JPH0247846A - ウエハプローバ用トリミング装置 - Google Patents
ウエハプローバ用トリミング装置Info
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- JPH0247846A JPH0247846A JP19784288A JP19784288A JPH0247846A JP H0247846 A JPH0247846 A JP H0247846A JP 19784288 A JP19784288 A JP 19784288A JP 19784288 A JP19784288 A JP 19784288A JP H0247846 A JPH0247846 A JP H0247846A
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- Japan
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- trimming
- wafer
- prober
- tester
- positioning
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- Pending
Links
- 238000009966 trimming Methods 0.000 title claims abstract description 48
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims abstract description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 abstract 2
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- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は半導体製造工程の一つであるウェハ検査におい
て使用されるブローμに装着して、ウェハ上の回路不良
個所を除去するために使用されるブローμ用トリミング
装置に関するものである。
て使用されるブローμに装着して、ウェハ上の回路不良
個所を除去するために使用されるブローμ用トリミング
装置に関するものである。
[従来の技術]
従来、ウェハ上のトリミングは位置決め精度の高いトリ
ミング装置により行なわれている。特殊なトリミング用
途に、一部マニュアルプローバが用いられることがある
が、オートブローμにおいてはステージの位置決め精度
の限界から用いられていなかった。
ミング装置により行なわれている。特殊なトリミング用
途に、一部マニュアルプローバが用いられることがある
が、オートブローμにおいてはステージの位置決め精度
の限界から用いられていなかった。
[発明が解決しようとする問題点]
しかし、現在のオートプローパにおいては、ウェハ上の
各チップのアライメントに撮像管でウェハ上のパターン
を直接検出し、画像処理を行ない、高精度に位置決めを
行なうことは可能となったが、本来のウェハ検査におけ
るプロービングの目的からはそこ迄精度を上げる必要が
ないため、ステージの位置決め精度だけが問題となって
いた。
各チップのアライメントに撮像管でウェハ上のパターン
を直接検出し、画像処理を行ない、高精度に位置決めを
行なうことは可能となったが、本来のウェハ検査におけ
るプロービングの目的からはそこ迄精度を上げる必要が
ないため、ステージの位置決め精度だけが問題となって
いた。
従ってステージ移動全範囲に亘って高精度位置決め可能
なトリミング装置を別個に必要とし、プロービング工程
とトリミング工程とを別に行なわなければならず経済性
および作業効率の点で問題があった。
なトリミング装置を別個に必要とし、プロービング工程
とトリミング工程とを別に行なわなければならず経済性
および作業効率の点で問題があった。
[問題点を解決するための手段および作用]本発明にお
いては、通常のブローμに加えてブローμのアライメン
ト系と一体化してトリミング系を配置して、高精度を必
要とする微小位置をアライメント系とトリミング系を一
体として動作させることにより、アライメント系の精度
範囲内においてトリミングを可能とした装置を提供する
ものである。
いては、通常のブローμに加えてブローμのアライメン
ト系と一体化してトリミング系を配置して、高精度を必
要とする微小位置をアライメント系とトリミング系を一
体として動作させることにより、アライメント系の精度
範囲内においてトリミングを可能とした装置を提供する
ものである。
[実施例]
第1図は本発明の1実施例の説明図である。
図中、1はウェハチャックでありブローμのx、y、z
およびθステージ(図示せず)上に設置されている。2
はウェハチャック1上に固定された修正すべきウェハ、
3はウェハ2を照明するための蛍光灯、4a、4bはウ
ェハ2上のパターンを撮像素子6に結像するための結像
レンズ、5はハーフミラ−7はレーザ8の光束を拡大す
るためのビームエクスパンダ−9は検出本体であり蛍光
灯3、結像レンズ4a、4b、ハーフミラ−5、撮像素
子6、ビームエクスパンダー7、レーザ装置8を固定し
収納する。10は軸受であり検出本体9をプロービング
11にたいして移動可能に取り付け、駆動素子(図示せ
