JPH02294490A - 圧延銅箔の表面処理方法 - Google Patents
圧延銅箔の表面処理方法Info
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- JPH02294490A JPH02294490A JP11222889A JP11222889A JPH02294490A JP H02294490 A JPH02294490 A JP H02294490A JP 11222889 A JP11222889 A JP 11222889A JP 11222889 A JP11222889 A JP 11222889A JP H02294490 A JPH02294490 A JP H02294490A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、銅箔の被覆処理(トリート処理)方法に関す
るものであり、特にはトリート処理後アニールした場合
に、銅箔を長期間、高温多湿条件下に置いても,黒点の
発生がない、防錆性の優れたプリント配線板用銅箔の被
覆処理方法に関するものである. 本発明による銅箔は、輸出用等長期の保管期間を要する
プリント配線用銅箔の製造に好適に使用される. 翌1と九里 プリント配線板用銅箔は一般に樹脂等の基材に高温高圧
下で積層接着され、その後目的とする回路を形成するべ
くエッチング処理が施される.最終的に、所要の素子が
半田付けされて、エレクトロニクスデバイス用の種々の
プリント回路板を形成する.そのため、プリント配線板
用銅箔に対する品質要求は、樹脂基材と接着される面(
所謂粗化面)と、非接着面(所謂光沢面)とで異なり、
両者を同時に満足させることが重要である.粗化面に対
する要求としては、主として、■保存時における酸化変
色のないこと、■基材との引き剥し強さが高温加熱、湿
式処理、半田付け、薬品処理等の後でも充分なこと、■
基材との積層、エッチング後に生じる所謂積層汚点のな
いこと 等が挙げられる. 他方、光沢面に対しては、 ■外観が良好なこと及び保存時における酸化変色のない
こと、 ■半田濡れ性が良好なこと、 ■高温加熱時に酸化変色がないこと ■レジストとの密着性が良好なこと 等が要求される. 1米蓋l 従来、プリント配線板用銅箔の製造法としては様々の方
法が提唱されている.一つの確立されたプロセスとして
、予備処理を行ない、続いて防錆処理を行なう、所謂ト
リート処理が多く実施されている. 予備処理は、脱脂後の銅箔に、金属めっき、合金めっき
及び粗化処理の少なくとも一つを行なう処理である.処
理の内容は銅箔の種類により異なる.即ち,通常、圧延
銅箔の、樹脂基材と接着する面即ち粗化面には積層後の
銅箔の引き剥し強さを向上させることを目的として、脱
脂後の銅箔の表面に例えば銅のみしこぶ状の電着な行な
う粗化処理が施される.こうした銅のみしこぶ状の電着
はいわゆるヤケ電着により容易にもたらされる。
るものであり、特にはトリート処理後アニールした場合
に、銅箔を長期間、高温多湿条件下に置いても,黒点の
発生がない、防錆性の優れたプリント配線板用銅箔の被
覆処理方法に関するものである. 本発明による銅箔は、輸出用等長期の保管期間を要する
プリント配線用銅箔の製造に好適に使用される. 翌1と九里 プリント配線板用銅箔は一般に樹脂等の基材に高温高圧
下で積層接着され、その後目的とする回路を形成するべ
くエッチング処理が施される.最終的に、所要の素子が
半田付けされて、エレクトロニクスデバイス用の種々の
プリント回路板を形成する.そのため、プリント配線板
用銅箔に対する品質要求は、樹脂基材と接着される面(
所謂粗化面)と、非接着面(所謂光沢面)とで異なり、
両者を同時に満足させることが重要である.粗化面に対
する要求としては、主として、■保存時における酸化変
色のないこと、■基材との引き剥し強さが高温加熱、湿
式処理、半田付け、薬品処理等の後でも充分なこと、■
基材との積層、エッチング後に生じる所謂積層汚点のな
いこと 等が挙げられる. 他方、光沢面に対しては、 ■外観が良好なこと及び保存時における酸化変色のない
