JPH0249776A - 有機合成上有用な保護試薬、保護方法および脱保護方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （発明の分野） 本発明は有機合成上有用な新規な保護試剤とこれを用い
る保護方法、更にその脱保護方法に関する。

（従来技術） ｐ　Ｋ　ａ　／　ｊ以下のプロトン酸、例えばフエノー
ノヘ　チオフェノール、スルフィン酸、カルボン酸など
は、酸化剤、求電子試薬、アルキル化剤、アシル化剤と
容易に反応するために、有機合成上しばしば保護する必
要が生じる。一般にこれらのプロトン酸は、塩基存在下
、アルキル化またはアシルハライドあるいは酸無水物と
反応させてエーテルあるいはエステルとして保護される
。このようにして保護されたエーテルあるいはエステル
は通常水酸イオンや水素イオンを用いる加水分解反応に
より脱保護される。しかし、酸あるいはアルカリによっ
て損なわれやすいような化合物や官能基が分子内に共存
する場合、従来の酸、アルカリによる加水分解反応は適
用できない場合が多い。また、上記のような一゛）的な
エーテルあるいはエステルとして保護された保護生成物
は強酸あるいは強塩基性条件下では不安定であるという
欠点も合わせ持つ。

酸、アルカリによる加水分解を用いないで脱保護出来る
場合も数多く知られている。フェノール類を例にとると
、メチル基で保護したアリールメチルエーテルは、ヨウ
化トリメチルシラン、ナトリウムベンジルセレニドなど
の求核剤あるいは三臭化アルミニウムや三臭化ホウ素な
どのルイス酸等によって脱保護される。また、ベンジル
基で保護されたアリールベンジルエーテルはパラジウム
触媒存在下、水素添加により脱保護される。さらに、タ
ーフルオレンカルボン酸との縮合で得られたアリール−
ターフルオレンカルボキシラードは光照射によって脱保
護される。カルボン酸よシ誘導されたカルボン酸エステ
ルも上記と同様の方法で脱保役される例が報告されてい
る。これらの例としては、例えば、Ｊ、Ｆ、Ｗ、マコー
ミ−（Ｊ。

Ｆ”、Ｗ、　Ｍｃｏｍｉｅ）編プロテクテイヅ　グルー
プス　イン　オーガニック　ケミストリー（Ｐｒｏｔｅ
ｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　ｉｎ　ＯｒｇａｎｉｃＣｈ
ｅｍｉｓｔｒｙ）プレナムプレス出版社（ＮｅｗＹｏｒ
ｋ）　（Ｌｏｎｄｏｎ）　／２７３年版とＴ、Ｗ。

Ｇｒｅｅｎ　（Ｔ、Ｗ、　Ｇｒｅｅｎ）著プロテクテイ
ブ　グループス　イン　オーガニック　シンセシス（Ｐ
ｒｏｔｅｃｔｉｖｅ　Ｇｒｏｕｐｓ　　ｉｎ　Ｏｒｇａ
ｎｉｃＳｙｎｔｈｓｉｓ）ウィリーインサイエンス出版
社（Ｎｅｗ　Ｙｏｒｋ）　／２ｇ／年版に詳しく記述さ
れている。これらの、酸、アルカリ条件下での加水分解
反応による脱保護を必要としない保護基は非常に有用な
場合もある。しかしながら、保護基としての基本的な条
件、すなわち、保護が容易にかつ選択的に行うことが出
来る、保護された化合物が目的とする反応条件下で安定
である、脱保護が穏和な条件下で選択的に行うことが出
来る等をすべて満たしているとは言いがたく、何らかの
欠点を持っている。これらの欠点を相補うことの出来る
新規な保護基の開発は有機合成上価値あることである。

（発明の目的） 本発明の第一の目的は、ｐＫａが１５以下のプロトン酸
を穏和な条件下で容易に保護可能で弱塩基性から酸性条
件下まで広い範囲において安定な化合物を形成し、しか
も、非常に穏和な条件下（中性条件下、還元的あるいは
光照射下）で他の官能基を損なうことなく脱保護可能な
保護基を提供することにある。

本発明の第二の目的は、ｐＫａｚｔ以下のプロトン酸を
穏和な条件下で保護する方法を提供することにある。

本発明の第三の目的は、保護されたｐ　Ｋ　ａ　／　ｊ
以下のプロトン酸を穏和な条件下脱保護する方法を提供
することにある。

（発明の構成） 上記の目的は、下記一般式（Ｉ）で表される保護試剤に
よって達成される。

一般式（１） 一般式（１）において、Ｘはハロゲン原子またはスルホ
ニルオキシ基でアル。スルホニルオキシ基の例としては
、パラトルエンスルホニルオキシ基、パラブロモベンゼ
ンスルホニルオキシ基、メタンスルホニルオキシ基、ト
リフルオロメタンスルホニルオキシ基等が挙げられる。

Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ、水素原子またはその他の置換基
を表すが　Ｒ１、Ｒ２の少なくとも一方はニトロ基で置
換されたアリール基あるいは複素環基を表す。

