JPH02311446A

JPH02311446A - 光学活性アミン類の製造方法

Info

Publication number: JPH02311446A
Application number: JP13401889A
Authority: JP
Inventors: Naoto Konya; 直人紺矢; Takeo Suzukamo; 鈴鴨　剛夫; Yukio Komeyoshi; 米由　幸夫
Original assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date: 1989-05-26
Filing date: 1989-05-26
Publication date: 1990-12-27
Anticipated expiration: 2012-11-19
Also published as: JP2679248B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉本発明は光学活性アミン類の製造方法に関し、詳しくは
一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ，、Ｒ，はアルキル基、アリール基またはア
ラルキル基を表し、同一であることはない、＊は不斉炭
素を表す、）で示される光学活性アミン類の製造方法に関するもので
ある。

〈従来の技術、発明が解決しようとする課題〉一般式（
ＴＶ）で示される光学活性アミン類は医薬、農薬あるい
はその中間体などの光学分割剤等として重要な化合物で
あり、従来よりラセミ体を。

一旦製造し、次いでこれを光学活性な酸等を用いて光学
分割することにより製造されることも良く知られている
゛（例えば０ｐｔｉｃａｌ　Ｒｅ５ｏｌｕｔｉｏｎ　Ｐ
ｒｏｃｅ−ｄｕｒｅｓ　ｆｏｒ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ｃ
ｏｍｐｏｕｎｄｓ　Ｖｏｌ、１）　＊光学分割により光
学活性アミン類を製造するという従来法は、一旦ラセミ
体を製造し、次いでこれに光学活性なＭＨを作用させて
塩を形成せしめ、生成したジアステレオマー塩の溶解度
差を利用して一方のジアステレオマー塩を晶析させ、次
いで咳塩を分離し、しかる後にアルカリを作用させて酸
塩を分解することによって一方の対掌体である光学活性
アミン類を分離回収するという方法であり、操作が煩雑
で効率が悪いという問題があった。

本発明者等は、かかる問題点を解決すべく不斉合成によ
る方法について鋭意検討を重ねた結果、光学活性アミン
誘導体と水素化ホウ素化合物から得られる不斉還元剤を
、オキシム誘導体に反応せしめて一挙に光学活性アミン
類を製造する方法を見出すとともに、オキシム誘導体の
アンチ体とシン体を使い分けることにより任意の絶対立
体配置を有する光学活性アミン類を製・遺し得ることを
見出し、既に提案している（特開昭６３−９９０４１号
公報、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ　Ｌｅｔｔ、、２９２２
３（Ｉ９８Ｂ））　。

その後、本発明者等は水素化ホウ素化合物として、より
取り扱いが容易でしかも安価な水素化ホウ素金属を用い
る方法について更に検討を続けた結果、これを特定のル
イス酸と組み合わせて使用すれば、目的物の収率の向上
、水素化ホウ素金属の使用量の削減等を計り得ることを
見出すとともに、さらに種々の検討を加えて本発明を完
成した。

く課題を解決するための手段〉すなわち本発明は、一般式（Ｉ）（式中、Ｒ，、Ｒ，は水素原子、アルキル基またはアル
コキシ基を、Ｒ１は水素原子またはアルキル基を、Ｒ４
はアルキル基を表し、水は不斉炭素を表す、）（式中、Ｒ，は水素原子、アルキル基またはアルコキシ
基を、Ｒ１はアルキル基を表わす、＊は不斉炭素を表す
、）で示される光学活性アミン誘導体と水素化ホウ素金属と
ハロゲン化アルミニウム、ハロゲン化チタン、ハロゲン
化スズ、ハロゲン化銅、ハロゲン化コバルトから選ばれ
る少なくとも一種のルイス酸とから得られる不斉還元剤
を、−Ｍ式（ＩＩＩ）（式中、Ｒ１はアルキル基、アラ
ルキル基ままたはアルキル置換シリル基を表す。Ｒ＊、
Ｒ−はアルキル基、アリール基またはアラルキル基を表
し、同一であることはない、）で示されるオキシム誘導体のシン体またはアンチ体の一
方、もしくはそれらのいずれかに冨んだ混合物に反応さ
せることを特徴とする一般式（ＩＶ）（式中、Ｒ，、Ｒ
，、＊は前記と同じ意味を表す、）で示される光学活性
アミン類の工業的に優れた製造方法を提供するものであ
る。

