JPH0230778A - 電磁特性とコーディング密着性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents

電磁特性とコーディング密着性の優れた一方向性珪素鋼板の製造方法

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JPH0230778A
JPH0230778A JP18041188A JP18041188A JPH0230778A JP H0230778 A JPH0230778 A JP H0230778A JP 18041188 A JP18041188 A JP 18041188A JP 18041188 A JP18041188 A JP 18041188A JP H0230778 A JPH0230778 A JP H0230778A
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JP
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film
annealing
sheet
silicon steel
steel sheet
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JP18041188A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Shimizu
洋 清水
Yasuo Yokoyama
横山 靖雄
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JFE Steel Corp
Original Assignee
Kawasaki Steel Corp
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Publication date
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  • Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 く産業上の利用分野〉 本発明は変圧器の鉄心材料として使用される一方向性珪
素鋼帯の製造方法にかかわり、特に製品の電磁特性と上
塗りコーティングの密着性を良好にするためのコーティ
ング前処理に関するものである。
く従来の技術ン 方向性珪素鋼板は(110)  (001)を主方位と
する結晶粒によって構成され、圧延方向の磁気特性がす
ぐれていることを利用して変圧器や発電機の鉄心材料に
使用される.電磁鋼板に要求される特性の中で鉄を員特
性はとりわけ重要であり、近年の省エネルギーの動きの
中で低鉄を具化ニーズはまずます強まっている.低鉄}
具化の手段として製品板厚を従来の0.30や0.35
mmから0.24一以下にし、渦電流積の低減によって
WIT/S。を0.lOW/kg以上低減させ0.90
W/kg以下の低鉄Il材を得る方法が特公昭59−2
0745号において提案されている。製品板厚が薄くな
った場合の技術的問題の一つは板厚が薄くなったことに
よっ”ζ表面層、特に被膜や皮膜直下の不純物の影響を
受は易くなることである。
周知のごとく、一方向性珪素鋼板の製造においては、素
材にSないしSeのごときインヒビターが添加され、こ
れらがMnSやMnSeのごとき微細な析出物として鋼
板中に均一に分散することによって、最終高温焼鈍にお
いて(110)  (001)方位の2次再結晶粒の発
達をもたらす。インヒビターとしての機能をはたしたS
やSeはこの後純化焼鈍中に鋼中から除かれるが、その
一部はフォルステライト皮膜中や皮膜と地鉄の界面に近
い鋼中に存在する。
このことは金属学会誌−49(1985) k 1第9
頁および第15頁に記載されているとおりであり、これ
らがti iff特性に対し有害な作用を与えることが
最近明らかになった。
一方、一方向性珪素鋼板に要求されるもう一つの特性と
して高い絶縁性がある。最終焼鈍前に焼鈍分離剤として
鋼板に塗布されるMgOとサブスケール中のSiO2と
の反応で形成されるフォルステライトはそれ自身絶縁性
の高い物質であるが通常さらに絶縁性を高めるために上
塗りコーティングが施される。特公昭56−52117
号に記されているごとく、この上塗りコーティングと地