Ｒ１およびＨの好ましい例について述べる。

ニトロ基によって置換されたアリール基としては、例エ
バ、≠−ニトロフェニル基、コーニトロフェニル基、コ
ーニトロー弘−Ｎ−メチル−Ｎ　−ｎ　−オクチルスル
ファモイルフェニル基、λ−ニトロ−ａ−Ｎ−メチル−
Ｎ−ｎ−ヘキサデシルスルファモイルフェニル基、λ−
ニトロー≠−Ｎ−メチルーＮ−（Ｊ−カルボキシプロピ
ル）スルファモイルフェニル基、λ−ニトロー≠−Ｎ−
エチルーＮ−（、ｚ−スルホエチル）スルファモイルフ
ェニル基、ｉ−二トロー≠−Ｎ−ｎ−ヘキｖｆ　シル−
Ｎ−（Ｊ−スルホプロピル）スルファモイルフェニル基
、２−ニトロ−≠−Ｎ−（２−シアノエチル）−Ｎ−（
（２−ヒドロキシエトキシ）エチル）スルファモイルフ
ェニル基、コーニトロー≠−ジエチルスルファモイルフ
ェニル基、λ−ニトロー≠−シーｎ　−ｉチルスルファ
モイルフェニル基、２−ニトロ−≠−ジーｎ−オクチル
スルファモイルフェニル基、λ−ニトロー≠−メチルス
ルファモイルフェニル基、λ−ニトロー≠−ｎ−ヘキサ
デシルスルファモイルフェニル基、λ−ニトロ≠−Ｎ−
メｆルーＮ−（≠−ドデシルスルホニルフェニル）スル
ファモイルフェニル基、ローニトロ−≠−（３−メチル
スルファモイルフェニル）スルファモイルフェニルＬ　
ａ−二トロー２−Ｎ−メチル−Ｎ　−ｎ−ドデシルスル
ファモイルフェニル基、≠−ニトローコーＮ−メチルー
Ｎ　−ｎ　−オクタデシルスルファモイルフェニル基、
ｉｔ−ニトロ−λ−ジエチルスルファモイルフェニル基
、≠−ニトローコージ＝ｎ−オクタデシルスルファモイ
ルフェニル基、コーニトロー≠−クロロフェニル基、コ
ーニトロ＝≠−Ｎ−メチル−Ｎ−ｎ−ブチルカルバモイ
ルフェニル基、−一二トロー弘−Ｎ−メチル−Ｎ−（Ｊ
−カルボキシプロピル）カルバモイルフェニル基、２−
ニトロ−≠−ジエチルカルバモイルフェニル基、コーニ
トロー≠ジーｎ−オクチルカルバモイルフェニル基、λ
−ニトロー≠−メチルカルバモイルフェニル基、コニド
ロー弘−ｎ−ヘキサデシルカルバモイルフェニル基、λ
−ニトロー≠−Ｎ−メチルーＮ　−（４Ｌ−ドデシルス
ルホニルフェニル）カルバモイルフェニル基、≠−ニト
ローｕ−Ｎ−メｆルーＮ−ｎ　−−／チルカルバモイル
フェニル基、≠−ニトローｘ−Ｎ−メ５−ルーＮ　−ｎ
−オクチルカルバモイルフェニル基、≠−ニトローλ−
Ｎ−メチルーＮ−ｎ−ヘキサデシルカルバモイルフェニ
ル基、μｍニトロ−５−Ｎ−エチル−Ｎ−（ロースルホ
エチル）カルバモイルフェニル基、クーニトロ−１−ｎ
−ヘキサデシルカルバモイルフェニル基、≠−ニトロー
２−Ｎ−、、＋チルーＮ−（弘−ドデシルスルホニルフ
ェニル）カルバモイルフェニル基、λ−ニトロー≠−メ
タンスルホニルフェニル基、−ｍ；トロー＋−ｎ−ドデ
カンスルホニルフェニル基、λ−ニトロー≠−（＋２−
スルホエテルスルホニル）フェニル基、λ−ニトローグ
ーカルボキシメチルスルホニルフェニル基、！−二トロ
ー≠−カルボキシフェニル基、λ−ニトロー≠−エトキ
シカルボニル−ｒ−ｎ−ブトキシフェニル基、コーニト
ロー≠−エトキシカルボニル−ｊ−ｎ　−ヘキサデシル
オキシフェニル基、！−ニトロー≠−ジエチルカルバモ
イル−ｊ−ｎ−ヘキサデシルオキシフェニル基、コーニ
トロー≠−シアノ＝ｊ−ｎ−ドデシルフェニル基、λ、
≠−ジニトロフェニル基、−ｍ；トローＩｆ　−ｎ　−
デシルチオフェニル基、３．ｊ−ジニトロフェニル基、
ノーニトロ−３，ｊ−ジメチル−≠−ｎ−ヘキサデカン
スルホニルフェニル基、≠−ニトローコーメタンスルホ
ニルフェニル基、≠−ニトロー、２−　ｎ　−）”デカ
ンスルホニルフェニル基、弘−ニトロ一一−（ロースル
ホエチルスルホニル）フェニル基、≠ニトローλ−力ル
ボキシメチルスルホニルフェニル基、≠−ニトローコー
カルポキシフェニル基、弘−ニトローコーエトキシ力ル
ボニル−ｔ−ｎヘキサデシルオキシフェニル基、≠−ニ
トロー２ジエチルカルバモイル−！−ｎ−ヘキサデシル
オキシフェニル基、≠−ニトローーーシアノーよ−ｎ−
ドデシルフェニル基、≠−ニトロー２−ｎ−テシルチオ
フェニル基、≠−ニド０−３．！−ジメチルー２−　ｎ
−ヘキサデカンスルホニルフェニル基、弘−ニトロナフ
チル基、ｒ、≠−シニト０−）−フテル基、弘−ニドロ
ース−ジオクチルカルバモイル−ｚ−（Ｊ−スルホベン
ゼンスルホニルアミノ）ナフチル基、λ−ニトロー≠−
ペンソイルフェニル基、≠−ニトロー２−１Ｊフルオロ
メチルフェニル基、λ−ニトロー！−）！フルオロメチ
ルフェニル基、弘−ニドロー３−トリフルオロメナルフ
ェニル基、λ−ニトロー５−ｎ−オクタデシルオキシフ
ェニル基、λ−ニトローａ−Ｎ−（ヒニルスルホニルエ
チル）−Ｎ−メチルスルファモイルフェニル基などが挙
けられる。

ニトロ基によって置換された複素環基の好ましい例とし
ては、例えばよ−二トロー２−ピリジル基、！−二トロ
ーＮ−ヘキサデシルカルバモイル−２−ピリジル基、弘
−ニトロチオフェン−ローイル基、λ−メチルー６−二
トロベンツオキサゾールーｊ−（ル基、！−ニトロー２
−フリル基、ｊ−ニトロベンツチアゾール−１−イル基
ｆｌト−１）１挙げられる。

ニトロ基で置換されたアリール基、ニトロ基で置換され
た複素環基以外のＲ１、Ｒ２にふされしい基としては次
のような基が挙げられる。

アルキル基、アラルキル基。例えば、メチル基、トリフ
ルオロメチル基、ベンジル基、クロロメチル基、ジメチ
ルアミノメチル基、エトキシカルボニルメチル基、アミ
ノメチル基、アセチルアミノメチル基、エチル基、ロー
（弘−ドデカノイルアミノフェニル）エチル基、カルボ
キシエチル基、アリル基、３，３．３−）リクロロプロ
ビル基、ｎ−プロピル基、１ｓｏ−プロピル基、ｎ−ブ
チル基、１ｓｏ−ブチル基、５ｅｃ−ブチル基、ｔ−ブ
チル基、ｎ−ペンチル基、３ｅｃ−ペンチルｇ、ｔ−−
＜メチル基、シクロペンチル基、ｎ−ヘキシル基、５ｅ
Ｃ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、
ｎ−オクチル基、５ｅｃ−オクチル基、ｔ−オクチル基
、ｎ−デシル基、ｎ　−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基
、ｎ−テトラデシル基、ｎ−にンタデシル基、ｎ−ヘキ
サデシル基、５ｅｃ−ヘキサデシル基、Ｌ−ヘキサデシ
ル基、ｎ−オクタデシル基、Ｌ−オクタデシル基、など
）アルケニル基（置換されてもよいアルケニル基。

