JPH0231387A - 光サーボ・トラックを持つ高トラック密度の媒体および媒体にトラツクを刻む方法ならびに装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光サーボ・トラックを有する情報記憶媒体およ
び媒体上にトラックを刻む装置ならびに方法に関し、さ
らに詳しく述べれば光サーボ・トラックが例えばレーザ
によってディスクの表面に刻まれた複数個の同心溝を含
む一方、ディスクが高速で回転する磁気ディスク媒体に
関する。

在来りフロッピー・ディスク駆動装置用の磁気記憶ディ
スクのトラック密度は約４８〜１３５ＴＰＩ（トラック
／インチ）である。これに対して、光デイスク駆動装置
は１５，０ＯＯＴＰＩを越えるトラック密度を達成する
ことができる。このような高いトラック密度は、媒体の
欠陥および外力からの妨害に起因するデータ・トラック
の偏心性に読み／！Ｉきヘッドを追随させる開ループ光
サーボの使用により達成される。剛性形磁気ディスク駆
動装置では、最高１５００ＴＰＩのトラック密度が現在
使用されている。これらの駆動装置は両面がデータ用と
される多重ディスクを普通備えている。そのときこの表
面はデータ記憶のために使用することはできない。した
がって、駆動装置の全容量は低下される。トラッキング
・サーボ情報も事故によって消去されることがあり、す
べてのデータに対する呼出しが失われる。磁気記録媒体
に含まれるトラック追随サーボ情報を取得する光学装置
を用いたいろいろな方法が報告されている。例えば、「
磁気ディスク用の光サーボ」という名称の１９８６年１
２月３０日に発行された米国特許筒４，６３３．４５１
号の中で、アーン（Ａｈｎ）らは磁気記録層の上に置か
れた光学層に含まれる複数個のスポットの形をしたトラ
ック追随サーボ情報を読むレーザ・ダイオードの使用を
開示している。「サーボ位Ｒ＃Ａ御用の光センサ」とい
う名称の１９８６年２月１１日に発行された米国特許筒
４．５７０．１９１号の中で、デイステフ７ノ（Ｄｉｓ
ｔｅｆａｎｏ　）らは軸方向に並べられて１個の半導体
チップ上に含まれる光源と検光器とを有するサーボ・セ
ンサを開示している。

［記憶ディスクと合わせる必要のない記録済サーボ・パ
ターンを用いる情報記憶ディスク変換器位８制御装置」
という名称の１９８５年１２月１０日に発行された米国
特許筒４．５５８．３９３号の中で、エム・ジョンソン
（Ｈ，Ｊｏｈｎｓｏｎ）は情報記憶媒体の表面のあるス
ポットのパターンを検出するセンサを有するサーボ装置
を開示している。

ス、ポットは事実上変換不変マークの高密アレイを含み
、スポットがセンサにより検出される速度を測定するこ
とによって別々の情報記録トラックが検出される。

「回転ディスクの位置検出装置」という名称の１９８６
年５月６日に発行された米国特許筒４゜５８７．５７９
号の中で、ジエー・コーク（Ｊ。

Ｃｏｃｋｅ　）らは媒体にある複数個のらせん状放射−
位置−記号化パターンを読む検出器を含むサーボＩＩＩ
ａｌｌ装置を開示している。

１８Ｍ技術開示会報第２０（１０）巻、第４１０８頁（
１９７８年３月）の［磁気記録の光サーボ」という記事
の中で、ニー・ニス・ホーグランド（Ａ、　Ｓ、　Ｈｏ
ａｏｌａｎｄ）はたわみディスク媒体が磁気層の下に置
かれた複数個の光サーボ・トラックを含む光サーボｖ１
ｔＩｌｌを達成する装置を提案している。

ＩＥＲＥ会議録、第４３号、第３２１頁（１９７９年７
月）の「フロッピー・ディスク用の浮彫り式サーボ法」
という記事の中で、デイ−・ニー・トンプソン（Ｄ、　
Ａ、　Ｔｈｏｍｐｓｏｎ）らは非磁気光または容量性サ
ーボ情報を得るためのたわみ磁気媒体上の浮彫りマーク
の使用を提案している。

磁気関係のＩ　ＥＥＥ議事録からのプレプリント（１９
８０年）の［磁気ディスク装置にヘッドを置く光学方法
］という記事の中で、エヌ・コシン（Ｎ、にｏｓｈｉｎ
ｏ）およびニス拳オガワ（Ｓ、　Ｏｇａｗａ）はヘッド
・アームの上に置かれて媒体に光を供給するＬＥＤ光源
と３個の光ファイバとを含むトラック追随サーボ制御を
達成する光学ヘッドを開示している。媒体には黒く染め
られて磁気膜の下に置かれた複数個の円形光トラックが
含まれている。

ディジタル・データ記憶用の光ディスクおよびオーディ
オ・レーザ・ディスク（ＣＤ’）へと発展したレーザ・
ビデオ・ディスクの分野に関連の仕事が生じた。基本的
に、光サーボ情報はこれらすべてのディスクで同様に刻
まれて使用されている。

光情報をマスク・ディスク上にフォーマットに従って並
べるマスタリング機械が使用される。次にマスクは顧客
により使用される実際のディスクを作るように複製され
る。マスク・サーボ情報を得るとともにディスクからデ
ータを読むためにレーザならびに関連光学装置が使用さ
れる。データはビデオおよびオーディオ・ディスクによ
ってマスク処理の闇に刻まれたり、ディジタル情報記憶
用のディスクに読み／占きレーザによって書き込まれる
。

ＳＭＰＴＥ誌（１９７４年）のｒＭｃＡディスコ・ビジ
ョン装置の概ＩＪＪという記事の中で、ケー・デイーΦ
ブロードベント（に、Ｄ、　Ｂｒｏａｄｂｅｎｔ）はレ
ーザ・ビデオ・マスタリング法およびサーボ読み戻し法
を開示している。マスタリング機械はガラス板の上に付
着された金属層のビットを除去するアルゴン・レーザを
使用している。ディスクはサーボ情報およびビデオ・デ
ータを含むマスクから複製される。サーボ情報を得る方
法が説明されている。

トラッキング・サーボに用いられる情報は、ディスクの
データ層の上にある機構（ｌＩまたはピット）内でレー
ザ・ディスクに含まれている。この機構によって反射光
は誤差信号を得られるように変調される。レーザ光の波
長に似た機構の深さおよび幅によって、反射光は回折作
用により変調される。回折の作用はレーザによって出さ
れたコヒーレント光によって最も明白である。