鉄との熱膨張係数の違いを利用して鋼板に引張応力を与
え鉄損低減をはかることが出来ることもよく知られてい
るところである。
ところでこのような上塗りコーティングが鋼板と十分な
密着性をもつためには下地のフォルステライト皮膜の存
在が必要である。先に述べたごとく地鉄と皮膜界面近傍
に存在するSないしSeは電磁特性に有害なので、これ
らを磁性改善の目的で除くために例えば強力な酸洗によ
ってフォルステライト皮膜を取り除いてしまい、上塗り
コーティングのみで絶縁性をもたせようとしてもフォル
ステライト皮膜が無いと十分な密着性が得られず、特に
巻鉄心のように曲げ加工が加わる変圧器の場合、コーテ
ィング剥離をおこし実用に耐えない。
〈発明が解決しようとする課題〉 本発明の一つの目的は下地皮膜としてのフォルステライ
トの機能を維持させつつ、皮膜中や地鉄皮膜界面近傍に
存在するSないしSsを除き磁性向上をはかると同時に
コーティング密着性の改善をはかることである。
本発明の他の目的は板厚0.24mm以下の珪素鋼板の
低鉄…化をさらにはかると同時にコーティング密着性の
改善をはかることである。
ところで上塗りコーティング前に軽酸洗を施すことは例
えば、特開昭58−144429号に示されているが、
板厚0.30の厚い場合の軽酸洗条件であり、製品板厚
が薄くなったことによって、表面層特に被膜や被膜直下
の不純物の影響を特に受けやすくかつコーティング密着
性の改善については示されていない、高温ボックス焼鈍
後未反応MgOは水洗とブラッシングで取り除かれるが
、これが不十分であるとこの後のコーティング塗布焼付
の工程でコーティング密着性が十分でないことがある。
このため軽酸洗を施して未反応分離剤を完全に除去し、
コーティング0;Iの鋼板表面を清浄化する方法が用い
られた。例えば特公昭53−28375号の実施例の記
述[・・・表面の焼鈍分離剤を水洗と軽い酸洗で除きガ
ラス状皮膜を残したのち・・・」にみられるとおりであ
る。
しかしながらいずれの方法においてもコーティング前の
軽酸洗の目的は未反応分離剤の除去を目的としたもので
あって磁性改善を目的とし、皮膜や皮膜と地鉄界面近傍
に存在するSやSeの除去は十分になされておらず、か
つ0.24aua以下の製品板厚の場合の磁性改善およ
びコーティング密着性の向上のための軽酸洗条件は明ら
かでなかった。
〈課題を解決するための手段〉 本発明はSi 2.0〜4.0%、インヒビターとして
SないしSeの1種ないし2種を合計でO,010〜0
.050%含有する珪素鋼熱延鋼板を1回または中間焼
鈍を含む2回以上の冷間圧延を施し板厚を0.24mm
以下にしたのち、脱炭を兼ねる1次再結晶焼鈍を施し、
ついで鋼板表面に?1gOを主成分とずる焼鈍分離剤を
塗布後、2次再結晶と純化のための高温ボックス焼鈍を
行い、しかるのち得られたフォルステライト系M 11
9の上にさらに上塗りコーティングを塗布し、焼付ける
一連の工程よりなる一方向性珪素鋼板の製造工程におい
て、上塗りコーティング前に、濃度1%以上20%以下
の燐酸。
塩酸又は硫酸のいずれかで、液温15゛C以上で、2秒
以上60秒以下の軽酸洗を施し、フォルステライト皮膜
中及び皮膜、地鉄界面近傍に存在するSないしSeを低
減させ、膜付分析値で合計0.004%以下にすること
を特徴とする特許 グ密着性の秀れた一方向性珪素鋼板の製造方法である。
〈作 用〉 本発明者等は、皮膜中や皮膜と地鉄界面近傍のSやSe
をフォルステライト皮膜を破壊することなく除去する酸
洗条件を見出すために、またコーティング密着性の向上
をはかりかつ磁性を改善することを目的にいくつかの実
験を行った。
以下にその結果を示す。
3、40%(wt%,以下同様)Slとインヒビターと
してS O.025%, Sb O.030%を含有す
る珪素鋼熱延鋼板を中間焼鈍を含む2回の冷延によって
0.30mm, 0.23m, 0.20mの最終製品
板JVとし、脱炭焼鈍後?IgOを焼鈍分離剤として塗
布し、1200゜C2011v水素中で高温ボックス焼
鈍を行った.次いで、未反応のMgOを水冷とブラツシ
ングで除去した後0.5〜20%の燐酸に液温40゛C
で酸洗時間を2〜30秒の範囲でかえて軽酸洗し、フォ
ルステライト皮膜中や地鉄と皮膜界面に残留するSMを
変化させた。
この後、上塗りコーティングを施して製品に仕上げた。
第1図はこのようにして得られた製品の鉄IiJWl?