こと、 ■半田濡れ性が良好なこと、 ■高温加熱時に酸化変色がないこと ■レジストとの密着性が良好なこと 等が要求される. 1米蓋l 従来、プリント配線板用銅箔の製造法としては様々の方
法が提唱されている.一つの確立されたプロセスとして
、予備処理を行ない、続いて防錆処理を行なう、所謂ト
リート処理が多く実施されている. 予備処理は、脱脂後の銅箔に、金属めっき、合金めっき
及び粗化処理の少なくとも一つを行なう処理である.処
理の内容は銅箔の種類により異なる.即ち,通常、圧延
銅箔の、樹脂基材と接着する面即ち粗化面には積層後の
銅箔の引き剥し強さを向上させることを目的として、脱
脂後の銅箔の表面に例えば銅のみしこぶ状の電着な行な
う粗化処理が施される.こうした銅のみしこぶ状の電着
はいわゆるヤケ電着により容易にもたらされる。
粗化前の前処理として通常の銅めっきがそして粗化後の
仕上げ処理として通常の銅めっきが行なわれることもあ
る.その他の公知の方法での粗化処理も実施可能である
.或る種の圧延銅箔では粗化処理自体が省略されること
もある.その後、最終段階として、銅箔の少な《とも一
面に、印刷回路用表面として要求される多《の性質を与
える金属或いは合金表面がめっきにより形成される。こ
うした処理を総称して予備処理と呼んでいる.その後行
なわれる防錆処理に関して、本件出願人は、先に、銅箔
の光沢面側に亜鉛の皮膜を形成し、続いてクロム酸化物
の皮膜を形成し,他方粗面側にはクロム酸化物皮膜を形
成する方法(特公昭61−33908号)、銅箔の粗面
に特定のクロメート条件で指定されたクロム量のクロム
酸化物皮膜を形成する方法(特公昭62−14040号
)、亜鉛・クロム処理即ち亜鉛または酸化亜鉛とクロム
酸化物とより成る亜鉛一クロム基混合物被覆処理方法(
特公昭58−7077号)等を提唱し、多くの成果を挙
げてきた. 中でも、最後の亜鉛・クロム処理は、高温多湿条件下で
も防錆性に優れ、また耐変色性、耐焼け性等に優れる点
で有用な方法である. ところで、銅箔は、延性を改善するために、アニールを
実施するのが普通である.当初,アニールは予備処理前
の銅箔に対してに実施されていたが、アニールされた銅
箔は軟らかいために,トリートラインにおいて■シワが
発生しやすいこと、■ビットデンッ(押し傷)が出来や
すいこと、■スリット不良になりやすいことといった理
由で、硬い銅箔をトリート処理した後、アニールを実施
するのが主流となった(特開昭62−40348号).
製品の品質上、トリート処理後にアニールを実施するこ
とが好ましい. が よ と る ところが、亜鉛・クロム処理を施した銅箔にアニールす
ると、高温多湿条件下で「黒点」の発生という新たな問
題が認識されるようになった。
仕上げ処理として通常の銅めっきが行なわれることもあ
る.その他の公知の方法での粗化処理も実施可能である
.或る種の圧延銅箔では粗化処理自体が省略されること
もある.その後、最終段階として、銅箔の少な《とも一
面に、印刷回路用表面として要求される多《の性質を与
える金属或いは合金表面がめっきにより形成される。こ
うした処理を総称して予備処理と呼んでいる.その後行
なわれる防錆処理に関して、本件出願人は、先に、銅箔
の光沢面側に亜鉛の皮膜を形成し、続いてクロム酸化物
の皮膜を形成し,他方粗面側にはクロム酸化物皮膜を形
成する方法(特公昭61−33908号)、銅箔の粗面
に特定のクロメート条件で指定されたクロム量のクロム
酸化物皮膜を形成する方法(特公昭62−14040号
)、亜鉛・クロム処理即ち亜鉛または酸化亜鉛とクロム
酸化物とより成る亜鉛一クロム基混合物被覆処理方法(
特公昭58−7077号)等を提唱し、多くの成果を挙
げてきた. 中でも、最後の亜鉛・クロム処理は、高温多湿条件下で
も防錆性に優れ、また耐変色性、耐焼け性等に優れる点
で有用な方法である. ところで、銅箔は、延性を改善するために、アニールを
実施するのが普通である.当初,アニールは予備処理前
の銅箔に対してに実施されていたが、アニールされた銅
箔は軟らかいために,トリートラインにおいて■シワが
発生しやすいこと、■ビットデンッ(押し傷)が出来や
すいこと、■スリット不良になりやすいことといった理
由で、硬い銅箔をトリート処理した後、アニールを実施
するのが主流となった(特開昭62−40348号).