したがって本発明の１つの目的は、光学装置によって検
出されかつトラック追随サーボに使用される情報を持つ
複数個のトラックを含む磁気媒体を提供することである
。

本発明のもう１つの目的は、約１０００ＴＰ　Ｉ（トラ
ック／インチ）を越えるデータ・トラック密度を有する
光サーボ・トラックを含む磁気媒体を提供することであ
る。

本発明のもう１つの目的は、複数個の高トラツク密度の
光サーボ・トラックによって磁気媒体を刻む装置を提供
することである。

本発明のもう１つの目的は、複数個の高トラツク密度の
光サーボ・トラックによって磁気媒体を刻む方法を提供
することである。

本発明のもう１つの目的は、標準磁気媒体の上に光サー
ボ・トラックを刻む方法を提供することである。

本発゛明のもう１つの目的は、光サーボ情報および磁気
データが相互作用しない光サーボ情報によって媒体を刻
む方法を提供することである。

本発明のもう１つの目的は、トラッキング・サーボ情報
が消去されずに磁気データが消去されかつ再書込みされ
る媒体を提供することである。

本発明のもう１つの目的は、媒体の摩耗につれて失われ
ないトラッキング・サーボ情報を持つ媒体を提供するこ
とである。

本発明のもう１つの目的は、全データ容量が最大にされ
るようにデータと同一の表面にトラッキング・サーボ情
報を刻む方法を提供することである。

簡単に述べれば、本発明の好適な実施例は片側または両
側を磁気層で被覆されたテレフタル酸ポリエチレン（マ
イラー）の部品（すなわちフロッピー・ディスク）のよ
うな、たわみ磁気基板の薄い円筒形部品を含むが、その
中で連続同心リングの形をした複数個の溝が円筒の内表
面の片側または両側に刻まれている。別法として、媒体
は片側または両側を磁気層で被覆された金属基板を含む
ことがある。複数個の刻まれていない領域が円筒の各面
にあり、１つの刻まれていない領域はすべての２つの隣
接溝の間にある。情報は刻まれていない領域に記憶され
るが、溝は光サーボ・トラックとして用いられることが
ある。普通、溝は約３ミクロン（１００万分の１メート
ル）の幅と約１ミクロンの深さを有する。刻まれていな
い領域の幅である溝間スペースは約１７ミクロンである
。

したがって、ディスク、例えば２インチ、３．５インチ
、５．２５インチまたは８インチのフロッピー・ディス
クで、約１２５０ＴＰＩ以上の光トラック密度が得られ
る。刻まれていない領域の１つのデータ・トラックの幅
は、一般に磁気ヘッドのギャップの幅によって決定され
る。１個以上の磁気データ・トラックは、光トラックの
各対問に置くことができる。

光サーボ・トラックを製造する装置の１つの好適な実施
例は、音響光偏向器がオンであるときにビームを障害物
に偏向させる前記偏向器を通る光のビー°ムを発生させ
るイオン・レーザ、例えば５ワツトのアルゴン・イオン
・レーザを含む。マイクロコンピュータ、例えばＩＢＭ
　　ＰＣ／ＡＴコンパチブル・コンピュータは、プラテ
ン／スピンドル・モータ組立体のエンコーダを監視する
。プラテンは６０００　ｒｐ−可変速度スピンドル・モ
ータによって駆動される。光トラックを刻むべきディス
クはプラテンの上に置かれる。トラックを刻む指令が送
られると、偏向器はターン・オフされて、光ビームを数
個の経路指示鏡および１個のビーム形成光学系、例えば
望遠鏡、さらには連架組立体の上に置かれる繞／対吻レ
ンズ組立体に通す。

光のビームは回転ディスク上の微小スポットに収集され
る。光の収集スポットのエネルギー密度は、ディスク表
面の若干が切除されて、光トラックを形成するような密
度である。１回転が感知されてから、偏向器はターン・
オンされ、したがってビームはもう一度障害物に当てら
れる。次に連架組立体は新しい位置に移動するので、別
の同心リングを媒体上に刻むことができる。マイクロコ
ンピュータにインターフェース接続されるレーザ干渉計
は、連架組立体の運動を評価・修正す、る手段を提供す
る。プラテンの回転速度は、第２バーン点での直線速度
が第１バーン点での直線速度に等しくなるように変えら
れる。別法として、レーザの出力はバーン点で一定のエ
ネルギー密度を生じるように変えることができる。

焦点モニタはレーザ光のビーム通路内に置かれる。ディ
スクに当たる光の若干は対物レンズにより反射されて戻
り、焦点モニタに向き直される。

媒体の微小な垂直運動およびレーザ光のスポットの焦点
をぼけさせる構成部品の熱ドリフトはモニタによって検
出される。これらの運動および熱ドリフトは、対物レン
ズを垂直方向に動かすことによって補償することができ
る。さらに、本装置はレンズ組立体、レーザ、経路指示
鏡およびスピンドル組立体を装置に加えられる外力から
隔離するとともに媒体上のトラック位置の精度不良を招
く装置内の乱れから隔離する振動隔離テーブルの上に置
かれる。

本発−明の１つの利点は、磁気媒体の円筒部品が連続し
た同心リングの形をした複数個の溝を含む点である。

本発明のもう１つの利点は、光トラックが１０００ＴＰ
　Ｉ以上のデータ・トラック密度を可能にする１０００
ＴＰＩＬＬ上のトラック密度を有する点である。

本発明のもう１つの利点は、磁気媒体上の光学溝を機械
で刻むことができる点である。

本発明のもう１つの利点は、磁気媒体上の光学溝を簡単
な方法で刻むことができる点である。

本発明のもう１つの利点は、消去できない光サーボ・ト
ラックを標準磁気媒体の上に刻むことができる点である
。

本発明のもう１つの利点は、媒体上の光サーボ情報およ
び磁気データが相互作用しない点である。

本発明のもう１つの利点は、媒体上のトラッキング・サ
ーボ情報は消去できないが磁気データは消去されて書き
直される点である。

本発明のもう１つの利点は、媒体の摩耗につれて光学溝
が失われない点である。

本発明のもう１つの利点は、媒体の全データ容量が最大
にされる一方、トラッキング・サーボ情報および磁気デ
ータを媒体の同一表面上に保持する点である。

本発明の上記および他の目的ならびに利点は、いろいな
図面に示される好適な実施例の詳細な下記説明を読むこ
とによって、当業者にとって必ず明白になると思う。

いま第１図から、一般参照数字１０によって表わされる
本発明のサーボ刻み機械が示されている。

レーザ１４は１次１２０によって開口１９に向けられる
コヒーレント・コリメート光のビーム１８を発生させる
。ビーム１８の通路が少し変更されると、ビームストッ
パ２２に当たる変更ビーム２１が作られる。ビーム１８
は複数個の２次１１２６によってレンズ２３に向けられ
る。レンズ２３は被集束スポット３５として媒体３４の
表面上に現われる点「ｐ」のまわりに集束される被集束
ビーム３０を作る。被集束スポット３５の直径はｄ　１
１力はｐｏである。ビーム形成光学系３６は１次Ｊｉ１
２０とレンズ２３との１ｍに置かれて、ビーム１８をレ
ンズ２３用に適したサイズに膨張または収縮させる。ビ
ーム形成光学系２８は望遠鏡構造を有するので、ビーム
１８はコリメート状態に保たれる。圧電段のようなアク
チュエータ３７はレンズ２３に機械接続することができ
る。

