JPH0245677A - スクリュー型ドライポンプ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体製造工程のＬＰ（減圧）ＣＶＤにおい
て用いられるスクリュー型ドライポンプに関する。

〈従来の技術〉 ＬＰＧＶＤ装置の反応室から反応ガスを排気する為にス
クリュー型ドライポンプ（以下単にトライポンプと呼ぶ
）が用いられている。

第２図は、従来のドライポンプの構成例を示す概略図で
ある。図で示す様にこのドライポンプは、ケーシングｌ
の内部１ａに二本のロータ２゜３を設け、これらのロー
タ２，３を、ケーシング１の下部に設けた高周波モータ
４により高速回転させることにより、吸気口５から吸気
した気体をケーシング１の内部１ａで圧縮して、排気口
６から排気するものである。

この型のドライポンプでは、高速回転する二本のロータ
２，３相互の間隔ｃｔ１．及びロータ２゜３とケーシン
グｌの内壁１ｂとの間隔ｄ２が小さい程、気体の圧縮比
が高くなり、効率の良い排気が可能となる。ＬＰＧＶＤ
装置の反応ガス排気用のドライポンプでは、上記各間隔
ｄ８．ｄ２は、数ミクロン以下とされている。

〈発明が解決しようとする課題〉 ＬＰＧＶＤに用いられるドライポンプでは、排気させる
種々の反応ガスどうしの反応生成物が、内部１ａのロー
タ２，３や内壁１ｂに付着する。

例えば、反応ガスとしてジクロールシラン（ＳｉＨ２Ｃ
：ｌ□）とアンモニア（Ｎｉ１３）とを用い、ウェハ上
に窒化膜（ＳｉＪ４）を形成するＬＰＧＶＤの場合には
、そのＬＰＧＶＤ装置の反応室から排気されるジクロー
ルシランとアンモニアとより塩化アンモニウム（ＮＨ４
Ｃ１）が生成されて、ロータ２，３や内壁１ｂに付着す
る。

上述の如くドライポンプでは、ロータ２，３相互の間隔
ｄ１、及びロータ２，３とケーシングｌの内壁ｉｂとの
間隔ｄ２が非常に小さい為、少量の反応生成物の付着に
よってもロータ２，３の回転が妨げられ、最終的には停
止してしまう。

この為、ケーシング１内の反応生成物を除去する必要が
生じるが、その場合、上記従来のドライポンプではポン
プを分解しなければならなかった。即ち、ドライポンプ
のメンテナンスに非常な手間がかかるとともに、それに
よりポンプの稼動率が大きく低下するという問題があっ
た。

く課題を解決するための手段〉 本発明は上記問題点を解決すべく提案されたスクリュー
型ドライポンプて、吸気口に、圧縮する気体とは別個の
気体又は液体をケーシングの内部へ導入する手段を設け
るとともに、排気口には、上記導入手段によりケーシン
グの内部へ導入した気体又は液体を排出する手段を設け
たことを特徴とするものである。

〈作用〉 上記構成において、上記導入手段によりケーシングの内
部へ、その内部に付着した反応生成物を溶解し得る気体
又は液体を導入するとともに、その導入した気体又は液
体を上記排出手段により排出すれば、上記反応生成物を
除去することができる。

〈実施例〉 以下、図面に基づいて本発明の一実施例を説明する。

第１図（ａ）、（ｂ）は、本発明に係るスクリュー型ド
ライポンプの概略図である。このうち第１図（ａ）は吸
気口の構成を示し、又第１図（ｂ）は、第１図（ａ）の
矢印六方向より見た概略図で、排気口の構成を示してい
る。尚第１図において、第２図に示した従来例と相違な
い構成要素については、同一の符号を付して説明を省略
する。

図で示す様に本発明のスクリュー型ドライポンプ（以下
単にドライポンプと呼ぶ）は、吸気口５と排気口６の構
成に特徴を有する。

即ち、第１図（ａ）に示す如く吸気口５には、導入用配
管７が、ＬＰＣＶＤ装Ｅ（図示せず）からの吸気管Ｐｌ
に接続された状態で連結されている。この導入用配管７
は、ドライポンプにより圧縮、排気する気体とは別個の
気体又は液体を導入するもので、開閉バルブ８と流量計
９とを備えている。