製品の品質上、トリート処理後にアニールを実施するこ
とが好ましい. が よ と る ところが、亜鉛・クロム処理を施した銅箔にアニールす
ると、高温多湿条件下で「黒点」の発生という新たな問
題が認識されるようになった。
「黒点」は、空気中の水分、二酸化炭素、酸ミスト等に
より防錆皮膜が破壊され、銅と酸素とが反応して、黒色
の汚点を形成する現象を云う。理由は解明されていない
が、亜鉛・クロム処理皮膜は,アニール前では高温多湿
条件下でも黒点を発生しないが、アニールすると長期間
の船輸送、トラック輸送、保管中に約3カ月位で黒点を
発生する. 近時、.銅箔は、世界各国に輸出され、長期間、高温多
湿条件下に置かれる状況が増加している。
より防錆皮膜が破壊され、銅と酸素とが反応して、黒色
の汚点を形成する現象を云う。理由は解明されていない
が、亜鉛・クロム処理皮膜は,アニール前では高温多湿
条件下でも黒点を発生しないが、アニールすると長期間
の船輸送、トラック輸送、保管中に約3カ月位で黒点を
発生する. 近時、.銅箔は、世界各国に輸出され、長期間、高温多
湿条件下に置かれる状況が増加している。
本発明の目的は、特に輸出用アニール圧延銅箔として、
長期間高温多湿条件下に置かれても黒点を発生しない銅
箔の製造を可能とする、圧延銅箔被覆処理(トリート処
理)方法を開発することである。
長期間高温多湿条件下に置かれても黒点を発生しない銅
箔の製造を可能とする、圧延銅箔被覆処理(トリート処
理)方法を開発することである。
; を 1 るための
本発明者等は、圧延銅箔をトリート処理後アニールする
ことを前提として、その黒点発生防止策の検討の結果,
予備処理の最終段階における金属あるいは合金の種類を
特定し、防錆処理を強化するべく、防錆処理を(a)亜
鉛被覆、(b)浸漬処理によるクロム酸化物皮膜の形成
、及び(c)電解によるクロム酸化物被覆層或いはクロ
ム酸化物と亜鉛若しくは酸化亜鉛との混合被覆層の形成
という3段階で行なうことが有効なことを見出した。
ことを前提として、その黒点発生防止策の検討の結果,
予備処理の最終段階における金属あるいは合金の種類を
特定し、防錆処理を強化するべく、防錆処理を(a)亜
鉛被覆、(b)浸漬処理によるクロム酸化物皮膜の形成
、及び(c)電解によるクロム酸化物被覆層或いはクロ
ム酸化物と亜鉛若しくは酸化亜鉛との混合被覆層の形成
という3段階で行なうことが有効なことを見出した。
この知見に基づいて、本発明は、
(1)圧延銅箔に
(a)亜鉛を被覆し、
(b)次に浸漬処理によりクロム酸化物皮膜を形成し、
(clその後、電解により、クロム酸化物被覆層或いは
クロム酸化物と亜鉛若しくは酸化亜鉛との混合被覆層か
ら成る防錆処理層を形成する ことを特徴とする圧延銅箔の表面処理方法、(2)前記
防錆処理層を形成する前に、予めCu、Cr, Ni,
Fe, Co及びZnから選択される1種乃至2種以
上の単一金属又は合金を1工程或いは複数工程でめっき
することを特徴とする前記(1)記載の圧延銅箔の表面
処理方法、及び (3)防錆処理後、150〜250℃の温度でアニール
することを特徴とする前記(1)或いは(2)記載の圧
延銅箔の表面処理方法 を提供する. 免肚立且止m13 銅箔には、圧延銅箔と電解銅箔とがあるが、本発明は圧
延銅箔な対象とする.圧延銅箔は、ビンホールがないこ
と、可撓性に優れていること、厚さが均一であること、
生産性に優れることといった多《の長所を有し、現在多
《使用されている.脱脂後の圧延銅箔は、予備処理を受
ける.予備処理は、先に説明したように、脱脂後の銅箔
に金属めっき、合金めっき及び粗化処理の少なくとも一
つを行なう処理である.処理の内容は圧延銅箔の種類に
よって異なる.銅粗化処理の電解条件例を示す。
クロム酸化物と亜鉛若しくは酸化亜鉛との混合被覆層か
ら成る防錆処理層を形成する ことを特徴とする圧延銅箔の表面処理方法、(2)前記
防錆処理層を形成する前に、予めCu、Cr, Ni,
Fe, Co及びZnから選択される1種乃至2種以
上の単一金属又は合金を1工程或いは複数工程でめっき
することを特徴とする前記(1)記載の圧延銅箔の表面