媒体３４はスピンドル４３によりモータ４２に機械接続
されるプラテン３８によって支持されている。エンコー
ダ４４はモータ４２に機械接続されている。増幅器４５
はリード４７により電源４６に、またリード４８により
モータ４２に電気接続されている。電８１４６はサーボ
刻み機械１０に必要なすべての各種電力を供給するとと
もに、交流電力線によって駆動される直流装置、例えば
５ｖＤｃ装置を含むことがある。電源４６はそれぞれ複
数個のリード５８．６０．６２および６４によってレー
ザ電源４９、音響光（ＡＯ）偏向器５２、マイクロコン
ピュータ５４、ならびに入／出力（Ｉｌｏ）インターフ
ェース５６に電気接続されている。キーボード６５、端
子６６、増幅器６５および入／出力インターフェース５
６はマイクロコンピュータ５４に電気接続されている。

音響光（ＡＯ）偏向器６７はリープ６８によってＡＯ増
幅器５２に電気接続されている。レーザ同期回路６９は
それぞれ複数個のリード７０．７１および７２によって
入／出力インターフェース５６、ＡＯ増幅Ｂ５２、なら
びに電源４６に電気接続されている。レーザ干渉計７４
はコヒーレント光のビーム７５を遠隔干渉計７６に向け
る。リード７７はレーザ干渉計７４をコンピュータ５４
に電気接続している。レーザ干渉計７４は安定レーザ７
８およびＩＩＩ／制御器制御器ユニット台９標準構成部
品である。電ｍ　／　１ｉｌｌ　ＩＩ器ユニット７９は
、ステップ・モータ・エンコーダ入力用のＡ／Ｂ直角出
力８１および通信インターフェース８０を含む。

コヒーレント光のビームはレーザ７８から遠隔干渉計７
６および逆反射器８２に向けられる。

レンズ２３は、逆反射器８２．１２６の内の１個、およ
びスライダ８６をも含む連架組立体８４の１素子である
。スライダ、８６は例えば交差ころ軸受スライド組立体
または空気軸受スライドであることができる。ステッパ
・モータ８８はスライダ８６に機械接続されている精密
リードねじ８９に機械接続されている。ステッパ・モー
タ８８はスライダ８６に機械接続されている精密リード
ねじ８９に機械接続されている。増幅器９０は１対のリ
ード９２によって電源４６およびコンピュータ５４に、
またリード５４によってステッパ・モータ８８に電気接
続されている。焦点モニタ９６は鏡２６の内の１個と連
架組立体８４との間に置かれており、リード９８によっ
てマイクロコンピュータ５４に電気接続されかつリード
１００によって電力増幅器９９に電気接続されている。

プラテン３８の近くに置かれている、ブロワ・ユニット
１０８と真空ユニット１１０とを含む破片排除装置１０
６は、リード１１４によって電源４６に含まれる１１１
１ｍｌリレー１１２に電気接続されている。電気リード
１１６はリレー１１２を■１０インターフェース５６に
接続する。破片排除装置１１０６は高電位静電界をも含
むことがある。

第２図は一般参照数字２０によって表わされる標準の振
動隔離テーブルの上に置かれるサーボ刻み機械１０を示
す。テーブル１２０は複数個の吸振継手１２１、第１プ
ラツトホーム１２２、第２プラツトホーム１２４、およ
び複数個の垂直部材１２６により支持される第３プラツ
トホーム１２５を含む。垂直部材１２６は床１２８と接
触している複数個の足１２７によって支持されている。

一般に、レーザ電源４９およびマイクロコンピュータ５
４のような振動をもたらす構成部品または補助構成部品
は第２プラツトホーム１２４あるいは第３プラツトホー
ム１２５の上に置かれる一方、レーザ１４のような主構
成品、連架組立体８４およびプラテン３８は８１Ｔ１プ
ラツトホーム１２２の上に置かれている。

第３図は媒体３４の好適な実施例を示す。好適な実施例
において、媒体３４は片側または両側を磁気層で被覆さ
れた基板１２９（例えばテレフタル酸ポリエチレン（マ
イラー）ディスク基板）の薄い、°たわむ、円筒形部品
を含み、１つの実施例は一般にフ０ツビー・ディスクと
呼ばれている。

複数個の等ａＦａな同心円として現われる複数個の溝１
３０が基板１２９の表面に刻まれている。基板１２９の
表面に複数個の非刻み領域１３２があり、非刻み領域１
３２の１つは隣接する２つの８溝１３０の闇に存在する
。溝１３０は基板１２９の１つの面に刻まれたり、両面
に刻まれることがある。穴１３４が基板１２９のほぼ中
心にあり、基板１２９を垂直にわたる。外部リング１３
６および内部リング１３８も基板１２９の表面に存在す
る。外部リング１３６は基板１２９の幾何中心から最大
の半径距離を持つ溝１３０を囲むリングを含む。内部リ
ング１３８は穴１３４を囲むとともに基板１２９の幾何
中心から最小の半径距離を持つ溝１３０によって囲まれ
ている。上述のＩ！／非刻みリング構造を持つ媒体３４
は、１つの面にｎ個の溝１３０を有するとともにｎ−１
個の鼻刻み領域１３２を有する。

別の実施例では、媒体３４はその面の片側または両側に
刻まれた溝を持つことができる任意な円筒形状の磁気媒
体であるかもしれない。例えば、媒体３４は片側または
両側を磁気層で被覆された金属基板のような剛性磁気媒
体の円筒形部品であるかもしれず、１つの実施例はハー
ド・ディスクと一般に呼ばれている。

第４図は媒体１２９の１つの面だけに現われる１ｉ１３
０を持つ媒体３４の所面図を示す。溝１３０の幅はＷ１
深さはｄで表わされる。非刻みＴ４域１３２の幅Ｓは溝
１３０の間隔を表わす。基板１２９の厚さは王で示され
る。磁気波１１３９は基板１２９の表面に置かれて厚さ
ｔを有する。溝１３ｏは消去不能である。換言すれば、
溝１３０がいったん基板１２９の表面に刻まれると、そ
れらは除去したり変更したりすることができない。深ざ
ｄが第４図に示される通り明確でないことにも注意しな
ければならない。ある状況では、それはもし基板１２９
の表面が焦げ領域と非焦げ領域との間に光対比の領域を
作るように「焦がされた」場合にのみ適当となる。

