JPH0239445A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体装置に関し、特に多ピンパツケージ型の
半導体装置に関する。
半導体装置に関する。
従来、半導体チップの電極パッドとパッケージのパッド
との接続方法として、アルミニウム線又は金線を用いた
ワイヤーボンディング法がある。
との接続方法として、アルミニウム線又は金線を用いた
ワイヤーボンディング法がある。
この方法を用いたときに量産性を保ち且つ安定した品質
が得られる範囲の半導体チップの電極パッド数とパッケ
ージのパッド数は、半導体チップの寸法とパッケージの
キャビティの寸法によって変わる。例えば、キャビティ
の寸法と半導体チップの寸法とをそれぞれ14X14−
及び12.5X12.5mn1とした場合には最大30
0ピンが限度である。今後、チップの機能増大の要求に
対して微細パターン加工技術が進歩してくると500〜
570ビン程度の電極の取り出しが必要になってくる。
が得られる範囲の半導体チップの電極パッド数とパッケ
ージのパッド数は、半導体チップの寸法とパッケージの
キャビティの寸法によって変わる。例えば、キャビティ
の寸法と半導体チップの寸法とをそれぞれ14X14−
及び12.5X12.5mn1とした場合には最大30
0ピンが限度である。今後、チップの機能増大の要求に
対して微細パターン加工技術が進歩してくると500〜
570ビン程度の電極の取り出しが必要になってくる。
しかし、現在のパッケージ製造技術では対応が難しい。
その問題点としては、パッケージ側のパッドの幅寸法と
ボンダーのボンディング精度の兼合いでパッケージ側の
パッド幅を細くするとボンディングワイヤーがパッドか
ら外れて接続できない点にある。
ボンダーのボンディング精度の兼合いでパッケージ側の
パッド幅を細くするとボンディングワイヤーがパッドか
ら外れて接続できない点にある。
従来の半導体装置は、第3図(a)、(b)に示すよう
に、セラミック容器1の内側中央部に設けた深さ0.5
〜061mの凹部の底面にタングステンメタライズ層を
有する素子載置部2を設け、前記凹部の上段の水平面に
第1のパッド6aを配列して設ける。次に、パット6a
の外周にセラミックの段部を設け、前記段部の上面に第
2のパッド6bを配列して設ける。パット6a、6bに
接続するタングステンメタライズ層3.5を設け、セラ
ミック容器1の壁を貫通して外部に導出した外部リード
7とメタライズ層3.4を接続してパッケージを構成す
る。この様なi造のパッケージに半導体チップ8を搭載
した後にワイヤーホンディングして半導体装置を形成す
る。
に、セラミック容器1の内側中央部に設けた深さ0.5
〜061mの凹部の底面にタングステンメタライズ層を
有する素子載置部2を設け、前記凹部の上段の水平面に
第1のパッド6aを配列して設ける。次に、パット6a
の外周にセラミックの段部を設け、前記段部の上面に第
2のパッド6bを配列して設ける。パット6a、6bに
接続するタングステンメタライズ層3.5を設け、セラ
ミック容器1の壁を貫通して外部に導出した外部リード
7とメタライズ層3.4を接続してパッケージを構成す
る。この様なi造のパッケージに半導体チップ8を搭載
した後にワイヤーホンディングして半導体装置を形成す
る。
上述した従来の半導体装置は、セラミック容器の段差の
ために第1のパッドと第2のパッドを同時に形成するこ
とができず、異なる工程で順次形成するため、位置合わ
せが困難となり、0.1〜0.15mmの相対的なずれ
を生ずる。そのためボンディング用のパッドの幅は前記
のずれの余裕を含める必要があり、0.3mm程度の幅
が限度で、キャビティ寸法14X14−では280〜3
00ピン程度が限度となり、それ以上のビン数には対応
できないという問題点があった。
ために第1のパッドと第2のパッドを同時に形成するこ
とができず、異なる工程で順次形成するため、位置合わ
せが困難となり、0.1〜0.15mmの相対的なずれ
を生ずる。そのためボンディング用のパッドの幅は前記
のずれの余裕を含める必要があり、0.3mm程度の幅
が限度で、キャビティ寸法14X14−では280〜3
00ピン程度が限度となり、それ以上のビン数には対応
できないという問題点があった。
本発明の目的は、各段のパッドの位置ずれを無くしてパ
ットの幅を狭くし300ピン以上の多ピンパツケージを
有する半導体装置を提供することにある。
ットの幅を狭くし300ピン以上の多ピンパツケージを
有する半導体装置を提供することにある。
本発明の半導体装置は、内側中央部に設けな凹部の底面
に素子載置部を設けたセラミック容器と、前記凹部の上
段の水平面に配列して設けた第1層の導体層と、前記第
1層の導体層の先端部を残して前記第1層の導体層を含
む表面に設けた絶縁膜と、前記絶縁膜上に配列して設け
た第2層の導体層と、前記第1及び第2の導体層の先端
部のそれぞれに接続し且つ第1層と第2層との位置を整
合して設けたパッドとを有する。
に素子載置部を設けたセラミック容器と、前記凹部の上
段の水平面に配列して設けた第1層の導体層と、前記第
1層の導体層の先端部を残して前記第1層の導体層を含