以下、本発明について詳細に説明する。

本発明は、光学活性アミン誘導体と水素化ホウ素金属と
特定のルイス酸とから得られる不斉還元剤を用いる点に
大きな特徴を有するものであるが、光学活性アミン誘導
体としては、例えば一般式（Ｉ）で示される光学活性ア
ミノアルコール、−ａ式（ＩＩ）で示される光学活性ヒ
ドロキシベンジルアミン等が挙げられる。

一般式（Ｉ）における置換基Ｒ１およびＲ２としては、
例えば水素原子、メチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル等の低級アルキル基、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ等の低級アルコキシ基などを挙げることがで
きる。その置換位置は特に限定されない。

置換基Ｒ３としては、例えば水素原子、Ｒ−、と同様の
低級アルキル基を例示することができ、Ｒ１としてはＲ
，と同様の低級アルキル基を例示することができる。

より具体的な化合物としては、光学活性なノルエフェド
リン、エフェドリン、２−アミノ−１−（２−メチルフ
ェニル）−１−プロパツール、２−アミノ−１−（２−
エチルフェニル）−１−プロパツール、２−アミノ−１
−（２−メトキシフェニル）−１−プロパツール、２−
アミノ−１−（２−エトキシフェニル）−１−プロパツ
ール、２゜アミノ−１−（２，５−ジメチルフェニル）
−１−プロパツール、２−アミノ−１−（２，５−ジエ
チルフェニル）−１−プロパツール、２−アミノ−１−
（２，５−ジメトキシフェニル）−１−プロパツール、
２−アミノ−１−（２，５−ジェトキシフェニル）−１
−プロパツール、２−アミノ−１−（２−メトキシ−５
−メチルフェニルＬｌ−プロパツール、２−アミノ−１
−フェニル−１−ブタノール、２−アミノ−１−（２−
メチルフェニル）−１−ブタノール、２−アミノ−１−
（２−エチルフェニル）−１−ブタノール、２−アミノ
−１−フェニル−１−ペンタノール、２−アミノ−１−
（２，５−ジメトキシフェニル）−１−ペンタノール、
２−アミノ−１−フェニル−１−ヘキサノール、２−ア
ミノ−１−フェニル−！−ヘプクノール、２−アミノ−
１−７エニルー１−オククノール等を例示できる。

また一般式（Ｉｔ）で示される光学活性ヒドロキシベン
ジルアミンにおける置換基Ｒ１としては例えば、水素原
子、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル等の低級アルキル基、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ等
の低級アルコキシ基などを挙げることができる。　　　
Ｒ，とじては、例えばＲ１と同様の低級アルキル基が挙
げられる。

具体化合物としては、例えば光学活性な１−（２−ヒド
ロキシフェニル）エチルアミン、１−（２−ヒドロキシ
−３−メチルフェニル）エチルアミン、１−（２−ヒド
ロキシ−３−エチルフェニル）エチルアミン、１−（２
−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）エチルアミン、
１−（２−ヒドロキシ−３−エトキシフェニル）エチル
アミン、１−（２−ヒドロキシ−５−メトキシフェニル
）エチルアミン、１−（２−ヒドロ°キシー５−エトキ
シフェニル）エチルアミン、１−（２−ヒドロキシ−４
−メチルフェニル）エチルアミン、１−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）エチルアミン、１−（２−ヒ
ドロキシフェニル）プロピルアミン、１−（２−ヒドロ
キシ−３−エチルフェニル）プロピルアミン、１、（２
−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）プロピルアミン
、　１−（２−ヒドロキシ−５−メトキシフェニル）プ
ロピルアミン、１−（２−ヒドロキシ−６−メチルフェ
ニル）エチルアミン、　１−（２−ヒドロキシ−３−エ
チルフェニル）エチルアミン、１−（２−ヒドロキシ−
６−メトキシフェニル）プロピルアミン等が例示できる
。またかかる光学活性ヒドロキシベンジルアミン誘導体
は、例えば対応するケトン化合物のオキシム誘導体を不
斉還元することにより製造することができる（特願昭６
３−２５２７７３号および６３−２４９５２８号）。

本発明は、上記のような光学活性アミンＦＡＲ体と水素
化ホウ素金属と特定のルイス酸から得られる不斉還元剤
を用いるものであるが、水素化ホウ素金属としては例え
ば、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、
水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素亜鉛等が挙げられ
る０通常は水素化ホウ素ナトリウムが用いられる。　水
素化ホウ素金属の使用量は光学活性アミン誘導体に対し
て、ボラン換算で通常０．３〜１０モル倍程度、好まし
くは約０．５〜８モル倍である。