処理方法、及び (3)防錆処理後、150〜250℃の温度でアニール
することを特徴とする前記(1)或いは(2)記載の圧
延銅箔の表面処理方法 を提供する. 免肚立且止m13 銅箔には、圧延銅箔と電解銅箔とがあるが、本発明は圧
延銅箔な対象とする.圧延銅箔は、ビンホールがないこ
と、可撓性に優れていること、厚さが均一であること、
生産性に優れることといった多《の長所を有し、現在多
《使用されている.脱脂後の圧延銅箔は、予備処理を受
ける.予備処理は、先に説明したように、脱脂後の銅箔
に金属めっき、合金めっき及び粗化処理の少なくとも一
つを行なう処理である.処理の内容は圧延銅箔の種類に
よって異なる.銅粗化処理の電解条件例を示す。
乳批止支1
Cu: 1 0〜2 5g/I
H.SO.: 20〜loog/氾
温度: 20〜40℃
D. : 3 0〜7 0A/dm”時間=
1〜5秒 本発明では、予備処理として粗化処理を含む場合も含ま
ない場合もを包括するが、いずれにせよ最終段階として
、Cu%Cr, Ni, Fe, Co及びZnから選
択される1種乃至2種以上の単一金属又は合金を1工程
或いは複数工程でめっきすることにより行なうことが好
ましい。この時Znのみを用いた場合は、後工程での亜
鉛めっきは省略可能である.合金めっきの例としては、
Cu−Ni%Cu−Go、Cu−Ni−Co, Cu−
Znその他が挙げられる.こうした合金めっき処理は最
終銅箔の表面性状を決定するものとしてまた障壁層とし
ても重要である。合金めっきの代表的処理方法として、
本件出願人は既に、Cu−Ni処理(特開昭52−14
5769号)及びCu−Co処理(特公昭63−2 1
58号)を提唱した.前者のCu−Ni処理は、耐熱
性剥離強度及び耐塩酸性に優れる表面を与える。後者の
Cu−Co処理は、塩化銅(CuC1m )エッチング
液で150μピッチ回路巾以下の印刷回路をエッチング
でき,アルカリエッチングも可能とした。
1〜5秒 本発明では、予備処理として粗化処理を含む場合も含ま
ない場合もを包括するが、いずれにせよ最終段階として
、Cu%Cr, Ni, Fe, Co及びZnから選
択される1種乃至2種以上の単一金属又は合金を1工程
或いは複数工程でめっきすることにより行なうことが好
ましい。この時Znのみを用いた場合は、後工程での亜
鉛めっきは省略可能である.合金めっきの例としては、
Cu−Ni%Cu−Go、Cu−Ni−Co, Cu−
Znその他が挙げられる.こうした合金めっき処理は最
終銅箔の表面性状を決定するものとしてまた障壁層とし
ても重要である。合金めっきの代表的処理方法として、
本件出願人は既に、Cu−Ni処理(特開昭52−14
5769号)及びCu−Co処理(特公昭63−2 1
58号)を提唱した.前者のCu−Ni処理は、耐熱
性剥離強度及び耐塩酸性に優れる表面を与える。後者の
Cu−Co処理は、塩化銅(CuC1m )エッチング
液で150μピッチ回路巾以下の印刷回路をエッチング
でき,アルカリエッチングも可能とした。
更に、Cu−Ni処理の場合と同じ耐熱性剥離強度及び
耐塩酸性を有し、CuC1gエッチング液で150μピ
ッチ回路巾以下の印刷回路をエッチングでき、しかもア
ルカリエッチングも可能とし、更に帯磁性が許容水準以
下であるという要件を満たすものとして、コバルト及び
ニッケルを所定水準に規制したCu−Go−Ni合金め
っきが提唱された.こうしためっきの浴組成及び条件を
参考までに挙げておく。
耐塩酸性を有し、CuC1gエッチング液で150μピ
ッチ回路巾以下の印刷回路をエッチングでき、しかもア
ルカリエッチングも可能とし、更に帯磁性が許容水準以
下であるという要件を満たすものとして、コバルト及び
ニッケルを所定水準に規制したCu−Go−Ni合金め
っきが提唱された.こうしためっきの浴組成及び条件を
参考までに挙げておく。
色し」一毀!Li
Cu:
Ni:
pH :
温度=
DIl=
時間:
Cu−Co
Cu:
CO:
pH :
温度=
Dk 二
時間:
5〜l ogIQ
10〜20g/氾
l〜4
20〜40℃
1 0 〜3 0 A/dm”
2〜5秒
めっき
2〜20g/4
10〜40g#!