溝１″３０は複数個の連続同心リングを含み、各リング
は磁気媒体１２９の円筒形部分の幾何中心と一致する軸
線１４０から溝１３０の中心まで測定された半径ｒを有
する。最外部の溝１３０に相当する半径はｒ。とじて表
わされ、また最内部の溝１３０に相当する半径はｒ。と
じて表わされている。同様に、非刻み領域１３２は複数
個の連続同心リングを含み、各リングは軸４１１４０か
ら非刻み領域１３２の中心まで測定された半径Ｘを有す
る。非刻み領域用の最大半径値はＸ　　、Ｘの最小値は
Ｘ。として表わされている。

好適な実施例では、１陽Ｓは約１７ミクロン（０，００
０６フインチ）であり、幅Ｗは約３ミクロン（０，００
０１２インチ）、深さｄは約１ミクロン（０，００００
４インチ）である。媒体１２９の厚さＴは約０．００２
インチから０．００３インチの範囲内であることができ
る。

好適な実施例では、磁気被覆１３９の厚さｔは例えば直
径りが３．５インチのディスク上で約１ないし２ミクａ
ンである。直径りが５．２５または８インチのディスク
では、磁気波１１１３９の厚さｔは約１ないし３ミクロ
ンの範囲内であるかもしれない。直径りについて定めら
れた値は説明のためにのみ与えられ、実際の値は本発明
にとって重要でないことに注目すべきである。磁気媒体
と共に使用される３、５インチとか５．２５インチのよ
うな数字は、実際には媒体の一般的なサイズを表わす。

普通、それは直径３．５インチまたは５．２５インチの
寸法を有する媒体容器であり、媒体そのものの寸法はそ
れより少し小さく、容器内にぴったり合っている。

第５図は一般参照数字１４４によって表わされる磁気テ
ープの薄い矩形ストリップを示す。テープ１４４は第１
図で媒体３４として使用することができる。溝１３０お
よび非刻み領域１３２に似た、複数個の長さ方向の溝１
４６ならびに複数個の長さ方向の非刻み領域１４８が、
テープ１４４の表面にある。

第６図はプラテン３８およびモータ４２が第５図に示さ
れた磁気テープ１４４を刻むスプール装置１５°Ｏによ
って置き替えられたサーボ刻み機械１０の別な実施例の
一部を示す。テープ１４４は供給リール１５２および取
上げリール１５４に含まれている。１対のモータ１５６
および１５８はリール１５２ならびに１５４をそれぞれ
駆動し、リード１６０によって入／出力インターフェー
ス５６に電気接続されている。平らな表面１６２はビー
ム３０がテープ１４４に当たる領域でテープ１４４を支
持する。

第７図は溝１３０が１個の連続らせんパターン１６４を
含む媒体３４の別な形を示す。第４図のような概略の＠
Ｓを有する複数個の非反射性領域１３２は、らせんパタ
ーン１６４の隣り合う溝領域の園に存在する。

第８図は溝１３０がほぼ円形の複数個のビット１６６を
含む媒体３４の別な形を示す。ビット１６６は１４図の
ような開隔Ｓを有する一様に隔置された同心リングの形
に配列されている。

第９図は溝１３０が第４図のような１陽Ｓを有する同心
リングの形に配列された複数個の不連続な溝１６８を含
む媒体３４のもう１つの別な形を示す。

第１０図は溝１３０が複数個の変調された溝１６９を含
む媒体３４のもう１つの別な形の一部を示す。変調され
た１１１６９は第４図に示された溝１３０に似ているが
、幅ｒｗｌまたは深さｒｄＪもしくはその両方は複数個
の変調点１７０で変化する。変調点１７０の位置を利用
することにより情報を溝１６９にコード化することがで
きる。例えば好適実施例では、変調点１７０Ｌｔ規則正
しい１陽で生じ、クロックを発生させるのに用いられる
。同様に、トラック・サーボ情報またはトラック追求情
報のような他の形の情報は変調された溝１６９にコード
化されるかもしれない。

第１１図は焦点モニタ９６として働くことができる普通
に利用できる算点収差焦点調節器の構成部品を示す。ビ
ーム１８は半波位相遅延板１７４、偏光ビーム分割器１
７６および１／４波位相遅延板１７８を通過して、集束
ビーム３０および集束スポット３５を形成するレンズ２
３に衝突する。

集束ビーム３０の若干はレンズ２３および１／４波板１
７８に戻る反射ビーム１８０として媒体３４から反射さ
れる。偏向ビーム分割器は反射ビーム１８０が減衰！！
！１８２、収束レンズ１８４および円筒形レンズ１８６
を通過するように反射ビーム１８０を偏向させる。反射
ビーム１８０は次に、複数個の出力リード１９１により
サーボ増幅器１９０に電気接続される４象限検光器１８
８に衝突する。増幅器１９０はリード９８によりマイク
ロコンピュータ５４に電気接続されている。電力増幅器
９９はアクチュエータ３７とマイクロコンピュータ５４
との間に電気接続されている。

第１２図は４象限検光Ｂ１８８に投射された反射ビーム
１８０の焦点の合った像１９６を示す。

第１３図は水平軸に沿って伸ばされている反射ビーム１
８０の焦点の合っていない像１９７を示す。

第１４図は垂直軸に沿って伸ばされている反射ビーム１
８０の焦点の合っていない像１９８を示す。

いま第１図から、媒体刻み機械１ｏの作動の方法を説明
することができる。媒体３４はモータ４２によって回転
されるプラテン３８の上にある。

ステンレス鋼から成るかもしれないプラテン３８は、は
ぼ２〜４マイクロインチの表面仕上げを有する事実上平
面であるとともに垂直運動が事実上ないことが望ましい
。このことは、媒体３４が水平面内で回転されることを
保証する。モータ４２は２秒以内にＯ〜３６００　ｒＤ
−を達成し得るとともに４０ボンド／インチの内部負荷
容儀で２秒以内にＯ〜６０００　ｒｏｗを達成し得る可
変回転速度モータであることができる。

