JPH0240535A - 部分測定型微粒子カウンター - Google Patents

部分測定型微粒子カウンター

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JPH0240535A
JPH0240535A JP63191282A JP19128288A JPH0240535A JP H0240535 A JPH0240535 A JP H0240535A JP 63191282 A JP63191282 A JP 63191282A JP 19128288 A JP19128288 A JP 19128288A JP H0240535 A JPH0240535 A JP H0240535A
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理一郎 鈴木
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えば半導体製造におけるウェハー洗浄工程
等において用いられる超純水とか、クリーンルームにお
ける清浄空気といった流体の管理などを行うために、そ
の流体中に含まれる微粒子(有機物、 311.埃、バ
クテリア等)の濃度(量)や粒径分布を測定可能に構成
された流体中機粒子カウンターのうち、特□に二所定の
流速で流動させた測定対象流体における涛速分布が可及
的に均一となる中心部分にに対してその測定対象流体の
流動方向゛に直交する方向における側方からレーザービ
ームを照射するための照射光学系と、前記測定対象流体
中に含まれ為微□粒子による前記レーザービームの散乱
光を検出するための検出光学系とを備えている部分測定
型微粒子カウンターに関する。
〔従来゛の技術〕
従来のこの種の部分側★型微粒子カウンターは、−例を
示すと、第4図e+の要部を概略的に示しているように
、ノズル1を用いて所定の流速でフローセル(図では省
略している)内に測定対象流体Sを流動させ、その流動
測定対象流体Sにおける流速分布が可及的に均一となる
中心部分に対してその測定対象流体Sの流動方向2 (
以下、第1方向という)に直交する方向y(以下、第2
方向という)における側方からレーザービームLを照射
するための照射光学系aが設けられる一方、前記測定対
象流体S中に含まれる微粒子による前記レーザービーム
Lの散乱光L°を、前記第1方向2における側方から検
出するための検出光学系すが設けられており、前記測定
対象流体S中に含まれる微粒子の濃度や粒径分布を測定
するように構成されている。
そして、前記照射光学系aには、前記レーザービームL
を偏平な(前記第1方向2において短く、かつ、前記第
1方向2と第2図方向yとに直交する方向X−以下、第
3方向という−において長い)ビームにするための例え
ばシリンドリカルレンズ2が設けられ、また、前記検出
光学系すには、受光用レンズ3.3が設けられると共に
、その結像位置(実像を結ぶ位置)に、前記散乱光L°
の入射を前記第2方向yおよび第3方向Xにおいて制限
することにより検出領域rを画定するためのスリット4
゛を備えたスリット部材5°が設けられている。
〔発明が解決しようとする課題〕
しかしながら、上記従来構成の部分測定型微粒子カウン
ターにおいては、必要な分解能(特に粒径分解能)を確
保するために、照射レーザービームLのできるだけ強度
が略均−な部分(第5図に模式的に示すように第3方向
Xにおけるガウス分布の中心のピーク付近:ハンチング
部分)のみを用いて測定する必要があることから、検出
光学系すに非常に狭小なスリット4°を備えたスリット
部材5゛を設けることにより、検出領域rをレーザービ
ームLの照射方向(第2方向y)においてのみならずレ
ーザービームLの径方向(第3方向X)においても制限
して十分に狭く画定しなければならない(第6図を参照
)と共に、散乱光L゛を測定対象流体Sの流動方向(第
1方向)2における側方から検出しなければならなかっ
たため、次のような欠点、即ち、 (ア)検出領域rを、前記第6図に示すようなスリット
部材5゛を用いた入射散乱光L゛の制限により画定する
という手法を用いていることに起因して、検出光学系す
の収差のために必要な像!の外縁部がスリット4′の全
周辺部においてカットされることになり、それによる分
解能の低下を避けることはできないため、基本的に分解
能に劣っており、従って、検出光学系Bを格別の収差補
正手段を設けるなどして極めて収差が小さいものに構成
しなければならず、非常に高価につく、 (イ)しかも、測定対象流体Sの屈折率が少しでも変化
すると、スリット部材5”におけるピントがずれて、そ
れによるスリット4′の周辺部における像■の外縁部の
カット現象が更に加わるため、その度にスリット部材5
°を移動させてピント調整をしなければ、より一層分解
能が低下してしまうことになる。従って、測定対象流体
Sの屈折率の変化に応じてスリット部材5゛を精密に移
動させ得るような格別のピント微調整手段を設けるなど
の必要があり、検出光学系すの構造の複雑化を招くと共
に一層高価につく、 (つ)また、分解能を確保するためには前記(ア)で説
明したように収差の小さい検出光学系すを構成しなくて
はならないが、その場合、開口を大きくとることが難し
くなり、散乱光L〕の受光量が少なくならざるを得ず、
そのためにS/N比が悪くなってしまう、 (1)更に、検出光学系すを測定対象流体Sの流動方向
(第1方向)2における側方に設ける必要があるため、