ルイス酸としては、ハロゲン化アルミニウム、ハロゲン
化チタン、ハロゲン化スズ、ハロゲン化鋼、ハロゲン化
コバルト等が用いられる。　かかるルイス酸を用いるこ
とにより目的物の収率の向上、水素化ホウ素金属の使用
量の削減等を計ることができる。　本発明に使用される
ルイス酸の具体化合物としては、例えば塩化アルミニウ
ム、臭化アルミニウム、四塩化チタン、三塩化チタン、
四塩化スズ、二塩化スズ、二塩化洞、二塩化コバルト等
が挙げられる。これらの混合物も使用し得る。

ルイス酸の使用量は、光学活性アミン誘導体に対し、通
常０．３〜３モル倍程度、好ましくは０．６〜２モル倍
■倍変７ある。

不斉還元剤を調製するにあたっては、溶媒として、例え
ばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジグライム等のエ
ーテル類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素
類、クロルベンゼン、クロロホルム、１．２−ジクロロ
エタン等のハロゲン化炭化水素類、あるいはこれ等の混
合溶媒が用いられる。　光学活性アミン誘導体、水素化
ホウ素金属、ルイス酸等を加える順序は特に限定はない
が、光学活性アミン誘導体とルイス酸とを混合した後に
水素化ホウ素金属を加える、または水素化ホウ素金属に
光学活性アミン誘導体とルイス酸の混合物を加える方法
が光学収率の点で好ましい。　調製温度は、通常１００
°Ｃ以下、好ましくは５０°Ｃ以下である。

本発明は、かくして得られる不斉還元剤を前記一般式（
ＩＩＩ）で示されるオキシム誘導体のアンチ体またはシ
ン体もしくはこれ等のいずれかに冨んだ混合物に反応さ
せるものであるが、該オキシム誘導体におけるＲ７とし
ては、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペン
チル、シクロヘプチル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘ
プチル、シクロヘプチル、オクチル、シクロオクチル、
ノニル、デシル等炭素数］〜１０のアルキル基、ベンジ
ル、β−フェネチル、ナフチル等炭素数７〜１２のアラ
ルキル、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリ
ル、トリー１−プロピルシリル、トリーローブチルシリ
ル等の炭素数３〜１２のアルキルシリル基などが例示で
きる。

置換基Ｒ，，Ｒ，とじてはフェニル、ｏ−、ｍ−、ｐ−
クロロフェニル、Ｏ−＋　ｍ−＋　ｐ−ブロモフェニル
、２．３−１２．４−１２．５−１２．６−２３．４−
１３．５−ジクロロフェニルなどのハロゲン置換フェニ
ル、Ｏ−＋１Ｉｌ−＋Ｐ−メチルフェニル・Ｏ−＋　ｍ
−１ｐ−エチルフェニル、Ｏ−＋ｎ’−＋ｐ−ブチルフ
ェニル、２，３−１２，４−１２，５−１２．６−１３
，４−２３．５−ジメチルフェニルなどの炭素数が１〜
６のアルキルが１換したフェニル、Ｏ−＋　”−＋　ｐ
−メトキシフェニル、Ｏ−＋ｍ−＋１’−エトキシフェ
ニル、ｏ−、ｍ−、ρ−プロポキシフェニルなどの炭素
数２〜６のアルコキシが置換したフェニル、Ｏ−＋Ｉｍ
−＋ｐ−ベンジルオキシフェニル、２−ベンジルオキシ
ル３−メチルフェニル、２−ベンジルオキシ−４−メチ
ルフェニル、２−ヘンシルオキシ−５−メチルフェニル
、２−ベンジルオキシ−５−ｔ−ブチルフェニル、２−
ベンジルオキシ−３−メトキシフェニル、２−ベンジル
オキシ−４−メトキシフェニル、２−ベンジルオキシ−
５−メトキシフェニル、２−ベンジルオキシ−３，５−
ジクロロフェニルなどのベンジルオキシが置換したフェ
ニル、Ｏ−、ｍ−、ρ−シアノフェニル、２−．３−．
４−ピリジル、α−１β−ナフチル等の全炭素数が５〜
１７のアリール基、　メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキ
シルなどの低級アルキル、クロロメチル、ジクロロメチ
ル、トリクロロメチル、トリブロモメチル、トリフルオ
ロメチル、２−クロロエチル、３−クロロプロピル、４
−クロロブチルなどのハロゲン化アルキル等の全炭素数
が１〜６のアルキル基、ベンジル、ｏ−、ｍ−。

