JPH0253559A - ラップ機上定盤の吊持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明はラップ機上定盤、詳しくは吊持体の複数の吊杆
により吊持され回動するラップ機上定盤の吊持￥＆置に
関する。

（従来の技術） 従来、半導体ウェハー用ラップ機（Ａ＞は第３図に示す
如く、上定盤（１）と下定盤（２）との間にキャリアー
（３）を配置し、このキャリアー（３）でウェハー（４
）を保持し、上下両定盤（１）（２）とキャリアー（３
）を同時に回転させながらウェハー（４）を研削するも
のぐある。

そして上定盤（１）は内外径を有する環状形であって、
吊持体（５）の複数の吊杆（６）（６）・・・に吊持さ
れ回動自在であるとともに吊持体（５）が昇降用シリン
ダ（７）に連結されて１定ＩＩＡ＜１）を昇降させるよ
うにしている。

上定盤（１）は円盤状の定盤（１ａ）の上面に別部材か
らなる内フランジ（１１；）を接合し締結して一体的に
形成した構造が一般的であ、す、この上定盤（１）の吊
持装置には定盤（１ａ）に吊杆（６）を直接に連結する
定盤直吊り方式（第４図）と吊杆（６）を内フランジ（
１ｂ）に連結するフランジ吊り方式（第６図）とがある
。

（発明が解決しようとする課題） しかるに上記吊持装置において、定盤直吊り方式の場合
は上定盤（１）の外側部分が下がる反り傾向がみられ（
第５図）、フランジ吊り方式の場合は上定盤（１）の内
側部分が下がる反り傾向がみられく第７図）、シかも、
その反り量が４〜１５μｍと極めて大きい。

上窓１（’１）の反りはラップ機におけるウェハー研削
の平坦精度に直接影響し、その反りが小さいことが望ま
れる。

而して本発明は萌記従来事情に鑑み、反り傾向の極めて
少ない上定盤の吊持装置を提供して研削精度を向上させ
ることを目的とする。

（課題を達成するための技術的手段） 断る本発明の吊持装置は上定盤の吊り位置及び該位置を
中心にした上定盤の内外重量比を適正に設定すること、
すなわち上定盤の外周部に肉削部を形成し該肉削部の総
重量（Ｗａ）を上定盤の総重量（Ｗ）に対し、Ｗ３＝（
０〜０．１５）ＸＷにし、吊杆の吊り位置径（Ｄ＞を上
定盤の外径（Ｄ１）に対し、（）　＝　（０，６０〜０
．７１）Ｘ［）、に設定し、かつ吊り位置径より内側の
千１（Ｗａ）と外側の重量（Ｗｂ）との重量比をＷｂ　
＝　（１〜１．２）　×Ｗａに設定したことを特徴とす
る。

（実滴例） 本発明の実施例をフランジ吊り方式の場合について図面
により説明１れば、第１図は定盤（１ａ）上に内フラン
ジ（１ｂ）を締付は一体的に形成した上定盤（１）を示
し、（Ｄ＋　）が定盤（１ａ）の外径、（Ｄ２）が定盤
（１ａ）の内径、（６ａ）が吊杆（６）による吊り位置
、（１０）が定盤（１ａ）の外周部に形成した肉削部で
ある。

吊り位置（６ａ）は上定盤（１）の吊り位置径（Ｄ）の
円周上に等間隔をおいて複数個所、例えば６〜８個所に
配置する。

肉削部（１０）は定盤（１ａ）上の外周部に適宜間隔を
おいて多数形成し、その肉削される総ｆｆ１ｆｆｉを（
Ｗａ）とする。

上記肉削部（１０）は図示の如く外端に向けて削り閣を
深くするテーパ状とする他に、削り厚さを均一にする形
状とすることもよい。

上記定盤（１ａ）の内外径比（Ｄ２／ＤＩ）は０．３２
〜０．３４であり、定盤（１ａ）の重ｆｆ１（Ｗ＋）と
内フランジ（１ｂ）の重ω（Ｗ２）との重量比＜Ｗ２　
／Ｗ＋　）は０．３０〜０．４０である。

而して上記上定盤（１）にＪ３いて、定１（ｌａ）の肉
削部（１０）の肉削り総量ｆｌ（Ｗａ）を上定盤（１）
の総量ａ（Ｗ＞ずなわら（Ｗ＝ＷＩ　＋Ｗ２　）に対し
、Ｗａ　＝　（０〜０．１５）ＸＷにしたときに、萌記
吊り位置径（Ｄ）を、Ｄ　＝　（０，６０〜０．７１）
ＸＤｌに設定した場合に最適な吊り状態、すなわち反り
ｈｌが最小な状態が得られた。

その場合で、吊り位置径（Ｄ）より内側の上定盤（１）
の重１（Ｗａ）と外側の上窓１（１）の重量（Ｗｌ１）
との重量関係はＷｂ＝（１〜１．２）　×Ｗａである。

尚、ｗａ　＝Ｗａ＋　＋Ｗａ、２　、　Ｗｂ　＝ｗｂ、
　＋ｗｂ２であり、ｗａ、はＤより内側の定盤（１ａ）
のＱ　３１１　、　ＷａｚはＤより内側の内フランジ（
１ｂ）の重量、ｗｂ、ばＤより外側の定１（１ａ）のｌ
ｆｆ１、Ｗｂ２はＤより外側の内フランジの干吊である
。

上定盤（１）の形状と吊り状態とににる実寸法と反り−
１どの一例を示せば、Ｄ　Ｉ＝　１３００ＩｎＩｎ。

Ｄ２　＝　　４４０Ｈ，厚さ（ｔ　）　＝４５８．　Ｗ
＋　＝　　３４０Ｋｙ。

Ｗ２　＝　　１０５Ｋｉ？、　Ｗａ　−４５Ｋｇ、　［
）＝　　８６５ａ膚１反り量は０．９０μｍであった。

このことにす、従来装置の反り徂（４〜１５μｌ１１）
に較べて、反り量が著しく少ないことが理解される。

（効　果） 本発明によれば、吊り状態における上定盤の反りけが減
少し、研削作業の平坦精度を高めることができ、ウェハ
ー等の被研削材の仕上り品質を向上さぼることができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の吊持装置を示す断面図、第２第 図 第 図 第 図 第 図

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）内外径を有する環状形であって、吊持体の複数の
   吊杆により吊持され回動するラップ機上定盤において、
   上定盤の外周部に肉削部を形成し該肉削部の総重量（Ｗ
   ＿３）を上定盤の総重量（Ｗ）に対し、Ｗ＿３＝（０〜
   ０．１５）×Ｗにし、吊杆の吊り位置径（Ｄ）を上定盤
   の外径（Ｄ＿１）に対し、Ｄ＝（０．６０〜０．７１）
   ×Ｄ＿１に設定し、かつ吊り位置径より内側の重量（Ｗ
   ａ）と外側の重量（Ｗｂ）との重量比をＷｂ＝（１〜１
   ．２）×Ｗａに設定したことを特徴とする吊持装置。
2. （２）上定盤が定盤に内フランジを締付け一体的に形成
   され、その内フランジが前記吊杆により吊持される請求
   項第１項記載の吊持装置。