ず)により移動する。トリミングが必要なウェハが挿入
されるか、ウェハ検査中のウェハでテスターよりトリミ
ングの指示があった場合、ウェハ2はテスター(図示せ
ず)よりの位置信号によりブローμのステージで概略位
置まで±10〜20μmの精度で移動される。次に、蛍
光灯2より照明されたウェハ2上のパターンは結像レン
ズ4a、4bにより撮像素子6上に結像する。この時の
光束はハーフミラー5を透過する。
およびθステージ(図示せず)上に設置されている。2
はウェハチャック1上に固定された修正すべきウェハ、
3はウェハ2を照明するための蛍光灯、4a、4bはウ
ェハ2上のパターンを撮像素子6に結像するための結像
レンズ、5はハーフミラ−7はレーザ8の光束を拡大す
るためのビームエクスパンダ−9は検出本体であり蛍光
灯3、結像レンズ4a、4b、ハーフミラ−5、撮像素
子6、ビームエクスパンダー7、レーザ装置8を固定し
収納する。10は軸受であり検出本体9をプロービング
11にたいして移動可能に取り付け、駆動素子(図示せ
ず)により移動する。トリミングが必要なウェハが挿入
されるか、ウェハ検査中のウェハでテスターよりトリミ
ングの指示があった場合、ウェハ2はテスター(図示せ
ず)よりの位置信号によりブローμのステージで概略位
置まで±10〜20μmの精度で移動される。次に、蛍
光灯2より照明されたウェハ2上のパターンは結像レン
ズ4a、4bにより撮像素子6上に結像する。この時の
光束はハーフミラー5を透過する。
撮像素子6で得られた映像は、テスター内のパターンジ
ェネレータで作成され、指示されたパターン情報と比較
され、合致した位置で検出本体を停止させる。次に、テ
スターから指示されたパターン修正位置に、検出本体9
のレーザ照射位置が等しくなるように、検出本体を移動
させる。次にレーザ装置8よりレーザ光(本実施例では
YAGレーザ)を発光し、ビームエクスパンダ−7で光
束を広げた後に、結像レンズ4aによりウェハ上の修正
位置に光束を収束させて、不良個所を焼去する。
ェネレータで作成され、指示されたパターン情報と比較
され、合致した位置で検出本体を停止させる。次に、テ
スターから指示されたパターン修正位置に、検出本体9
のレーザ照射位置が等しくなるように、検出本体を移動
させる。次にレーザ装置8よりレーザ光(本実施例では
YAGレーザ)を発光し、ビームエクスパンダ−7で光
束を広げた後に、結像レンズ4aによりウェハ上の修正
位置に光束を収束させて、不良個所を焼去する。
第1図の実施例は検出本体として示しているように、ウ
ェハプローバ本体のアライメント装置として使用するこ
とは可能である。
ェハプローバ本体のアライメント装置として使用するこ
とは可能である。
また、第1図ではアライメント系とトリミング系とが同
一光軸上に配置しであるが、ある範囲隔てて配置(オフ
セット配置)してもよい、この時はアライメントパター
ン位置からオフセット分だけトリミング系を移動させて
トリミングを行なうことが必要である。
一光軸上に配置しであるが、ある範囲隔てて配置(オフ
セット配置)してもよい、この時はアライメントパター
ン位置からオフセット分だけトリミング系を移動させて
トリミングを行なうことが必要である。
また、ウェハプローバの位置保持精度が低い、いわゆる
バックラッシュを伴う場合は、ステージをプローバ本体
に対してロックする機構を追加することができる。
バックラッシュを伴う場合は、ステージをプローバ本体
に対してロックする機構を追加することができる。
[発明の効果]
以上説明したように、従来のプローバに附属して移動可
能なアライメント系とトリミング系を一体化して配置し
、ウェハプローバでの精度上の問題を解決することによ
り、高い分解能でのトリミングが可能となる。
能なアライメント系とトリミング系を一体化して配置し
、ウェハプローバでの精度上の問題を解決することによ
り、高い分解能でのトリミングが可能となる。
すなわち、ステージ全般にわたって精度の良い特殊な装
置を別個に設ける必要はなく、従来のウェハプローバに
装備するだけでよく全体のコストは20%程度ですみ、
経済的である。またウェハ検査と同じ工程でトリミング
が可能となり能率的である。
置を別個に設ける必要はなく、従来のウェハプローバに
装備するだけでよく全体のコストは20%程度ですみ、
経済的である。またウェハ検査と同じ工程でトリミング
が可能となり能率的である。
第1図は本発明の1実施例の説明図である。
1・・・・・・ウェハチャック、2・・・・・・ウェハ
、3・・・・・・蛍光灯、4a、4b・・・・・・結像
レンズ、5・・・・・・ハーフミラ−6・・・・・・撮
像素子、7・・・・・・ビームエクスパンダー 8・・
・・・・レーザ装置、9・・・・・・検出本体、10・
・・・・・軸受、11・・・・・・プローバ本体。
、3・・・・・・蛍光灯、4a、4b・・・・・・結像
レンズ、5・・・・・・ハーフミラ−6・・・・・・撮
像素子、7・・・・・・ビームエクスパンダー 8・・
・・・・レーザ装置、9・・・・・・検出本体、10・
・・・・・軸受、11・・・・・・プローバ本体。
Claims (9)
- (1)ウェハステージをプローバ本体に対し位置決めす
る位置決め手段を備え、ウェハの位置検出手段とトリミ
ング手段とを一体化して前記プローバ本体に対し移動可
能に装着したことを特徴とするウェハプローバ用トリミ