例えば、ビニル基、λ−クロロビニｋＬ／−メチルビニ
ル基、λ−シアノビニル基、シクロヘキセン−／−イル
基、など） アルキニル基（置換されてもよいアルキニル基。

例えば、エチニル基、／−プロピニル基、コーエトキシ
カロボニルエテニル基、ナト） アリール基（置換されてもよいアリール基。例えば、フ
ェニル基、ナフチル基、３−ヒドロキシフェニル基、３
−クロロフェニル基、≠−アセチルアミノフェニル基、
弘−ヘキサデカンスルホニルアミノフェニル基、コーメ
タンスルホニルー≠ニトロフェニル基、３−ニトロフェ
ニル基、弘−メトキシフェニル基、弘−アセチルアミノ
フェニル基、≠−メタンスルホニルフェニル基、λ。

ｔ−ジメチルフェニル基、グーテトラデシルオキ７フエ
ニル基、など）、 複素環基（Ｈ，換されてもよい複素環基。

／−イミダゾリル基、λ−フリル基、ｘ−ｅ、７ンル基
、ｊ−二トロー２−ピリジル基、３−ｅリミシル基、３
．！−ジシアノーλ−ピリジル基、！−テトラゾリル基
、ｊ−フェニル−／−テトラゾリル基、コーペンノチア
ゾリル基、−一ベンツイミダゾリル基、λ−ペンツオキ
サシリル基、ローオキサゾリン−２−イル基、モルホリ
ノ基、など）、アシル基（置換されてもよいアシル基。

例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチロイル基、
１ｓｏ−ブチロイル基、λ、２−ジメチルプロピオニル
基、ベンゾイル基、ｊ、≠−ジクロロベンゾイル基、３
−アセチルアミノ−グーメトキシベンゾイル基、≠−メ
チルベンゾイル基、弘−メトキシ−３−スルホベンゾイ
ル基、なト）、スルホニル基（置換されてもよいスルホ
ニル基。

ｆｌＪ、ｔハ、メタンスルホニル基、エタンスルボニル
基、クロルメタンスルホニル基、フロパンスルボニル基
、メタンスルホニルＬ　　ｎ−オクタンスルホニル基、
ｎ−ドデカンスルホニル基、ｎ−ヘキサデカンスルホニ
ル基、ベンゼンスルボニル基、≠−トルエンスルホニル
基、≠−ｎ−ドデシルオキシベンゼンスルホニル基、な
ト）、 力ｋ　パモイ／＋４（ｆｉｌ換されてもよいカルバモイ
ル基。例エバ、カルバモイル基、メチルカルバモイル基
、ジメチルカルバモイル基、ビス−（２−メトキシエチ
ル）カルバモイル基、ジメチルカルバモイル基 −ｎ−オクチルカルバミル基、３−ドデシルオキシプロ
ピルカルバモイル基、ヘキサデシルカルバモイルＬ　３
−（、ｚ、＜ｚ−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）プロピ
ルカルバモイル基、３−オクタンスルホニルアミノフェ
ニルカルバモイルＬ　ジ−ｎ−オクタデシルカルバモイ
ル基、など）モイル基。例えば、スルファモイル基、メ
チルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、ジ
エチルスルファモイル基、ビス−（λ−メトキシエチル
）スルファモイル基、ジーｎ−−ｊチルスルファモイル
基、メチル−ｎ−オクチルスルファモイル基、ｎ−ヘキ
サデシルメチルスルファモイル基、３−エトキシプロビ
ルメチルスルファモイルス＆、Ｎ−フェニル−Ｎ−メチ
ルスルファモイル基、’ｌ−デシルオキシフェニルスル
ファモイル基、メチルオクタデシルスルファモイル基、
など）。

さらに、本発明の内容を詳細に説明するために、以）に
、本発明で用いられる保護試薬について第１表及び第２
表に具体例を示すが、本発明の内容本発明の一般式（１
）で表される保護試剤は−反応させることによって容易
にクロロメチル体般的にスキーム（Ｉ）のように合成す
ることが出　　　（１）を得ることが出来る。

来る。　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　具体的合成例を次に示す。

（ｎ） （ＩＩＩ） すなわち、ハロゲン原子など置換容易な基を導入したＲ
１−Ｙ（Ｙは離脱基）を３−ヒドロキシイソオキサゾー
ル（ｎ）で求核置換反応を行うことによって得られた中
間体（Ｉ［ｌ）を塩化亜鉛存在下、パラホルムアルデヒ
ドおよび塩化水素ガスと一ルの合成 標記化合物は以下の文献、特許に記載の方法を参考にし
て容易に合成することが出来る。

三共研究所年報、２．２巻、−／！頁（／り７０）、特
公昭ｊ２−タＡ７ｊ号、プラタン　ド　ラ　ソシエテ　
ケミク　ド　フランセ（Ｂｕｌｌｅｔｌｎ　ｄｅｌａ　
５ｏｃｉｅｔｅ　Ｃｈｉｍｉｑｕｅ　ｄｅ　Ｆｒａｎｃ
ｅ）／７７．８′頁、特開昭７７−２０乙Ａ４．ｒ号、
同！７−２０１６６７号、テトラヘドロン （Ｔｅ　ｔｒａｈｅｄｒｏｎ　）、２０巻、２ｇ３！頁
（／りａ＋）、特開昭３１−／９１ＡＩＡ７号、同ｊ７
−７（＃７ｒ号、特公昭≠デー≠了り５３号、特開昭！
ター／り０り７７号、ジャーナル　オブ　オルガニック
　ケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆＯｒｇａｎｉｃ
　Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）、ｔ、ｔｒ巻、４１３０７頁（
／り１３年）、Ｃｈｅｍｉｃａｌ　ａｎｄＰｈａｒｒｎ
ａｃｅｕｔｉｃａｌ　Ｂｕｌｌｅｔｉｎ、　／　ｐ巻、
２７７頁、Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ、　　／　２巻、
１０号、ｌ＋２り７頁、カナデアン　ジャーナル　オブ
　ケミスト　リ　−　（Ｃａｎａｄｉａｎ　　Ｊｏｕｒ
ｎａｌ　　　ｏｆＣｈｅｍｉｓｔｒｙ）、ｌ＋２巻、／
り４Ａｏ頁、特開昭ｊターｊＯ／り０７号。

例−／ｒ−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシインオキサゾー
ルの合成 ヒドロキシルアミン塩酸塩！１３．７ｇを≠Ｎ水酸化ナ
トリウム水溶液、２１Ｊツトルに溶解し、水冷下エタノ
ールλリットルを添加し、さらにμＮ水酸化ナトリウム
ーエタノール（／：／）混合溶液を加えて溶液のｐＨを
ｉｏ、ｏＫ調節した。この溶液にピバロイル酢酸エチル
エステル７３ｔＯｇと≠Ｎ水酸化ナトリウム水溶液−エ
タノール（ｉ：ｉ）混合溶液を反応溶液のｐＨが１０．
０士０．２、温度がｏ−ｒ　０ｃＫ調節して滴下した。

