JPH0251436A - 光ファイバ母材の脱水焼結炉 - Google Patents

光ファイバ母材の脱水焼結炉

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Publication number
JPH0251436A
JPH0251436A JP20057888A JP20057888A JPH0251436A JP H0251436 A JPH0251436 A JP H0251436A JP 20057888 A JP20057888 A JP 20057888A JP 20057888 A JP20057888 A JP 20057888A JP H0251436 A JPH0251436 A JP H0251436A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
matsufuru
pressure
muffle
sintering furnace
gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP20057888A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuhiro Hatasa
畑佐 和弘
Koichi Harada
光一 原田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujikura Ltd
Original Assignee
Fujikura Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujikura Ltd filed Critical Fujikura Ltd
Priority to JP20057888A priority Critical patent/JPH0251436A/ja
Publication of JPH0251436A publication Critical patent/JPH0251436A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B37/00Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
    • C03B37/01Manufacture of glass fibres or filaments
    • C03B37/012Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
    • C03B37/014Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
    • C03B37/01446Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
    • C03B37/0146Furnaces therefor, e.g. muffle tubes, furnace linings

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、光ファイバ母材である多孔質母材中の水分を
除去する脱水処理と焼結処理を行う脱水焼結炉に関する
ものである。
「従来の技術」 第2図は、従来の光ファイバ母材の脱水焼結炉(以下、
脱水焼結炉と略称する)を示すものである。
このものは多孔質母材1が収容されるマツフル2と、こ
のマツフル2内に脱水剤を含むガスを供給するガス供給
機構3と、マツフル2内に収容された多孔質母材lを加
熱するヒータ4とから構成されている。この脱水焼結炉
のガス供給機構3は、ヘリウムガスを供給する流路3a
と脱水剤である塩素ガスを供給する流路3bとから構成
されており、流路3a、3bは合流された後マツフル2
の下部に連結されている。また流路3aにはヘリウムガ
スの流量を制御する流量コントローラ5が取り付けられ
ている。このガス供給機構3からマツフル2に供給され
たガスは、マツフル2内を上昇した後、マツフル2の蓋
部2aに有る貫通孔2bからゐ出する。またマツフル2
の上側部には枝管2Cが連設されており、この枝管2c
に取り付けられた差圧計6によって、マツフル2内の圧
力を測定できるようになっている。
そして、ガス供給機構3からマツフル2に供給されるガ
ス潰は、この炉の運転開始時に、差圧計6が所定値を示
すように流量コントローラ5を調整することにより設定
される。
「発明が解決しようとする課題」 前記従来の脱水焼結炉にあっては、マツフル2へのガス
供給量が炉の運転開始時に定められた量に保たれるため
、炉内温度が変化するとマツフル2の内圧が変化してし
まう問題があった。
また、前記従来の脱水焼結炉では、マツフル2に供給さ
れたガスがヒータ4の部分で一度膨張しその後マツフル
2上部で収縮するというガスの膨張収縮現象が原因とな
って発生するマツフル2の激しい共振により、マツフル
2内の圧力が脈動したりマツフル2の形状が変化してし
まう問題があった。
「課題を解決するための手段」 本発明の光ファイバ母材の脱水焼結炉では、マツフル内
の圧力に応じてマツフルに供給するガス量を制御する制
御機構を設けることによって前記課題の解決を図った。
