JPH02279596A - 単結晶薄膜の育成方法 - Google Patents

単結晶薄膜の育成方法

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JPH02279596A
JPH02279596A JP10046389A JP10046389A JPH02279596A JP H02279596 A JPH02279596 A JP H02279596A JP 10046389 A JP10046389 A JP 10046389A JP 10046389 A JP10046389 A JP 10046389A JP H02279596 A JPH02279596 A JP H02279596A
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single crystal
bbo
barium borate
thin film
substrate
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JP10046389A
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Hikari Kouda
光 古宇田
Yasuhiko Kuwano
泰彦 桑野
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NEC Corp
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、非線形光学結晶ベータバリウムボレイト(
以下、p−BBOと略記する)単結晶薄膜の育成方法に
関する。
(従来の技術) 33−BBOのバルク単結晶は、Na2O,Na2CO
3、BaCl2などを用いたフラックス法により育成さ
れている。つまりこれらのフラックスにBBOの原料を
融解し、融点を下げてp−BBOを晶出させるという方
法を用いている。
フラックスを用いた自然核生成法では最大数ミリ角程度
の単結晶しか得られないので、$3−BBOの種結晶を
用いて大型の結晶を育成した例が報告されている(例え
ば、ジャーナル・オブ・クリスタル・グロウス 198
6年 79巻 963−969ページ)。この方法はフ
ラックスに原料を溶かした溶液に板状の種結晶を接触さ
せて回転し、そのまわりに結晶を晶出させていく方法(
TSSG法)であるが、育成時間が非常に長く大型の結
晶を育成するのに2週間以上も必要としているので、歩
留りがとても悪い。
(発明が解決しようとする課!り p−BBOは非線形光学素子として最近注目されいる結
晶であるが、現在まではバルクの結晶としてしか利用さ
れていなかった。しかし、半導体レーザ光の第二高調波
を得る等の非線形光学デバイスを作製するためにβ−B
BOの薄膜化が必要な場合がある。従来のp−BBOの
種結晶として用いるTSSG法では、まだ薄膜のβ−B
BOの育成は試みられていない。
仮にβ−BBOを基板として薄膜を育成しようとしても
、現状では大きな基板が簡単に得られないので、大面積
のエピタキシャルウェハーを得ることが出来ない。
(課題を解決するための手段) 大型のα−BBOのウェハーを基板に用い、その上にβ
−BBOをエピタキシャル成長させることで大面積のβ
−BBO単結晶薄膜を育成することができる。
(作用) β−BBOは低温相の結晶であるため、融液から直接大
型の単結晶を得ることは出来ず、フラックスを用いて融
点を下げて育成されている。しかし高温相であるα−B
BOは融液から直接育成できるため、引き上げ法等によ
り大型で高品質な結晶を得ることが出来る。α−BBO
の格子定数はa=7.2a5A、c=39.192人、
β−BBOはa=12.519人、c=12.723人
であるが、この差は単位格子のとり方から来ている。実
際の結晶構造はα−BBOはバリウムのサイトが2種類
あるのに対しβ−BBOは1種類であるというだけで、
あって、αとpではほとんど変わらない。そのためα−
BBOの上にβ−BBOをエピタキシャル成長させるこ
とが可能である。薄膜を育成させる方法はLPE法、ス
パッタ法、MOCVE法、MBE法等、現在薄膜結晶を
得るために用いられている方法が可能である。
(実施例) 酸化バリウムと酸化ホウ素を1:1のモル比で混合した
粉末をa−BBO育成原料に用い、融解して白金るつぼ
に充填した。通常の高周波引き上げ炉でC軸方向に成長
するようなα−BBOの種結晶を用い、直径30mm、
長さ60mmのα−BBOの単結晶を育成した。
この結晶をa軸に垂直に切断し、両面をアルミナ、ダイ
ヤモンドペーストの研磨粉を用いて鏡面研磨して厚さ2
mm、直径30mmのα−BBOウェハーを得た。次に
α−BBO育成原料と炭酸ナトリウムを1:1のモル比
で混合融解して白金るつぼに充填し、12O0’C3h
r加熱してNa2O・BaB2O4とし、これをフラッ
クス原料とした。このフラックスとBaB2O4の平衡
状態図を第1図に示した。図中のA−Bの組成でBaB
2O4とフラックスを混合し、融解した溶液から43−
BBOは初晶として育成されることがわかる。しがし実
際にはBaB2O4とNa2O・BaB2O4を混合し
た溶液から結晶が晶出してくる温度は、過冷却のために
状態図に示す温度以下になる。このことを考慮にいれ、
初晶がβ−BBOになる最適な組成はBaB2O4:N
a2O−BaB2O4が68.4:31.6のモル比で
あることが報告されている。(例えば、ジャーナル・オ
ブ・クリスタル・グロウス 1986年 79巻 96
3−969ベージ)このモル比で混合した試料を、第2
図のようなアルミナ耐火物2にカンタル線5を巻いた抵
抗加熱炉により直2径50mmの白金るつぼ6に融解、
充填した。溶液を約950’Cに温度を保ち、サファイ
アロッド1に取り付けられた保持具4に取り付けたα−
BBOの基板3を2Orpmで回転させながら溶液の表
面に接触させた。次に溶液の温度を950°Cがら85
0’Cまで1°C/minで下げて基板上にβ−BBO
を晶出させた。その後、基板の回転数を50rpmにし
て溶液表面から基板を離した。常温まで除冷した後、基
板を取り出して膜厚を測定した結果、厚さ約2Opmの
β−BBO薄膜が得られていることがわかった。またa
軸に垂直にカットして研磨したα−BBOの基板を用い
て同じ実験を試みたところ、同じように厚さ約15μm
のり−BBOの薄膜単結晶が得られた。
(発明の効果) 本発明によれば、従来まで育成されていなかったβ−B
BO薄膜単結晶が大面積かつ歩留まり良く育成すること
ができ、薄膜を利用した非線形光学デバイスの開発に大
きく貢献する。なお実施例では数十μm以下の薄膜につ
いて説明したが、必要に応じてより厚い膜を育成するこ
とも可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図はフラックス育成の原理を説明するためのBaB
2O4−Na2O2元系平衡状態図である。第2図は本
発明を実施するための育成炉の構成を示す図。 図中1はサファイアロッド、2はアルミナ耐火物、3は
基板、4は保持具、5はカンタル線、6は白金るつぼで
ある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ベータバリウムボレイト(β−BaB_2O_4)単結
    晶薄膜の育成方法において、アルファバリウムボレイト
    (α−BaB_2O_4)単結晶を基板として、その上
    にベータバリウムボレイトをエピタキシャル成長させる
    ことを特徴とする単結晶薄膜の育成方法。
JP10046389A 1989-04-19 1989-04-19 単結晶薄膜の育成方法 Expired - Fee Related JPH0788270B2 (ja)

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JPH02279596A true JPH02279596A (ja) 1990-11-15
JPH0788270B2 JPH0788270B2 (ja) 1995-09-27

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03109297A (ja) * 1989-09-22 1991-05-09 Sumitomo Metal Mining Co Ltd ベータ型メタホウ酸バリウム単結晶の製造方法
US5454345A (en) * 1992-06-18 1995-10-03 Nec Corporation Method of growing single crystal of β-barium borate

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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US5454345A (en) * 1992-06-18 1995-10-03 Nec Corporation Method of growing single crystal of β-barium borate

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