モータ４２は＋／−１０Ｖ人カ速度制御を有する１　１
０ＶＡＣ単相増幅器であることができる増幅Ｂ４５によ
って駆動される。

５Ｗアルゴン・レーザであることができるレーザ１４は
光のビーム１８を出す。アルゴン・レーザによって、ビ
ーム１８は４８８．０または５１４．５ｔｖの波長を有
する。音響光偏向器６７が作動されないとき、ビーム１
８は開口１９を通過して複数個の８２６によってレンズ
２３に向けられる。鏡２０および２６はレーザ１４によ
り発生される放射線の波長について光学同調され、した
がってビーム１８を彊く反射させる。レンズ２３はビー
ム１８を集束して集束ビーム３０を作る。集束ビーム３
０は媒体３４の表面に事実上垂直な点のまわりに集束さ
れて、直径ｄ。および電力ｐ。

の焦点３５を作る。レンズ２３は媒体３４の表面に約６
ミクロンの総焦点深度を作る。レーザ１４の電力は媒体
３４の表面の焦点３５で少なくとも約０．２５Ｗの電力
ｐ。を生じるのに十分な電力である。ｐｏはレーザ１４
の出力を変えることにより、例えばレーザ電源４９でレ
ーザに入る電流を変えることによって変えられる。定直
線速度で媒体３４を回転させることによって、面積当た
り定量の電力が媒体３４に供給される。媒体３４の回転
する表面と集束ビーム３ｏとの相互作用は溝１３０を作
る。

破片排除装置１０６は、ビーム３ｏにより点ｐで媒体３
４を加熱することによって作られる破片を除去する働き
をする。ブロワ・ユニット１０８は、例えば媒体３４の
表面を吹き払う窒素であることができるきれいな加圧気
体の流れを発生させる。一般にブロワ・ユニット１０８
に対して遠い位置に置かれる真空ユニット１１ｏは負圧
で作動し、気体の加圧流によって推進される破片を吸引
する。ブロワ・ユニット１０８および真空ユニット１１
０による一段と有効な除去のために破片を収集する高電
位ＡＣ静電界が破片！ｔＷＩｋ装置１１０６と共に使用
されることがある。

マイクロコンピュータ５４はレーザ同期回路６９を作動
させることによって溝刻み工程を開始する。エンコーダ
４４はプラテン３８の回転が始まっていることを示す信
号をレーザ同期回路６９に送る。回路６９はビーム１８
を開示１９からレンズ２３に通す音響光偏向器５２の作
動を止める。

エンコーダ４４はプラテン３８の所定回転数が起こった
ときを示す。例えば、所定回転数は完全な１回転または
それ以上であったり１回転の分数であることができる。

プラテン３８の１回転は第１半径ｒ　’１を有する連続
円形溝１３０の１つを作る。

第２半径ｒ２を有する新しい円形溝１３０を刻む前に、
ビーム３０は媒体３４から偏向されな番プればならず、
またレンズ２３は折位置まで増分量だけ移動されなけれ
ばならない。この工程を開始するために、エンコーダ４
４は１回転が完了したことを示す信号をレーザ同期回路
６９に送る。レーザ同期回路６９はビームストッパ２２
に当たる変更されたビーム２１を作り直すビーム１８の
通路を移動する音響光偏向器６７を作動させる。変更さ
れたビーム２１はこうした条件の下ではレンズ２３に向
けられないので、媒体３４に当たるビーム３０が存在し
ない。

ビーム１８の偏向と同時に、マイクロコンビュ−夕５４
は増幅１９０を作動させ、それによってステッパ・モー
タ８８は連架組立体８４を増分員だけ移動する。レンズ
２３および１２６の１つが連架組立体８４と共に移動す
るのは、それらがそれに構造的に取り付けられているか
らである。連架組立体８４の増分運１１（１マイクロイ
ンチ程度）は、スライダ８６に取り付けられて２５．０
００ステツプ／Ｖ！ｉ転で作動するステッパ・モータ８
８により駆動されている４０ＴＰ■を有する精密リード
ねじ８９によって達成される。レーザ干渉計７４、遠隔
干渉計７６、および逆反射器８２は連架組立体８４が移
動した実際の距離を測定するために組み合わされて作動
する。組立体８４の実際の運動に関する情報はリード７
７を介してマイクロコンピュータ５４に伝えられるので
、連架組立体８４は追加運動を開始することができる。

連架組立体８４がいったんその新しい位置まで移動する
と、半径ｒ２の新しい円形溝１３０を刻むことができる
。一般に、溝３０は最大半径から最小半径に至る順に刻
まれる。連架組立体８４の増分運動の量は間隔Ｓおよび
幅Ｗに対応する。特定の溝１３０の深さｄおよび幅Ｗは
ビーム３０によって供給されるエネルギー密度の関数で
ある。

＋１１１３０の一定の深さｄおよび幅Ｗを得るために、
媒体３４は定直線速度でレンズ２３の下を移動しなけれ
ばならない。下記のＭ（１）式に示される通り、直°轢
速度Ｖ、は溝半径ｒの関数である。回転速度ｒｂＪは「
ｐ■　（回転７分）で表わされる。

Ｖ［−２７ｒｒＸｂ　　　　　　　（１）集束ビーム１
０のエネルギーＥＤは下記の第２式で示される通り点直
径ｄ。と直線速度■１との積で割られた焦点３５の内部
電力Ｐ。に比例する。

モータ４２の回転速度（ｒｐ−）を変えることによって
、定直線速度は変化する溝半径ｒにかかわらず達成され
、その結果定エネルギー密度が媒体３４に供給される。

溝１３０の一様性を調節するもう１つの重要な要素は媒
体３４の垂直運動である。この垂直運動は主としてプラ
テン３８の垂直運動をＭＩＩＬ、かつプラテン３８の平
たんさを保証することによって減少される。１つの追加
手段として、焦点モニタ９６は媒体３４の表面が変動す
るにつれてレンズ２２を上下に動かすことにより、点ｐ
にビームを集束させるのに利用される。焦点モニタ９６
は媒体３４の垂直位置の変化に比例する電圧の変化を生
じさせることによって機能する。電圧変化は第１１図に
示される非点収差焦点誤差法のような共通焦点誤差検出
法によって作られる。反射ビーム１８０として媒体３４
から反射された光は、レンズ２３により集められかつビ
ーム１”８０の偏光を円偏光から直線偏光に変える　／
４波長板１７８を通して逆方向に向けられる。偏光の面
は９０゜回転されるので、ビームスプリッタ−７６は反
射ビーム１８０を４象限検光Ｂ１８８にそらす。収束レ
ンズ１８４および円筒レンズ１８６の存在は、輝度分布
がレンズ２３の理想の焦点の遠い側または近い側のビー
ム１０８の接縮方向の輪ならびにサジタル軸で非一様で
あるスポットにビーム１８０を集束して非点収差させる
。減衰器１８２が偏光ビームスプリッタ１７６と収束レ
ンズ１８４との間に置かれて、ビーム電力を検光器１８
８のダイナミック・レンジ範囲まで下げる。

