JPS58201005A - 粒径測定装置 - Google Patents
粒径測定装置Info
- Publication number
- JPS58201005A JPS58201005A JP8316782A JP8316782A JPS58201005A JP S58201005 A JPS58201005 A JP S58201005A JP 8316782 A JP8316782 A JP 8316782A JP 8316782 A JP8316782 A JP 8316782A JP S58201005 A JPS58201005 A JP S58201005A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- measured
- lens
- scattering angle
- light
- distribution
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の属する技術分野〕
本発明は微小な粒子の径を測定する粒径測定装置に関す
る。
る。
従来より光の散乱を利用した粒径測定装置の１つに第１
図に示すような装置がある。これはレーザー光を試料に
照射し、試料により散乱された光のθ方向の分布工（θ
）を測定し、回折理論あるいはＭ１ｅ散乱理論を用いて
散乱光分布Ｉ（θ）より粒径分布ｎ （Ｄ） （Ｄ ：
粒径）を計算する装置である。粒径がＤである１粒子に
よる散乱光分布ｉ（Ｄ、θ）は回折理論あるいはＭｉｅ
散乱理論により求めることが出来るので、試料の粒径分
布をｎ （Ｄ）とすると散乱光分布■（θ）は ■（θ）−／ｉ（Ｄ、θ）・ｎ中） ｄＤ −（１）と
表わせる。（１）式の積分方程式なｎ （Ｄ）について
解いたり、粒径分布ｎ （Ｄ）として対数正規分布、ａ
ｏｓｉｎ −Ｒａｒｒｍｌｅｒ分布を仮定してその分布
パラメータを（１）式を用いて計算で求めることにより
試料の粒径分布を求めている。
図に示すような装置がある。これはレーザー光を試料に
照射し、試料により散乱された光のθ方向の分布工（θ
）を測定し、回折理論あるいはＭ１ｅ散乱理論を用いて
散乱光分布Ｉ（θ）より粒径分布ｎ （Ｄ） （Ｄ ：
粒径）を計算する装置である。粒径がＤである１粒子に
よる散乱光分布ｉ（Ｄ、θ）は回折理論あるいはＭｉｅ
散乱理論により求めることが出来るので、試料の粒径分
布をｎ （Ｄ）とすると散乱光分布■（θ）は ■（θ）−／ｉ（Ｄ、θ）・ｎ中） ｄＤ −（１）と
表わせる。（１）式の積分方程式なｎ （Ｄ）について
解いたり、粒径分布ｎ （Ｄ）として対数正規分布、ａ
ｏｓｉｎ −Ｒａｒｒｍｌｅｒ分布を仮定してその分布
パラメータを（１）式を用いて計算で求めることにより
試料の粒径分布を求めている。
この方法では第２図に示すように試料からの散乱光を受
光レンズ４を用いてレンズの焦点面に集光している。こ
れは試料の位置Ｃ二よらず、散乱角がＣである光は丁ぺ
て焦点面のｒ中ｏｆの位置に集光させるためである。こ
のような光学系であるとレンズの口径に限度があるため
に散乱光分布を測定する範囲が０〜１５８以内に限定さ
れてしまう。散乱光分布の範囲が０〜１５°に限定され
ると、第３図に示すように、１．０ｐｍφ以下の比較的
小さい粒子の散乱光分布を相対的ｆ二区別することがむ
ずかしい。又第７図６二示すように試料が広範囲にわた
って分布している際、斜線で示したすべての範囲内にあ
る粒子を測定していることになり、測定したい領域以外
の粒子の影響を受ける。
光レンズ４を用いてレンズの焦点面に集光している。こ
れは試料の位置Ｃ二よらず、散乱角がＣである光は丁ぺ
て焦点面のｒ中ｏｆの位置に集光させるためである。こ
のような光学系であるとレンズの口径に限度があるため
に散乱光分布を測定する範囲が０〜１５８以内に限定さ
れてしまう。散乱光分布の範囲が０〜１５°に限定され
ると、第３図に示すように、１．０ｐｍφ以下の比較的
小さい粒子の散乱光分布を相対的ｆ二区別することがむ
ずかしい。又第７図６二示すように試料が広範囲にわた
って分布している際、斜線で示したすべての範囲内にあ
る粒子を測定していることになり、測定したい領域以外
の粒子の影響を受ける。
本発明の目的は、比較的小さい粒子についてもその粒径
な求めることが可能で且つ測定したい領域内の粒子の粒
径な測定出来る粒径測定装置を提供するにある。
な求めることが可能で且つ測定したい領域内の粒子の粒
径な測定出来る粒径測定装置を提供するにある。
本発明はレーザー光を光源とじかつ測定視野を限定する
ように配置した光学系と、この光学系に受光系を設け、
この受光系を上記測定視野を中心にかつ散乱角方向に走
査する駆動装置を設けて構成した散乱光分布の測定系と
を具備してなる粒径測定装置である。
ように配置した光学系と、この光学系に受光系を設け、
この受光系を上記測定視野を中心にかつ散乱角方向に走
査する駆動装置を設けて構成した散乱光分布の測定系と
を具備してなる粒径測定装置である。
本発明によれは、測定する粒子の位置による誤差のほと
んどない、広い測定範囲で粒子の粒径なｎＬ１］定でき
る。
んどない、広い測定範囲で粒子の粒径なｎＬ１］定でき
