JPH024755A - ベンゾニトリル化合物 - Google Patents

ベンゾニトリル化合物

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JPH024755A
JPH024755A JP5396589A JP5396589A JPH024755A JP H024755 A JPH024755 A JP H024755A JP 5396589 A JP5396589 A JP 5396589A JP 5396589 A JP5396589 A JP 5396589A JP H024755 A JPH024755 A JP H024755A
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JP
Japan
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phe
acid
compounds
difluoro
formula
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Pending
Application number
JP5396589A
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English (en)
Inventor
Volker Reiffenrath
フオルカー ライフエンラート
Joachim Dr Krause
ヨーアヒム クラウゼ
Andreas Dr Waechtler
アンドレーアス ヴェヒトラー
Georg Weber
ヴェーバー ゲオルク
Ulrich Finkenzeller
フィンケンツェラー ウルリヒ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Merck Patent GmbH
Original Assignee
Merck Patent GmbH
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は下記式■のベンゾニトリル化合物に関する。
但しこの式において R1は1ないし12個の炭素原子を有するアルキルキ基
であってその中の1個又は2個のCI+□基が−o−,
−co−、−co−o−、及び/又は−C=C−と置き
換えられていてもよく、その際2つのO原子が互いに直
接には結合しておらず、 八1はその1個又は2個のCI基がN原子と置き換えら
れていてもよい非置換の、又は1個又は2個のF原子に
よって置換されている1、4−フェニレンを、又は1個
のCI(2基か、又は互いに隣接していない2個のCH
2基がO原子及び/又はS原子によって置き換えられて
いてもよいトランス−1,4−シクロヘキシレンを表わ
し、 Zlは−CO−0−,−0−Co−、−CH2Cl12
−、−QC)1に−。
−C1,O−、−CミC−又は単結合を表わし、m は
1.2又は3の数を表わし、 X はFであり、そして n は0.1又は2の数を表わし、 その際 句 少なくとも一つの八1の基は2.3−ジフルオロ−
1,4−フェニレンであり、そして口) nは、もしR
’−(A’−Z’)ffl−がであるときは1又は2の
数である。
簡単のために以下において1.4−シクロヘキシレン基
をCycと、1□ 3−ジオキサン−2,5−ジイル基
をDioと、1.3−ジチアン−2,5−ジイル基をD
itと、1,4−フェニレン基をPheと、ピリジン−
2,5−ジイル基をPydと、ピリミジン−25−ジイ
ル基をPyrと、そしてピリダジン−2,5−ジイル基
をPynと表わすこと\し、その際これらの基は非置換
であっても、又は置換されていてもよいものとする。す
なわちPheFは下記式の基を、そしてPheF2は下
記式 の基をそれぞれ表わす。
前記式■の化合物はねじれセルの原理、ゲスト/ホスト
の効果、整列相の変形効果又は動的散乱の効果に基づき
種々の液晶相の構成成分として特に表示装置用に利用す
ることができる。
[従来の技術] このようなセルのマルチプレックス駆動のための重要な
基礎の一つは、誘電率異方性と、分子長手軸に対し垂直
方向の誘電率に対する比、即ちΔε/εよが小さいこと
である[例えばF、 Gharadjedagji等;
 Rev、 Phas、 Appl、 II 。
467 (1g76)参照〕。
このΔε/εエ の小さな値を達成するために、従来は
負のΔεの値を有する種々の物質が正のΔεの値を有す
る種々の物質に混合されている。
しかしながら正のΔεの値に加えて強い横方向のグイボ
ールを有する物質を用いるのがより好ましい。
これまで既に一連のこのような類の液晶化合物が合成さ
れており、例えば4−シアノ−2(5)−フルオロフェ
ノールのカルボン酸エステル類あるいは5−シアン、ピ
リジン−2−イルの化合物等がある。
しかしながら上記の後者は一般に例えば種々の混合物に
おいて溶解度が低く、粘度が高く、融点が高くて且つ化
学的に不安定であると言うような種々の欠点を有してい
る。加えてそれらの一般に高次のスメクチック相を形成
する強い傾向を有している。したがって正の誘電率異方
性に加えて、同時にその分子の長手軸に対し垂直方向の
大きな誘電率を有し、且つそのものを加えた混合物の種
々の性質を電気光学的な広範囲の用途に対して更に改善
するような化合物に対する要求が存在している。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の課題は正の誘電率異方性の値と、大きな負の横
方向ダイポールと、及び低い粘度とを有する安定な、液
晶性の、又はメン発現性(mesogenic)の化合
物を見出すことである。
[課題を解決するための手段] 本発明者等は、前記式Iで表わされる各化合物が種々の
液晶相の構成成分として非常に適していることを見出し
た。特にこれらの化合物は広いメソ相範囲と比較的低い
粘度とを有する安定な種々の液晶相を作るために用いる
ことができる。
この式Iの化合物を提供したことによって更に極めて一
般的に、種々の応用工学的観点から多くの液晶性混合物
を作るのに適している液晶性物質の範囲が著しく広げら
れる。
前記式■の化合物は広い利用範囲を有する。置換基の選
択に依ってこれらの化合物は種々の液晶相を構成する基
礎物質として使用することができるが、また上記式■の
化合物を他の種類の化合物の液晶基礎物質に、例えばそ
の誘電的及び/又は光学的異方性及び/又は粘度及び/
又は自発分極及び/又は各相の範囲及び/又はチルト角
及び/又はこのような誘電体のピッチを変化させるため
に加えることも可能である。
前記式Iの化合物は更に、種々の液晶性誘電体の成分と
して用いることができる他の物質を調製するための中間
化合物としても適している。
前記式■の化合物は純粋な状態では無色であって電気光
学的利用に好都合な温度範囲において種々の液晶メソ相
を形成する。それらは化学物質や熱及び光に対して非常
に安定である。
このように本発明は前記式■の化合物に関する。
さらに本発明はそれらの化合物を種々の液晶相の成分と
しての使用に関する。本発明はまた更に、少なくとも1
つ以上の前記式Iの化合物を含む種々の液晶相、及びこ
のような相を包含する種々の液晶表示装置にも関する。
こお型の相は特に有利な弾性定数を有し、そしてその低
い八ε/εよ の値に基づいて特にTPT混合物に適し
ている。
以上の記述及び以下の記述において式Iの中のR’、 
A’、 Z’、m及びnは特に言及しない限り既述の意
味を有するものとする。
式Iの化合物はしたがって下記の 従属式Ia及びIbの2環化合物: R’−A’−A’−CN           (I 
a)R’−A’−Z’−A’−CN         
(I b)従属式IcないしIfの3fM化合物:R’
−A” A’−A’−CN         (I c
lRl−A’−Z’−A’−A’−CN       
(I d)R’−A’−A’−Z’−A’−CN   
    (I e)R’−A’−Z’−A’−Z’−A
’−CN      (I f)及び従属式Igないし
Inの4環化合物:R’−A’−A’−A’−A’−C
N       (I g)R’−A’−Z’−A’−
AI−A’−CN     (I hR’−A’−A’
−Z’−A’−A’−CN     (I iR’−A
’−A’−A’−Z−A’−CN     (I jR
’−A’−Z’−A’−Z−A’−A’−CN   (
I kRl−A’−Z’−A’−A’−Z’−A’−C
N   (I IR’−A1−A’−Z’−A’−Z’
−A’−CN   (I mR’−A’−Z’−A’−
Z’−A’−Z’−A’−CN(I nを包含する。
以上及び以下の各式においてR1は好ましくはアルキル
を、また更にアルコキシを表わす。
AoはPhe、 PheF又はPheFzを意味し、好
ましくはPhe又はPheFである。
A1は好ましくはPheFz、 PheF、 Cyc、
 Phe  Di。
又はPyrであり、式■の化合物は好ましくは1つより
も多くないDio、Dit、 Pyn、 Pyr又はP
heFのそれぞれを含んでいる。
各従属式IaないしInの化合物において、少なくとも
一つのA1の基は規定に従いPheFzの基である。
m は好ましくは1又は2の数であるが中でも好ましく
は1である。
それぞれ同一であっても異なっていてもよい各z′基は
好ましくは単結合であるが、その次に好ましいのは−C
0−0−1−o−co−,−c= c−又は−CI(2
CH2−である。特に好ましい化合物は、式Iにおいて
全ての21が単結合を表わすか、又は1つのZl が−
co−o−、−o−co−、−cミC−又は−CLCI
I□−の基を表わすものである。
以上及び以下の各式においてR1は好ましくは2ないし
10個、特に3ないし7個の炭素原子を有する。このR
1の中の1つ又は2つの0112の基は置き換えられて
いてもよい。好ましくは1個のCH□基のみが−O−,
−CO−又は−C)l=cH−、なかでも−〇−又は−
〇〇−0−と置き換えられているのがよい。
以上及び以下の各式においてR1は好ましくはアルキル
、アルコキシ又は他のオキサアルキル基を、或はまた、
1つ以上のC)12基が−o−,−o−co−又は−C
H=C1l−よりなる群から選ばれた基と、又は2つの
適当な基を組合わせたものと置き換えられていてもよく
且つ2つのへテロ原子が互いに直接に結合していないよ
うなアルキル基を表わす。
もしR1がアルキル基であってその1つ(「アルコキシ
基」又は「オキサアルキル基」)又は互いに隣接してい
ない2つ(「アルコキシアルコキシ基」又は「ジオキサ
アルキル基」)のCI(、基が酸素原子と置き換えられ
ていてもよいものであるときは、このアルキル基は直鎖
状であっても分岐鎖状であってもよい。これは好ましく
は直鎖状であって2,3,4,5.6又は7個の炭素原
子を有し、したがってこれは好ましくはエチル、プロピ
ル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、エトキシ
、プロポキシ、ブトキシ、ペントキシ、ヘキソキシ又は
ヘプトキシ、或は更にメチル、オクチル、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル
、ペンタデシル、メトキシ、オクトキシ、ツノキシ、デ
コキシ、ウンデコキシ、ドデコキシ、トリデトコキシ又
はテトラデシルシである。
オキサアルキルは好ましくは直鎖状の2−オキサプロピ
ル(=メトキシメチル)、2−オキサブチル(=エトキ
シメチル)又は3−オキサブチル(=2−メトキシエチ
ル)、2−.3−又は4−オキサペンチル、2−.3−
.4−又は5−オキサヘキシル、2−、3−04−、5
−又は6−オキサヘプチル、2−.3−.4−.5−.