ρ−トリルメチル、Ｏ−＋ＩＩ＋−＋ｐ−エチルヘンシ
ル、ｏ−、ｍ−。

ｐ−メトキシベンジル、ｏ−、ｍ−、ｐ−エトキシベン
ジル、２．３−５２．４−１２．５−１２，６−１３．
４−５３．５−ジメチルベンジル、３−スルファモイル
−４−メトキシベンジル、（２，３−，２，４〜、２，
５−２２．６−シメトキシフエニル）エチル、２−フェ
ニルエチル、２−（ｏ−、ｍ−、ｐ−トリル）エチル、
（２，３−５２，４−１２，５−１２，６−１３，４−
１３，５−ジメチルフェニル）エチル、３−フェニルプ
ロピル、ナフチルメチル等の全炭素数が７〜１１のアラ
ルキル基などが例示できる。

代表的なオキシム誘導体としては、例えばアセトフェノ
ン、プロピオフェノン、ブチロフェノン、イソブチロフ
ェノン、クロロメチル（フェニル）ケトン、ブロモメチ
ル（フェニル）ケトン、２−アセチルピリジン、０−メ
トキシアセトフェノン、０−エトキシアセトフヱノン、
０−プロポキシアセトフェノン、０−ベンジルオキシア
セトフェノン、α−アセトナフトン、β−アセトナフト
ン、（ｐ−クロルフェニル）メチルケトン、（ｐ−ブロ
ムフェニル）メチルケトン、（ｐ−シアノフェニル）メ
チルケトン、３−スルファモイル−４−メトキシベンジ
ルメチルケトン、フェニルベンジルケトン、フェニル（
０−トリルメチル）ケトン、フェニル（トリルメチル）
ケトン、フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン、フェニ
ル（２−フェニルエチル）ケトン、２−ブタノン、２−
ペンタノン、２−ヘキサノン、２−ヘプタノン、２−オ
クタノン、３−ヘプタノン、３−オクタノン、シクロへ
キシルメチルケトン、シクロへキシルエチルケトン、シ
クロへキシルベンジルケトン、α−フェニルアセトン、
（２−フェニルエチル）メチルケトン、（２−フェニル
エチル）エチルケトン、（３−フェニルプロピル）メチ
ルケトンなどの０−メチル、０−オクチル、０−シクロ
ヘキシル、０−ベンジル、０−トリメチルシリル等のオ
キシム誘導体が挙げられ、これらのシン体、アンチ体も
しくはシン体、アンチ体のいずれか一方に冨んだ混合物
が用いられる。

オキシム誘導体は、対応するケトンより公知の方法で容
易に製造することができる。またシン体もしくはアンチ
体の一方を用いる場合は分離した残りの異性体を公知の
方法でシン体／アンチ体の異性化反応を行うことにより
、再び必要な異性体に変換でき、原料を有効に利用し得
る。

還元反応を行うにあたり、用いる溶媒としては例えば、
還元剤のｔＡ製に用いられると同様のエーテル類、炭化
水素系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒およびこれらの
混合物を例示することができる。その使用量はオキシム
誘導体に対して通常２〜５０重量倍程度である。

また還元剤は予め調製したものを用いても良いし、オキ
シム誘導体の存在下で調製することもできる。その使用
量はオキシム誘導体に対し、光学活性アミン誘導体換算
で通常０．２〜６モル倍、好ましくは０．３〜３モル倍
であり、ポラン換算で通常１〜５モル倍であり、２〜３
モル倍でも反応は十分進行する。

