JPH0788270B2 - 単結晶薄膜の育成方法 - Google Patents

単結晶薄膜の育成方法

Info

Publication number
JPH0788270B2
JPH0788270B2 JP10046389A JP10046389A JPH0788270B2 JP H0788270 B2 JPH0788270 B2 JP H0788270B2 JP 10046389 A JP10046389 A JP 10046389A JP 10046389 A JP10046389 A JP 10046389A JP H0788270 B2 JPH0788270 B2 JP H0788270B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
bbo
thin film
single crystal
crystal
growing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP10046389A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02279596A (ja
Inventor
光 古宇田
泰彦 桑野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP10046389A priority Critical patent/JPH0788270B2/ja
Publication of JPH02279596A publication Critical patent/JPH02279596A/ja
Publication of JPH0788270B2 publication Critical patent/JPH0788270B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) この発明は、非線形光学結晶ベータバリウムボレイト
(以下、β−BBOと略記する)単結晶薄膜の育成方法に
関する。
(従来の技術) β−BBOのバルク単結晶は、Na2O、Na2CO3、BaCl2などを
用いたフラックス法により育成されている。つまりこれ
らのフラックスにBBOの原料を融解し、融点を下げてβ
−BBOを晶出させるという方法を用いている。
フラックスを用いた自然核生成法では最大数ミリ角程度
の単結晶しか得られないので、β−BBOの種結晶を用い
て大型の結晶を育成した例が報告されている(例えば、
ジャーナル・オブ・クリスタル・グロウス 1986年 79
巻 963−969ページ)。この方法はフラックスに原料を
溶かした溶液に板状の種結晶を接触させて回転し、その
まわりに結晶を晶出させていく方法(TSSG法)である
が、育成時間が非常に長く大型の結晶を育成するのに2
週間以上も必要としているので、歩留りがとても悪い。
(発明が解決しようとする課題) β−BBOは非線形光学素子として最近注目されいる結晶
であるが、現在まではバルクの結晶としてしか利用され
ていなかった。しかし、半導体レーザ光の第二高調波を
得る等の非線形光学デバイスを作製するためにβ−BBO
の薄膜化が必要な場合がある。従来のβ−BBOの種結晶
として用いるTSSG法では、まだ薄膜のβ−BBOの育成は
試みられていない。
仮にβ−BBOを基板として薄膜を育成しようとしても、
現在では大きな基板が簡単に得られないので、大面積の
エピタキシャルウエハーを得ることが出来ない。
(課題を解決するための手段) 大型のα−BBOのウエハーを基板に用い、その上にβ−B
BOをエピタキシャル成長させることで大面積のβ−BBO
単結晶薄膜を育成することができる。
(作用) β−BBOは低温相の結晶であるため、融液から直接大型
の単結晶を得ることは出来ず、フラックスを用いて融点
を下げて育成されている。しかし高温相であるα−BBO
は融液から直接育成できるため、引き上げ法等により大
型で高品質な結晶を得ることが出来る。α−BBOの格子
定数はa=7.235Å、c=39.192Å、β−BBOはa=12.5
19Å、c=12.723Åであるが、この差は単位格子のとり
方から来ている。実際の結晶構造はα−BBOはバリウム
のサイトが2種類あるのに対しβ−BBOは1種類である
というだけであって、αとβではほとんど変わらない。
そのためα−BBOの上にβ−BBOをエピタキシャル成長さ
せることが可能である。薄膜を育成させる方法はLPE
法、スパッタ法、MOCVE法、MBE法等、現在薄膜結晶を得
るために用いられている方法が可能である。
(実施例) 酸化バリウムと酸化ホウ素を1:1のモル比で混合した粉
末をα−BBO育成原料に用い、融解して白金るつぼに充
填した。通常の高周波引き上げ炉でc軸方向に成長する
ようなα−BBOの種結晶を用い、直径30mm、長さ60mmの
α−BBOの単結晶を育成した。この結晶をc軸に垂直に
切断し、両面をアルミナ、ダイヤモンドペーストの研磨
粉を用いて鏡面研磨して厚さ2mm、直径30mmのα−BBOウ
エハーを得た。次にα−BBO育成原料と炭酸ナトリウム
を1:1のモル比で混合融解して白金るつぼに充填し、120
0℃3hr加熱してNa2O・BaB2O4とし、これをフラックス原
料とした。このフラックスとBaB2O4の平衡状態図を第1
図に示した。図中のA〜Bの組成でBaB2O4とフラックス
を混合し、融解した溶液からβ−BBOは初晶として育成
されることがわかる。しかし実際にはBaB2O4とNa2O・Ba
B2O4を混合した溶液から結晶が晶出してくる温度は、過
冷却のために状態図に示す温度以下になる。このことを
考慮にいれ、初晶がβ−BBOになる最適な組成はBaB2O4:
Na2O・BaB2O4が68.4:31.6のモル比であることが報告さ
れている。(例えば、ジャーナル・オブ・クリスタル・
グロウス 1986年 79巻 963−969ページ)このモル比
で混合した試料を、第2図のようなアルミナ耐火物2に
カンタル線5を巻いた抵抗加熱炉により直径50mmの白金
るつぼ6に融解、充填した。溶液を約950℃に温度を保
ち、サファイアロッド1に取り付けられた保持具4に取
り付けたα−BBOの基板3を20rpmで回転させながら溶液
の表面に接触させた。次に溶液の温度を950℃から850℃
まで1℃/minで下げて基板上にβ−BBOを晶出させた。
その後、基板の回転数を50rpmにして溶液表面から基板
を離した。常温まで除冷した後、基板を取り出して膜厚
を測定した結果、厚さ約20μmのβ−BBO薄膜が得られ
ていることがわかった。またa軸に垂直にカットして研
磨したα−BBOの基板を用いて同じ実験を試みたとこ
ろ、同じように厚さ約15μmのβ−BBOの薄膜単結晶が
得られた。
(発明の効果) 本発明によれば、従来まで育成されていなかったβ−BB
O薄膜単結晶が大面積かつ歩留まり良く育成することが
でき、薄膜を利用した非線形光学デバイスの開発に大き
く貢献する。なお実施例では数十μm以下の薄膜につい
て説明したが、必要に応じてより厚い膜を育成すること
も可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図はフラックス育成の原理を説明するためのBaB2O4
−Na2O2元系平衡状態図である。第2図は本発明を実施
するための育成炉の構成を示す図。 図中1はサファイアロッド、2はアルミナ耐火物、3は
基板、4は保持具、5はカンタル線、6は白金るつぼで
ある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ベータバリウムボレイト(β−BaB2O4)単
    結晶薄膜の育成方法において、アルファバリウムボレイ
    ト(α−BaB2O4)単結晶を基板として、その上にベータ
    バリウムボレイトをエピタキシャル成長させることを特
    徴とする単結晶薄膜の育成方法。
JP10046389A 1989-04-19 1989-04-19 単結晶薄膜の育成方法 Expired - Fee Related JPH0788270B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10046389A JPH0788270B2 (ja) 1989-04-19 1989-04-19 単結晶薄膜の育成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10046389A JPH0788270B2 (ja) 1989-04-19 1989-04-19 単結晶薄膜の育成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02279596A JPH02279596A (ja) 1990-11-15
JPH0788270B2 true JPH0788270B2 (ja) 1995-09-27