1〜4
2 0〜4 0℃
l O〜4 0 A/dI1″
2〜5秒
Cu−Co−Niめっき
Cu:
CO:
Ni:
pH :
温度: 2
0.:1
時間:
5〜25g/4
3〜15g/f2
3〜15g/氾
l〜4
0〜50℃
0〜30A/do+”
2〜5秒
この後、防鎮処理が実施される.本発明においては、防
鎮処理は、(a)亜鉛被覆、(b)浸漬処理によるクロ
ム酸化物皮膜の形成、及び(c)電解による(i)クロ
ム酸化物被覆層或いは(H)クロム酸化物と亜鉛若し《
は酸化亜鉛との混合被覆層の形成という3段階を通して
行なわれる。
鎮処理は、(a)亜鉛被覆、(b)浸漬処理によるクロ
ム酸化物皮膜の形成、及び(c)電解による(i)クロ
ム酸化物被覆層或いは(H)クロム酸化物と亜鉛若し《
は酸化亜鉛との混合被覆層の形成という3段階を通して
行なわれる。
(a)亜鉛めっき
亜鉛皮膜の形成は、浸漬めっき等の無電解めっきでも行
ない得るが、厚さの一様性等の観点から電解めっきによ
り行なうことが好ましい。電解めっきは、硫酸亜鉛めっ
き、塩化亜鉛めっきに代表される酸性亜鉛めっきが一般
的である。硫酸亜鉛浴を使用した場合の好ましい電解条
件は次の通りである; ZnS04・7HtO : 5 0 〜3 5 0
g/I2時間: l〜3秒 (b)浸漬処理によるクロメート処理 浸漬処理クロメート処理は、現在使用されている様々の
処理液がいずれも使用し得るが、好ましいクロメート処
理条件は次の通りである:K1CrJt :
1〜5g/QpH: 2.
5〜4.5温度= 40〜60℃ 時間: 3〜8秒 (c)電解クロメート或いは電解亜鉛・クロム処理電解
クロメート処理自体は、周知のものであり様々の処理浴
や処理条件が実施されてきている.本発明において使用
するに好ましい条件例を以下に示す: KmCr*Ot ス鋼板等 この他、 KzCraOt : 2〜1 0g
/jiZn: 0.1〜0.5g
/I2時間=0.5〜5秒 電解亜鉛・クロム処理は、クロム酸化物と亜鉛若しくは
酸化亜鉛との混合被覆層を形成するものであり、めっき
浴としては、例えばK*CrsOv、Na*CrlOy
等の重クロム酸塩やCrys等の少なくとも一種と、亜
鉛若しくは水溶性亜鉛塩、例えばZnQやZnS04
・7H,0等少なくとも一種と、水酸化アルカリとの
混合水溶液が用いられる. めっき浴組成と電解条件の一例は次の通りである: 時間 1〜3秒 も使用される。
ない得るが、厚さの一様性等の観点から電解めっきによ
り行なうことが好ましい。電解めっきは、硫酸亜鉛めっ
き、塩化亜鉛めっきに代表される酸性亜鉛めっきが一般
的である。硫酸亜鉛浴を使用した場合の好ましい電解条
件は次の通りである; ZnS04・7HtO : 5 0 〜3 5 0
g/I2時間: l〜3秒 (b)浸漬処理によるクロメート処理 浸漬処理クロメート処理は、現在使用されている様々の
処理液がいずれも使用し得るが、好ましいクロメート処
理条件は次の通りである:K1CrJt :
1〜5g/QpH: 2.