反応温度は、通常１５０　’Ｃ以下である。好ましくは
一２０〜６０°Ｃであるが、必要に応じさらに加温する
ことができる。

反応の進行はガスクロマトグラフィー等の分析手段によ
り６ｍｍすることができる。

反応終了後、例えば反応液に塩酸等の鉱酸を加えること
によって還元剤を失活させた後、不斉助剤として光学活
性アミノアルコール（＋）を用いた場合は、例えば、ア
ルカリ性にしてトルエンのような溶媒を用いて抽出する
ことにより、有機層から目的とする光学活性アミン類お
よび該不斉助剤を得、次いで蒸留等の通常の分離手段を
用いることにより目的物、該不斉助剤をそれぞれ単離回
収することができる。ここで抽出溶媒としてヘキサンの
ような溶媒を用いると目的物と該不斉助剤との溶解度差
を利用することにより、有機層から目的物を、水層から
咳不斉助剤をそれぞれ単離回収できる。　　また不斉助
剤として光学活性ヒドロキシヘンシルアミン（Ｉ＋）を
用いた場合は、例えば還元剤を失活させた後、苛性ソー
ダ水）８液などでアルカリ性して有機溶媒で抽出するこ
とによりを機層から目的物を単離回収でき、水層を中和
することにより咳配位子を単離回収することができる。

このようにして得られた目的とする光学活性アミン類は
さらに蒸留、カラムクロマトグラフィー等の精製手段に
より、更に一層精製することもできる。

〈発明の効果〉かくして目的とする光学活性アミン類が製造されるが、
本発明の方法によれば、目的物の収率の向上、水素化ホ
ウ素金属の使用量の削減等を計ることができるので工業
的な光学活性アミン類の製造方法として有利である。

〈実施例〉以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本
発明はこれら実施例に限定されるものではない。

実施例１窒素雰囲気下、室温で（÷）−ノルエフェドリン３ミリ
モル（０，４５４ｇ）と塩化アルミニウム　４ミリモル
（０，５３３ｇ）とテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）　　
４　ｄからなる混合物に、アンチ−フェニル（ｐ−トリ
ルメチル）ケトン（０−メチルオキシム）１ミリモル（
０，２３９ｇ）と丁ＨＦ０．５ｔｄからなる溶液を加え
た。

次いで、これに水素化ホウ素ナトリウム３ミ１ＩｔｌＬ
（０，１１４ｇ）とトリグライム１　、７　ｒａｆｔか
らなる混合物を加え２５°Ｃで２０時間撹拌した後、６
時間還流した。“′その後、室温まで冷却して１０％塩
ａｌＯｇを加え、同温度で１時間撹拌した後、反応液を
減圧濃縮した。　　これに、カセイソーダ水？８液を加
えて塩基性にした後、ヘキサンで抽出し、分液したヘキ
サン層を濃縮してｌ−フェニル−２−（ρ−トリル）エ
チルアミン０．２１　ｇとトリグライム０．１９ｇの混
合物を得た。

ガスクロマトグラフィーにより分析したところ反応率は
１００％であり、生成物の組成はアミン体９９．８％で
あり、Ｎ−メトキシ体（Ｃ，Ｎ二重結合のみが還元され
たもの）０．２％であった。

光学活性カラムを用いた高速液体クロマトグラフィーに
より、アミン体のエナンチオマー比を求めたところ３体
９５．２％、３体４．８％であった。

実施例２窒素雰囲気下、室温で水素化ホウ素す）　ＩＪウム３！
リモルとＴＨｐｔ、ｓ＊の混合物に（＋）−ノルエフェ
ドリン３ミリモルと塩化アルミニウム４ミリモ１岬とＴ
ＨＦ４ｍｌからなる混合物を加え、次いでアンチ−フェ
ニル（ｐ−トリルメチル）ケトン（０−メチルオキシム
）ｌミｌＩｔルとＴＨＦｏ、７ｄからなる／８液を加え
た後、２５°Ｃで１９時間撹拌後、６時間還流した。

以後実施例１と同様に処理して、１−フェニル−２−（
ｐ−トリル）エチルアミンを得た。

反応率　１００％、アミン体　１００％であり、エナン
チオマー比は３体９５．７％、３体４．３％であった。

実施例３窒素雰囲気下、室温で塩化アルミニウム３．２ミリ（ル
とＴＨＦ３ｄｌの混合物に水素化ホウ素ナトリウム２．
４ミリモルとトリグライム１　、３　ｍｌからなる混合
物を加え、次いで（＋）−ノルエフェドリン２．４ミｌ
ＩｎとＴＨＦＩＩ！１からなる溶液を加えて２時間撹拌
した。

次いで、これにアンチ−フェニル（ｐ−トリルメチル）
ケトン（０−メチルオキシム）１ミリモルとＴＨＦｏ、
５ｄからなる？８に１を加え２５°Ｃで２３時間撹拌し
た後、４時間還流した。