6−又は7−オキサオクチル、2−53−.4−5−6
−.7−又は8−オキサノニル、2−3− 4−.5−
16−.7−.8−又は9−オキサデシル、1,3−ジ
オキサヘキシル(=メトキシメトキシ)、1.3− 1
.4−又は2.4−ジオキサペンチル、1.3−、1.
4−、1.5−、2.4−、2゜5−又は3.5−ジオ
キサヘキシル、或は1.3−、1.4−。
1.5−、2.4−、2.5−、2.6−、3.5−、
3,6−又は4,6−ジオキサペンチルである。
もしR’がアルキル基であってその1個のCH2基が−
CH=CH−と置き換えられているときは、これは直鎖
状であっても、又は分岐鎖状であってもよい。このもの
は好ましくは2ないし10個の炭素原子を有する直鎖基
である。したがってこれは特に、ビニル、プロパー1−
又は−2−ノニル、ブタ−1−、−2−又は−3−ノニ
ル、ペンタ−1、−2−−3−又は−4−ノニル、ヘキ
サ−1−、−2−、−3−−4−又は−5−ノニル、ヘ
プタ−1−、−2−、−3−4−、−5−又は−6−ノ
ニル、オクタ−1、−2−−3−−4−、−5−、−6
−又は−7−ノニル、ノナ1 −2− −3− 、−4
− 、−5− 、−6− 、づ−又は−8−ノニル又は
デカ−1、−2−、−3−、−4−−5−−6−、−7
−、−8−又は−9−ノニルである。
もしR1がアルキル基であってその1個のCI(2基が
−0−CO−又は−CO−O−と置き換えられていると
きは、これは直鎖状であっても、又は分岐鎖状であって
もよい。このものは好ましくは2ないし6個の炭素原子
を有する直鎖基である。したがってこれは特に、アセチ
ルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ペン
タノイルオキシ、ヘキサノイルオキシ、アセチルオキシ
メチル、プロピオニルオキシメチル、ブチリルオキシメ
チル、ぺンタノイルオキシメチル、2−アセチルオキシ
エチル、2−プロピオニルオキシエチル、2−ブチリル
オキシエチル、3−アセチルオキシプロピル、3−プロ
ピオニルオキシプロビル、4−アセチルオキシブチル、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシ
カルボニル、ブトキシカルボニル、ペントキシカルボニ
ル、メトキシカルボニルメチル、エトキシカルボニルメ
チル、プロポキシカルボニルメチル、ブトキシカルボニ
ルメチル、2−(メトキシカルボニル)エチル、2−(
エトキシカルボニル)エチル、2−(プロポキシカルボ
ニル)エチル、3−(メトキシカルボニル)プロピル、
3−(メトキシカルボニル)プロピル、3−(エトキシ
カルボニル)プロピル又は4−(メトキシカルボニル)
ブチルである。
分岐置換基R1を有する式Iの化合物は通常の液晶基本
物質中に良好に溶解するために重要である場合があるが
、それらが光学活性を有するときは特にカイラルドーピ
ング物質として有用である。この型のスメクチック化合
物が強誘電性物質の構成成分として適している。
この型の分岐基は一般に1つを超えない側鎖基を有する
。好ましい側鎖基は、イソプロピル、2−ブチル(=1
−メチルプロピル)、イソブチル(=2−メチルプロピ
ル)、2−メチルブチル、イソペンチル(=3−メチル
ブチル)、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、
2−エチルヘキシル、2−プロピルペンチル、インプロ
ポキシ、2−メチルプロポキシ、2−メチルブトキシ、
3−メチルブトキシ、2−メチルペントキシ、3−メチ
ルペントキシ、2−エチルヘキソキシ、1−メチルヘキ
ソキシ、■−メチルへブトキシ、2−才キサー3−メチ
ルブチル、3−才キサー4−メチルペンチル、4−メチ
ルヘキシル、2ノニル、2−デシル、2−ドデシル、6
−メチルオクトキシ、6−メチルオクタノイルオキシ、
5−メチルへブチルオキシカルボニル、2−メチルブチ
リルオキシ、3−メチルバレリルオキシ、4−メチルヘ
キサノイルオキシ、2−クロロプロピオニルオキシ、2
−クロロ−3−メチルブチリルオキシ、2−クロロ−4
−メチルバレリルオキシ、2−クロロ−3−メチルバレ
リルオキシ、2−メチル−3−オキサペンチル及び2−
メチル−3−オキサヘキシルである。
もしR1がアルキル基であってその2つ以上のCH2基
が一〇−及び/又は−C0−0−と置き換えられている
ものであるときにはこれは直鎖状であっても又は分岐鎖
状であってもよい。このものは好ましくは分岐鎖状で3
ないし12個の炭素原子を有するものであるのがよい。
したがってこれは特にビスカルボキシメチル、2,2−
ビスカルボキシエチル、3.3−ビスカルボキシプロビ
ル、4.4−ビスカルボキシブチル、5.5−ビスカル
ボキシペンチル、6.6−ビスカルボキシヘキシル、7
.7−ビスカルボキシヘプチル、8.8−ビスカルボキ
シオクチル、99−ビスカルボキシノニル、10.10
−ビスカルボキシデシル、ビス(メトキシカルボニル)
メチル、2.2−ビス(メトキシカルボニル)エチル、
3.3−ビス(メトキシカルボニル)プロピル、4.4
−ビス(メトキシカルボニル)ブチル、5.5−ビス(
メトキシカルボニル)ペンチル、6.6−ビス(メトキ
シカルボニル)ヘキシル、7.7−ビス(メトキシカル
ボニル)ヘプチル、8.8−ビス(メトキシカルボニル
)オクチル、ビス(エトキシカルボニル)メチル、2.
2−ビス(エトキシカルボニル)エチル、3.3−ビス
(エトキシカルボニル)プロピル、4.4−ビス(エト
キシカルボニル)ブチル又は5,5−ビス(エトキシカ
ルボニル)ペンチルである。
重縮合に適した側鎖基R1を有する式■の化合物は液晶
性重縮合物を作るのに適している。
式1はこれらの化合物のラセミ化物及び光学的対掌体(
Antipodes)並びにそれらの混合物をカバーす
る。
上記の各式I及びIaないしIhの化合物のうち、その
中に含まれる少なくとも一つ以上の基が以上にあげた好
ましい意味のものの一つを有しているような化合物が好
ましい。
各従属式Ia及びIbの2理性化合物のうち、下記の従
属式IaaないしIac及びIbaないしIbcの化合
物が好ましい。
R” PheF2− Phe−CN      (I 
aa)R’−PheFz−PheF−CN      
(I ab)R’−PheFz−PheF、−CN  
   (I ac)及びR’−PheFz−Z’−Ph
e−C(I ba)R’−PheF2− Z’−Phe
F−CN    (I bb)R’−PheF、−Z’
−PheF、−CN   (I bc)各従属式Icな
いしIfの3理性化合物のうち、下記の従属式11ない
しI43の化合物が好ましい。
R’−PheF2− Phe−Phe−CN     
  (I 1)R1−PheFz−Cyc−Phe−C
N       (I 2)R’−PheF2− Di
o−Phe−CN       (I 3)R’−Ph
eF2− Cyc−PheF−CN       (I
 4)R’−PheF2− Phe−PheF−CN 
      (I 5)R’−Phe−PheF2− 
PheF−CN       (I 6)R’−Phe
−PheF2− Phe−CN       (I 7
)R’−Phe−PheFz−PheF2− CN  
    (I 8)R’−Cyc−PheF2− Ph
eFz−CN      (I 9)R’−Cyc−P
heFz−PheF−CNR’−Cyc−PheFz−
Phe−CNR’−Dio−PheFz−Phe−CN
R’−Pyr−PheF2− Phe−CNR’−Py
d−PheF2− Phe−CNR’−PheFz−Z
’−Phe−Phe−CNR’−PheF2− Z’−
Cyc−Phe−CNR’−PheF2− Z+−Cy
c−PheF−CNR’−PheF、−Z’−Phe−
PheF−CNR’−PheF2− Z’−Phe−P
heFz−CIJR’−Phe−Z’−PheF2− 
PheFz−CNR’−Phe−Z’−PheF2− 
 Phe−CNR’−Cyc−Z’−PheF2− P
he−CNR’−Dio−1’−PheFz−Phe−
CN1t’−Pyr−2’−PheF2− Phe−C
NR’−PheFz−Phe−Z’−Phe−CNR’
−PheF、−Phe−Z’−PheF−CNR’−P
heFz−Phe−Z’−PheFz−CNR’−Ph
eFz−Cyc−Z’−PheFz−CNR’−Phe
F2− Cyc−Z’−PheFz−CN(IIO) CIll) (+12) (I 131 (+14”1 (+15) (+16) (I +7) C11B) (+191 (I20) (I21) (I23) (I24) (I25) (I27) (I29) R’−PheFz−Cyc−Z’−Phe−CN   
  (I 30)R1−Phe−PheFz−Zl−P
he−CM     (I 31)R’−Cyc−Ph
eF2− Z’−Phe−CN     (I 32)
R’−Cyc−PheFz−Z’−PheF−CN  
  (I 33)R1−Cyc−PheFz−Z” P
heFz−CN   (I 34)R’−PheFz−
Z’−Phe−Z’−Phe−CN  (I 35)R
’−PheF2− Z’−Phe−Z’−PheF−C
N  (T 36)R’−PheFz−Z’−Cyc−
Z” PheFz−CN(I 371R’−PheFz
−Z’−Cyc−Z’−Phe−CN  (I 38]
R’−Phe−Z’−PheFz−Z’−Phe−CN
  (I 39)R’−PheF−Z’−PheFz−
Z’−Phe−CN  (I 40)R’−PheF−
Z’−PheFz−Z’−PheF−CN(I 41)
R’−Cyc−Z’−PheF2− Z’−PheF−
CN  (I 421R’−Cyc−Z” PheF2
−2’−Phe−CN  (I 43)各従属式Igな
いしInの4理性化合物のうち、下記の従属式I44な
いし+62の化合物が好ましい。
R’−PheF2− Phe−Phe−Phe−CN 
   (I 44)R’−Phe−PheF2− Ph
e−Phe−CN    (I 45)R’−Phe−
Phe−PheFz−Phe−CN    (I 46
)R’−Phe−Phe−PheF2−  PheF−
CN    (147)R’−Cyc−Phe−Phe
F2− PheF−CN    (14B)R’−Cy
c−Cyc−PheFz−PheF−CN    (I
 49)R’−Cyc−Cyc−PheFz−Phe−
CN     (I 50)R’−Phe−Cyc−P
heFz−Phe−CN     (151)R’−P
he−PheF2− Cyc−Phe−CN    (
r 52)R’−Cyc−PheF2− Cyc−Ph
e−CN    (I 53)R’−Cyc−PheF
z−Cyc−PheF−CN    (154)R’−
PheFz−Phe−Z’−Phe−Phe−CN  
(I 55)R’−Phe−PheF2− Z’−Ph
e−Phe−CN  (J 56)R’−Phe−Ph
e−Z’−PheF2−  Phe−CN  (I 5
7)R’−Phe−Phe−Z’−PheF2− Ph
eF−CN(I 58)R’−Phe−Cyc−Z’−
PheF2−  PheF−CN(r 59)R’−P
he−Cyc−Z”  PheF2− Phe−CN 
 (I 60)R’−Phe−PheFz−Z’−Cy
c−Phe−CN  (I 61)R’−PheFz−
Phe−Z’−Cyc−Phe−CN  (r 62)
もしR1−(AiZl)1−がアルキル−Cyc−Ph
eF2−であるときはnは1又は2である。
上記の各従属式1baないしrbc、同[15ないしI
43、及び同I55ないし丁62の化合物においてがの
基は−Co−0−,−0−C0−又は−C82C1(2
−である。
上記各式においてそれぞれ1つ以上のDio、 Dit
及び/又はPyrの基を有する化合物はいずれもその可
能な2つの2.5−(Dio、 Dit又はPyr )
位置異性体を包含する。
式Iの化合物は文献に記述されているような公知の方法
(例えばシュツットガルトのGeorg−Thieme
−Verlagより出版された)Iouben−Wey
lの”Methoden der Organisch
en Chemie”のような標ψ的文献の方法)によ
って、より正確には上述の反応に適した公知の反応条件
のもとで作られる。この場合に、こぎでは詳述しない種
々の修Qi5方法を用いることもできる。
所望の場合には各出発物質はその反応混合物から分離せ
ずに直接に更に式Iの化合物を作るための反応に使用す
るような態様で反応混合物中に形成することも可能であ
る。
式IにおいてA1の基の1つが2.3−ジフルオロ−1
,4−フェニレンである化合物は1.2−ジフルオロベ
ンゼンより出発して作ることができる。
この後者は公知の方法[例えばA、 M、 Roe等;
J。
Chem、釦c、chem、comm、 22 、58
2(1965)]によって金属化し、そして適当な電子
親和性試薬と反応させる。そのようにして得られる1−
置換の2.3−ジフルオロベンゼンを用いてこの反応手
順をもう一度実施し、そのようにして1,4−ジ置換さ
れた前記式Iの2,3−ジフルオロベンゼン誘導体を得
ることができる。1.2−ジフルオロベンゼン又は1−
置換された2、3−ジフルオロベンゼンは例えばジエチ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルオキシエタ
ン、tert−ブチルメチルエーテル又はジオキサンの
ような不活性溶剤、又はヘキサン、シクロヘキサン、ベ
ンゼン及びトルエンのような炭化水素類、或いはこれら
の溶剤の混合物の中で、場合により例えばテトラメチル
エチレンジアミン、NN−ジメチルプロピレン尿素又は
ヘキサメチル燐酸トリアミドのような錯化剤の添加のも
とにフェニルリチウム、リチウムテトラメチルピペリジ
ン、n−、5ec−又はtert−ブチルリチウムと一
100℃ないし+50℃、好ましくは一78℃から0℃
までの温度において反応させる。
これらのリチウム−2,3−ジフルオロフェニル化合物
は−100℃ないし0℃までの温度、好ましくは50℃
において適当な電子親和性試薬と反応させる。適当な電
子親和性試薬はアルデヒド類、ケトン類、ニトリル類、
エポキシド類、例えばエステル、無水物又は酸塩化物の
ようなカルボン酸誘導体、ハロ蟻酸エステル類、ホルミ
ルアミド類又は二酸化炭素等である。
芳香族ハロゲン化合物と反応させるためにこれらリチウ
ム−2,3−ジフルオロフェニル化合物は金属交換させ
、そして遷移金属触媒のもとに結合させる。この目的に
特に適しているのは亜鉛−(例えばドイツ特許出願公開
筒3632410号公報参照)又はチタン−2,3−ジ
フルオロフェニル化合物(ドイツ特許出願公開第373
6489号公報参照)である。
脂肪族ハロゲン化合物はカリウム−2,3−ジフルオロ
フェニレン化合物と一120℃ないし一90’Cにおい
て反応させるのが好ましい。
これらはそのリチウム化合物からカリウムtert−ブ
トキシドを用いて金属交換反応により得られる。
前記式Iの化合物は、他の点では式■と一致しているが
いくつかの水素原子の代りに1つ以上の還元可能基及び
/又はC−C結合の含まれる化合物を還元することによ
って作ることができる。
この還元は例えば約0℃と200 ”Cとの間の温度に
おいて約1バールと200バールとの間の圧力のもとに
例えばメタノール、エタノール又はイソプロパツールの