Family

ID=14274603

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10046389A Expired - Fee Related JPH0788270B2 (ja) 1989-04-19 1989-04-19 単結晶薄膜の育成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0788270B2 (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2807282B2 (ja) * 1989-09-22 1998-10-08 住友金属鉱山株式会社 ベータ型メタホウ酸バリウム単結晶の製造方法
JPH07108837B2 (ja) * 1992-06-18 1995-11-22 日本電気株式会社 ベータバリウムボレイト単結晶の育成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPH02279596A (ja) 1990-11-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101451995B1 (ko) 액상 성장법에 의한 ZnO 단결정의 제조방법
Cockayne et al. Single-crystal growth of sapphire
WO2008114845A1 (ja) Mg含有ZnO系混晶単結晶、その積層体およびそれらの製造方法
US4092208A (en) Method of growing single crystals of rare earth metal iron garnet materials
Linares Growth of Single‐Crystal Garnets by a Modified Pulling Technique
JP2001226196A (ja) テルビウム・アルミニウム・ガーネット単結晶およびその製造方法
CN115504480B (zh) 化合物硼酸锌钡和硼酸锌钡双折射晶体及其制备方法和用途
JPH0788270B2 (ja) 単結晶薄膜の育成方法
Chevy et al. Growth of crystalline slabs of layered InSe by the Czochralski method
US3697320A (en) Method and flux for growing single crystals of garnet or ortho ferrites
Shick et al. Liquid‐phase homoepitaxial growth of rare‐earth orthoferrites
US4534822A (en) Method of synthesizing thin, single crystal layers of silver thiogallate (AgGaS2)
JPH0987085A (ja) 光学単結晶品および光学素子
US4046954A (en) Monocrystalline silicates
US4235663A (en) Method of producing a dielectric of two-layer construction
EP0187843B1 (en) Growth of single crystal cadmium-indium-telluride
CN100401602C (zh) 一种用于生长氧化锌蓝紫光半导体的液相外延法
JP2004203721A (ja) 単結晶成長装置および成長方法
JPH10152393A (ja) バルク結晶の成長方法及びバルク結晶成長用種結晶
JPS63301525A (ja) Bsoウエハの製造方法
JP2647940B2 (ja) 単結晶育成方法
JP2825060B2 (ja) ベータ・バリウムボレイト単結晶加工表面の改質方法
JPH05270995A (ja) カドミウム−テルル系単結晶の製造方法
JP2000178095A (ja) 結晶成長方法
JP2922039B2 (ja) 単結晶の成長方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees