JPH02310390A - 希土類金属のめっき液 - Google Patents

希土類金属のめっき液

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JPH02310390A
JPH02310390A JP13327589A JP13327589A JPH02310390A JP H02310390 A JPH02310390 A JP H02310390A JP 13327589 A JP13327589 A JP 13327589A JP 13327589 A JP13327589 A JP 13327589A JP H02310390 A JPH02310390 A JP H02310390A
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rare earth
earth metal
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plating
solution
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JP13327589A
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Yoshiharu Matsuda
松田 好晴
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Ishihara Chemical Co Ltd
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Ishihara Chemical Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/54Electroplating: Baths therefor from solutions of metals not provided for in groups C25D3/04 - C25D3/50

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、希土類金属のめっき液に関する。
従来の技術及びその問題点 希土類金属は、各種の特有な性質を示すものであり、例
えば、ミツシュメタルと呼ばれる混合希土類金属は、ラ
イター石、鉄鋼添加用等に、又、高純度希土類金属は、
永久磁石、ケイ光体、レーザー材料、触媒用等に多量に
使用されている。
現在この種の金属は溶融塩電解法や還元法により製造さ
れているが、工程が複雑で、装置が高価であるために、
製造コストが高いという欠点がある。
電析法は、金属を安価に得る方法の一つとしてよく知ら
れているが、希土類金属は酸化還元電位がかなり卑であ
るために、水溶液からは、 H+の放電が優先的に生じ
て、希土類金属を電析させることはできない。
問題点を解決するための手段 本発明者は、上記した如き現状に鑑みて、工業的規模に
おいて実用化し得る希土類金属のめっき液を得るべく鋭
意研究を重ねてきた。その結果、希土類金属の化合物を
極性非プロトン性溶媒に溶解してなるめっき液からは、
実用上充分な電流効率で、希土類金属を電析させること
ができることを見出し、ここに本発明を完成するに至っ
た。
即ち、本発明は、希土類金属化合物を、極性非プロトン
性溶媒に溶解してなる希土類金属のめっき液に係る。
本発明めっき液で用いる希土類金属の化合物は、特に限
定はなく、例えばスカンジウム、イツトリウム、ランタ
ン、セリウム、プラセオジム、ネオジム、サマリウム、
ユウロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシ
ウム、ホルミウム、エルビウム、ツリウム、イッテルビ
ウム、ルテチウム、トリウム等の希土類金属の塩化物、
硝酸塩、酸化物、フッ化物、炭酸塩、シュウ酸塩等を用
いることができ、これらのうちで、塩化物、硝酸塩、酸
化物等が好ましく用いられる。
本発明めっき液では、溶媒としては、極性非プロトン性
溶媒を用いる。極性非プロトン性溶媒は、誘電率が高く
、希土類金属の化合物を均一に溶解できるものであり、
しかも、電析時に、プロトンや水素結合の関与する反応
が生じ難く、かなり卑な電位においても安定である。そ
して、この極性非プロトン性溶媒の溶液からは、実用上
充分な効率で希土類金属を電析させることができる。極
性非プロトン性溶媒としては、例えばジメチルホルムア
ミド、ジメチルスルホキシド、プロピレンカーボネート
、アセトニトリル等を用いることができ、ジメチルホル
ムアミドを特に好ましく用いることができる。
本発明めっき液では、希土類金属の化合物として、結晶
水を有する化合物を用いることができ、これを極性非プ
ロトン性溶媒に溶解したものをそのままめっき液として
使用してもよいが、水素の発生を防止して、電流効率を
向上させるためには、希土類金属の化合物として無水物
を用いるか、あるいはめっき処理前に、予めめっき液を
脱水処理することが好ましい。脱水処理方法は、特に限
定はなく、例えば、めっき液中にモレキュラーシーブ等
の吸着剤を添加して、吸着脱水する方法等を採用できる
本発明めっき液では、希土類金属の化合物の添加量を、
0.01〜0.6モル/ d m 3程度とする場合に
、良好な電析物を得ることができ、特に0.05〜0.
3モル/dm3程度の場合に効率よく電析させることが
できる。
本発明めっき液は、液温0℃〜60℃程度で使用するこ