前記第4図には示していないが、測定部であるフローセ
ル以降の流路を屈曲させたり、旋回流を用いるなどしな
くてはならず、そのために、全体構造が複雑化および大
型化すると共に、流速制御も困難となり易い、 という種々の問題があった。
本発明は、かかる従来実情に鑑みてなされたものであっ
て、検出領域をできるだけ広くとれるように、かつ、検
出光学系において多かれ少なかれ避けることができない
収差やピントずれによる影響を受は難いように、しかも
、検出光学系を測定対象流体の流動方向における側方以
外の任意の位置に設けられるように工夫することにより
、分解能およびS/Nを共に改善できると共に、全体と
して簡素かつ小型で安価なものに構成できる部分測定型
微粒子カウンターを開発・提供せんとすることにある。
〔課題を解決するための手段〕
上記目的を達成するために、本発明は、冒頭に記載した
ような基本的構成を有する部分測定型微粒子カウンター
において、照射光学系に、測定対象流体の流動方向とレ
ーザービームの照射方向とに直交する方向における光強
度積分値(測定対象流体の流動方向に積分したもの)の
分布を方形状にするための光強度補正手段を設ける一方
、検出光学系における結像位置には、前記レーザービー
ムの照射方向に直交する方向に十分な余裕を有する幅の
スリット備えたスリット部材を設けてある、という特徴
を備えている。
〔作用〕
上記特徴構成により発揮される作用は下記の通りである
即ち、上記本発明による部分測定型微粒子カウンターに
おいては、後述する実施例の記載からもより一層明らか
となるように、照射光学系に上述のような光強度補正手
段を設けることにより、測定対象流体における流速分布
が可及的に均一となる中心部分に対して、光強度積分値
(測定対象流体の流動方向に積分したもの)の分布を方
形状に補正した、つまり、測定対象流体の流動方向とレ
ーザービームの照射方向とに直交する方向において全体
として略均−となるように補正したレーザービームを照
射するように構成したから、従来構成の部分測定型微粒
子カウンターのように照射レーザービームの一部分(強
度が略均−な中心部分)のみを検出領域として制限する
必要がなく、つまり、少なくともレーザービームの径方
向において制限せずに検出領域を画定することができ、
しかも、検出光学系における結像位置に設けられるスリ
ット部材としては、レーザービームの照射方向に直交す
る方向に十分な余裕を有する幅の、つまり、検出領域の
レーザービームの照射方向における制限はするがレーザ
ービームの径方向における制限はしない幅広のスリット
を備えたものを採用しているから、検出光学系の収差や
測定対象流体の屈折率変化によるピントずれに起因する
像外縁部のカット現象は、レーザービームの照射方向に
直交する方向におけるスリットの周辺部では依然として
生じるが、レーザービームの照射方向におけるスリット
の周辺部では生じないため、前記収差やピントずれによ
る影響を従来に比べて格段に小さく抑えることができ、
これにより、たとえ検出光学系がある程度大きな収差を
有していたとしても、また、測定対象流体の屈折率の変
化によりスリット部材における多少のピントずれが生じ
たとしでも、分解能を従来に比べて大幅に向上させるこ
とができ、従って、検出光学系を、格別の収差補正手段
やピント微調整機樽を設ける必要のない、簡素かつ安価
なものに構成できるようになり、更に、本発明による部
分測定型微粒子カウンターの場合には、検出光学系を、
必ずしも測定対象流体の流動方向における側方に設ける
必要は無く、測定対象流体の流動方向に直交する方向に
おける側方の任意の位置に設けることができるから、測
定部であるフローセル以降の流路を、従来のように屈曲
させなくてもよくなり、以って、全体構造のより一層の
簡素化および小型化を達成することができる。
〔実施例〕
以下、本発明に係る部分測定型微粒子カウンターの一実
施例を図面に基いて説明する。
第1図に示しているように、例えばノズルlを用いて所
定の流速でフローセル(図では省略している)内に測定
対象流体Sを流動させ、その流動測定対象流体Sにおけ
る流速分布が可及的に均一となる中心部分を検出領域R
とし、その検出領域Rに対してその測定対象流体Sの流
動方向2 (以下、第1方向という)に直交する(正確
な直交は勿論、略直交をも含む)方向y(以下、第2方
向という)における側方からレーザービームL(例えば
、ヘリウム−ネオンレーザ−、アルゴンレーザーあるい
はヘリウム−カドミウムレーザー)を照射するための照
射光学系Aが設けられる一方、前記測定対象流体S中に
含まれる微粒子による前記レーザービームLの散乱光L
°を、前記第1方向2と第2方向に直交する(正値な直
交は勿論、略直交をも含む)方向X(以下、第3方向と
いう)における側方から検出するための検出光学系Bが
設けられており、前記測定対象流体S中に含まれる微粒
子の濃度や粒径分布を測定するように構成されている。
そして、前記照射光学系Aには、前記レーザービームL
を偏平な(前記第1方向2において短く、かつ、前記第
3方向において長い)ビームにするための例えばシリン
ドリカルレンズ2が設けられると共に、そのシリンドリ
カルレンズ2と前記検出領域Rとの間には、第2図に模
式的に示しているように、前記第3方向Xにおける光強
度積分値(第1方向Zに積分したもの)の分布を方形状
にする(例えば、スリットによりガウス分布の両端部分
をカントするとか、あるいは、スペースフィルターとか