む表面に設けた絶縁膜と、前記絶縁膜上に配列して設け
た第2層の導体層と、前記第1及び第2の導体層の先端
部のそれぞれに接続し且つ第1層と第2層との位置を整
合して設けたパッドとを有する。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例を説明す
るための平面図及びA−A’線断面図、第1図(c)、
(d)は本発明の第1の実施例を説明するための部分拡
大平面図及び部分模式断面図である。
るための平面図及びA−A’線断面図、第1図(c)、
(d)は本発明の第1の実施例を説明するための部分拡
大平面図及び部分模式断面図である。
第1図(a)〜(d)に示すように、セラミック容器1
の内側中央部に設けた凹部の底面にタングステンメタラ
イズ層を有する素子載置部2を設け、前記凹部の上段の
水平面に配列して第1層のタングステンメタライズ層3
を幅0.1mm、ピッチ0.21で設ける1次に、メタ
ライズ層3の先端部を0.1〜0.2 +n+n残して
アルミナペースト絶縁膜4をメタライズ層3を含む表面
に形成し、同様にして、アルミナペースト絶縁膜4の上
に第2層のタングステンメタライズR5を幅0.1mm
、ピッチ0.2mmで設ける。次に、メタライズN3,
5の先端部に一部重なり合うようにして接続する0、2
mmのピッチで幅0.15mmのタングステンパッド6
a、6bを同一工程でパタニングしてそれぞれ設けるこ
とにより、15〜16龍正方の素子載置部2の周囲に5
60〜600個のパッドを設けることができる。
の内側中央部に設けた凹部の底面にタングステンメタラ
イズ層を有する素子載置部2を設け、前記凹部の上段の
水平面に配列して第1層のタングステンメタライズ層3
を幅0.1mm、ピッチ0.21で設ける1次に、メタ
ライズ層3の先端部を0.1〜0.2 +n+n残して
アルミナペースト絶縁膜4をメタライズ層3を含む表面
に形成し、同様にして、アルミナペースト絶縁膜4の上
に第2層のタングステンメタライズR5を幅0.1mm
、ピッチ0.2mmで設ける。次に、メタライズN3,
5の先端部に一部重なり合うようにして接続する0、2
mmのピッチで幅0.15mmのタングステンパッド6
a、6bを同一工程でパタニングしてそれぞれ設けるこ
とにより、15〜16龍正方の素子載置部2の周囲に5
60〜600個のパッドを設けることができる。
メタライズ層3,5はそれぞれセラミック容器1の壁を
貫通して外部へ導出する外部リード7に接続してパッケ
ージを構成し、素子載置部2に半導体チップ8を搭載し
、半導体チップ8の電極と前記パッケージのパッド6a
、6bをボンディング練って接続する。
貫通して外部へ導出する外部リード7に接続してパッケ
ージを構成し、素子載置部2に半導体チップ8を搭載し
、半導体チップ8の電極と前記パッケージのパッド6a
、6bをボンディング練って接続する。
第2図(a)、(b)は本発明の第2の実施例を説明す
るための部分平面図及び部分模式断面図である。
るための部分平面図及び部分模式断面図である。
第2図(a)、(b)に示すように、第1の実施例と同
様にしてアルミナペースト絶縁膜4までを形成し、アル
ミナペースト絶縁膜4の上に第2層のメタライズ層5を
アルミナペースト絶縁膜4の端部近傍まで形成すると同
時に第1層のメタライズ層3の先端部にパッド6aを同
一パターニングにより形成する以外は第1の実施例と同
じ構成を有している。ここで、第2の実施例で(よメタ
ライズ層3の先端部に設けるパ・ンド6aとメタライズ
層5を同時にパターニングして設けること番こより、工
程数を減らすことができると(Aう効果力(ある。
様にしてアルミナペースト絶縁膜4までを形成し、アル
ミナペースト絶縁膜4の上に第2層のメタライズ層5を
アルミナペースト絶縁膜4の端部近傍まで形成すると同
時に第1層のメタライズ層3の先端部にパッド6aを同
一パターニングにより形成する以外は第1の実施例と同
じ構成を有している。ここで、第2の実施例で(よメタ
ライズ層3の先端部に設けるパ・ンド6aとメタライズ
層5を同時にパターニングして設けること番こより、工
程数を減らすことができると(Aう効果力(ある。
以上説明したように本発明は、第1層の1<・ンドと第
2層のパッドとを同一のバターニング工程で形成して相
対的に位置ずれを無くすること番こより、パッドの幅を
ずれの余裕分だけ狭くすることができ、ボンディング精
度を向上させること力(可能となって、500〜600
ピンの多ビンノ<・ンケージを有する半導体装置を実現
できるとlv)う効果かある。
2層のパッドとを同一のバターニング工程で形成して相
対的に位置ずれを無くすること番こより、パッドの幅を
ずれの余裕分だけ狭くすることができ、ボンディング精
度を向上させること力(可能となって、500〜600
ピンの多ビンノ<・ンケージを有する半導体装置を実現
できるとlv)う効果かある。
第1図(a)、(b)は本発明の第1の実施例を説明す
るための平面図及びA−A′線断面・図、第1図<c)
、<d)は本発明の第1の実施例を説明するための部分
拡大平面図及び部分模式断面図、第2図(a)、(b)