滴下終了後、室温で２時間攪拌したのち、ＯｏＣの濃塩
酸水４ｋｇに注ぎ／−時間放置した。析出した結晶を１
取し、十分に水洗したのち乾燥した。

収量７７０　ｇ、収率６ｇ、２％、融点り７−／Ｑ／　
０Ｃ 例−λ　Ｎ−ヘキサデシル−３−二トロー≠−クロロベ
ンゼンスルホンアミドの合成 ♂００ｇｔＤ３−ニトローμｍクロルベンゼンスルホニ
ルクロリドと１０１００Ｏのジクロロメタンを混合し、
これにヘキサデシルアミンｌ、　００　ｇ。

トリエチルアミン２　ｊ　／　ｍｌのジクロロメタン溶
液を滴下した。反応終了後この反応溶媒を減圧留去し３
０００ｍｌのメタノールを加え加熱し溶解しだ後ゆっく
り冷却すると結晶が析出した。この結晶を沢取し乾燥し
た。

収量ｉｏｉｏｇ、収率１１ｆｖ、融点９／−９３例−３
Ｎ−メチル−Ｎ−ヘキサデシル−３−二トローμｍクロ
ロベンゼンスルホン アミドの合成 Ｎ−ヘキサデシル−３−ニトロー≠−クロロベンゼンス
ルホンアミド／７０ｇをアセトン６≠Ｏｍｌに溶解し、
炭酸カリウム７９ｇ、ポリエチレングリコール≠００　
４ｍｌ、ジメチル硫酸７／ｇを加え５時間加熱還流した
。これにアセトンコｔＡｏｍｌを加えｔｐｏ　０ｃで水
ｒ７０ｍｌを滴下し室温まで冷却すると結晶が析出した
。結晶をＰ取し、水、メタノールで洗い乾燥した。

収１に７６７ｇ１収率り７％、融点７４Ｌ−７ｔ０ｃ例
−≠　１−１−ブチル−２−（≠−Ｎ−メチルーＮ−ヘ
キサデシルスルファモイル ーコーニトロフェニル）≠−イソオキ サゾリンー３−オンの合成 Ｎ−メｆルーＮ−ヘキサデシルー３−ニトロ−≠−クロ
ロベンゼンスルホンアミド≠７０ｇ、！−も一ブチルー
３−ヒドロキシイソオキサゾール／６２ｇ１炭酸カリウ
ムｉｔｒｇ、ジメチルスルホキシド／、２１を混合しｌ
ｔ’ｃで６時間反応した。反応液を氷水に注ぎ析出した
結晶をＰ取し、水洗後乾燥した。

収量ｊ７１ｒｇ、収率１００％、融点６７−乙ｒＣ ｅＡＪ−ｚｓ−ｔ−ブチル−弘−クロロメチル−λ−（
グーＮ−メチル−Ｎ−ヘキサデ シルスルファモイル−２−二トロンエ ニル）−弘−イソオキサゾリン−３− オンの合成 ｊ−ｔ−ブチル−５−（＋−Ｎ−ヘキサデシルスルファ
モイル−λ−二ト口フェニル）−４’−イソオキサゾリ
ン−３−オンｊ！Ｏｇ、塩化亜鉛２００ｇ、ノｅラホル
ムアルデヒド２００　ｇ、酢酸ｌ。

！ｌを混合し、塩化水素ガスを吹き込みながら１０時間
加熱還流した。冷却後、反応液を水にあけ、析出した結
晶をｒ取し、アセトニトリル−メタノール（／：＜ｔ）
混合溶媒より再結晶した。

。収量ｚｒｊｇ、収率り乙チ、融点！６　°Ｃ一般式Ｃ
１）で表される保護試剤によって容易に保護可能な基Ｉ
Ｘは一般的に（ＩＶ）で表される様なｐＫａ１５以下の
プロトン酸である。

一般式（ＩＶ） ５−Ａ−Ｈ Ａは酸素原子、硫黄原子、窒素原子を含む原子団（−Ｎ
−）、スルホニル基、スルフィニル基、リン原子を含む
基Ｃ−Ｐ（＝０）−Ｅ等が挙げられる。

Ｒ５ｄアルキル基、アラルキル基、アルケニル基、アル
キニル基、アシル基、アリール基、複素環基を表わす。

本発明において、一般式（Ｉ）で表される保護試剤によ
って一般式（■）が容易に保護され安定な化合物を形成
し、また、中性条件下で還元的にあるいは光照射下に容
易に脱保護可能であるためには、一般式（ＩＶ）で表さ
れるプロトン酸のｐＫａ値が／夕以下であり、さらに好
ましくは７３以下である。本発明の保護基は、還元（還
元剤による還元のみならず光による還元も含む）によっ
てまず窒素、酸素間の一重結合が開裂し、この後に起こ
る脱離反応によって脱保護が完了するが、ｐＫａが高い
プロトン酸ではこの脱離反応の速度が遅くなる。保護さ
れるプロトン酸の好ましいｐＫａの範囲は以上のような
物性から要請されるものであるが、脱保護速度の許容範
囲が充分に犬きく出来る場合においては、さらにｐ　Ｋ
　ａの高いものにも適用することができる。またアミン
基等のようにオニウムを形成可能の基はいったん窒素、
酸素間の結合を切断したのちに、酸性条件下で脱離反応
を行い効果的に脱保護を行うことも出来る。

但し、本発明の中で用いられているｐＫａ値、即ち酸解
離定数の対数の概念は大木通則著「酸と塩基」（培風館
／り７６年）ｉｊ−２ｏ頁に記載されている概念による
。

以下に本発明の保護試剤〔一般式（Ｉ）〕による被保護
基質〔一般式（■）〕の一般的な保護及び脱保護方法に
ついて述べる。

（１）　　−船釣保護方法 （り （２）−船釣脱保鰻方法 ｒζ１ （Ｖ） 塩基として炭酸カリウム（１，／当量）を用い、−轟蓋
の（１）と（■）をアセトン還流条件下で反応させるこ
とにより保護生成物（Ｖ）が得られる。溶媒はＤ　Ｍ　
Ｆ　、　Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏ、Ｄ　Ｍ　Ａ　ｃなどでも良い
が、この場合には反応温度はｊｏ　０Ｃ以下が好ましい
。−まだ、触媒量の四級アンモニウム塩やトリス（メト
キシエトキシエチル）アミンあるいはポリエチレングリ
コール等の添加は反応を促進させる効果が１おる。Ｘが
フッ素、塩素、臭素原子の場合には触媒量のヨウ化す）
　ＩＪウムを添加することも反応を促進する。