/S。( W / kg )を膜付分析で求められたS
星(皮膜をつけた状態の鋼板貫通分析で得られたSM)
に対して示した。いずれのケースも表面のフォルステラ
イト皮膜を硫酸酸洗で完全に除いた地鉄のslは0.0
01%以下であり、膜付分析で得られたSは皮膜中ある
いは皮膜と地鉄界面近傍に存在するslに相当する。
第1図にみられるごとく、膜付S量が凍るにしたがい、
鉄損が向上し、板厚0.23mの場合膜付S量が0.0
04%以下で一.,7,。≦0.85W/kgを満足す
る低鉄損が得られた。また板厚0.20++u*では膜
付S量が0.004%以下になると1,/,。≦0.8
0W/kgの良好な鉄損が得られた.板厚0.30mm
の場合0.201や0.23mmほど膜付s31滅少に
よる鉄損改善効果は大きくない。
板厚が0.24mm以下の薄物で膜付3世が0.004
%以下で従来の水準以上の低鉄損化が達成できることは
本発明の新知見である。
皮膜中や皮膜と地鉄界面近傍のSが磁性を劣化させる理
由は、完全に解明されている訳ではないが、それらの存
在が表面近傍の内部歪を高める原因になっていると推定
される。特に磁気測定を行う前の歪取焼純の条件によっ
て膜付S量が多いとき磁気特性が大きく変化することか
ら考えると、皮膜中や地鉄皮膜界面のS,Seが歪取焼
鈍中に再び鋼中に拡散侵入し、磁性を劣化させるものと
思われる.特に薄物においては、S,Seの存在にょる
表面近傍の内部歪および歪取焼鈍中のS,Seの鋼中へ
の再拡散の影響が予想される以上に大きくなるものと思
われる。
次に本発明の構成の限定理由について説明する。
本発明の対象となる素材はSiを2.0〜4.0%とイ
ンヒビターとしてSないしSeの1種ないし2種を両者
の合計で0.010〜o.oso%含有する珪素鋼熱延
鋼板である.SやSeはMnS, MnSeとして鋼中
に微細に分散し、粒成長を抑制して(110)  [0
01)方位の2次再結晶を可能にするもので0.010
%を下田るとインヒビターとしての機能が十分はた一已
ないためこれを下限とした。上限をo.oso%とした
のはこれ以上多《なると上塗りコート前の軽酸洗でフォ
ルステライト皮膜を破壊することなく本発明の範囲であ
る膜付SないしSeitを0.004%以下に出来ない
ためである.インヒビターとしてはこの他にAIやB,
 Cu, Sn, Sb等多くが知られているが、これ
らがSないしSeと同時に含有されることは本発明の効
果を損なうものでなく、本発明の範囲に含まれる.その
場合、AIやBはAINあるいは8Nの形でインヒビタ
ー機能をもつためM、Bの足に見合うNiが必要になる
こと4よ言うまでもない。
次にこの熱延鋼板は公知の方法にしたがって1回ないし
中間焼鈍を含む2回の冷間圧延によって0.24mm厚
以下に仕上げられる。
次いで750〜900℃の温度域で湿水素雰囲気の脱炭
焼鈍が施され、この後MgOを主成分とする焼鈍分離剤
を塗布して、2次再結晶と純化のための高温ボックス焼
鈍に供せられる。焼鈍分離剤としては磁性向上や皮膜密
着性改善をはかるためTi。
阿n、 Ca、 Zr、 AI+  B等の酸化物や各
種のS化合物が10%以下の微曾添加されることがある
が、FIg。
を主成分としてフォルステライト皮膜が形成される限り
、上記添加物の存在は本発明の効果を失わしめるもので
なく、これらが焼鈍分離剤に添加された場合も本発明の
範囲に含まれる。
ボックス焼鈍後の鋼板表面にはフォルステライト皮膜が
形成されており、この時点では鋼中にあったSやSsは
インヒビターとしての役割を終え、純化焼鈍によって一
部は大気中に放出されるが、その多くはフォルステライ
ト皮膜中あるいは皮11りと地鉄の界面近傍に存在する
通常焼鈍後のコイル表面の未反応の焼鈍分離剤は水洗と
ブラッシングによって除去され、次に上塗りコーティン
グに供せられる。あるいは上塗りコーティングに先立ち
コーティング密着性向上と表面清浄化のため軽酸洗処理
が加えられることがあるが、本発明の特徴はこの軽酸洗
処理がフォルステラ・イトを破壊しない範囲で皮膜中な
いし皮膜と地鉄の界面近傍にあるSやSeを下げ、膜付
含有量として0.004%以下にすることにある。この
軽酸洗の条件は、燐酸、塩酸、硫酸のいずれかを使用し
、酸濃度は1〜20%(wt%、以下同様)の範囲に限
定される。下限を下廻るとSやSeの除去能力が不十分
となり上限を越えるとフォルステライト表面が破壊され
易くなるためである。酸の温度は15℃を下廻ると酸洗
効率が落ちるためこれ以上で行う必要がある0N洗時間
は酸濃度3wl類、液温と必要膜S、Se量によって異
なるが、工業的な生産性とフォルステライト皮膜の破壊
防止の点から60秒以下に、また2秒を下廻ると酸洗反
応に必要な時間が不十分となるため2秒以上60秒以下
に限定される。
第2図は一例として燐酸酸洗によって高温ボックス焼!