は本発明の第2の実施例を説明するための部分平面図及
び部分模式断面図、第3図(a)、(b)は、従来の半
導体装置の一例を説明するための平面図及びB−B’線
断面図である。 1・・・セラミック容器、2・・・素子載置部、3・・
・メタライズ層、4・・・アルミナペースト絶縁膜、5
・・・メタライズ層、6a、6b・・・パッド、7・・
・外部リード、8・・・半導体チップ、9・・・ボンデ
ィング線。
るための平面図及びA−A′線断面・図、第1図<c)
、<d)は本発明の第1の実施例を説明するための部分
拡大平面図及び部分模式断面図、第2図(a)、(b)
は本発明の第2の実施例を説明するための部分平面図及
び部分模式断面図、第3図(a)、(b)は、従来の半
導体装置の一例を説明するための平面図及びB−B’線
断面図である。 1・・・セラミック容器、2・・・素子載置部、3・・
・メタライズ層、4・・・アルミナペースト絶縁膜、5
・・・メタライズ層、6a、6b・・・パッド、7・・
・外部リード、8・・・半導体チップ、9・・・ボンデ
ィング線。
Claims (1)
- 内側中央部に設けた凹部の底面に素子載置部を設けたセ
ラミック容器と、前記凹部の上段の水平面に配列して設
けた第1層の導体層と、前記第1層の導体層の先端部を
残して前記第1層の導体層を含む表面に設けた絶縁膜と
、前記絶縁膜上に配列して設けた第2層の導体層と、前
記第1及び第2の導体層の先端部のそれぞれに接続し且
つ第1層と第2層との位置を整合して設けたパッドとを
有することを特徴とする半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63190443A JPH0239445A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63190443A JPH0239445A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0239445A true JPH0239445A (ja) | 1990-02-08 |
Family
ID=16258220
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63190443A Pending JPH0239445A (ja) | 1988-07-28 | 1988-07-28 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0239445A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5633530A (en) * | 1995-10-24 | 1997-05-27 | United Microelectronics Corporation | Multichip module having a multi-level configuration |
EP0817267A1 (en) * | 1994-03-11 | 1998-01-07 | The Panda Project | Semiconductor package having pins connected to inner layers of multilayer structure |
US5993474A (en) * | 1996-06-11 | 1999-11-30 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Treatment accessory for endoscope |
US6090129A (en) * | 1996-06-11 | 2000-07-18 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Treatment accessory for endoscope |
US7648525B2 (en) | 2002-11-20 | 2010-01-19 | Olympus Corporation | Stent delivery system and indwelling method for stent |
-
1988
- 1988-07-28 JP JP63190443A patent/JPH0239445A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5633530A (en) * | 1995-10-24 | 1997-05-27 | United Microelectronics Corporation | Multichip module having a multi-level configuration |
US5993474A (en) * | 1996-06-11 | 1999-11-30 | Asahi Kogaku Kogyo Kabushiki Kaisha | Treatment accessory for endoscope |
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