（■） （■） （但し　Ｒｐま一般式（Ｖ）の化合物を用いて行なった
所定の反応の結果Ｒ５が変化してできる基を表わす） 保護された反応生成物（Ｍ）は穏和な条件下、実質的中
性条件下還元剤による窒素−酸素結合の開裂に伴う炭素
−Ａ結合の切断、あるいは光照射による窒素−酸素結合
の開裂に半う炭素−Ａ結合の切断によって容易に脱保護
される。後者の場合、公知の光還元剤を併用することも
できる。

脱保護条件（ａ） 適当な溶媒（アセトニトリル、ＤＭＦ（ジメチルホルム
アミド）、ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、ジエチルニ
ー戸ル等、あるいはこれらと水もしくはアルコール系溶
媒との混合溶媒でもよい）に（■）及び適当な還元剤を
溶解し、適当な温度（−７Ｊ”Ｃ〜十１０Ｑ０Ｃ程度が
好ましい。）で攪拌することによって、脱保護される。

脱保護速度が遅い場合は、反応温度を上げるか、または
、（〜１）がアルカリ条件下で安定な化合物の場合には
、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基あるいは炭
酸カリウム、重炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の
無機塩基を添加して溶液のｐＨを上げることによって脱
保護速度を加速することができる。

還元剤はＮａ２ＳＯ３、Ｎ　ａ　ＨＳ　Ｏ３、Ｈ３Ｐな
どの無機化合物であっても、アルキルアミン、アリール
アミン、アルキルメルカプタン、アリールメルカプタン
、あるいは、アルキルホスフィン、アリールホスフィン
などの有機化合物であってもよいが、下記の一般式（■
）で表わされるケンダールーハルツ式（Ｋｅｎｄａｌ−
Ｐｅｌｚ式）に従う化合物が好ましい。

一般式（■） Ｑｔ−＋α＝βヤＱ２ いは−８−８ｕｂを表わす。

ｎはＯからｒまでの整数を表わし、ｎ−０の時−殺伐（
■）はＱｌ−Ｑ２である。

Ｓｕｂ α、βは−Ｃ＝　あるいは−Ｎ−を表わし、ｎがλよシ
太きいとき、子α１＝β１＋樟α２＝β２＋・・・・・
・のαｌ、α２、β１、β２・・・・・・は異っていて
もよい。

Ｓｕｂは水素原子、またはその他のＩｔ換基を表わす。

またＱｌとＱ２、Ｑｌとαまたはβ、Ｑ２とαまたはβ
とで複素環を形成していてもよい。

その例としては、ノ・イドフキノン類、アミンフェノー
ル類、カテコール類、ｐ−フエニレンジアミノ類、３−
ピラゾリジノン類、アスコルビン酸、グーアミノ−よ−
ピラゾロン類等が挙げられる他、Ｔ、Ｈ，Ｊａｍｅｓ著
、−Ｔｈｅ　　ｔｈｅｏｒｙ　ｏｆ　　ｔｈｅｐｈｏｔ
ｏｇｒａｐｈｉｃ　ｐｒｏｃｅｓｓ’　≠Ｈｉ、　Ｅｄ
、　　＋２り／〜３３≠ば一ジに記載の還元剤も利用で
きる。

脱保護条件（ｂ） 脱気したイソプロパツールあるいはエタノール−アセト
ニトリル（／：／）混合溶媒に（Ｖｌ）及び０．０ｊ当
菫の７エプンスレンキノンをｆｔｊＷし、窒素雰囲気あ
るいはアルゴン雰囲気下で、パイレックスガラス反応容
器中、攪拌しながら可視光（ｉｏｏＷｔ球）を照射する
ことにより脱保護される。

光還元剤としては上記のフェナンスレキノンの他に次の
ものを用いることができる。

ベンゾフェノン、λ−メトキシベンゾフェノン、コーメ
チルベンソフエノン、λ−クロロベンツフェノン、λ、
３−ジクロロベンゾフェノン、２゜ｒ−シー　ｔ　ｅ　
ｒ　ｔ−ブチルベンゾフェノン、コ。

！−ジクロロベンゾフェノン、２．Ｊ、ｔ−１リメチル
ベンゾフエノン、！、ｔ−ジメザルベンゾフエノン、コ
、６−ジクロロベンゾフェノン、−９Ｊ、！、６−チト
ラクロロベンゾフエノ／、λ。

３−ジクロロ−よ、乙−ジシアノ−ベンゾフェノン、≠
、≠’−Ｎ、Ｎ、Ｎ’、Ｎ’−テトラキスメチルジアミ
ノベンゾフェノン、ベンゾフェノン−３，３’、≠　４
Ｚ／−テトラカルボ゛ン酸無水物、３゜ｊ’、４’、Ｆ
’−テトラメトキシベンゾフェノン、ギサントン、チオ
キザントン、−一クロロチオキサントン、！−エチルア
ントラキザ７トン、ナフトキノン、２−メチルナフトキ
ノン１．２３−ジクロロナフトキノン、−一アミノー３
−タロロナフトキノ／、−一クロロー３−メチルナフト
キノン、フルオレノン１．！１７−ジニトＩフフルオレ
ノン、アントロ／、アンスラキノン、アンスラキノン−
２−スルホン酸ナトリウム、２−メチルｆンスラキノン
、コーアセトアンスラキノン、２−を−ブチルアンヌラ
キノン、／、タージクロロアンスラキノン、２−アミノ
−アンスラキノン、／≠グーアミノアンスラキノン、λ
−クロロアンスラキノン、アンスラキノン−／、ｊ−ジ
スルホン酸すトリウム、アセナフテンキノン、アンタン
トロンなどが挙げられる。

照射する光は可視光に限らないが、光還元剤として上記
のような芳香族ケトンあるいはキノン類を用いる場合に
は、それらのｎ→π＊吸収帯を含むものが好ましい。

（発明の効果） 本発明における保護試薬および保護方法は、基本的には
、プロトン酸をアルキルハライドを用いて保護する場合
と同じと考えてよい。従って保護試薬（１）を用いて保
護された生成物は酸性領域においては一般的なアルキル
ハライド（例えばＭｅＩ）を用いて保護されたエーテル
あるいはエステルなどと同様に非常に安定と考えてよい
。

（アルカリ領域、特に強アルカリ条件では、イソオキサ
シロン環が加水分解を受けやすいので注意を要する。） 保護試薬（Ｉ）を用いる場合の最大のメリットは脱保護
が非常に穏和な条件で進行することにある。もちろん、
−船釣な酸またはアルカリ条件下での加水分解による脱
保護あるいは、ＢＢｒ３、ＡｌＢｒ３、Ｍｅ３ＳｉＩ等
のルイス酸を用いる脱保護も可能である。しかし、同−
基質内に他の官能基が存在する場合、これらの条件を使
うことができない場合は珍らしくない。これに対し、本
発明の保護方法ではほぼ中性条件下で適当な還元剤を用
いるか、あるいは触媒量の光還元剤存在下光照射するだ
けで容易に脱保護が可能であり、有機合成への応用は多
岐にわたると期待できる。