IIi後の0.23■厚珪素鋼の皮1模や皮膜地鉄界面
近傍の脱Sをはかった場合の酸洗条件と膜付S量の関係
を示した。酸濃度が高いほど、また液温が高いほど短時
間で膜付slが下がることが明らかであり、本発明の条
件で膜付slが0.00,1%以下に下げ得るこさが判
る。
軽酸洗処理によって皮j1り中ないし皮膜地鉄界面近傍
のSないしSe量が0.004%以下となった鋼板は公
知の方法にしたがって上塗りコーティングと焼付が施さ
れ絶縁性の改善がはかられる。
〈実施例〉 実施例I Si 3.30%、 MlI O,085%を含み、イ
ンヒビターとしてSe 0.030%、 Sb O,0
29%を含有する2、4則厚熱延鋼板を1次冷延テ0.
70mm厚とし、1000’C5幽窒素中で中間焼鈍を
行ったのち2次冷延で0.23腫厚に仕上げた。次いで
800℃3mloの脱炭焼鈍を湿水素−窒素雰囲気で行
いMg(+を塗布して1200℃201b水素中の高温
ボックス焼鈍を行った。この後、未反応MgOを水洗と
ブラッシングで除去し、上塗りコーティングに先立ち軽
酸洗条件を第1表のようにかえて膜付Seiを変化させ
た。上塗りコーティングは燐酸塩を主成分とするもので
、かくして得られた最終製品の電磁特性と皮膜密着性(
曲げ加工で皮膜剥離が発生し始める曲率)を第1表にま
とめた0本発明の条件にかなうものは電&f特性が良好
で皮膜密着性にすぐれたものであった。
実施例2 Si 3.10%、 Mn O,080%、インヒビタ
ーとしてAIo、025%、  S O,020%、 
Cu O,10%とN O,0090%を含有する2、
4an厚熱延鋼板を1次冷延で1.511II+厚とし
たのら1100℃3−水素と窒素の混合ガス中で急冷処
理を含む中間焼鈍を行い、2次冷延で0.23mmW−
に仕上げた。冷延に際し、圧延時の板温が100〜25
0 ’Cの温度域にあるよう予熱と温間圧延を行った。
この後冷延板を800℃3m湿水素と窒素の混合ガス中
で脱炭焼鈍し、MgOを主成分とする分離剤を塗布した
のち1200℃1011rの高温ボックス焼鈍を水素中
で行った0次いで未反応分離剤を水洗とブラッシングで
除去したのち、上塗りコーティングに先立つ軽酸洗を第
2表の条件で行い膜付slを変化させた。この後、上塗
りコートを行い、得られた最終製品の電磁特性と皮膜密
着性を第2表にまとめた0本発明の条件のものが電L1
1特性および皮膜密着性いずれも良好であった。
〈発明の効果〉 本発明により製品板厚が0.24m以下の薄力向性電磁
鋼板において、格段に電磁特性が改善され、かつコーテ
ィング密着性の良好なものが得られ、省エネルギー上有
利であり、工業的価値は大きい。
【図面の簡単な説明】
第1図は板jIと膜付S蛍が鉄1顛に及ぼす影響を示す
測定図、第2図は酸洗条件と膜付slとの関係を示す測
定図である。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. Si2.0〜4.0%、インヒビターとしてSないしS
    eの1種ないし2種を合計で0.010〜0.050%
    含有する珪素鋼熱延鋼板を1回または中間焼鈍を含む2
    回以上の冷間圧延を施し板厚を0.24mm以下にした
    のち、脱炭を兼ねる1次再結晶焼鈍を施し、ついで鋼板
    表面にMgOを主成分とする焼鈍分離剤を塗布後、2次
    再結晶と純化のための高温ボックス焼鈍を行い、しかる
    のち得られたフォルステライト系被膜の上にさらに上塗
    りコーティングを塗布し、焼付ける一連の工程よりなる
    一方向性珪素鋼板の製造工程において、上塗りコーティ
    ング前に、濃度1%以上20%以下の燐酸、塩酸又は硫
    酸のいずれかで、液温15℃以上で、2秒以上60秒以
    下の軽酸洗を施し、フォルステライト皮膜中及び皮膜、
    地鉄界面近傍に存在するSないしSeを低減させ、膜付
    分析値で合計0.004%以下にすることを特徴とする
    電磁特性とコーティング密着性の優れた一方向性珪素鋼
    板の製造方法。
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