反応率　１００％、アミン体９８．３％、Ｎ−メトキシ
体１．７％であり、アミン体のエナンチオマー比はＲ体
９３％、５体７％であった。

実施例４実施例１において、（＋）−ノルエフェドリンを０．６
ミｌＪｆル、塩化アルミニウムの代わりに四塩化チタン
１ミｌＨ３を用い、反応を２５°Ｃで３６時間実施する
以外は実施例１に準拠し、実施して１−フェニル−２−
（叶トリル）エチルアミンを得た。

反応率　１００％、アミン体１００％　であり、エナン
チオマー比はＲ体８８％、５体１２％であった。

実施例５実施例３において、塩化アルミニウムの代わりに臭化ア
ルミニウム３．３ミリ干ル、水素化ホウ素ナトリウム２
．５ミリ！ル、（＋）−ノルエフェドリン２，５ミリモ
ルを用い、反応を２５°Ｃで４４時間、次いで還流を９
時間行う以外は実施例３に準拠して実施した。

反応率は７２．４％、生成物の組成はアミン体１００％
であり、アミン体のエナンチオマー比は、Ｒ体９１．２
％、３体８．８％であった。

実施例６実施例１において、丁ＨＦの代わりにクロロホルムを用
いる以外は実施例１と同様に実施した。

反応率は９１．６％、生成物の組成はアミン体９８．６
％、Ｎ−メトキシ体１．４％であり、アミン体のエナン
チオマー比は、Ｒ体８０．９％、３体１９．１％であっ
た。

実施例７実施例４において、ＴＨＦの代わりにジオキサンを用い
、四塩化チタンを１　、２　ミ９　を外用いて、反応を
２５°Ｃで２４時間実施する以外は、実施例４と同様に
実施した。

反応率は９９％、生成物の組成はアミン体１００％エナ
ンチオマー比は、Ｒ体８７．２％、３体１２．８％であ
った。

実施例日実施例１において、（＋）−ノルエフェドリンを０．６
ミリモル、塩化アルミニウムの代わりに四塩化スズＨ’
１モルを用い、反応を２５°Ｃで１９時間、次いで還流
〒５時間実施する以外は、実施例１に準拠して実施した
。

反応率　１００％、生成物中のアミン体１００％であり
、アミン体のエナンチオマー比はＲ体８９．９％、３体
１０．１％であった。

実施例９実施例１において、（＋）−ノルエフェドリンを０．６
ミリｆル、塩化アルミニウムの代わりに三塩化チタン１
ミ＋Ｊｔルを用い、反応を２５°Ｃで３６時間実施する
以外は実施例１に準拠して実施した。

反応率　９７．４％、生成物中のアミン体１００％、で
あり、アミン体のエナンチオマー比はＲ体８７．６％、
３体１２．４％であった。

実施例１０実施例１において、（＋）−ノルエフェドリンを０．６
ミリモル、塩化アルミニウムの代わりに二基化銅１ミリ
量露を用い、反応を２５°Ｃで３６時間、次いで還流下
に１１時間実施する以外は実施例１に準拠して実施した
。

反応率　７７．２％、生成物中のアミン体１００％、で
あり、アミン体のエナンチオマー比はＲ体６７．３％、
５体３２．７％であった。

実施例１１実施例１において、（＋）−ノルエフェドリンを０．６
ミリ量ル、塩化アルミニウムの代わりに二塩化コバルト
１ミリモルを用い、反応を２５“Ｃで７６時間実施する
以外は実施例１に準拠して実施した。

反応率　６３．１％、生成物中のアミン体１００％、で
あり、アミン体のエナンチオマー比は８体６５．１％、
３体３４．９％であった。

実施例１２実施例１において、（÷）−ノルエフェドリンを０．６
ミリ！　ｌｋ、塩化アルミニウムの代わりに二塩化スズ
ｌミ＋７（ルを用い、反応を２５゛Ｃで９２時間、次い
で還流下に５時間実施する以外は実施例１に準拠して実
施した。