本発明の効果を具体的に示すために次の実施例を挙げる
。

実施例／ λ、６−シメチルー！−ヒドロキシベンゾオキサゾール
への選択的保護基の導入及び選択的脱保護。

ＣＨ３ ０へ■ ＣＯＮＨＣ１６Ｈ３３ ０λ、２−ジメチル−！−ヒドロキシベンゾオキサゾー
ルの水酸基の保護反応ｔ ７セト７２．９０ｍ１ＶＣｊ−ｔ−ブチル−グークロロ
メチル−ｒ−（ａ−Ｎ−ヘキサデシルカルバモイルーコ
一二ト口フェニル）−４＝−１ソオキサゾリン−３−オ
ンｊＯｇ、λ、ｔ−ジメチル−！−ヒドロキンベンゾオ
キサゾール／ｌＬｔ、７ｇを混合し、さらに炭酸カリウ
ム／３−１ｇｚ　　ヨウ化ナトリウム３．０ｇ、トリス
（メトキシエトキシエチル）アミン／、Ｏｍｌを加え３
時間加熱還流した。冷却後反応混合物に水を注ぎ、酢酸
エチルを加え抽出したのち、有機層を無水硫酸ナトリウ
ムで乾燥した。つぎに溶媒を減圧留去したのち、残渣を
カラムクロマトグラフィーにより分離生成した。

収量ｊ７．＆ｇ　　　収率り５％ Ｏオキサゾールの開環反応：　！　−ｔ　−ブナルーク
ー（λ−メチルー≠−ヒドロキシーよ一アミノ）−フェ
ノキシメチル−λ−（＜ｚ−Ｎ−ヘキサデシカルバモイ
ル−２−ニトロフェニル）−弘一イソオキサゾリンー３
−オン塩酸塩の合成；エタノール１１００ｍ１Ｋ２３０
と７．２Ｎ塩酸水溶液／！ｍｌを混合し、１０時間加熱
還流した。

冷却後撹拌しなから水ｓｏｍｌをゆっくり添加すると結
晶化した。析出した結晶をｆ取しエタノールで洗浄した
のち乾燥した。収量λ４、．２ｇ収率ｒｊ％ ａｔ−ｔ−ブチル−弘−（２−メチル−≠−ヒドロキシ
ー！　−Ｎ　−Ｂ　ｏ　ｃアミノ）−フェノキシメチル
−，２−（＋−Ｎ−ヘキサデシルカルバモイル−λ−ニ
トロフェニル）−ｑ−イソオキサゾリン−３−オングの
合成； 酢酸エチル１００ｍ１に３　ユＱｇ、）リエチルアミン
≠、ｏｍｌｚ　　ジブトキシジカーボ′ネートｒ、ｒｇ
を混合し、２ｊ０Ｃでｇ時間攪拌した。

反応混合物に食塩水を加え、酢酸エチルで抽出したのち
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減圧留去したの
ち残渣をカラムクロマトグラフィーにより分離精製した
。

収率ｔ’ｙ、ｒｇ　　　収率ｔ３％ ｏｊ−ｔ−フチルー≠−（２−メチル−弘−アセトギシ
ー３−Ｎ−Ｂ　ｏ　ｃアミノ）−フェノキ７メチルーλ
−（≠−Ｎ−ヘキサデシルカルバモイル−２−ニトロフ
ェニル）−μｍインオキサソリンー３−オン　！■合成
； −７ｔトニトリル２００ｍ１　Ｋ　＋１　　／　／　、
、２ｇ。

ピリジンｌｉ、０ｍ１ｌ、　　無水酢酸≠、Ｏｍｌを加
えｒ、ｒ　０ｃで５時間攪拌した。反応混合物に／Ｎ塩
酸水溶液を加え酢酸エチルで抽出したのち有ＰＡＲｉＩ
ｔ中炭酸ナトリウム水＠液、さらに食塩水で洗った。無
水硫酸ナトＩＪウムで乾燥したのち溶媒を減圧留去して
乾燥した。

収量／／、Ｏｇ　　　収率り３チ ・脱アセチル化反応による≠の合成； メタノール３０ｍ１ＶＣ！３ｇを溶解し、さらに塩酸ヒ
ドロキシルアミツ１ｇｓ酢酸ナトリウム／。

７ｇを加えた。２よ０Ｃで７時間攪拌したのち反応混合
物に水を加え酢酸エチルで抽出した。有機層を無水硫酸
ナトＩＪウムで乾燥したのち溶媒を減圧留去し、残渣を
カラムクロー７トグラフイーにより精製した。

収量２．７ｇ　　収率り６チ ０２−メチル−≠−アセトキシー！；−Ｎ−Ｂ　ｏ　ｃ
アミノフェノール乙の合成； ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ　）　ｊ　Ｏｍｌ　Ｋ夕
３．０ｇを溶解し７０°Ｃに冷却後、トリメチルハイド
ロキノン ｊｍｌを加えた。反応混合物を徐々にａｚ’ｃ４で昇温
させながら７時間攪拌した。／Ｎ塩酸水浴液を加え、酢
酸エチルで抽出し、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧留去後残渣をカラムクロマトグラフィーによ
り分離精製した。

収−ｊｊｋＯ　、　７りｇ　　収率７了チ０脱Ｈｏｅ化
による！ーｔｅｒｔーブチルー弘−（、２−メチル−グ
ーアセトキシ−よ−アミン）−フェノキシメチル−λ−
（≠−Ｎ−ヘキサデシル力ルバモイルーコ−二トロフェ
ニル）−≠ーイソオキサゾリンー３−オン７の合成 アセトニトリル３ｏｍｌに３３．Ｏｇ，　　ヨウ化カリ
ウム／．！ｇを混合し、７０°Ｃでクロロトリメチルシ
ラン／、３ｒｎｌを添加した。１００Ｃで７０分間攪拌
した後反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。

有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧留去
したのち、残渣をカラムクロマトグラフィーにより分離
精製した。