る。
以下本発明の実施例を詳細に説明テる。
レーザ１を光源とし、スリット１０、レンズ１２から成
る入射系とスリット１５、レンズ１４から成る受光系と
により測定視野１７を作りこの測定視野１７において散
乱された光をフォトディテクタで電気信号（二変換し、
アンプ７で信号を増巾する。受光系を駆動装置１６によ
り散乱体積１７を中心に散乱角方向（θ方向）に走査す
ることにより散乱光分布を測定する。信号処理系８によ
り散乱光分布から粒径分布に変換する。本発明は光学系
の構成に特徴があり、第６図に示すような光学系を構成
する。レンズ１２によりスリット１０の像を測定視野１
７の位置に作り、又レンズ１４によりスリット１５の像
を測定視野１７の位置に作るようにレンズ１２，１４及
びスリット１０．１５を配置＆Ｔるとスリット１０の像
２２とスリット１５の像２３とで形成される測定視野１
７から発した光のみを測定することが出来る。上記の受
光系を散乱角方向（θ方向）に走査すると、測定視野１
７内で散乱された光の分布を測定することが出来る。
る入射系とスリット１５、レンズ１４から成る受光系と
により測定視野１７を作りこの測定視野１７において散
乱された光をフォトディテクタで電気信号（二変換し、
アンプ７で信号を増巾する。受光系を駆動装置１６によ
り散乱体積１７を中心に散乱角方向（θ方向）に走査す
ることにより散乱光分布を測定する。信号処理系８によ
り散乱光分布から粒径分布に変換する。本発明は光学系
の構成に特徴があり、第６図に示すような光学系を構成
する。レンズ１２によりスリット１０の像を測定視野１
７の位置に作り、又レンズ１４によりスリット１５の像
を測定視野１７の位置に作るようにレンズ１２，１４及
びスリット１０．１５を配置＆Ｔるとスリット１０の像
２２とスリット１５の像２３とで形成される測定視野１
７から発した光のみを測定することが出来る。上記の受
光系を散乱角方向（θ方向）に走査すると、測定視野１
７内で散乱された光の分布を測定することが出来る。
測定視野１７をある範囲に限定しているため粒子の位置
による誤差はほとんどない。このような光学系を用いる
ことにより測定したい領域（測定視野１７）内の粒子に
よる散乱光分布を広い散乱角範囲にわたって測定するこ
とが出来る。
による誤差はほとんどない。このような光学系を用いる
ことにより測定したい領域（測定視野１７）内の粒子に
よる散乱光分布を広い散乱角範囲にわたって測定するこ
とが出来る。
この発明の変形として第７図６二示すように駆動装置１
６により走査するかわりに多数の受光系を散乱角方向（
θ方向）に配置することにより同様の散乱光分布が得ら
れる。又第８図に示すように光ファイバを用いて受光系
を構成することにより受光系の配置に融通性を持たせて
も良い。
６により走査するかわりに多数の受光系を散乱角方向（
θ方向）に配置することにより同様の散乱光分布が得ら
れる。又第８図に示すように光ファイバを用いて受光系
を構成することにより受光系の配置に融通性を持たせて
も良い。
第１図は従来の装置を示すブロック図、′！Ａ２図は従
来の光学系を説明するための図、第３図は散乱光分布を
示すグラフ、第４図は測定領域を示す図、第５図は実施
例を示す図、第６図は実施例の光学系を説明するための
図、第７図および第８図は本発明の変形例を示す図であ
る。 １・・・レーｆ −２・・・ビーム成形系３・・・試料
（粒子） ４・・・受光レンズ５・・・駆動装置６
．６’、６’・・・フォトディテクタ７．７’、’ｌ’
・・・アンプ ８・・・信号処理系９・・・レン
ズ １０・・・スリット１１・・・マスク
１２・・・レンズ１３・・・マスク
１４．１４’、１４’・・・レンズ１５．１５’
、１５’・・・スリット１６・・・駆動装置１７・・・
測定視野 １８・・・ビーム（レーザービーム） １９．１９’ 、１９’・・・光ファイバ２００１．レ
ンズ ２１・・・スリット代理人 弁理士
則 近 憲 佑 Ｃほか１名）
来の光学系を説明するための図、第３図は散乱光分布を
示すグラフ、第４図は測定領域を示す図、第５図は実施
例を示す図、第６図は実施例の光学系を説明するための
図、第７図および第８図は本発明の変形例を示す図であ
る。 １・・・レーｆ −２・・・ビーム成形系３・・・試料
（粒子） ４・・・受光レンズ５・・・駆動装置６
．６’、６’・・・フォトディテクタ７．７’、’ｌ’
・・・アンプ ８・・・信号処理系９・・・レン
ズ １０・・・スリット１１・・・マスク
１２・・・レンズ１３・・・マスク
１４．１４’、１４’・・・レンズ１５．１５’
、１５’・・・スリット１６・・・駆動装置１７・・・
測定視野 １８・・・ビーム（レーザービーム） １９．１９’ 、１９’・・・光ファイバ２００１．レ
ンズ ２１・・・スリット代理人 弁理士
則 近 憲 佑 Ｃほか１名）
Claims (2)
- （１） レーザー光を光源とし、かつ測定視野を限定
するように配置した光学系とこの光学系に受光系を設け
この受光系を前記測定視野を中心にかつ散乱角方向に走
査する駆動装置を設けて構成された散乱光分布の測定系
とを具備してなることを特徴とする粒径測定装置。 - （２）受光系をかわりに複数の受光系を散乱角方向に配