非点収差スポットは第１２図に示される通り４象限検光
器１８８の上に投影される。検光器１８８の出力リード
１９１はサーボ増幅器１９０に接続され、その結果検光
器の２１の各対向セグメントが加算され、多対から生じ
る信号は下記の第（３）式に示されるような誤差信号（
ＥＳ）を得るように減棹される。

ＥＳ−（Ａ＋Ｃ）−（Ｂ十〇）　　　（３）誤差信号は
増幅器９９によって増幅されかつ圧電変換器であるかも
しれないアクチュエータ３７を駆動するのに用いられる
。アクチュエータ３７はビーム１８の軸線方向に平行な
山内でレンズ２３を上下に移動させる。媒体３４が垂直
方向に移動するにつれて、その運動は検出されかつビー
ム３０はレンズ２３を媒体３４に関して上下に動かすこ
とによって再集束される。

好適な実施例において、焦点モニタ９６は各ディスクの
刻みの始めに一度使用される。別法として、それはディ
スクが刻まれるときに耐えず使用される。

媒体３４の垂直（および水平）運動を減少させるもう１
つの方法は、振動隔離テーブル１２０の上にサーボ刻み
機械１０を置くことである。振動隔離テーブルはレンズ
２３、レーザ１４、鏡２０および２６、ならびにプラテ
ン３８を外力からまたは機械１０の内部に発生される妨
害から隔離することによって振動を減少させる働きをす
る。

マイクロコンピュータ５４はＩＢＭ　　ＰＣ／ＡＴコン
パチブル形コンピュータであることができ、またベーシ
ック・プログラム、例えばボーランド（Ｂｏｒｌａｎｄ
　）のターボ・ベーシックまたはマイクロソフト・ベー
シックを用いてサーボ刻み機械１０の全機能を１ｉｌＩ
ｌｌすることができる。入出力（Ｉｌｏ）インタルフェ
ース５６はマイクロコンピュータ５４に電気接続されて
、レーザ同期回路６９のような回路をマイクロコンピュ
ータ５４に接続するインターフェースを提供する。イン
ターフェース５６は直列ポートＲ８−２３２インターフ
エース基板と、ブロワ・ユニット１０８および真空ユニ
ット１１０用の空気弁を調節する固体リレーを持つ１１
０インターフエースとを含む、電ｊ１４８はマイクロコ
ンピュータ５４、レーザ１４、増幅器°４５および４６
、ならびにインターフェース５６に接続される素子のた
めの電力を供給する。

電源４６にある制御リレー１１２は真空出力の調節を与
える。

サーボ刻み機械１０は、媒体１２９の円筒構造以外の形
状を有する媒体に溝を刻むのにも使用することができる
。例えば第５図は、磁気テープ１４４の長く薄い矩形ス
トリップの一部を示す。縦方向の溝１４６は、マイクロ
コンピュータ５４および第６図に示されるモータ１５６
と１５８とをυ１１する入出力インターフェース５６を
用いることによって、テープ１４４の上に刻まれる。テ
ープ１４４が平らな表面１６２を通過するにつれて、ビ
ーム１３０は溝を刻む。リールの終りで、ビーム３０は
暫定偏向され、連架組立体は折位置にステップし、テー
プは逆方向に刻まれる。

第７図に示されるらせんパターン１６４は、レーザ出力
を変えながら、定速度例えば３６００ｒｐ霞で回転する
ようにモータ４２をセットすることによって刻まれる。

連架組立体８４は４８０００ステップ／秒の定ステップ
率運動に置かれ、３６００　ｒｐｍで８００マイクΩイ
ンチのらせんトラック間隔を生じる。これは定速度でビ
ーム３０の放射位置および点ｐを変える。エンコーダ４
４からのインデックス・パルスは、レーザ１４をディス
クの表面に与えるレーザ同期回路６９によって使用され
る。後続の各インデックス・パルスは、例えば合計８４
０回転に達するまでカウントされる。その点で、インデ
ックス・パルスはレーザ・ビーム３０の同期回路６９に
ディスクからのレーザを除去させる。

一般に、ステラフッ秒の正しいステップ率（ＳＲ）は下
記の第（４）式から算出されるが、ただしピッチは第４
図からの距離「ｓＪ＋ｒｗＪに等しく、１ステツプは１
マイクロインチに等しくかつｒｂＪはｒｐ−で表わした
回転速度である。

ＳＲ＝ピッチＸｂ／６０　　　　　（４）第（４）式を
見ると、らせんパターン１６４は実際に、らせんに近い
「ステップ」パターンである。

第８図に示されるビット１６６は、例えば３６ｏ　ｏ　
ｒｐｌの定速度で回転するようにスピンドル・モータ４
２をセットすることによって刻まれる。

連架組立体８４はトラツク０位冒に移動されて、トラッ
ク書込みを始める指令が出される。インデックスで、レ
ーザ同期回路６９の論理はエンコーダ４４からのセクタ
・パルスに位相固定されるＡ１０偏向器６７にパルス列
を出し始める。これはビーム３０を短い周期の間媒体３
４に向けさせ、したがってビット１６６が形成される。

次のインデックス・パルスで、トラックが完成するとと
もに連架が次のトラックに移動されて、レーザ出力は低
下される。

第９図に示される不連続性の溝１６８は、ビット１６６
を刻むのに用いられる工程と同様の工程で刻まれる。唯
一の相違は、ビーム３０６媒体３４に向けられる時間の
長さが溝１６８を刻むために増加されることである。

第１０図に示される変調された？１１１６９は、第８図
および第９図にそれぞれ示されたピット１６６ならびに
不連続溝１６８を刻むのに用いられた工程と同様の工程
によって刻まれる。しかし、ビーム３０が短い周期の問
媒体から偏向されるのではなく、ビーム３ｏ内の電力は
適当な時間のあいだ変えられる。これは媒体３４の表面
上の点「ｐ」におけるエネルギの変化を招き、それによ
って溝の幅および深さは変調点１７０で変えられる。変
調点１７０はコード化情報を運ぶことができる。

同様に、第８図のピット１６６または第９図の不連続溝
１６８は、ビット１６６あるいは溝１６８に幅や深さの
変化を生じさせることによってコード化情報を運ぶこと
ができる。

第１図に媒体３４として使用できる円ｉｔ媒体の他の形
は、他の一般サイズ（例えば２．５．２５および８イン
チ）のフロッピー・ディスクならびにいろいろな一般サ
イズ（例えば２．３．５．５、．２５および１４インチ
）の剛性磁気ディスクを含んでいる。