収ｔ、２−／ｇ　　　収率ｇ／％ 化合物の同定はＮＭＲ（ＢＲＵＫＥＲ、ＡＣ−２００）
及びＭａｓｓ測定によシ行つた。！及び乙のＮＭＲデー
タを下に記す。

４Ｌ　ｒ　ｐｐｍ　（ｍ　、２　Ｈ、−ＮＨＣＨ２Ｃ１
５Ｈ３１）。

３りｐｐｍ（Ｓ、ＪＨ，Ａｃ） ／　ＩＩ　ｐｐｍ　（Ｓ　、ｊ　Ｈ、Ａｒ−ＣＨ３）ｒ
　ｉ　ｐｐｍ　（Ｓ　、　９　Ｈ、−ＣＯ２Ｂｕ（ｔ）
）４４ｊｐｐｍ（Ｓ、りＨ、−Ｂｕ（ｔ）　）２１　Ｐ
ｌ）ｍ　（ｂｒ、Ｓ、Ｊ／Ｈ、−Ｎ）（ＣＨ２Ｃ１５Ｈ
３１）３０〜７．♂ｌＬＬｐｐｍ（ｍ、ｊＨ，Ａｒ）４
’　Ｏｐｐｍ　（Ｓ　、／　Ｈ、ＮＨＣｌ６Ｈ３３）２
７　ｐｐｍ　（ｂｒ、Ｓ　、／　Ｈ、−ＮＨＢｏｃ　）
ｆ７ｐｐｍ　（Ｓ　、　ｌＨ，−ＣＨ２−）７．３７ｐ
ｐｍ（ Ａ、７ｊｐｐｍ（ ２、≠Ｉｒｐｐｍ（ ６、弘Ｏｐｐｍ（ λ　、Ｊ／ｐｐｍ（ ２、／λｐｐｍ（ １、≠りｐｐｍ（ 上記に示す通り、 Ｓ、ｌＨ，Ａｒ） Ｓ、ｌＨ，Ａｒ） Ｓ　、ｔ　Ｈ、−ＮＨＣｌ６Ｈ３３） Ｓ　、／　Ｈ、Ａｒ−０Ｈ） Ｓ＊　Ｊ　Ｈ、Ａｃ　） Ｓ　、　ｊ　Ｈ、Ａｒ−ＣＨ３） Ｓ　、　！ｉ’　Ｈ、−ＣＯ２Ｂｕ（ｔ）　）本発明の
保護試薬を用いるこ とにより、λ、乙−ジメチルー！−ヒドロキシベンゾオ
キサゾールを出発物質として、λ−アミン！−メチルヒ
ドロキノンの２つの水酸基及び７つのアミノ基をそれぞ
れ異なった保護基で選択的に保護した化合物！を容易に
得ることができた。

さらに化合物よを適当な条件で処理することにより、任
意の保護基を選択的に脱保護した化合物≠、エーテルと
して保護すれば同様に≠、乙、７が容易に得られるが、
乙を得るには・髪ラジウム触媒存在下で水素添加をする
必要があり、基質内にオレフィンなどがある場合はこの
方法は使えない。）これらのことが可能であったのは本
発明の保護試薬で保護された化合物が、従来一般に用い
られてきた保護基と異なった領域（条件）での安定性及
び不安定性を持ち合わせているからであると言える。従
って従来の保護基と相補的に用いることにより上記の例
のように有機合成化学的にこれまで不可能であったこと
あるいは非常に困難であったことが容易に実現可能にな
ることも期待され、本発明は非常に意義深いものと思わ
れる。

次に光照射による脱保護方法の具体的実施例について述
べる。

実施例コ （試料の作成） 実施例／において合成された化合物ｊの０．２ｍＭアセ
トニトリル溶液（１）を調整した。この溶液とインプロ
ピルアルコールをり：／で混合し溶液（２）を調整した
。

次に、溶液（２）とｐＨり、／♂の緩衝液をよ、／で混
合して溶液（３）を作成した。

他方、化合物よと２−ｔ−ブナルアンスラキノンの０．
≠ｍＭアセトニトリル溶液を／：／で混合した溶液（４
）を調整し、溶液（１）の時と同様にして緩衝液混合溶
液（５）を作成した。

し　　ン　　ジ　：　　×　Ｉ　Ｏ スリット暢：　　ｊ、Ｏｎｍ 照射波長：　　３ｏｏｎｍと’Ｉ　／　Ｏｎｍ照射カウ
ント数：１００ 結果 （脱保護の方法） この溶液を３ミリリツトルずつ別の石英セルに入れ、蓋
をした。

次に、この試料にＪＡＳＣＯ製キセノン分光照射器で３
００　ｎｍと４Ａ／　Ｏｎｍの光を１００カウントずつ
それぞれ照射したのちに、高速液体クロマトグラフィー
で脱保護されたフェノールを定量した。（溶液の混合は
Ｖｏｌｕｍｅ％）光照射の条件は以下のとおり。

照射装置：　ＪＡＳＣＯ製分光照射器　５ＰＥＣＴＲＯ
Ｉ　ＲＲＡＤ　Ｉ　ＡＴＯＲとＪＡＳＣＯ製ＸＥＮＯＮ
ＬＡＭＰ　ＰＯＷＥＲ５ＵＰＰＬＹ以上の結果より本発
明の保護方法によると、脱保護は光で行うことができ、
光還元剤を使用すると可視光での脱保護も効率良く行う
ことが出来る。

り、１０−フェナンスレンキノンを用いることにより波
長ｒ　ｏ　ｏ　ｎｍの光でも同様の脱保護が可能であっ
た。

従って、他の官能基、あるいは保護基との差別性を非常
に高めることが可能となる。

この方法で、光還元剤として水溶性の２−スルホアンス
ラキノンのような水溶性のものを用いると、水洗によっ
て除去出来るので脱保護生成物の単離が容易であった。

さらに保護試剤（１）を実際の合成反応に利用した具体
応用例を述べる。

実施例３ 弘−アミンフェノールのＮ、Ｎ−ジメチル化。

次の合成スキームに従って≠−アミンフェノールカラ≠
−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミンフェノールを合成した。

ステップ■：４ｔ−Ｎ−アセチルアミノフェノールの合
成 アセトニトリル！００ｍ１ＶＣＩＡ−アミノフエノル１
０り、７ｇ１無水酢酸１０３．ｒｍｌ、ピリジンタフ、
７ｍｌを加え、５時間加熱還流した。

反応終了後冷却し、析出した結晶をｒ取し、エタノール
で洗浄したのち、乾燥した。

収量／３７．弘ｇ１　　収率７／％ ステップ■　≠−アセチルアミノフェノールの水酸基の
保護反応 ！−ｔ−フチルー≠−（≠−アセチルアミノフェノキシ
メチル）−，２−（≠−Ｎ−ヘキサデシルカルバモイル
−２−ニトロフェニル）−＋−イ：／オキサゾリンー３
−オンの合成　アセトンｊＯＱｍｌ　Ｉ／Ｃ！　−ｔ−
ブチル−≠−クロロメチルーコー（＋−Ｎ−ヘキサデシ
ルカルバモイル−λ−二ト口フェニル）−≠−イソオキ
サ／　ＩＪノン−−オン１０３、！ｇＸ≠−アセチルア
ミノフェノールλ７．１ｇを混合し、さらに炭酸カリウ
ム３０　ｇ。

ヨウ化す）　ＩＪウム！、２ｇを加え、６時間加熱還流
した。冷却後反応混合物を水に注ぎ、酢酸エチルを加え
抽出したのち、有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した
。つぎに溶媒を減圧留去した。残渣にメタノールを加え
、−晩装置し析出した結晶をｆ取した。