とができ、15〜30℃程度で使用することが好ましい
。めっき時の陰極電流密度(Dk)は、0.01〜20
mA/cm2程度、好ましくは0.05〜10mA/c
m2程度とすればよい。
尚、めっき時には、常法に従って、スターラーやバブリ
ングにより、めっき液の攪拌を行なうことが好まし、く
、例えば溶存酵素の除去とめっき液の攪拌を兼ねて、N
2ガスによるバブリングを行ないながらめっきを行なえ
ばよい。
本発明めっき液では、被めっき物は、特に限定はなく、
銅、鉄、ニッケル、炭素等の通常の導電性物質であれば
いずれもめっき可能である。
発明の効果 本発明のめっき液によれば、従来得られなかった希土類
金属の電析物を実用上充分な電流効率で得ることが可能
である。
実施例 以下、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
実施例1 ■めっき液の準備 ジメチルホルムアミドにモレキュラーシーブ3Aを加え
て、4日間脱水処理した後、BaOを加えて時々振り混
ぜながら2日間放置した。この上澄液をArガス雰雰囲
気中1御〜15 圧下で、約50℃で蒸留し、留分の中央部を集めた。
次いで得られたジメチルホルムアミドを用いて、0、6
モル/dm3DyC13 ・6H2 0のジメチルホル
ムアミド溶液を作製した。これにモレキュラーシーブ3
Aを加えて、24時間脱水処理した後、モレキュラーシ
ーブ3Aを除去して、0.6モル/dm3Dyc乏3の
ジメチルホルムアミド溶液を得た。また、同様に、0.
6モル/dm3TbCJ3のジメチルホルムアミド溶液
、0.6モル/dm3EucJ3のジメチルホルムアミ
ド溶液及び0.6モル/dm3Yc/!3のジメチルホ
ルムアミド溶液の各溶液を得た。得られた溶液には、い
ずれも250〜500ppm程度の水が残存していた。
上記した方法で得られた各溶液を用いて、以下の方法で
めっき液を調製し、めっき試験を行なった。
■めっき試験 上記した各溶液を用いて、金属イオン量0.1モル/ 
d m 3のジメチルホルムアミドを溶媒とするめっき
液を調製した。被めっき物としては、10X25X0.
2mmの銅板を用いた。該銅板は、前処理として、あら
かじめ2000番エメリーぺ一ハーで研磨し、0.3μ
mアルミナでパフ研磨した後、水洗し、次いでアセトン
中で20分間超音波洗浄し、更に、蒸留水中で10分間
超音波洗浄を行なった後、10%硫酸で酸洗した。
上記した各めっき液について、第1図に示すめっき装置
を用いて、めっき試験を行なった。該めっき装置では、
前処理後の銅板を陰極(1)とし、20X30X1mm
のグラジ−カーボン板を陽極(2)として、ガス入口(
3)からN2ガスを導入してバブリングによりめっき液
を攪拌しつつ、めっきを行なった。バブリング後のN2
ガスは、ガス排出口(4)から排出した。
めっき時の液温は、25℃として、0.01mA/cm
2.0.05mA/cm2.0.1mA/Cm2.0.
5mA/Cm2.2mA/Cm2.4mA/cm2.6
mA/cm2.8mA/Cm2.10mA/Cm2及び
20 m A / c m 2の各電流密度で通電ff
1lOクローンまでめっきを行なった。
各めっき液の電流密度と電流効率との関係を第2図に示
す。各図において、○はDyめっき液、・はTbめっき
液、△はEuめっき液、ムはYめっき液についての結果
を示す。第2図から、いずれのめっき液においても、D
k−0,05〜10mA/cm2程度の場合に、20〜
60%電流効率で希土類金属が電析していることが判る
実施例2 実施例1で調製した各溶液を用い、めっき液中の金属イ
オン濃度を0.01〜0.6モル/dm3の間で変化さ
せてめっき液を調製し、実施例1と同様の方法でめっき
試験を行なった。めっき液の液温は25℃とし、電流密
度2mA/Cm2、通電量10クローンとした。
第3図にめっき液中の金属イオン濃度と電流効率との関
係を示す。第3図からいずれのめっき液においても、金
属イオン濃度−0,05〜0.3モル/ d m 3程
度の場合に、高い電流効率で希土類金属が電析している
ことが判る。
実施例3 実施例1と同様の方法で、金属イオン量0. 1モル/
drn3の5cCffi3 、LaCJ!3、CeCJ
13 、P rc13 、NdCl3、SmC−g3 
、GdCJ3 、HoC/!3、E r Cl 3 、
T mCZ 3 、Y b Cl 3、LuCl3及び
ThCj!4の各めっき液を調整し、めっき試験を行っ
た。めっき液の液温は25℃とし、電流密度2mA/c
m2、通電量10クローンとした。いずれのめっき液か
らも電析が可能であり、電流効率は10〜60%であっ
た。
図面の簡単な説明 第1図はめっき装置の概略図、第2図は、電流密度と電
流効率との関係のグラフ、第3図は、金属イオン濃度と
電流効率との関係のグラフである。
(1)・・・・・・陰極 (2)・・・・・・陽極 (3)・・・・・・ガス入口 (4)・・・・・・ガス排出口 (以 上) 第3図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)希土類金属化合物を極性非プロトン性溶媒に溶解
    してなる希土類金属のめっき液。
  2. (2)極性非プロトン性溶媒がジメチルホルムアミドで
    ある請求項1に記載の希土類金属のめっき液。
JP1133275A 1989-05-25 1989-05-25 希土類金属のめっき液 Expired - Lifetime JPH0645913B2 (ja)

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