ようなアルコール、例えばテトラヒドロフラン(THF
)又はジオキサンのようなエーテル、例えばエチルアセ
テートのようなエステル、例えば酢酸のようなカルボン
酸、或は例えばシクロヘキサンのような炭化水素等の不
活性溶剤の中で接触的に水素化することによって実施す
ることができる。適当な触媒は好ましくはpt又はPd
のような貴金属類であるが、これらは担体の上に載せた
酸化物(PtO□又はPd0)の形で(例えば活性炭、
炭酸カルシウム又は炭酸ストロンチュムの上に載せたP
d等)又は微細分割された形で使用することができる。
ケトン類はまた、Clemmensenの方法(亜鉛・
亜鉛アマルガム又は錫及び塩酸を用い、好ましくは水性
アルコール性溶液中で、又は水/トルエンを用いた不均
一相で約80ないし120℃の温度において)によるか
、又はWolff−Kishnerの方法(ヒドラジン
を用い、好ましくは例えばKOH又はNaOHのような
アルカリの存在のもとに例えばジエチレングリコール又
はトリエチレングリコールのような高沸点溶媒の中で約
100℃ないし200℃の温度において)により還元し
、それによってアルキル基及び/又は−CH2C)l2
−架橋を含む前記式Iの対応する化合物を形成させるこ
とができる。
更にまた、錯水素化物を用いる還元も可能である。例え
ばアリールスルホニルオキシ基はLiAILを用いて還
元的に除去でき、特にp−1−ルエンスルホニルオキシ
メチル基は好ましくは例えばジエチルエーテル又はTH
Fのような不活性溶媒の中で約0℃と 100℃との間
の温度においてメチル基に還元される。二重結合はNa
Bl(4又はトリブチル錫ハイドライドを用いてメタノ
ール中で(CN基の存在のもとでさえ)水素化すること
ができる。
式■のエステルはまた、適当なカルボン酸(又はその反
応性誘導体)をアルコール又はフェノール(又はその反
応性誘導体)を用いてエステル化することにより得るこ
とができる。
上述したカルボン酸類の適当な反応性誘導体は特にアシ
ルハロゲン化物、中でも塩化物及び臭化物、更に例えば
混合無水物を含む無水物、アジド類又はエステル類、特
にアルキル基中に1ないし4個の炭素原子を有するアル
キルエステルである。
前述のアルコール又はフェノールの適当な反応性誘導体
は、特に、好ましくは例えばNa又はKのようなアルカ
リ金属の対応する金属アルコキシド又はフェノキシトで
ある。
エステル化は有利には不活性溶媒の存在のもとに行なわ
れる。特に適した溶媒は例えばジエチルエーテル、ジ−
n−ブチルエーテル、TI−IF 、ジオキサン又はア
ニソールのようなエーテル類、例えばアセトン、ブタノ
ン又はシクロヘキサノンのようなケトン類、例えばOM
F又はへキサメチル燐酸トリアミドのようなアミド類、
例えばベンゼン、トルエン、又はキシレンのような炭化
水素類、例えばテトラクロロメタン又はテトラクロロエ
チレンのようなハロゲン化炭化水素類、及び例えばジメ
チルスルホキシド又はスルホランのようなスルホキシド
である。水と混合しない溶媒をそのエステル化の間に生
じた反応水の共沸蒸留による除去のために有利に使用す
ることができる。また例えばとリジン、キノリン又はト
リエチルアミンのような有機塩基を、そのエステル化の
ための溶媒として過剰量で使用することが可能である。
このエステル化はまた例えばそれらの反応成分を酢酸ナ
トリウムの存在のもとに単に加熱することによって溶媒
の不存在のもとで実施することも可能である。反応温度
は通常、−50°Cと+250℃との間であり、好まし
くは−2[1’Cと+80°Cとの間である。このよう
な温度においてエステル化反応は一般に15分から48
時間までの間に完了する。
エステルの形成のもう一つの好ましい方法はカルボン酸
とアルコール又はフェノールとの脱水剤の存在のもとて
の、また必要な場合に触媒として有機塩基を用いる反応
である。
特に好ましい脱水剤は例えばジシクロヘキシカルボジイ
ミドのようなカルボジイミド類、又は種々の分子篩であ
る。特に適当な塩基性触媒は4−ジメチルアミノピリジ
ンである。
より詳細には、このエステル化のための反応条件は実質
的にそれぞれの用いる出発物質の性質に依存する。すな
わち、遊離のカルボン酸と遊離のアルコール又はフェノ
ールとの反応は一般に例えば塩酸又は硫酸等の鉱酸のよ
うな強酸の存在のもとで行なわれる。好ましい反応方法
は酸又は酸無水物、或いは中でもアシル塩化物を好まし
くは塩基性媒体の中でアルコールと反応させることより
なり、その際重要な塩基は例えば水酸化ナトリウム又は
水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物、例えば
炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、炭酸カリウム又は
重炭酸カリウムのようなアルカリ金属炭酸塩又は重炭酸
塩、例えば酢酸ナトリウム又は酢酸カリウムのようなア
ルカリ金属酢酸塩、例えば水酸化カルシウムのようなア
ルカリ土類金属の水酸化物又は例えばトリエチルアミン
、とリジン、ルチジン、コリジン又はキノリンのような
有機塩基類である。このエステル化を実施するためのも
う一つの好ましい方法は、まず最初アルコール又はフェ
ノールを例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムの
エタノール性溶液で処理することによりナトリウムアル
コキシド、カリウムアルコキシド又はそれぞれのフェノ
キシトに変え、その生成物を分離し、そしてこれをアセ
トン又はジエチルエーテルの中に重炭酸ナトリウム又は
炭酸カリウムと一緒に攪拌しながら懸濁させ、そしてア
シル塩化物又は酸無水物のジエチルエーテル、アセトン
又はDMF中の溶液を上記懸濁液に約−25℃と+20
℃との間の温度において適宜に加えることである。
式■のニトリルを作るには、適当な酸アミドを脱水させ
る。これらのアミドは例えば適当なエステル類、又はア
シルハライドをアンモニアと反応させることによって得
ることができる。適当な脱水剤は例えば5OCI□ 、
 Pct、、PCl5、POCl35O□C12,CO
Cl2のような無機酸の塩化物或いは更に例えばPzO
s、 hSs、 AlCl2(例えばNaClとの複塩
として)、芳香族スルホン酸類及びスルホニルハライド
類である。この反応は約O℃と 150℃との間の温度
において不活性溶剤の存在又は不存在のもとで実施する
ことができるが、適当な溶媒は例えばピリジン又はトリ
エチルアミンのような塩基類、例えばベンゼン、トルエ
ン又はキシレンのような芳香族炭化水素類或いは例えば
DMFのようなアミド類である。
式Iの上述のニトリル化合物を作るには、適当なアシル
ハライド、好ましくはクロライドをスルファミドと、好
ましくは例えばテトラメチレンスルホンのような不活性
溶媒の中で約80℃と 150℃との間の温度、好まし
くは120℃において反応させることも可能である。通
常的に処理した後でそのニトリルは直接分離することが
できる。
式1の化合物はまた更に対応するジアゾニウム塩からそ
のジアゾニウム基を例えばSandmeyerの方法に
よってCN基と置き換えることによっても得ることがで
きる。
このようなジアゾニウム塩は例えば、式■に相当するけ
れどもCN基の代りに水素原子が結合しているような化
合物をニトロ化し、対応するアミンに還元し、そして例
えば水溶液中で約−1O℃と+10℃との間の温度にお
いてNaN0□又はにN02を用いてジアゾ化すること
によって作ることができる。
CNとの置き換えは適当にその水性ジアゾニウム塩溶液
をSandmeyerの方法によってCu、 (CN)
2と反応させることにより行なわれる。
更に、弐■の化合物は、式Iに相当するけれどもCN基
の代りに水素原子が結合しているような化合物を公知の
方法で脱プロトンし、そして次に塩化シアン又は臭化シ
アンと反応させることによって作ることができる。
トラン化合物(Z’ =−C=C−)は例えば対応する
ハロゲン化合物を遷移金属触媒により塩基性溶媒中でア
セチリドと反応させることによって作られ、その際好ま
しくはパラジウム触媒を、特にビス(トリフェニルホス
フィン)パラジウム(II)クロライドと沃化鋼との混
合物を、溶剤としてのピペリジンの中で使用することが
できる。
式■のエーテルは対応するヒドロキシ化合物、好ましく
は対応するフェノールをエーテル化することによって得
ることができ、その際そのヒドロキシ化合物を好ましく
は先ず最初、対応する金属誘導体に変え、すなわち例え
ばNaH,NaNO2,NaOH。
KOH,NatC03又はに2CO3で処理することに
より対応するアルカリ金属アルコキシド又はアルカリ金
属フェノキシトに変える。このものを次に適当なアルキ
ルハライド、アルキルスルホネート又はジアルキルサル
フェートと、好都合には例えばアセトン、1.2−ジメ
トキシエタン、DMF又はジメチルスルホキシドのよう
な不活性溶剤の中で、或はまたNaOH又はKOHの水
性又は水性アルコール性溶液の過剰旦の中で約20°C
と 100℃との間の温度において反応させることがで
きる。
式■の塩基は酸を用いて対応する酸付加塩に変えること
ができる。この反応には例えば硫酸、硝酸、例えば塩酸
や臭素酸のようなハロゲン化水素酸、例えばオルソ燐酸
等の燐酸、スルファミン酸、種々の有機酸、特に脂肪族
、環状脂肪族、芳香脂肪族、芳香族又は複素環状の一塩
基性又は多塩基性のカルボン酸、スルホン酸あるいは硫
酸類、すなわち例えば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、ピバ
リン酸、ジエチル酢酸、マロン酸、コハク酸、ピメリン
酸、フマール酸、マレイン酸、乳酸、酒石酸、りんご酸
、安息香酸、サリチル酸、2−または3−フェニルプロ
ピオン酸、くえん酸、グルコン酸、アスコルビン酸、ニ
コチン酸、イソニコチン酸、メタンスルホン酸、エタン
スルホン酸、エタンジスルホン酸、2−ヒドロキシェタ
ンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
ホン酸、ナフタレン−モノ−及び−ジスルホン酸および
ラウリル硫酸等を使用することができる。
逆に式Iの塩基をその酸付加塩からKOH又はNa0)
1のような強無機塩基で処理することによって遊離させ
ることも可能である。
本発明に従う液晶相は上記本発明に従う1種以上の化合
物に加えて好ましくは2ないし40個、特に4ないし3
0個の成分を更に構成要素として含んでいる。これらの
相は本発明に従う一つ以上の化合物に加えて特に好まし
くは7ないし25個の成分を含んでいる。これら他の構
成成分は好ましくは種々のネマチックな、またはネマト
ゲニック(モノトロピックまたはアイソトロピック)の
物質、特に下記の群、すなわちアゾキシベンゼン、ベン
ジリデンアニリン、ビフェニル、ターフエニル、フェニ
ル−またはシクロへキシルベンゾエート、シクロヘキサ
ンカルボン酸のフェニル−又はシクロヘキシルエステル
、シクロヘキシル安息香酸のフェニルエステルまたはシ
クロヘキシルエステル、シクロヘキシルシクロヘキサン
カルボン酸のフェニルエステルまたはシクロへキシルエ
ステル、安息香酸の、シクロヘキサンカルボン酸のまた
はシクロヘキシルシクロヘキサンカルボン酸のシクロへ
キシルフェニルエステル、フェニルシクロヘキサン、シ
クロヘキシルビフェニル、フェニルシクロへキシルシク
ロヘキサン、シクロへキシルシクロヘキサン、シクロへ
キシルシクロヘキセン、シクロへキシルシクロへキシル
シクロヘキセン、1.4−とスーシクロヘキシルベンゼ
ン、4.4’−ビス−シクロへキシルビフェニル、フェ
ニルピリミジン、シクロへキシルピリミジン、フェニル
ピリジン、シクロへキシルピリジン、フエニルジオキサ
ン、シクロへキシルジオキサン、フェニル−又はシクロ
へキシル−1,3−ジチアン、1.2−ジフェニルエタ
ン、1.2−ジシクロヘキシルエタン、l−フェニル−
2−シクロヘキシルエタン、l−シクロへキシル−2−
(4−フェニルシクロヘキシル)−エタン、1−シクロ
へキシル−2−ビフェニルエタン、1−フェニル−2−
シクロへキシルフェニルエタン、場合によりハロゲン化
されたスチルベン類、ベンジルフェニルエーテル、トラ
ン化合物及び置換された桂皮酸から選ばれる化合物であ
る。これらの化合物において!、4−フェニル基は弗素
化されていてもよい。
本発明に従う液晶相の更に別な構成成分として適当な最
も重要な化合物は下記式1,2,3.4及び5によって
特徴付けられるものである。
R’−L−E−R″         lR’−L−C
OO−E−R”       2R’−L−00C−E
−R”      3R” L−CHtCL −E−R
”      4R’−L−CミC−E−R”    
   5上記式1ないし5においてそれぞれ同一であっ
ても異なっていてもよいし及びEはいずれの場合にも互
いに独立に下記の群、すなわち−Phe−−Cyc−,
−Phe−Phe−、−Phe−Cyc−、−Cyc−
Cyc−。
−Pyr−、−Dio−、−G−Phe−及び−G−C
yc−並びにそれらの鏡像対常体から選ばれる2価の基
であり、その際Pheは非置換、または弗素によって置
換されている1、4−フェニレンを、Cycはトランス
−1,4−シクロヘキシレンまたは1.4−シクロヘキ
セニレンを、Pyrはピリミジン−2,5−ジイルまた
はピリジン−2,5−ジイルを、Dioは1.3−ジオ
キサン−2,5−ジイルな、そしてGは2−(トランス
−1,4−シクロヘキシル)エチル、ピリミジン−2,
5−ジイル、ピリジン−2,5−ジイルまたは1.3−
ジオキサン−25−ジイルなそれぞれ表わす。
好ましくはLおよびEの一方はCyc、 Pheまたは
Pyrであるのがよい。Eは好ましくはCyc、 Ph
eまたはPhe−Cycである。本発明に従う液晶相は
好ましくは前記式1ないし5においてL及びEがCyc
、 Phe及びPyrよりなる群から選ばれるような化
合物より選ばれる一つ以上の成分及び同時に、前記式1
ないし5においてL及びEの一方がCyc、 Phe及
びPyrからなる群より選ばれ、そして他方が−Phe
−Phe−、−Phe−Cyc−、−Cyc−Cyc−
−G−Phe−及び−G−Cyc−よりなる群から選ば
れるものであるような化合物から選ばれる一つ以上の成
分及び必要に応じて前記式1ないし5においてL及びE
が−Phe−Cyc−、−Cyc−Cyc−、−G−P
he−及びG−Cyc−よりなる群から選ばれるような
化合物から選ばれる一つ以上の化合物を含むものがよい
従属式1a、 2a、 3a、 4a及び5aの化合物
においてRo及びR”はいずれの場合にも互いに独立に
8個までの炭素原子を有するアルキル、アルケニル、ア
ルコキシ、アルケニルオキシまたはアルカノイルオキシ
である。これらの化合物のほとんどの場合にRoとR”
とは互いに異なっており、その際これらの一方は通常ア
ルキルまたはアルケニル基である。従属式1b、 2b
、 3b、 4b及び5bの化合物においテR”は−C
N、 −CF3. F、 CIまたは−NCSテあり、
コノ場合にRは従属式1aないし5aの化合物の場合に
あげたと同じ意味を有し、そして好ましくはアルキルま
たはアルケニルである。しかしながら上記式1ないし5
の化合物中の上記した置換基の他の変形物も使用するこ
とができる。そのような物質あるいはそれらの混合物の
多くのものは市場において入手することができる。これ
らの化合物はすべて文献より公知の方法またはそれに類
似する方法によって得ることができる。
本発明に従う液晶相は前記の式1aないし5aの化合物
の群(第1群)から選ばれる成分に加えて1bないし5
bの化合物の群(第2群)から選ばれる成分をも含むこ
とができ、その際それらの割合は好ましくは下記のよう
であるのがよい。
第1群:20ないし90%、中でも30ないし90%第
2群 10ないし80%、中でも10ないし50%但し
本発明に従う化合物の割合と上記第1及び第2群の化合
物の割合との合計は100%である。
本発明に従う液晶相は好ましくは本発明に従う各化合物
を1ないし40%、特に好ましくは5ないし30%含ん
でいる。本発明に従う化合物を40%超え、特に45な
いし90%含む液晶相は更により好ましい。これらの液
晶相は好ましくは本発明に従う化合物を3ないし5種類
含んでいる。
本発明に従う液晶相は通常的な方法で作ることができる
。一般的にはそれらの化合物を互いに好ましくは高めら
れた温度において溶解させる。本発明に従う液晶相は適
当な添加剤によって修飾することができ、それによって
それらは今日まで発表されているすべての型の液晶表示
要素に使用することかできる。このような添加物は当業
者にはよく知られており、そして文献に詳細に記述され
ている(ワインハイムVerlag Chemieより
1980年に出版されたH、 Kelker/R,Ha
tzの゛”t(andbook ofLiquid C
rystals”) 、例えばそのネマチック相の誘電
率異方性、粘度及び/又は配向を変化させるために種々
の物質の、または着色したゲスト/ボスト系を作るため
に多色の染料を加えることができる。
[実施例] 以下本発明を幾つかの例によって説明するが、これによ
って本発明が同等制限されるものではない。以下の実施
例においてmp、は融点を、cp、は透明点を表わす。
またすべての%の表示は重量%であり、温度はいずれも
℃基準である。また「通常的に処理する」の語は、水を
加え、その混合物を塩化メチレンで抽出し、有機相を分
離し、乾燥させ、そして蒸発させ、次いでその生成物を
結晶化及び/又はクロマトグラフィにより精製すること
を意味する。
なお、以下の実施例において用いる略記号はそれぞれ下
記の意味を有する; C:結晶性の固体状態 S:スメクチック相(インデックスはその相の型を示す
) N:ネマチック状態 Ch:コレステリック相 に等方性相 2つの記号の間に記入された数字は°Cで表わした転移
温度である。
夫嵐且−ユ 4−アルキル−2,3−ジフルオロ−4°−シアノビフ
ェニル ヘキサン/テトラヒドロフラン(1:1)の中の0,8
モル濃度のn−ブチルリチウムの溶液12.5m12を
10ミリモルの1.2−ジフルオロプロピルベンゼン(
これはl−リチウム−2,3−ジフルオロベンゼンとプ
ロピオンアルデヒドとから脱水及び引続く水素化により
作った)と、10ミリモルのテトラメチルエチレンジア
ミンと、及び15mβのテトラヒドロフランとの混合物
に一78℃において加える。
この反応混合物を一50℃に昇温させて2時間攪拌した
後でこれに11ミリモルの塩化チタントリイソプロポキ
シド及び25 mβのトルエンの混合物を加える。得ら
れた混合物を15分間−20℃において攪拌し、そして
80mgのテトラキス(トリフェニルホスフィン)パラ
ジウム(0)と10ミリモルのp−ブロモベンゾニトリ
ルとを加える。この混合物を室温において18時間攪拌
して通常的に処理した後で4−プロピル−2,3−ジフ
ルオロ−4°−シアノビフェニルが得られる。
同様にして下記の化合物が作られる: 4−エチルー2.3−ジフルオロ−4゛−シアノビフェ
ニル4−ブチル−2,3−ジフルオロ−4゛−シアノビ
フェニル4−ペンチル−2,3−ジフルオロ−4−シア
ノビフェニル 4−へキシル−2,3−ジフルオロ−4−シアノビフェ
ニル 4−へブチル−2,3−ジフルオロ−4−シアノビフェ
ニル 4−才クチル−2,3−ジフルオロ−4°−シアノビフ
ェニル 4−エトキシ−2,3−ジフルオロ−4°−シアノビフ
ェニル 4−プロポキシ−2,3−ジフルオロ−4゛−シアノビ
フェニル 4−ブトキシ−2,3−ジフルオロ−4′−シアノビフ
ェニル 4−ペントキシ−2,3−ジフルオロ−4′−シアノビ
フェニル 4−ヘキソキシ−2,3−ジフルオロ−4°−シアノビ
フェニル 4−へブトキシ−2,3−ジフルオロ−4°−シアノビ
フェニル 4−オクトキシ−2,3−ジフルオロ−4−シアノビフ
ェニル 2.3−ジフルオロフェニルリチウムと4−アルキルシ
クロへキサノンとから脱水及び引続<2.3−ジクロロ
−5,6−ジシアツベンゾキノンを用いる酸化によって
作られた4−アルキル−2°、3−ジフルオロビフェニ
ル類を出発物質として用い、同様にして下記の化合物が
得られる・ 4−エチル−2°、3−ジフルオロ−4−シアノターフ
ェニル 4−プロピル−2゛、3°−ジフルオロ−4”−シアノ
ターフェニル 4−ブチル−2′、3°−ジフルオロ−4゛°−シアノ
ターフェニル 4−ペンチル−2°、3−ジフルオロ−4゛°−シアノ
ターフェニル 4−ヘキシル−2゛、3−ジフルオロ−4”−シアノタ
ーフェニル 4−へブチル−2°、3°−ジフルオロ−4°゛−シア
ノターフェニル 4−オクチル−2”、3’−ジフルオロ−4−シアノタ
ーフェニル 4−エトキシ−2゛、3−ジフルオロ−4°゛−シアノ
ターフェニル 4−プロポキシ−2’、3’−ジフルオロ−4゛°−シ
アノターフェニル 4−ブトキシ−2′、3−ジフルオロ−4−シアノター
フェニル 4−ペントキシ−2’、3’−ジフルオロ−4“−シア
ノターフェニル 4−ヘキソキシ−2°、3−ジフルオロ−4”−シアノ
ターフ ェニル 4−へブトキシ−2°、3゛−ジフルオロ−4−シアノ
ターフェニル 4−才クトキシ−2°、3°−ジフルオロ−4”−シア
ノターフェニル 実JLfL−ヱ 4−アルキル−2,2,3’−トリフルオロ−4°−シ
アノビフェニル 上記実施例1に従い作られた4−プロピル−2,3−ジ
フルオロフエニルチタニウムトリイソブロボキシトの1
0ミリモルに一20℃において80mgのテトラキス(
トリフェニルホスフィン)パラジウム(0)及びlOミ
リモルの4−ブロモ−2−フルオロベンゾニトリルとを
加える。この混合物を室温において18時間攪拌した上
で通常的に処理した後で4−プロピル−2,3,3−1
−リフルオロ−4°−シアノビフェニルが得られる。
同様にして下記の化合物が得られる: 4−エチルー2.3.3’−トリフルオロ−4°−シア
ノビフェニル 4−ブチル−2,3,3°−トリフルオロ−4°−シア
ノビフェニル 4−ペンチル−2,3,3−1−リフルオロ−4°−シ
アノビフェニル 4−へキシル−2,3,3’−トリフルオロ−4°−シ
アノビフェニル 4−へブチル−2,3,3−トリフルオロ−4°−シア
ノビフェニル 4−才クチル−2,3,3−1−リフルオロ−4−シア
ノビフェニル 4−エトキシ−2,3,3’−トリフルオロ−4°−シ
アノビフェニル 4−プロポキシ−2,3,3’−トリフルオロ−4−シ
アノビフェニル 4−ブトキシ−2,3,3°−トリフルオロ−4゛−シ
アノビフェニル 4−ペントキシ−2,3,3°−トリフルオロ−4−シ
アノビフェニル 4−ヘキソキシ−2,3,3−トリフルオロ−4°−シ
アノビフェニル 4−へブトキシ−2,3,3°−トリフルオロ−4°−
シアノビフェニル 4−才クトキシ−2,3,3−トリフルオロ−4°−シ
アノビフェニル 出発物質として4−アルキル−2°、3°−ジフルオロ
ビフェニル類を用い、同様にして下記の化合物が得られ
る。
4−エチル−2゛、3°、3°゛−トリフルオロ−4°
゛−シアノターフェニル 4−プロピル−2°、3°、3”−トリフルオロ−4”
−シアノターフェニル 4−ブチル−2°、3°、3°°−トリフルオロ−4゛
−シアノターフェニル 4−ペンチルー2′、3°、3−トリフルオロ−4゛−
シアノターフェニル 4−へキシル−2゛、3°、3−トリフルオロ−4”−
シアノターフェニル 4−へブチル−2’、 3’、 3”−トリフルオロ−
4゛−シアノターフェニル 4−才クチル−2°、3’、3”−トリフルオロ−4−
シアノターフェニル 4−エトキシ−2゛、3°、3”−トリフルオロ−4°
′−シアノターフェニル 4−プロポキシ−2°、3°、3”−トリフルオロ−4
−シアノターフェニル 4−ブトキシ−2°、3’、3”−トリフルオロ−4−
シアノターフェニル 4〜ペントキシ−2°、3’、3°°−トリフルオロ−
4−シアノターフェニル 4−ヘキソキシ−2°、 3’、3°゛−トリフルオロ
−4°°−シアノターフェニル 4−へブトキシ−2°、3°、3°°−トリフルオロ−
4゛−シアノターフェニル 4−才クトキシ−2°、3°、3”−トリフルオロ−4
”−シアノターフェニル 出発物質として4−(トランス−4−アルキルシクロヘ
キシル)−2,3−ジフルオロベンゼンを用い、同様に
して下記の化合物が得られる: 4−(トランス−4−エチルシクロヘキシル) −2,
3,3−トリフルオロ−4−シアノビフェニル4−(ト
ランス−4−プロピルシクロヘキシル)−2,3゜3゛
−トリフルオロ−4°−シアノビフェニル4−(トラン
ス−4−ブチルシクロヘキシル)−2,3,3゜−トリ
フルオロ−4°−シアノビフェニル4−(トランス−4
−ペンチルシクロヘキシル)−2,33°−トリフルオ
ロ−4−シアノビフェニル4−(トランス−4−ヘキシ
ルシクロヘキシル) −2,33°−トリフルオロ−4
−シアノビフェニル4−(トランス−4−ヘプチルシク
ロヘキシル)−2,33゛−トリフルオロ−4゛−シア
ノビフェニル4−(トランス−4−オクチルシクロヘキ
シル)−2,33°−トリフルオロ−4°−シアノビフ
ェニル火嵐皿−ユ 4−アルキル−2,3−ジフルオロ−4°゛−シアノタ
ーフェニル a)  I−(4−アルキル−2,3−ジフルオロフェ
ニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサ−1
−エン ヘキサン/テトラヒドロフラン(1:3)の中のlOミ
リモルの4−プロピル−2,3−ジフルオロフェニルト
リ(イソプロとルオキシ)チタニウム(実施例1に従い
作られたもの)及びlOミリモルのテトラメチレンジア
ミンの溶液28m℃に、−50℃においてlロミリモル
の4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサノンを加え
る。希塩酸で中和した後に得られるアルコール化合物を
精製することなく、50mJ2のエタノールと10m1
の濃塩酸との中で沸点まで加熱する。通常的に処理した
後に1−(4−プロピル−2,3−ジフルオロフェニル
) −4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサ−1−
エンが得られる。
同様にして下記の化合物が得られる: 1−(4−エチル−2,3−ジフルオロフェニル) −
4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサ−1−エン1
−(4−ブチル−2,3−ジフルオロフェニル) −4
−(4シアノフエニル)シクロヘキサ−1−エン1−(
4−ペンチル−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(
4−シアノフェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4
−へキシル−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4
−シアノフェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−
へブチル−2,3−ジフルオロフェニル)−4(4−シ
アノフェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−才ク
チル−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4−シア
ノフェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−エトキ
シ−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4−シアノ
フェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−プロポキ
シ−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4−シアノ
フェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−ブトキシ
−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4−シアノフ
ェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−ペントキシ
−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4−シアノフ
ェニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−ヘキソキシ
−2,3−ジフルオロフェニル)−4(4−シアノフェ
ニル)シクロヘキサ−1−エン1−(4−Δ、ブトキシ
−2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4−シアノフ
ェニル)シクロヘキサ刊−エン1−(4−才クトキシ−
2,3−ジフルオロフェニル)−4−(4−シアノフェ
ニル)シクロヘキサ−1−エンb)  2.3−ジクロ
ロ−5,6−ジシアノ−p−ベンゾキノン(DDQ)を
用いる酸化 10ミリモルの1−(4−プロピル−2,3−ジフルオ
ロフェニル’)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘ
キサ−1−エン、 1.04のトルエン及び20ミリモ
ルのDDQの混合物を2時間還流する。通常的に処理し
た後で4−プロピル−2,3−ジフルオロ−4゛−シア
ノターフェニルが得られる。
同様にして下記の化合物が得られる: 4−エチルー2.3−ジフルオロ−4”−シアノターフ
ェニル 4−ブチル−2,3−ジフルオロ−4°゛−シアノター
フェニル 4−ペンチル−2,3−ジフルオロ−4°゛−シアノタ
ーフェニル 4−へキシル−2,3−ジフルオロ−4゛°−シアノタ
ーフェニル 4−へブチル−2,3−ジフルオロ−4°°−シアノタ