「作用 」 本発明の光ファイバ母材の脱水焼結炉にあっては、炉内
温度の変化により内圧が変動するとこれを制御機構で検
知してマツフルへ供給するガス量を調整する。
また、供給したガスの膨張収縮現象によりマツフルの共
振が始まった場合にはマツフル内圧の脈動が起きるので
、制御機構によりこの脈動を検知し、脈動を抑制するよ
うにマツフルへのガス供給量を微調整する。
「実施例」 以下、図面を参照して本発明の光ファイバ母材の脱水焼
結炉を詳しく説明する。なお、前記従来例と同一構成部
分には同一符号を付して説明を簡略化する。
第1図は本発明の第1実施例を示すもので、マツフル2
の枝管2cには、マツフル2の内圧を計測し内圧に応じ
た電気信号を発する圧力センサ10が取り付けられてい
る。この圧力センサlOは比例積分微分制御部(以下P
ID制御部と略称する)11に接続されており、このP
ID制御部11はさらにガス供給機構3の流路3aに設
けられた流量コントローラ12に接続されている。そし
て、これら圧力センサlOとPID制御部11と流量コ
ントローラ12は、ガス供給量を制御する制御機構13
を構成している。
この脱水焼結炉では、ガス供給機構3の流路3aからヘ
リウムガスが供給され、流路3bから脱水剤としての塩
素ガスが供給されており、これらは合流されたのちマツ
フル2内にその下部から注入される。マツフル2内の圧
力は枝管2cに取り付けられた制御機構13の圧力セン
サloで計測され電気信号に変換されてPID制御部1
1に伝えられる。圧力センサlOからの電気信号に応じ
てPID制御部11からは原虫コントローラ12に調節
信号が発せられ、これに応じて前記流路3aを流れるヘ
リウムガス催が調整される。その結果、マツフル2への
ガス供給量が制御される。
この脱水焼結炉では、炉温の変化によりマツフル2内の
圧力が変化すると、制御機構13の圧力センサlOによ
って圧力変化が検知されこの結果に基づいてマツフル2
へのガス供給量が制御されるので、マツフル2の内圧を
直ちに所定値に回復させることができる。従って、この
脱水焼結炉によれば、マツフル内の圧力を安定に保持す
ることができる。
また、マツフル2へ供給したガスがヒータ4の部分で一
度膨張しその後マツフル2上部で収縮するガスの膨張収
縮現象によってマツフル2が共振を始める際には、内圧
の脈動が制御機構13の圧力センサlOで検知される。
そこで、PID制御部11から脈動を解消するように調
節信号を発してヘリウムガスの流量を微調整する。する
とマツフル2の振動を抑えることができる。このように
、この脱水焼結炉によれば、マツフル2の共振を抑制す
ることが可能なので、マツフル2の内圧の脈動おヨヒマ
ツフル2の形状の変化を防止することができる。
「発明の効果」 以上説明したように、本発明の光ファイバ母材の脱水焼
結炉は、マツフル内の圧力に応じてマツフルに供給する
ガス量を制御する制御機構が設けられたものなので、炉
温の変化によりマツフル内の圧力が変化しても、制御機
構によってガス供給量を制御して、マツフル内圧力を所
定値に回復させることができる。従って、この脱水焼結
炉によれば、マツフル内の圧力を安定に保持することが
できる。
また、本発明の光ファイバ母材の脱水焼結炉にあっては
、ガスの膨張収縮現象によってマツフルが共振を始めた
とき、共振の際に生じる内圧の脈動を制御機構で検知し
てこの脈動を解消するようにガス供給量を微調整できる
ので、マツフルの振動を抑えることができる。このよう
に本発明の脱水焼結炉によれば、マツフルの共振を抑制
することができるので、マツフル内圧の脈動およびマツ
フルの形状の変化を防止することかできる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の光ファイバ母材の脱水焼結炉の一実施
例を示す概略構成図、第2図は従来の脱水焼結炉を示す
概略構成図である。 l・・多孔質母材、 4・・・ヒータ、

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 多孔質母材が収容されるマツフルと、このマツフル内に
    脱水剤を含むガスを供給するガス供給機構と、マツフル
    内に収容された多孔質母材を加熱するヒータとからなる
    光ファイバ母材の脱水焼結炉において、 前記マツフル内の圧力に応じてマッフルへのガス供給量
    を制御する制御機構が設けられたことを特徴とする光フ
    ァイバ母材の脱水焼結炉。
JP20057888A 1988-08-11 1988-08-11 光ファイバ母材の脱水焼結炉 Pending JPH0251436A (ja)

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JP20057888A JPH0251436A (ja) 1988-08-11 1988-08-11 光ファイバ母材の脱水焼結炉

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CN103658657A (zh) * 2013-11-25 2014-03-26 宁波恒普真空技术有限公司 金属粉末注射成形真空脱脂烧结炉的可控冷却方法

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