置した散乱光分布の測定系を具備して散乱角方向に走査
Ｔるよう構成したことを特徴とする特許請求の範囲第１
項記載の粒径測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8316782A JPS58201005A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 粒径測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8316782A JPS58201005A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 粒径測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58201005A true JPS58201005A (ja) | 1983-11-22 |
Family
ID=13794705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8316782A Pending JPS58201005A (ja) | 1982-05-19 | 1982-05-19 | 粒径測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58201005A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108593528A (zh) * | 2018-04-24 | 2018-09-28 | 天津大学 | 基于激光干涉的非球形粗糙粒子形状和尺寸测量方法 |
| CN108627674A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-10-09 | 天津大学 | 基于干涉离焦像的透明椭球粒子转向判别方法 |
| CN108801864A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-11-13 | 天津大学 | 基于干涉聚焦像的透明椭球粒子转向判别方法 |
-
1982
- 1982-05-19 JP JP8316782A patent/JPS58201005A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108593528A (zh) * | 2018-04-24 | 2018-09-28 | 天津大学 | 基于激光干涉的非球形粗糙粒子形状和尺寸测量方法 |
| CN108627674A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-10-09 | 天津大学 | 基于干涉离焦像的透明椭球粒子转向判别方法 |
| CN108801864A (zh) * | 2018-05-15 | 2018-11-13 | 天津大学 | 基于干涉聚焦像的透明椭球粒子转向判别方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2825644B2 (ja) | 粒子寸法分析方法および装置 | |
| US4541715A (en) | Apparatus for detecting contaminants on the reticle of exposure system | |
| JPH0143901B2 (ja) | ||
| JPH0787208B2 (ja) | 面板欠陥検出光学装置 | |
| JPS58201005A (ja) | 粒径測定装置 | |
| JPS63140904A (ja) | 散乱光測定装置 | |
| JPS59500196A (ja) | スキャナ | |
| JPS5970944A (ja) | 粒径測定装置 | |
| JPS5833107A (ja) | 粒径測定装置 | |
| JPH0565020B2 (ja) | ||
| JPS5933855B2 (ja) | 表面検査方法 | |
| JP3106521B2 (ja) | 透明基板の光学的検査装置 | |
| JPH02193041A (ja) | 粒度分布測定装置 | |
| JPS61112905A (ja) | 光応用計測装置 | |
| JPS6321854B2 (ja) | ||
| JP3040131B2 (ja) | 球体表面の傷検査装置 | |
| JPH04273042A (ja) | 微粒子の計測装置 | |
| JP2776823B2 (ja) | 光学検出装置 | |
| JPH0442621B2 (ja) | ||
| JPH01259244A (ja) | 異物検出方式 | |
| JPH0348525Y2 (ja) | ||
| JPH10142489A (ja) | 焦点検出方法およびその装置 | |
| JP2830915B2 (ja) | 粒径分布測定装置 | |
| JPH03154854A (ja) | 細線の微細欠陥検出装置 | |
| JP2666495B2 (ja) | 屈折率分布測定方法及び屈折率分布測定装置 |