収量７０６．７ｇ１　収率ｒ６％ ステップ■：ｊ−ｔ−ブチル−≠−（≠−アミノフェノ
キシメチル）−２−（４ｔ−Ｎ ヘキサデシル力ルバモイル−２− ニトロフェニル）−≠−インオキサ ゾリンー３−オンの合成 ステップ■で合成したよ−ｔ−ブチルー≠−（≠−アセ
チルアミノフェノキシメチル）−、＋−（４Ａ−Ｎ−ヘ
キサデシルカルバモイルーコーニトロフェニル）−≠−
インオキサゾリンー３−オンｉｏｏｇとエタノール３０
０ｍ１ｌを混合し、これに濃塩酸ｉｏｏｍｌを加え５時
間加熱還流した。

反応終了後、冷却し析出した結晶をｒ取し、エタノール
で洗浄した後乾燥した。

収量り５．５ｇ、　収率りＯ％ ステップ■：ｊ−１−ブチル−≠−（≠−Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノフェノキシメチル） −２−（≠−Ｎ−ヘキサデシルカル バモイル−２−ニトロフェニル）− ψ−インオキサゾリンー３−オンの 合成 ｓ　−ｔ　−フチルーｔａ−（４ｔ、−アミノフエノキ
シメナル）−コー（≠−Ｎ−ヘキサデシルカルバモイル
ーコ−二トロフェニル）−≠−イソオキサゾリンー３−
オン３００ｇをアセトン／２θｍＪに溶解し、炭酸カリ
ウム／ｒ、Ｏｇｓ　ポリエチレングリコール４Ｌｏｏ　
（平均分子ｉｔ≠ＯＯのポリエチレングリコール）／、
！ｍｌｌ、　　ジメチル硫酸／３゜Ｏｇを加え、３時間
加熱還流した。これにアセトン弘ｊｍｌを加え、≠θ０
Ｃで水／７０ｒｎｌを滴下し、室温まで冷却すると、結
晶が析出した。結晶をＰ取し、水、メタノールで洗浄し
乾燥した。

収量λｆ　、　／　ｇ、　　収率り７チステツプ■：脱
保護反応 ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）１００ｍｌに５−ｔ−
ブチル−弘−（≠−Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノフェノキシ
メチル）−２−（≠−Ｎ−ヘキサデシル力ルバモイルー
コ−ニトロフェニル）−≠−イソオキサゾリンー３−オ
ン１０ｇ、トリメチルハイドロキノン６．７ｇを混合し
、１Ｏ０ＣでＥｔ３Ｎ＆　、／ｍｌを滴下した。徐々に
室温まで昇温シ２．７時間攪拌した。反応混合物に水を
注ぎ酢酸エチルを加え抽出したのち有機層を無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。つぎに溶媒を減圧留去した。

残渣をカラムクロマトグラフィーにより分離ｎ製した。

収量／、！ｇ、　収率ｇ２〜 実施例弘 ペプチド合成への応用 次ノスキームに従って、Ｎ−ｐｒｏｔｅｃｔｅｄｔｙｒ
ｏｓｉｎｅ　／　と　ｅｔｈｙｌｇｌｙｃｉｎａｔｅ　
２　　が縮合したｄｉｐｅｐｔｉｄｅ　弘　を合成した
。

ステップ■　ｊ−１−ブチル−≠−〔≠−（２カルポキ
シルーコ／　−ＢＯＣ−アミ ン）エチルフェノキシメチルツー一 （４Ｌ−Ｎ−メチルオフタデフルス ルファモイル）−≠−イソオキサゾ リンー３−オン　３の合成 アセトン７００ｍ１ｌ　ＫＮ−ＢＯＣ−チロシフ６１、
．３ｇ、５−ｔ−ブチル−≠−クロロメチルーλ−（≠
−Ｎ−メチルオクタデシルスルファモイル−２−二トロ
フェニル）−≠−イソオキサゾリンー３−オン／３／、
Ｊｇ、炭駿カリウム３０ｇ１ヨウ化ナトリウムＪ、Ｏｇ
を混合し、６時間加熱還流した。冷却後、反応混合物を
水に注ぎ、酢酸エチルを加え抽出をしたのち、有機層を
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧留去した。こ
の残渣にメタノールを加え、−晩装置し、析出した結晶
をｆ取した。

収ｊｔｋ１３６．２ｇ１　収率７ｊ％ ステップ■　アミノ基とフェノール基が保護されたチロ
シンとエチルグリシナートと の縮合反応 ステップ■で得られたアミン基とフェノール基が保護さ
れたチロシンｊ　　１００ｇを≠００ｍＪｌの酢酸エチ
ルに溶解し、エチルグリシナート／！。

７ｇとトリエチルアミ７２／、０ｍ１ｌを加えた。

得られた溶液にシンクロヘキシルカルボジイミド３／、
μｇを１００ｍ１の酢酸エチルに溶解した溶液をゆっく
り滴下した。滴下終了後室温でさらに７時間攪拌し析出
物をｒ別した。得られたｆ液を減圧留去し、残渣を酢酸
エチル−メタノールから再結晶して目的物≠を得だ。

収量り３ｇｓ　　収率りＱチ ステップ■　フェノールの保護基の選択的脱保護ジメチ
ルホルムアミド（ＤＭＦ）ｊＯｍｌにステップ■で得ら
れたアミノ基、フェノール基とカルボキシル基が保護さ
れたチロシング　タｇとトリメナルハイドロキノ／≠、
／ｇを溶解させた後この浴液をｌＯ°ＣＫ冷却し、トリ
エチルアミンＪ、ｒｍｉｌをゆつくシ滴下した。

滴下終了後、室温まで徐々に昇温し、／、５時間攪拌し
た。反応混合物に水を注ぎ、酢酸エチルを加え抽出した
のち有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去したのち残渣をカラムクロマトグラフィーにより
精製した。

収量コ、≠ｇ、　収率７２％

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）下記一般式（ I ）で表される有機合成上有用な
   保護試薬。 ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） 一般式（ I ）において、Ｘはハロゲン原子、またはス
   ルホニルオキシ基を表す。 Ｒ＾１、Ｒ＾２は水素原子あるいは置換基を表すが、Ｒ
   ＾１、Ｒ＾２の少なくとも一方はニトロ基で置換された
   アリール基もしくは複素環基を表す。
2. （２）第１項の一般式（ I ）で表される化合物をｐＫ
   ａ１５以下のプロトン酸の保護基として用いるプロトン
   酸の保護方法。
3. （３）第２項の保護方法によつて保護されたｐＫａ１５
   以下のプロトン酸を用いて所定の反応を行なつた後、還
   元によつて脱保護を行う脱保護方法。