ソフトアパチャーなどのビーム整形手段を用いて全体を
方形状にする)ように構成された光強度補正手段6が設
けられており、また、前記検出光学系Bには、受光用レ
ンズ3.3が設けられると共に、その結像位置(実像を
結ぶ位置)には、前記第2方向yに直交(正確な直交は
勿論、略直交をも含む)する方向2゛に十分な余裕を有
する幅の、つまり、検出領域RのレーザービームLの照
射方向(第2方向y)における制限はするがレーザービ
ームの径方向における制限はしない幅広のスリット4を
備えたスリット部材5 (第3図の拡大図を参照)を設
けて、前記散乱光L°の入射を前記第2方向yのみにお
いて制限することにより前記検出領域Rをできるだけ広
く画定すると共に、前記第3図に示しているように、ス
リット部材5において結ばれる像■のカット現象が、レ
ーザービームLの照射方向(第2方向y)におけるスリ
ット4の周辺部では生じないようにして、検出光学系B
における収差やピントずれによる影響を従来に比べて格
段に小さく抑えられるようにしである。
ところで、本発明の上記実施例に係る部分測定型微粒子
カウンターにおいては、検出光学系Bは、従来のように
第1方向2における側方に設けるのではなく、第3方向
Xにおける側方に設けであるから、測定部であるフロー
セル以降の流路を、従来のように屈曲させる必要はない
し、また、旋回流を用いる場合のような大きなセルも不
要である。
〔発明の効果〕
以上詳述したところから明らかなように、本発明に係る
部分測定型微粒子カウンターによれば、照射光学系に、
測定対象流体の流動方向とレーザービームの照射方向と
に直交する方向における光強度積分値(測定対象流体の
流動方向に積分したもの)の分布を方形状にするための
光強度補正手段を設ける一方、検出光学系における結像
位置には、前記レーザービームの照射方向に直交する方
向に十分な余裕を有する幅のスリット備えたスリット部
材を設けてある、という特異な構成を採用したことによ
り、従来に比べて、検出光学系において多かれ少なかれ
避けることができない収差やピントずれによる影響を受
は難いようにすることができ、しかも、検出光学系を測
定対象流体の流動方向における側方以外の任意の位置に
設けられるようになり、全体として簡素かつ小型で安価
なものに構成できる、という顕著に優れた効果が発揮さ
れる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図は本発明に係る部分測定型微粒子カ
ウンターの一実施例を説明するためのものであって、第
1図は要部の概略構成図(斜視図)第2図はその検出領
域に照射されるレーザービームの強度分布を示す特性図
、第3図はその検出光学系におけるスリット部材の拡大
正面図を夫々示している。 また、第4図ないし第6図は本発明の技術的背景ならび
に従来技術の問題点を説明するためのものであって、第
4図は従来の部分測定型微粒子カウンターの要部の概略
構成図(斜視図)を示し、第5図はその検出領域に照射
されるレーザービームの光強度積分値(測定対象流体の
流動方向に積分したもの)の分布を示す特性図、第6図
はその検出光学系におけるスリット部材の拡大正面図を
夫々示している。 A・・・照射光学系、B・・・検出光学系、L・・・照
射レーザービーム、Lo・・・散乱光、S・・・測定対
象流体、2・・−・測定対象流体の流動方向、y・・・
照射レーザービームの照射方向、X・・・測定対象流体
の流動方向および照射レーザービームの照射方向に直交
する方向、4・・・スリット、5・・・スリット部材、
6・・・光強度補正手段。 出願人 株式会社 堀 場 製 作 所代理人 弁理士
  藤 本 英 火 弟2図 第1図 A・・・・・・照射光学系、 B・・・・・・検出光学系、 L・・・・・・照射レーザービーム、 L”・・・散乱光、 S・・・・・・測定対象流体、 2・・・・・・Jす定刻象流体の流動方向、照射レーザ
ービームの照射方向 に直交する方向、 4−・ ・スリット、 5・・・・・・スリット部材、 6・・・・・・光強度補正手段。 第4図

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 所定の流速で流動させた測定対象流体における流速分布
    が可及的に均一となる中心部分に対してその測定対象流
    体の流動方向に直交する方向における側方からレーザー
    ビームを照射するための照射光学系と、前記測定対象流
    体中に含まれる微粒子による前記レーザービームの散乱
    光を検出するための検出光学系とを備えている部分測定
    型微粒子カウンターであって、 前記照射光学系に、前記測定対象流体の流動方向とレー
    ザービームの照射方向とに直交する方向における光強度
    積分値(測定対象流体の流動方向に積分したもの)の分
    布を方形状にするための光強度補正手段を設ける一方、
    前記検出光学系における結像位置には、前記レーザービ
    ームの照射方向に直交する方向に十分な余裕を有する幅
    のスリット備えたスリット部材を設けてある、ことを特
    徴とする部分測定型微粒子カウンター。
JP63191282A 1988-07-30 1988-07-30 部分測定型微粒子カウンター Granted JPH0240535A (ja)

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