ーフェニル 4−才クチル−2,3−ジフルオロ−4゛−シアノター
フェニル 4−エトキシ−2,3−ジフルオロ−4゛−シアノター
フェニル 4−プロポキシ−2,3−ジフルオロ−4”−シアノタ
ーフェニル 4−ブトキシ−2,3−ジフルオロ−4”−シアノター
フェニル 4−ペントキシ−2,3−ジフルオロ−4−シアノター
フェニル 4−ヘキソキシ−2,3−ジフルオロ−4°°−シアノ
ターフェニル 4−へブトキシ−2,3−ジフルオロ−4°°−シアノ
ターフェニル 4−才クトキシ−2,3−ジフルオロ−4−シアノター
フェニル 4−エチル−23,3”−トリフルオロ−4°゛−シア
ノターフェニル 4−ブチル−2,3,3“−トリフルオロ−4−シアノ
ターフェニル 4−ペンチルー2.3.3°°−トリフルオロ−4゛°
−シアノターフェニル 4−へキシル−2,3,3−トリフルオロ−4−シアノ
ターフェニル 4−へブチル−2,3,3°°−トリフルオロ−4°゛
−シアノターフェニル 4−才クチル−2,3,3”−トリフルオロ−4”−シ
アノターフェニル 4−エトキシ−2,3,3−トリフルオロ−4”−シア
ノターフェニル 4−プロポキシ−2,3,3”−1−リフルオロ−4°
°−シアノターフェニル 4−ブトキシ−2,3,3”−トリフルオロ−4゛−シ
アノターフェニル 4−ペントキシ−2,3,3”−トリフルオロ−4゛°
−シアノターフェニル 4−ヘキソキシ−2,3,3”−トリフルオロ−4°゛
−シアノターフェニル 4−へブトキシ−2,3,3−トリフルオロ−4−シア
ノターフェニル 4−才クトキシ−2,3,3”−トリフルオロ−4゛°
−シアノターフェニル 大W−丘 トランス−1−(4−アルキル−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサン
10ミリモルの1−(4−プロピル−2,3−ジフルオ
ロフェニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキ
サ−1−エン[実施例3a)に従い作られたもの]、0
、1gのパラジウム/活性炭(1%)及び15mI2の
トルエンの混合物を室温において水素化して飽和させる
。この混合物を濾過して溶剤を除去した後にその残渣を
15mρのジメチルスルホキシドの中に溶解し、これに
10ミリモルのカリウムtert−ブトキシドを加え、
そしてこの混合物を室温において2時間攪拌する。この
混合物を酸性化した上で通常的に処理した後にトランス
−1−(4−プロピル2.3−ジフルオロフェニル) 
−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサンが得られ
る。
同様にして下記の化合物が得られる。
トランス−1−(4−エチル−2,3−ジフルオロフェ
ニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサント
ランス−1−(4−ペンチル−2,3−ジフルオロフェ
ニル)−414−シアノフェニル)シクロヘキサントラ
ンス−1−(4−へキシル−2,3−ジフルオロフェニ
ル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサントラ
ンス−1−(4−へブチル−2,3−ジフルオロフェニ
ル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサントラ
ンス−1−(4−才クチル−2,3−ジフルオロフェニ
ル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサントラ
ンス−1−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフェニ
ル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサントラ
ンス−1−(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロフェ
ニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサント
ランス−1−(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロフェ
ニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサント
ランス−1−(4−ペントキシ−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサン
トランス−1−(4−ヘキソキシ−2,3−ジフルオロ
フェニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキサ
ントランス−1−(4−へブトキシ−2,3−ジフルオ
ロフェニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘキ
サントランス−1−(4−オクトキシ−2,3−ジフル
オロフェニル)−4−(4−シアノフェニル)シクロヘ
キサントランス−1−(4−エチル−2゜3−ジフルオ
ロフェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニ
ル)シクロヘキサン トランス−1(4−ブチル−2,3−ジフルオロフェニ
ル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル)シク
ロヘキサン トランス−1=(4−ペンチル−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル)
シクロヘキサン トランス−1−(4−へキシル−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル)
シクロヘキサン トランス−1−(4−へブチル−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル)
シクロヘキサン トランス−1−(4−才クチル−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル)
シクロヘキサン トランス−1−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル)
シクロヘキサン トランス−1−(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロ
フェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル
)シクロヘキサン トランス−1−(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロフ
ェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル)
シクロヘキサン トランス−1−(4−ペントキシ−2,3−ジフルオロ
フェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル
)シクロヘキサン トランス−1−(4−ヘキソキシ−2,3−ジフルオロ
フェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル
)シクロヘキサン トランス−1−(4−へブトキシ−2,3−ジフルオロ
フェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル
)シクロヘキサン トランス−1−(4−才クトキシ−2,3−ジフルオロ
フェニル)−4−(3−フルオロ−4−シアノフェニル
)シクロヘキサン 実遊鄭り一品 a)  4−ペントキシ−2,3−ジフルオロビフェニ
ル−4−カルボン酸 テトラヒドロフラン/テトラメチルエチレンジアミンの
中のlOミリモルの4−ペントキシ−23−ジフルオロ
フェニルトリ(イソプロピルオキシ)チタニウム(実施
例1に従い作られた)の溶液に−30℃において10ミ
リモルのエチルシクロへキサノン−4−カルボキシレー
トを加える。
この混合物を脱水して次にDDQにより酸化(実施例3
に従い)した後、エチル−4−ペントキシ−2,3−ジ
フルオロビフェニル−4°−カルボキシレートが得られ
る。このようにして得られたエステルをエタノール/水
の中で水酸化カリウムを用いて加水分解する。再結晶の
後に4−ペントキシ−2,3−ジフルオロビフェニル−
4゛−カルボン酸が得られる。
b) ニトリルへの転化 ジメチルホルムアミドの中で塩化チオニルを用いて対応
する酸から作った4−ペントキシ−2,3−ジフルオロ
ビフェニルカルボニルクロライドの10ミリモルと50
mβのアセトンとの混合物を25%濃度のアンモニア溶
液150mβに加える。沈殿する酸アミドを分離し、水
で洗浄して乾燥させる。この酸アミドと、 20mβの
塩化メチレンと、及び0.1mβのジメチルホルムアミ
ドとの混合物に塩化チオニル2m+42を加え、そして
得られた混合物を12時間煮沸する。通常的に処理した
後で4−ペンチルオキシ−2,3−ジフルオロ−4′−
シアノビフェニルが得られる。
叉JUL−互 4−(4−アルキル−2,3−ジフルオロビフェニル−
4゛−カルボニルオキシ)ベンゾニトリルの製造実施例
5a)に従い作られた4−ペントキシ−23−ジフルオ
ロ−4−カルボン酸の0,1モルと、4−ヒドロキシベ
ンゾニトリルの0.1モルと、ジメチルアミノピリジン
の1ミリモルと、及び塩化メチレン+50+nj2との
混合物に、01モルのジシクロへキシルカルボジイミド
と50mβの塩化メチレンとの混合物を0℃において加
える。得られた混合物を室温において12時間攪拌した
上で通常的に処理した後に4−(4−ペンチルオキシ−
2,3−ジフルオロビフェニル−4°−カルボニルオキ
シ)ベンゾニトリルが得られる。
同様にして下記の化合物が得られる 4−(4−エチル−2,3−ジフルオロビフェニル−4
