Δf1))の演算が実行さ
れ、この結果、信号±Δf1がとり出される。この信号
±Δf、はテーブル8の変位に比例した信号であり、制
御装置17”に入力されてさきの実施例における手順P
、における数値りとして用いられる。
このように、本実施例では、さきの実施例のリニアエン
コーダに代えてレーザ測長器を用いX軸およびY軸方向
の変位を測定するようにしたので、より精度の高い測定
が可能となり、又2軸測定の場合、原板を一旦取外した
後取付ける手間と時間を省(ことができる。
なお、上記各実施例の説明では、視野の中心におけるエ
ツジの確定は、偏差がOになるまで操返す例について説
明したが、微動機構の1回の駆動でエツジがほぼ視野の
中心近くに移動することから、視野の中心におけるエツ
ジの確定は1回乃至数回の所定回数行なうようにするこ
ともできる。
又、上記各実施例の説明では、電極パターン自体の寸法
および電極パターンの相互間の間隔を測定する例につい
て説明したが、これに限ることはなく、他の種々の測長
に適用することができる。
さらに又、上記各実施例の説明では、台の移動距離の測
定手段と微動機構自体による測定手段の両方を備えた側
について説明したが、台の移動距離の測定手段を除いて
微動機構自体による測定手段を備えた装置を構成するこ
とができるのは明らかである。この場合、測定可能範囲
が微動機構のストロークにより限定されるのは当然であ
る。
〔発明の効果〕
以上述べたように、本発明では、平行たわみ梁変位機構
により被測長物の測長基準位置を顕微鏡の視野の中心に
変位させてその確定を行なうようにしたので、レンズの
球面収差や顕微鏡の解像力に影響されることな(正確に
測長基準位置を確定することができ、これにより測定精
度を著るしく向上せしめることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例に係る測長装置の系統図、¥2
図は第1図に示す微動機構の斜視図、第3図は第1図に
示す装置の動作を説明するフローチャート、第4図(a
)、 (b)、 (C)、 (d)は画像処理装置の表
示部の表示を示す図、第5図は本発明の他の実施例に係
る測長装置の系統図、第6図は液晶表示装置の電極の配
置図、第7図は従来の測長装置の系統図、第8図(a)
、(、b)は画像処理装置の表示部の表示を示す図、第
9図(a)(b)、 (C)は電極パターンおよびその
信号波形図である。 5X、5Y・・・・・・・・・ステージ、6・・・・・
・・・・台、7−X、7Y・・・・・・・・・モータ、
8・・・・・・・・・テーブル、9・・・・・・・・・
原板、9p・・・・・・・・・電極パターン、10・・
・・・・・・・顕微鏡、14・・・・・・・・・カメラ
、15X、15Y・・・・・・・・・リニアエンコーダ
、16・・・・・・・・・画像処理装置、17′、17
”・・・・・・・・・制御装置、18・・・・・・・・
・微動機構、19・・・・・・・・・微動コントローラ
、36・・・・・・・・・レーザヘッド、38X、38
Y・・・・旧・・インタフェロメータ、39・・・・・
・・・・L型ミラー、40X、40Y・・・・・・・・
・レシーバ、41・・・・・・・・・パルスコンパレー
タ。 第 図 8a 7Fyb 31: り木み5采 32  :ノT営アクカニエータ 第 図 白 テーフ勺し /+!!   叛 2貝la、夕艷 カメラ リニアエンコーダ。 Ia像9.n理)1! 猿し動刊り礪 第 図 (Q) (b) (C) (d) 第 図 36 : レーサ゛ヘット“ 37  ・ 仁−ムスブリ、ツク 38X、3aY  :インクフェロメータ39 :L!
gミフー 40X、40V: t/J−/I”− 第 図 (a) (b) 第 図 Δy2

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被測長物を装置する台と、この台に対向し前記被
    測長物を視る顕微鏡と、この顕微鏡の視野の像の測定基
    準位置を確定するとともにこの測定基準位置と前記顕微
    鏡の中心線との偏差を演算する画像処理装置とを備えた
    測長装置において、前記台を移動させる移動機構と、前
    記台の移動距離を測定する測定手段と、平行たわみ梁変
    位機構で構成される微動機構と、この微動機構を前記偏
    差だけ移動させこの移動毎に前記測定基準位置の確定と
    前記偏差の算出を行なわせる制御手段と、前記偏差が零
    であるときの前記微動機構の駆動電圧に基づき当該微動
    機構の変位を演算する演算手段とを設けたことを特徴と
    する測長装置。
  2. (2)特許請求の範囲第(1)項において、前記測定手
    段は、リニアエンコーダであることを特徴とする測長装
    置。
  3. (3)特許請求の範囲第(1)項において、前記測定手
    段は、レーザ測長器であることを特徴とする測長装置。
  4. (4)被測長物を裁置する台と、この台に対向し前記被
    測長物を視る顕微鏡と、この顕微鏡の視野の像の測定基
    準位置を確定するとともにこの測定基準位置と前記顕微
    鏡の中心線との偏差を演算する画像処理装置とを備えた
    測長装置において、平行たわみ梁変位機構で構成される
    微動機構と、この微動機構を前記偏差だけ移動させこの
    移動毎に前記測定基準位置の確定と前記偏差の算出を行
    なわせる制御手段と、前記偏差が零であるときの前記微
    動機構の駆動電圧に基づき当該微動機構の変位を演算す
    る演算手段とを設けたことを特徴とする測長装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN110068267A (zh) * 2019-05-06 2019-07-30 广东工业大学 评价显微视觉测量性能的空间纳米定位与检测装置及方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110068267A (zh) * 2019-05-06 2019-07-30 广东工业大学 评价显微视觉测量性能的空间纳米定位与检测装置及方法
CN110068267B (zh) * 2019-05-06 2021-11-26 广东工业大学 评价显微视觉测量性能的空间纳米定位与检测装置及方法

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