反応率５５．２％、生成物中のアミン体５５．４％、Ｎ
−メトキシ体４４．６％であり、アミン体のエナンチオ
マー比はＲ体７０．５％、３体２９．５％であった。

実施例１３〜２１実施例１において、アンチ−フェニル（ｐ−トリルメチ
ル）ケトン（０−メチルオキシム）の代わりに、シン−
フェニル（ｐ−）リルメチル）ケトン（〇−メチルオキ
シム）、アンチ−フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン
（０−ブチルオキシム）、アンチ−２−オクタノン（０
−ベンジルオキシム）、シン−２−オクタノン（０−ベ
ンジルオキシム）、アンチ−アセトフェノン（Ｏ−メチ
ルオキシム）、アンチ−２−アセトナフトン（Ｏ−メチ
ルオキシム）、アンチ−４゛−ブロモアセトフェノン（
０−メチルオキシム）、アンチ−２°。

４′−ジクロロアセトフェノン（０−メチルオキシム）
、アンチ−２−クロロアセトフェノン（Ｏ−メチルオキ
シム）をそれぞれ１ミリモ１シ用いる以外は実施例１に
準拠して実施し、それぞれ１−フェニル−２−（ｐ−ト
リル）エチルアミン、ｌ−フェニル−２−（ｐ−）リル
）エチルアミン、２−オクチルアミン、２−オクチルア
ミン、ｌ−フェニルエチルアミン、１−（２−ナフチル
）エチルアミン、１−（４−ブロモフェニル）エチルア
ミン、１−（２，４−ジクロロフェニル）エチルアミン
、ｌ−フェニル−２−クロロエチルアミンを得た。結果
を表１に示した。

表１ °１　アンチ／シン・９６．４／３．６実施例２２実施例１において、（＋）−ノルエフェドリンの代わり
に（−）−エリスロー２−アミノ−１−（２，５−ジメ
トキシフェニル）−１−プロパツールを３ミリモル用い
る以外は、実施例１に準拠して実施した。

反応率　９９．３％、生成物組成　アミン体９９．８％
、Ｎ−メトキシ体０．２％であり、アミン体のエナンチ
オマー比　Ｒ体４．２％、３体９５．８％　であった。

実施例２３実施例１において、（＋）−ノルエフェドリンの代わり
に（−）−エフェドリン３ミリ干ルを用い、２５°Ｃで
７２時間反応させる以外は、実施例１に準拠して実施し
た。

反応率　６９．８％、生成物組成　アミン体４３．８％
、Ｎ−メトキシ体５６．２％であり、アミン体のエナン
チオマー比　２体１２．７％、３体８７．３％　であっ
た。

実施例２４実施例２において、（４）−ノルエフェドリンの代わり
に（＋）−エリスロー２−アミノ−１−（２，５−ジメ
トキシフェニル）−１−プロパツールを用い、アンチ−
フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン（０−オキシム）
の代わりにアンチ−３−スルファモイル−４−メトキシ
ベンジルメチルケトン（０−メチルオキシム）を用い、
実施例２に！１！拠して反応を実施した。

反応液に１０％塩酸１０　ｇを加えた後、苛性ソーダ水
７容液を加えてクロロホルムで抽出し、カラムクロマト
グラフィーにより単離精製することにより、（Ｒ）−（
−）４−（３−スルファモイル−４−メトキシフェニル
）−２−アミノプロパン０．１７８ｇを得た。

〔α）　”−１２，４°（Ｃ１，０ＪｌｅＯＨ）、光学
純度７１％実施例２５窒素雰囲気下、室温で水素化ホウ・素ナトリウム３ミリ
モルとＴ）ｌＦ３．５ｄの混合物に（−）−１−（２〜
ヒドロキシフエニル）エチルアミン３ミリモル（０，４
１２ｇ）　ト塩化アルミニウム４ミリモルとＴＨＦ５ｍ
ｌからなる混合物を加え、２．５時間撹拌した０次いで
、これにアンチ−フェニル（ｐ−トリルメチル）ケトン
（０−メチルオキシム）１ミリ（ルとＴ）ｌＦ２．５ｄ
からなる；容／夜をカロえた後、２５°Ｃで２４時間撹
拌した。

次いで、反応液に１０％塩酸Ｌｏｇを加え４０°Ｃで１
時間撹拌した後、室温まで冷却して２５％苛性ソーダ水
／８液約６ｇを加えて塩基性にし、クロロホルムで抽出
した。有機層を濃縮することにより、１−フェニル−２
−（ｐ−）リル）エチルアミン０．２２３ｇを得た。

ガスクロマトグラフィーにより分析したところ反応率は
１００％であり、生成物の組成はアミン体８０．３％で
あり、Ｎ−メトキシ体（＋、Ｎ二重結合のみが還元され
たもの）１９．７％であった。