5〜4.5温度= 40〜60℃ 時間: 3〜8秒 (c)電解クロメート或いは電解亜鉛・クロム処理電解
クロメート処理自体は、周知のものであり様々の処理浴
や処理条件が実施されてきている.本発明において使用
するに好ましい条件例を以下に示す: KmCr*Ot ス鋼板等 この他、 KzCraOt : 2〜1 0g
/jiZn: 0.1〜0.5g
/I2時間=0.5〜5秒 電解亜鉛・クロム処理は、クロム酸化物と亜鉛若しくは
酸化亜鉛との混合被覆層を形成するものであり、めっき
浴としては、例えばK*CrsOv、Na*CrlOy
等の重クロム酸塩やCrys等の少なくとも一種と、亜
鉛若しくは水溶性亜鉛塩、例えばZnQやZnS04
・7H,0等少なくとも一種と、水酸化アルカリとの
混合水溶液が用いられる. めっき浴組成と電解条件の一例は次の通りである: 時間 1〜3秒 も使用される。
こうして、
(a) 5 0〜2 5 0 μg/da″亜鉛層(b
)to〜70μs/d■3酸化クロム(c) 5 〜2
0 u g/da”クロム100〜150μg/da
”亜鉛 に相当するクロム酸化物或いはクロム酸化物と亜鉛若し
くは酸化亜鉛との混合物 の3重層が形成される。これらが協作用して、高温多湿
下でも長期間防錆能力を失わない強力な防鎮層を形成す
る。
)to〜70μs/d■3酸化クロム(c) 5 〜2
0 u g/da”クロム100〜150μg/da
”亜鉛 に相当するクロム酸化物或いはクロム酸化物と亜鉛若し
くは酸化亜鉛との混合物 の3重層が形成される。これらが協作用して、高温多湿
下でも長期間防錆能力を失わない強力な防鎮層を形成す
る。
これらの層は粗面側と光沢面側とで厚さを異ならしめて
も良い。
も良い。
この後、必要なら、剥離強度等の改善を主目的として、
防錆層上の少なくとも粗化面にシランカップリング剤を
塗布して薄膜を形成するシラン処理が施される。塗布方
法は、シランカップリング剤溶液のスプレーによる吹付
け、コーターでの塗布、浸漬、流しかけ等いずれでもよ
い。例えば、特公昭60−15654号は、銅箔の粗面
側にクロメート処理を施した後シランカップリング剤処
理を行なうことによって銅箔と樹脂基板との接着力を改
善することを記載しているので、詳細はこれを参照され
たい. この後、銅箔の延性を改善する目的でアニール処理が施
される.アニール処理は、例えば酸素を含まない雰囲気
(08≦10ppm以下、10−”トール+N2ガス注
入)中で圧延銅箔の場合には150〜200℃の温度で
5〜9時間実施される。例えば、横形回転アニールがロ
ールに巻き取った銅箔に偏った荷重がかからないので好
ましい実施方法である。
防錆層上の少なくとも粗化面にシランカップリング剤を
塗布して薄膜を形成するシラン処理が施される。塗布方
法は、シランカップリング剤溶液のスプレーによる吹付
け、コーターでの塗布、浸漬、流しかけ等いずれでもよ
い。例えば、特公昭60−15654号は、銅箔の粗面
側にクロメート処理を施した後シランカップリング剤処
理を行なうことによって銅箔と樹脂基板との接着力を改
善することを記載しているので、詳細はこれを参照され
たい. この後、銅箔の延性を改善する目的でアニール処理が施
される.アニール処理は、例えば酸素を含まない雰囲気
(08≦10ppm以下、10−”トール+N2ガス注
入)中で圧延銅箔の場合には150〜200℃の温度で
5〜9時間実施される。例えば、横形回転アニールがロ
ールに巻き取った銅箔に偏った荷重がかからないので好
ましい実施方法である。
衷U肛較]
圧延銅箔に通常の粗化処理とCu−Ni合金めっきを含
む予備処理を施した後、次の防錆処理を表に示す組合せ
で行なった.銅粗化処理及びCu−Ni合金めっきは先
に示した例に従う. ZnSO4 pH : 温度= Dk = 時間: ・7H.0: 2 0 0g/I24 5℃ 2A/dm” 0、7秒 1゛クロメート K*CrzOy : Ig/I2pH:
2 温度: 40℃ 時間: 5秒 クロメート KtCr*Oy 酸: pH: 温度: Dk = 時間: :10g#2 硫酸 2〜4 30℃ IA/da富 l秒 ・クロム K*CrtOt : 3 g/I2Zn:
0.2〜0.3g/I2pH:
3.B±0.2 浴温 55℃ 電流密度 0.5 A/d+a″ 時間 1.5秒 そして、アニールの有無に応じての黒点の発生数を評価
した。黒点の発生数は.0.4m巾の銅箔を0.45m
長さの紙管に巻き、60℃及び95%RHの恒温恒湿器
に所定時間入れ、0.4m巾×3m長さ内に発生した黒
点数より算出した。
む予備処理を施した後、次の防錆処理を表に示す組合せ
で行なった.銅粗化処理及びCu−Ni合金めっきは先
に示した例に従う. ZnSO4 pH : 温度= Dk = 時間: ・7H.0: 2 0 0g/I24 5℃ 2A/dm” 0、7秒 1゛クロメート K*CrzOy : Ig/I2pH:
2 温度: 40℃ 時間: 5秒 クロメート KtCr*Oy 酸: pH: 温度: Dk = 時間: :10g#2 硫酸 2〜4 30℃ IA/da富 l秒 ・クロム K*CrtOt : 3 g/I2Zn:
0.2〜0.3g/I2pH:
3.B±0.2 浴温 55℃ 電流密度 0.5 A/d+a″ 時間 1.5秒 そして、アニールの有無に応じての黒点の発生数を評価
した。黒点の発生数は.0.4m巾の銅箔を0.45m