本発明は目下の好適な実施例について説明されたが、言
うまでもなくこのような開示は制限と解すべきではない
。いろいろな変更および変形は、上記開°示を読んでか
ら当業者にとって明白になることは疑いないと思う。し
たがって、特許請求の範囲は本発明の真の主旨および範
囲内に入るすべての変更ならびに変形を包含するものと
解すべきである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるサーボ刻み機械の７０ツク図、第
２図は本発明のサーボ刻み機械の側面図、第３図は本発
明による同心円の形に配列された複数個の連続溝の形を
した光サーボ・トラックを持つ円筒媒体の平面図、第４
図は第３図の＄４−４に沿ってとられた媒体の断面図、
第５図は本発明による光サーボ・トラックを持つ磁気テ
ープのストリップの側面図、第６図は第１図の媒体刻み
機械の別の実施例と共に使用するテープ巻取装置の側線
図、第７図は本発明による連続らせんの形をした光サー
ボ・トラックを持つ円筒媒体の平面図、第８図は本発明
による同心円に配列された複数個のビットの形をした光
サーボ・トラックを持つ円筒媒体の平面図、第９図は本
発明による同心円に配列された複数個の不連続溝の形を
した光サーボ・トラックを持つ円！Ｉ媒体の平面図、第
１０図は本発明による同心円に配列された複数個の変調
された連続溝の形をした光サーボ・トラックを含む円筒
媒体の部分平面図、第１１図は本発明と共に用いる算点
収差焦点調節器のブロック図、第１２図は４象限検光器
の上に投影された焦点の合ったレーザ・スポットを示す
図、第１３図は４象限検光器の上に投影された水平軸に
沿って伸ばされた焦点の合っていないレーザ・スポット
を示す図、第１４図は４象限検光器の上に投影された垂
直軸に沿って伸ばされた焦点の合っていないレーザ・ス
ポットを示す図である。 符号の説明：

Claims (56)