−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−プロピル−2,3−ジフルオロビフェニル−
4−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−ブチル−2,3−ジフルオロビフェニル−4
°−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−ペンチル−2,3−ジフルオロビフェニル−
4カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−へキシル−2,3−ジフルオロビフェニル−
4′−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−へブチル−2,3−ジフルオロビフェニル−
4°−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−才クチル−2,3−ジフルオロビフェニル−
4−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−ノニル−2,3−ジフルオロビフェニル−4
−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−エトキシ−2,3−ジフルオロビフェニル−
4−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−プロポキシ−2,3−ジフルオロビフェニル
−4−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル4−(4−ブ
トキシ−2,3−ジフルオロビフェニル−4°−カルボ
ニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−ヘキソキシ−2,3−ジフルオロビフェニル
−4°−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル4−(4−
ヘプトキシ−2,3−ジフルオロビフェニル−4−カル
ボニルオキシ)ベンゾニトリル4〜(4−才クトキシ−
2,3−ジフルオロビフェニル−4−カルボニルオキシ
)ベンゾニトリル4−(4−エチル−2,3−ジフルオ
ロビフェニル−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロ
ベンゾニトリル4−(4−プロピル−2,3−ジフルオ
ロビフェニル−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロ
ベンゾニトリル4−(4−ブチル−2,3−ジフルオロ
ビフェニル−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロベ
ンゾニトリル4−(4−ペンチル−2,3−ジフルオロ
ビフェニル−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロベ
ンゾニトリル4−(4−ヘキシル−2,3−ジフルオロ
ビフェニル−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロベ
ンゾニトリル4−(4−へブチル−2,3−ジフルオロ
ビフェニル−4゛−カルボニルオキシ)−2−フルオロ
ベンゾニトリル4−(4−才クチル−2,3−ジフルオ
ロビフェニル−4°−カルボニルオキシ)−2−フルオ
ロベンゾニトリル4−(4−エトキシ−2,3−ジフル
オロビフェニル−4゛−カルボニルオキシ)−2−フル
オロベンゾニトリル4−(4−プロポキシ−2,3−ジ
フルオロビフェニル−4°−カルボニルオキシ)−2−
フルオロベンゾニトリル 4−(4−ブトキシ−2,3−ジフルオロビフェニル−
4−カルボニルオキシ)−2−フルオロベンゾニトリル
4−(4−ヘキソキシ−2,3−ジフルオロビフェニル
−4°−カルボニルオキシ)−2−フルオロベンゾニト
リル 4−(4−へブトキシ−2,3−ジフルオロビフェニル
−4°−カルボニルオキシ)−2−フルオロベンゾニト
リル 4−(4−才クトキシ−2,3−ジフルオロビフェニル
−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロベンゾニトリ
ル 1.2−ジフルオロベンゼンをリチウム化し、4−アル
キルシクロヘキサノンと反応させ、脱水し、DDQを用
いて芳香族化し、再びリチウム化し、そして二酸化炭素
と反応させることにより作った4−アルキル−2゛、3
’−ジフルオロビフェニル−4−カルボン酸を出発物質
として用い、同様にして下記の化合物が得られる: 4−(4−エチル−2”、3’−ジフルオロビフェニル
−4“−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−プロピル−2“、3−ジフルオロビフェニル
−4°−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル4−(4−
ブチル−2゛、3°−ジフルオロビフェニル−4°−カ
ルボニルオキシ)ベンゾニトリル 4−(4−ペンチル−2°、3−ジフル才口ビフェニル
−4−カルボニルオキシ)ベンゾニトリル4−(4−へ
キシル−2’、3’−ジフルオロビフェニル−4゛−カ
ルボニルオキシ)ベンゾニトリル4−(4−へブチル−
2°、3°−ジフルオロビフェニル−4−カルボニルオ
キシ)ベンゾニトリル4−(4−才クチル−2゛23−
ジフルオロビフェニル−4°−カルボニルオキシ)ベン
ゾニトリル4−(4−エチル−2°、3°−ジフルオロ
ビフェニル−4カルボニルオキシ)−2−フルオロベン
ゾニトリル4−(4−プロピル−2’、3’−ジフルオ
ロビフェニル−4°−カルボニルオキシ)−2−フルオ
ロベンゾニトリル 4−(4−ブチル−2゛、3°−ジフルオロビフェニル
−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロベンゾニトリ
ル4−(4−ペンチル−2°、3−ジフルオロビフェニ
ル−4−カルボニルオキシ)−2−フルオロベンゾニト
リル 4−(4−へキシル−2′、3°−ジフルオロビフェニ
ル−4°−カルボニルオキシ)−2−フルオロベンゾニ
トリル 4−(4−へブチル−2”3 −4−カルボニルオキシ) リル 4−(4−才クチル−2°、3 4−カルボニルオキシ) リル

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)下記式 I のベンゾニトリル化合物。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 但しこの式において R^1は1ないし12個の炭素原子を有するアルキルキ
    基であってその中の1個又は2個のCH_2基が−O−
    、−CO−、−CO−O−、及び/又は−C≡C−によ
    って置き換えられていてもよく、その際2つのO原子が
    互いに直接には結合していないものを表わし、 A^1はその1個又は2個のCH基がN原子によって置
    き換えられていてもよい非置換の、又は1個又は2個の
    F原子によって置換された1,4−フェニレンを、又は
    1個のCH_2基か、又は互いに隣接していない2個の
    CH_2基がO原子及び/又はS原子によって置き換え
    られていてもよいトランス−1,4−シクロヘキシレン
    を表わし、 Z^1は−CO−O−、−O−CO−、−CH_2CH
    _2−、−OCH_2−、−CH_2O−、−C≡C−
    又は単結合を表わし、mは1、2又は3の数を表わし、 xはFであり、そして nは0、1又は2の数を表わし、 その際 イ)少なくとも一つのA^1の基は2,3−ジフルオロ
    −1,4−フェニレンであり、そして ロ)nは、もしR^1−(A^1−Z^1)_m−が▲
    数式、化学式、表等があります▼であるときは1又は2
    の数である ことを条件とする。
  2. (2)請求項1の式 I の化合物を構成成分とする液晶
    相。
  3. (3)少なくとも2つ以上の液晶成分を有する液晶相に
    おいて、その少なくとも1つの成分が上記式 I の化合
    物であることを特徴とする液晶相。
  4. (4)請求項3記載の液晶相を含むことを特徴とする液
    晶表示装置。
  5. (5)誘電体として請求項3記載の液晶相を含む、請求
    項4記載の電気光学的表示装置。
JP5396589A 1988-03-10 1989-03-08 ベンゾニトリル化合物 Pending JPH024755A (ja)

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DE3807868 1988-03-10

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002294237A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Dainippon Ink & Chem Inc ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子
US9126308B2 (en) 2010-11-01 2015-09-08 Sintokogio, Ltd. Shot-processing apparatus

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JP2002294237A (ja) * 2001-03-29 2002-10-09 Dainippon Ink & Chem Inc ネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子
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