長さの紙管に巻き、60℃及び95%RHの恒温恒湿器
に所定時間入れ、0.4m巾×3m長さ内に発生した黒
点数より算出した。
結果を次表に示す.
JLL甑」j口九一
アニール
l Zn十浸漬クロメート
2 同上
3 Zn十浸漬クロメート
4 同上
エ較l
S Zn十浸t責クロメート
6 同上
+電解クロメート
+電解亜鉛・クロム
有り
無し
有り
無し
有り
無し
0.2
0. 1
l 0
100以上
尚、本発明に従う処理後の銅箔は、耐焼け性、多硫化試
験、ハンダ付け性その他一般に要求される要件をも満足
した。
験、ハンダ付け性その他一般に要求される要件をも満足
した。
免豆二盈1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)圧延銅箔に (a)亜鉛を被覆し、 (b)次に浸漬処理によりクロム酸化物皮膜を形成し、 (c)その後、電解により、クロム酸化物被覆層或いは
クロム酸化物と亜鉛若しくは酸化亜鉛との混合被覆層か
ら成る防錆処理層を形成することを特徴とする圧延銅箔
の表面処理方法。 2)前記防錆処理層を形成する前に、予めCu、Cr、
Ni、Fe、Co及びZnから選択される1種乃至2種
以上の単一金属又は合金を1工程或いは複数工程でめっ
きすることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の圧
延銅箔の表面処理方法。 3)防錆処理後、150〜250℃の温度でアニールす
ることを特徴とする特許請求の範囲第1項或いは第2項
記載の圧延銅箔の表面処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1112228A JPH0633467B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | 圧延銅箔の表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1112228A JPH0633467B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | 圧延銅箔の表面処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02294490A true JPH02294490A (ja) | 1990-12-05 |
JPH0633467B2 JPH0633467B2 (ja) | 1994-05-02 |
Family
ID=14581457
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1112228A Expired - Lifetime JPH0633467B2 (ja) | 1989-05-02 | 1989-05-02 | 圧延銅箔の表面処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0633467B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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EP0541997A2 (en) * | 1991-11-15 | 1993-05-19 | Nikko Gould Foil Co., Ltd. | Surface treatment method of a copper foil for printed circuits |
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-
1989
- 1989-05-02 JP JP1112228A patent/JPH0633467B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2014098174A (ja) * | 2012-11-13 | 2014-05-29 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | 表面処理銅箔、それを用いた積層体、プリント配線板、電子部品及び表面処理銅箔の製造方法 |
CN105803363A (zh) * | 2016-03-21 | 2016-07-27 | 哈尔滨飞机工业集团有限责任公司 | 一种预防及去除黄铜件热处理氧化色或氧化皮的方法 |
CN106319585A (zh) * | 2016-10-31 | 2017-01-11 | 中色奥博特铜铝业有限公司 | 一种高精度压延铜箔黑化箔的表面处理方法 |
JP2020136331A (ja) * | 2019-02-14 | 2020-08-31 | 株式会社日産アーク | 半導体装置及びその製造方法 |
CN116179978A (zh) * | 2023-02-22 | 2023-05-30 | 安徽华创新材料股份有限公司 | 一种锂电铜箔退火工艺 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0633467B2 (ja) | 1994-05-02 |
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