【特許請求の範囲】
1. （１）消去できないトラッキング・サーボ情報を持つこ
   とを特徴とする磁気情報記憶媒体。
2. （２）消去できないトラッキング・サーボ情報は複数個
   の溝を含むことを特徴とする請求項１記載の磁気情報記
   憶媒体。
3. （３）媒体と、媒体の表面に刻まれた複数個の溝とを含
   むことを特徴とする情報記憶媒体。
4. （４）媒体はたわみ磁気媒体の薄い円筒片を含むことを
   特徴とする請求項３記載の情報記憶媒体。
5. （５）媒体は剛性磁気媒体の薄い円筒片を含むことを特
   徴とする請求項３記載の情報記憶媒体。
6. （６）媒体はたわみ磁気媒体の薄い矩形片を含むことを
   特徴とする請求項３記載の情報記憶媒体。
7. （７）溝はほぼ２〜５ミクロンの範囲内の一定の幅を有
   することを特徴とする請求項３記載の情報記憶媒体。
8. （８）溝は不定の幅を有することを特徴とする請求項３
   記載の情報記憶媒体。
9. （９）溝は一定の深さを有することを特徴とする請求項
   ３記載の情報記憶媒体。
10. （１０）溝は不定の深さを有することを特徴とする請求
    項３記載の情報記憶媒体。
11. （１１）溝は複数個の連続して等間隔に置かれた同心円
    を含むことを特徴とする請求項４記載の情報記憶媒体。
12. （１２）溝は１個の連続らせんを含むことを特徴とする
    請求項４記載の情報記憶媒体。
13. （１３）溝は同心円に配列された複数個の穴を含むこと
    を特徴とする請求項４記載の情報記憶媒体。
14. （１４）溝は等間隔に置かれた同心円の形に配列された
    複数個の不連続な溝を含むことを特徴とする請求項４記
    載の情報記憶媒体。
15. （１５）溝は等間隔に置かれた複数個の連続同心円を含
    むことを特徴とする請求項５記載の情報記憶媒体。
16. （１６）溝は１個の連続らせんを含むことを特徴とする
    請求項５記載の情報記憶媒体。
17. （１７）溝は同心円に配列された複数個の穴を含むこと
    を特徴とする請求項５記載の情報記憶媒体。
18. （１８）溝は等間隔に置かれた同心円の形に配列された
    複数個の不連続な溝を含む、ことを特徴とする請求項５
    記載の情報記憶媒体。
19. （１９）磁気媒体の表面を刻む光のビームを供給する光
    源と、前記磁気媒体の前記表面に光の前記ビームの焦点
    を合わせる装置と、前記磁気媒体の前記表面の点に関す
    る光の前記ビームの位置を変える装置と、光の前記ビー
    ムの位置を変える装置に電気接続された自動制御装置で
    あり、光の前記ビームの位置を変える装置に位置情報を
    送る働きをし、それによつて光の前記ビームによる前記
    磁気媒体の刻みが前記自動制御装置により制御すること
    ができる前記自動制御装置と、を含むことを特徴とする
    磁気媒体の表面に複数個の溝を刻む装置。
20. （２０）光の前記ビームの焦点を合わせる装置はレンズ
    を含むことを特徴とする請求項１９記載の装置。
21. （２１）光の前記ビームの焦点を合わせる装置は前記磁
    気媒体の運動に応じて光の前記ビームの焦点を合わせ直
    す焦点モニタを含むことを特徴とする請求項１９記載の
    装置。
22. （２２）焦点モニタは非点収差焦点調節器を含むことを
    特徴とする請求項２１記載の装置。
23. （２３）光源と光の前記ビームの焦点を合わせる装置と
    の間に置かれた光の前記ビームのサイズを変える装置を
    さらに含むことを特徴とする請求項１９記載の装置。
24. （２４）光の前記ビームのサイズを変える前記装置は望
    遠鏡を含むことを特徴とする請求項２３記載の装置。
25. （２５）光の前記ビームの焦点を合わせる装置に光の前
    記ビームを向ける装置をさらに含むことを特徴とする請
    求項１９記載の装置。
26. （２６）前記ビームの焦点を合わせる装置に光の前記ビ
    ームを向ける装置は光の前記ビームを反射し得る鏡を含
    むことを特徴とする請求項２５記載の装置。
27. （２７）前記磁気媒体を移動させる装置をさらに含むこ
    とを特徴とする請求項１９記載の装置。
28. （２８）前記磁気媒体を移動させる前記装置は前記磁気
    媒体を支持するプラテンと、プラテンに結合されてプラ
    テンを円方向に回転させるモータと、プラテンと接続さ
    れてプラテンの所定回転数が生じたときを検出するエン
    コーダと、を含むことを特徴とする請求項２７記載の装
    置。
29. （２９）前記磁気媒体を移動させる前記装置は、前記磁
    気媒体を受ける複数個のスピンドルと、少なくとも１個
    のスピンドルを駆動する少なくとも１個のモータであり
    、自動制御装置により開始される信号を受信する電気接
    続を持つ前記モータと、を含むことを特徴とする請求項
    ２７記載の装置。
30. （３０）光の前記ビームの位置を変える前記装置は、ス
    ライド組立体と、スライド組立体は機械的に取り付けら
    れる精密リードねじと、精密リードねじに移動自在に取
    り付けられてリードねじおよびスライド組立体を別個の
    ステップで移動させる働きをするステッパ・モータと、
    を含むことを特徴とする請求項１９記載の装置。
31. （３１）前記光源はレーザを含むことを特徴とする請求
    項１９記載の装置。
32. （３２）前記レーザはアルゴン・イオン・レーザを含む
    ことを特徴とする請求項３１記載の装置。
33. （３３）光の前記ビームの焦点を合わせる装置から光の
    前記ビームを偏向させる装置をさらに含むことを特徴と
    する請求項１９記載の装置。
34. （３４）光の前記ビームを偏向させる装置は、開口を有
    するビーム・ストッパであり、前記開口により光の前記
    ビームが通される前記ビーム・ストッパと、自動制御装
    置により開始される信号に応じて光の前記ビームを前記
    開口に向ける音響光偏向器と、を含むことを特徴とする
    請求項３３記載の装置。
35. （３５）前記磁気媒体の付近からの破片を排除する装置
    をさらに含むことを特徴とする請求項１９記載の装置。
36. （３６）破片を排除する前記装置は、前記磁気媒体の曲
    にきれいな加圧気体の流れを供給して複数個の破片を追
    い出すブロワ装置と、気体の前記流れによつて追い出さ
    れた複数個の破片を収集する働きをする真空装置と、を
    含むことを特徴とする請求項３５記載の装置。
37. （３７）高電位静電界を発生させる装置をさらに含むこ
    とを特徴とする請求項３６記載の装置。
38. （３８）自動制御装置はマイクロコンピュータを含むこ
    とを特徴とする請求項１９記載の装置。
39. （３９）ＲＳ２３２直列ポートを備えているインターフ
    ェース基板をさらに含むことを特徴とする請求項３８記
    載の装置。
40. （４０）前記磁気媒体はたわみ磁気媒体の薄い円筒片を
    含むことを特徴とする請求項２８記載の装置。
41. （４１）前記磁気媒体は剛性磁気媒体の薄い円筒片を含
    むことを特徴とする請求項２８記載の装置。
42. （４２）前記磁気媒体はたわみ磁気媒体の長く薄い矩形
    片を含むことを特徴とする請求項２９記載の装置。
43. （４３）ａ、磁気媒体の表面の第１点のまわりに光のビ
    ームの焦点を合わせる段階と、 ｂ、第１点と媒体の前記表面に定エネルギー密度を与え
    る光のビームとの相対位置を第１定速度で変える段階と
    、 ｃ、媒体の所定走行距離が生じたときに媒体の前記表面
    から光のビームを偏向させる段階と、ｄ、光のビームが
    媒体の前記表面上の第２点で媒体に前記定エネルギー密
    度を確実に与える段階と、 ｅ、媒体の前記表面上の前記第２点のまわりに光のビー
    ムの焦点を合わせる段階と、 ｆ、媒体の前記所定走行距離が生じたときに媒体の前記
    表面から光のビームを偏向させる段階と、を含むことを
    特徴とする磁気媒体の表面に複数個の溝を刻む方法。
44. （４４）媒体は幾何中心点を持つ円の形をしており、か
    つ前記所定走行距離は所定の回転数である、ことを特徴
    とする請求項４３記載の方法。
45. （４５）第１点および第２点は幾何中心点から等距離に
    あることを特徴とする請求項４４記載の方法。
46. （４６）第１点および第２点は幾何中心点から等距離に
    ないことを特徴とする請求項４４記載の方法。
47. （４７）溝の深さが約１ミクロンであることを特徴とす
    る請求項４３記載の方法。
48. （４８）溝の深さは１ミクロン未満であるが、媒体の前
    記表面の光コントラストを変えるのに十分である、こと
    を特徴とする請求項４３記載の方法。
49. （４９）前記定エネルギー密度は前記第１定速度と異な
    る第２定速度で媒体を回転することによつて保証される
    、ことを特徴とする請求項４６記載の方法。
50. （５０）前記定エネルギー密度は光のビームの出力を変
    えることによつて保証される、ことを特徴とする請求項
    ４６記載の方法。
51. （５１）媒体の表面が垂直方向に移動するとき光のビー
    ムの焦点を自動的に合わせる段階、をさらに含むことを
    特徴とする請求項４３記載の方法。
52. （５２）媒体はたわみ磁気媒体の薄い円筒片であること
    を特徴とする請求項４３記載の方法。
53. （５３）媒体は剛性磁気媒体の円筒片であることを特徴
    とする請求項４３記載の方法。
54. （５４）ａ、磁気媒体の表面の第１点のまわりに光のビ
    ームの焦点を合わせる段階と、 ｂ、前記第１点と媒体の前記表面に定エネルギー密度を
    与える光のビームとの相対位置を第１定速度で変える段
    階と、 ｃ、第１点と光のビームとの相対放射位置を一定の割合
    で変える段階と、 ｄ、前記第１点と光のビームとの相対放射位置が変わる
    につれて光のビームが前記定エネルギー密度を前記媒体
    に確実に与える段階と、 ｅ、媒体の所定の回転数が生じたときに媒体の前記表面
    から光のビームを偏向させる段階と、を含むことを特徴
    とする磁気媒体の表面にらせん溝を刻む方法。
55. （５５）ａ、磁気媒体の表面の第１点のまわりに光のビ
    ームの焦点を合わせる段階と、 ｂ、第１点と媒体の前記表面に第１エネルギー密度を与
    える光のビームとの相対位置を第１定回転速度で変える
    段階と、 ｃ、媒体の第１所定回転数が生じたときに前記第１エネ
    ルギー密度を第２エネルギー密度に変える段階と、 ｄ、媒体の第２所定回転数が生じたときに前記第２エネ
    ルギー密度を第３エネルギー密度に変える段階と、 ｅ、媒体の第３所定回転数が生じたときに媒体の前記表
    面から光のビームを偏向させる段階と、ｆ、光のビーム
    が媒体の前記表面の第２点で前記第１エネルギー密度を
    媒体に確実に与える段階と、 ｇ、媒体の前記表面の前記第２点のまわりに光のビーム
    の焦点を合わせて、段階ｃ〜ｅを繰り返す段階と、 を含むことを特徴とする磁気媒体の表面に複数個の変調
    された溝を刻む方法。
56. （５６）前記第３エネルギー密度が前記第１エネルギー
    密度に等しいことを特徴とする請求項５５記載の方法。