光学活性カラム用いた高速液体クロマトグラフィーによ
り、アミン体のエナンチオマー比を求めたところＲ体８
０．９％、３体１９．１％であった。

実施例２６実施例２５において、（−）−１−（２−ヒドロキシフ
ェニル）エチルアミンの代わりに（＋）−（２−ヒドロ
キシ−５−メトキシフェニル）エチルアミンを用い、反
応を２５°Ｃで１５時間、還流下に６時間実施する以外
は実施例２５に準拠して実施した。

反応率　９５．８％、生成物組成　アミン体８６゜８％
、Ｎ−メトキシ体１３．２％であり、アミン体のエナン
チオマー比　Ｒ体７６．５％、８体２３．５％　であっ
た。

実施例２７実施例２５において、（−）−］−（］２−ヒドロキシ
フェニルエチルアミンの代わりに（＋）−（２−ヒドロ
キシ−３−メチルフェニル）エチルアミンヲ用い、反応
を２５°Ｃで１５時間、還流下に６時間実施する以外は
実施例２５に１１！拠して実施した。

反応率１００％、生成物組成　アミン体８９．８％、Ｎ
−メトキシ体１０．２％であり、アミン体のエナンチオ
マー比　Ｒ体８１．６％、３体１８．４％　であった。

実施例２８〜３０実施例２５において、アンチ−フェニル（ｐ−トリルメ
チル）ケトン（０−メチルオキシム）の代わりに、アン
チ−４−ブロモアセトフェノン（０−メチルオキシム）
、アンチ−２−オクタノン（０−ヘンシルオキシム）、
アンチ−シクロへキシルベンジルケトン（０−メチルオ
キシム）を用い、反応を２５°Ｃで１５時間、次いで還
流下で６時間実施する以外は実施例２５に準拠して行な
った。結果を表２に示した。実施例３１実施例２６において、アンチ−フェニル（ｐ−トリルメ
チル）ケトン（０−メチルオキシム）の代わりに、アン
チ−アセトフェノン（０−メチルオキシム）を用いる以
外は実施例２６に！Ｓ拠して行なった。結果を表２に示
した。

表２比較例１実施例１において、塩化アルミニウムの代わりに三フッ
化ホウ素・ジエチルエーテル錯体を用いる以外は、実施
例１に１１＃拠して実施した。

反応率３．４％、生成物組成　アミン体３３．３％、Ｎ
−メトキシ体６６．７％であり、アミン体のエナンチオ
マー比　Ｒ体８５．５％、３体１４．５％　であった。

比較例２実施例２５において、塩化アルミニウムの代わりに三フ
ッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体を用いる以外は、実
施例２４に準拠して実施した。

反応率８１．６％、生成物組成　アミン体６６．１％、
Ｎ−メトキシ体３３．９％であり、アミン体のエナンチ
オマー比　Ｒ体２３．７％、５体７６．３％　であった
。

Claims

【特許請求の範囲】一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ）（式中、Ｒ＿１、Ｒ＿２は水素原子、アルキル基または
アルコキシ基を、Ｒ＿３は水素原子またはアルキル基を
、Ｒ＿４はアルキル基を表し、＊は不斉炭素を表す。）または一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼（II）（式中、Ｒ＿５は水素原子、アルキル基またはアルコキ
シ基を、Ｒ＿４はアルキル基を表わす、＊は不斉炭素を
表す。）で示される光学活性アミン誘導体と水素化ホウ素金属と
ハロゲン化アルミニウム、ハロゲン化チタン、ハロゲン
化スズ、ハロゲン化銅、ハロゲン化コバルトから選ばれ
る少なくとも一種のルイス酸とから得られる不斉還元剤
を、一般式（III）▲数式、化学式、表等があります▼
（III）（式中、Ｒ＿７はアルキル基、アラルキル基ままたはア
ルキル置換シリル基を表す。Ｒ＿８、Ｒ＿９はアルキル
基、アリール基またはアラルキル基を表し、同一である
ことはない。）で示されるオキシム誘導体のシン体またはアンチ体の一
方、もしくはそれらのいずれかに富んだ混合物に反応さ
せることを特徴とする一般式（IV）▲数式、化学式、表
等があります▼（IV）（式中、Ｒ＿８、Ｒ＿９、＊は前記と同じ意味を表す。）で示される光学活性アミン類の製造方法。