一方、第１図（ｂ）に示す如く排気口６には、排出用配
管１０が、排気口６とドライポンプ外の排気ダクト（図
示せず）とを結ぶ排気管Ｐ２に接続された状態で連結さ
れている。この排出用配管１０は、上記導入用配管７に
よりケーシングｌの内部ｌａに導入した気体又は液体を
排出するもので、後述の如く水等の液体を導入した場合
にその液体が排出時に流下し得る様に、ケーシング１の
下部からケーシング１外へ導かれている。又排出用配管
ＩＯには、開閉バルブ１１が設けられている。

上記吸気口５と排気口６の構成は、従来のドライポンプ
を改造することにより、容易に実現される。

上記構成によれば、導入用配管７からケーシングエの内
部１ａへ、その内部１ａに付着した反応生成物を溶解し
得る気体又は液体を導入するとともに、その導入した気
体又は液体を排出用配管１０から排出することにより、
内部１ａの反応生成物を除去することかできる。

例えば、付着した反応生成物が塩化アンモニウムである
場合には、水を導入する。先ず、ロータ２．３の回転を
８００〜１１０００ＲＰ程度の低速回転とし、その後に
導入用配管７の開閉バルブ８を開いて、流量２．５１　
／ｗｉｎでケーシングｌの内部１ａへ水を導入する。水
を導入する前にロータ２，３を低速回転とするのは、高
速回転のまま水（液体）を導入すると、ロータ２，３へ
の負荷が急激に増加してロータ２，３か停止してしまう
為である。

次いで排出用配管１０の開閉バルブ１１を開いて、導入
した水を排出する。この様にして、約３０９．の水を導
入、排出することにより、約１０〜１２分で、ケーシン
グ１の内部１ａのロータ２，３や内壁１ｂに付着した塩
化アンモニウムを完全に水に溶解させて排出することが
てきる。

洗節終了後、導入用配管７の開閉バルブ８を閉じ、更に
水が完全に排出されてから排出用配管１０の開閉バルブ
１１を閉じる。続いてロータ２，３の回転を１０．ＯＯ
ＯＲＰＭ程度の高速回転に切換え、この高速回転時の発
熱及び排気作用により、ケーシングｌの内部１ａを乾燥
させる。高速回転を一時間以上続ければ、完全に乾燥す
る。

以上の動作により、ケーシングｌの内部！ａの反応生成
物除去が完了し、ＬＰＧＶＤの為の稼動に移行させるこ
とができる。

本実施例では、反応生成物として塩化アンモニウムを例
として説明したが、それ以外にも、ＬＰＧＶＤに用いら
れる種々の反応ガスによる反応生成物を除去することも
可能である。例えば、反応生成物か水溶性のものであれ
ば、上記塩化アンモニウムの場合と同様に水を導入して
洗浄し、その後乾燥させればよい。又、水溶性ではない
場合には、その反応生成物を溶解する気体或は液体を選
択してケーシング１の内部１ａに導入するとともに排出
し、更に必要に応じて乾燥させればよい。

〈発明の効果〉 以上述べた様に、本発明のスクリュー型ドライポンプに
よれば、ケーシングの内部に付着した反応生成物を、ポ
ンプを分解することなく容易に除去することが可能とな
る。即ち、ドライポンプのメンテナンスを短時間で行う
ことかでき、メンテナンスによるポンプの稼動率の低下
を最小限に抑えることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）、（ｂ）は、本発明に係るスクリュー型ド
ライポンプの概略図で、夫々吸気口と排気口の構成を示
す概略図、 第２図は、従来例を示す概略図である。 ｌ・・・ケーシング、　　　ｌａ・・・内部。 ２．３・・・ロータ、　　５・・・吸気口。 ６・・・排気口、　　　７・・・導入用配管。 ８・・・開閉バルブ、１０・・・排出用配管。 １１・・・開閉バルブ。 特許出願人　　　　沖電気工業株式会社代理人　　　　
　　　弁理士　船　橋　國　則（ａ） 第１図 （ｂ） 第 ？ 図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ケーシングの内部で二本のロータを回転させることによ
   り、吸気口から吸気した気体を前記ケーシングの内部で
   圧縮し、排気口から排気するスクリュー型ドライポンプ
   において、前記吸気口に、前記ケーシングの内部で圧縮
   する気体とは別個の気体又は液体を該内部へ導入する手
   段を設け、 前記排気口には、前記導入手段によりケーシングの内部
   へ導入した気体又は液体を排出する手段を設けたことを
   特徴とするスクリュー型ドライポンプ。