ング装置。 - (2)前記ウェハ位置検出手段とトリミング手段との一
体構造体は前記ウェハステージの位置決め手段の位置決
め精度以上の高精度でウェハに対し位置合せ可能なこと
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のウェハプロー
バ用トリミング装置。 - (3)トリミング指令信号に応じて前記位置決め手段に
よりウェハステージをプローバ本体に対し概略的に位置
決めし、次に前記位置検出手段による検出信号に応じて
前記トリミング手段を含む一体構造体をプローバ本体に
対して移動させてトリミング位置に精密位置合せし、前
記トリミング手段を駆動してトリミングを行なうことを
特徴とする特許請求の範囲第2項記載のウェハプローバ
用トリミング装置。 - (4)前記トリミング信号はプロービング用のテスター
から発信され、該テスターからのトリミング位置信号と
前記位置検出手段からの検出信号との差に基づいて前記
トリミング手段の一体構造体の精密移動制御を行なうこ
とを特徴とする特許請求の範囲第3項記載のウェハプロ
ーバ用トリミング装置。 - (5)前記位置検出手段は、ウェハの照明手段と、ウェ
ハのパターン撮像手段と、ウェハからの反射光を該撮像
手段の位置で結像させるための光学系とからなり、前記
トリミング手段は、レーザ装置と、該レーザ装置からの
レーザ光をウェハに導くための光学系とからなることを
特徴とする特許請求の範囲第4項記載のウェハプローバ
用トリミング装置。 - (6)前記位置決め手段とトリミング手段の光軸を一致
させて配置したことを特徴とする特許請求の範囲第5項
記載のウェハプローバ用トリミング装置。 - (7)前記位置決め手段の光軸とトリミング手段の光軸
とをオフセットさせて配置したことを特徴とする特許請
求の範囲第5項記載のウェハプローバ用トリミング装置
。 - (8)前記ウェハステージをプローバ本体に対しロック
する手段を備えたことを特徴とする特許請求の範囲第1
項から第7項までのいずれか1項記載のウェハプローバ
用トリミング装置。 - (9)ウェハプローバにおいて、ウェハ上のパターンア
ライメント系およびトリミング系を一体として、精密移
動が可能な移動部上に配置し、テスターよりの指令で概
略位置決めをウェハプローバで行ない、更にテスターよ
りの画像信号に等しくなる位置までパターンアライメン
ト系でサーチし、テスターで与えられたその位置からト
リミングする位置までの座標情報とアライメント系とト
リミング系とのオフセット分を除いた変位を精密移動さ
せ、トリミングを行なうウェハプローバ用トリミング装
置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19784288A JPH0247846A (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | ウエハプローバ用トリミング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19784288A JPH0247846A (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | ウエハプローバ用トリミング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0247846A true JPH0247846A (ja) | 1990-02-16 |
Family
ID=16381247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19784288A Pending JPH0247846A (ja) | 1988-08-10 | 1988-08-10 | ウエハプローバ用トリミング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0247846A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153301A1 (en) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Semics Inc. | Apparatus for measuring and calibrating error of wafer prober |
-
1988
- 1988-08-10 JP JP19784288A patent/JPH0247846A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008153301A1 (en) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Semics Inc. | Apparatus for measuring and calibrating error of wafer prober |
US8452563B2 (en) | 2007-06-11 | 2013-05-28 | Semics Inc. | Apparatus for measuring and calibrating error of wafer prober |
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