JPH02276042A - 光滋気ディスク - Google Patents
光滋気ディスクInfo
- Publication number
- JPH02276042A JPH02276042A JP9630689A JP9630689A JPH02276042A JP H02276042 A JPH02276042 A JP H02276042A JP 9630689 A JP9630689 A JP 9630689A JP 9630689 A JP9630689 A JP 9630689A JP H02276042 A JPH02276042 A JP H02276042A
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- Japan
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- film
- magneto
- layer
- recording medium
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- Prior art date
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- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光磁気ディスク、特に書き込みレーザーパワ
ーを抑えたまま高い記録再生特性を有する光磁気ディス
クに関するものである。
ーを抑えたまま高い記録再生特性を有する光磁気ディス
クに関するものである。
光磁気記録媒体層にレーザービームを照射して情報の記
録、再生及び消去を行う光磁気ディスクは、書換え可能
な情報を高密度に記録することがる。
録、再生及び消去を行う光磁気ディスクは、書換え可能
な情報を高密度に記録することがる。
この種の光磁気ディスクの構造として、従来、ガラスや
ポリカーボネート、アクリル、エポキシ、ポリメチルペ
ンテンなどの透明高分子材で形成される透明基板上に、
第１層として、後記光磁気記録媒体を保護する誘電体膜
、第２層として膜厚を４００Å以下とした光磁気記録媒
体膜、第３層として前記光磁気記録媒体を保護すると共
にこの膜を透過した情報の読み出し光をこの膜と後記金
属膜との間で多重反射（干渉）させ読み出し用反射光の
見かけのファラデー回転角を増加させ再生ＣＺＮ比を向
上させる（エンハンスメント効果）誘電体膜、および第
４層として金属膜が形成されてなるものく特開昭６０−
１２９９５１号、同６０−２０９９４７号）が知られて
いる。
ポリカーボネート、アクリル、エポキシ、ポリメチルペ
ンテンなどの透明高分子材で形成される透明基板上に、
第１層として、後記光磁気記録媒体を保護する誘電体膜
、第２層として膜厚を４００Å以下とした光磁気記録媒
体膜、第３層として前記光磁気記録媒体を保護すると共
にこの膜を透過した情報の読み出し光をこの膜と後記金
属膜との間で多重反射（干渉）させ読み出し用反射光の
見かけのファラデー回転角を増加させ再生ＣＺＮ比を向
上させる（エンハンスメント効果）誘電体膜、および第
４層として金属膜が形成されてなるものく特開昭６０−
１２９９５１号、同６０−２０９９４７号）が知られて
いる。
しかしながら、この構造の光磁気ティスフでは、高いレ
ーザー出力を得るため、高い書込みレーザーパワーが必
要であった。
ーザー出力を得るため、高い書込みレーザーパワーが必
要であった。
本発明の目的は、この問題点を解消し、レーザービーム
の照射位置に充分な大きさの記録ヒントを形成すること
ができる光磁気ディスクを提供することにある。
の照射位置に充分な大きさの記録ヒントを形成すること
ができる光磁気ディスクを提供することにある。
本発明は、上記目的を達成するものとして、透明基板上
に、第１層として誘電体膜、第２層として膜厚４００Å
以下の光磁気記録媒体膜、第３層として膜厚が第２周期
のエンハンス条件を満足する誘電体膜および第４層とし
て金属膜が形成されてなる光磁気ディスクである。
に、第１層として誘電体膜、第２層として膜厚４００Å
以下の光磁気記録媒体膜、第３層として膜厚が第２周期
のエンハンス条件を満足する誘電体膜および第４層とし
て金属膜が形成されてなる光磁気ディスクである。
光磁気記録媒体の膜厚が１５０Å以上であると、長期耐
候性を充分満足する光磁気ディスクが得られて好ましい
。
候性を充分満足する光磁気ディスクが得られて好ましい
。
本発明において、光磁気記録媒体と金属膜に挟まれた透
明誘電体の膜厚は、第２周期のエンハンス条件を満足す
る必要がある。第２周期エンハンス条件を満足するとい
うのは、透明基板と第１層から第４層の屈折率および膜
厚が第１表のようであり、更に第１層から第３層の屈折
率および膜厚をまとめて第２表のようにしたとき、 第 １ 表 第 表 誘電体膜厚６３曲線から読まれる、膜厚の小さい方から
の第１極小値を与える膜厚と第２極小値を与える膜厚の
範囲内に第３層誘電体膜の膜厚が存在することを意味す
る。
明誘電体の膜厚は、第２周期のエンハンス条件を満足す
る必要がある。第２周期エンハンス条件を満足するとい
うのは、透明基板と第１層から第４層の屈折率および膜
厚が第１表のようであり、更に第１層から第３層の屈折
率および膜厚をまとめて第２表のようにしたとき、 第 １ 表 第 表 誘電体膜厚６３曲線から読まれる、膜厚の小さい方から
の第１極小値を与える膜厚と第２極小値を与える膜厚の
範囲内に第３層誘電体膜の膜厚が存在することを意味す
る。
Ｒθｗ ＝ −ｊａｎ−’（ｊａｎ２ ψ ｃｏｓ
Δ）×（ｌ Ｒ，１２＋ ｌ Ｒｙ１２）
ＣＩ）下記式（Ｉ） により計算して得た性能指数Ｒθ３ 透明誘電体の膜厚が第１周期エンハンス条件では書き込
み時に、光磁気記録媒体で吸収された熱は透明誘電体を
通して金属膜に伝わり光磁気記録媒体の温度上昇を妨げ
書き込みレーザーパワーの上昇を引き起こす。そして第
３周期以上の膜厚では第３層誘導体の膜厚分布をかなり
抑える必要があり、量産時の歩留まりを考えると望まし
くない。
Δ）×（ｌ Ｒ，１２＋ ｌ Ｒｙ１２）
ＣＩ）下記式（Ｉ） により計算して得た性能指数Ｒθ３ 透明誘電体の膜厚が第１周期エンハンス条件では書き込
み時に、光磁気記録媒体で吸収された熱は透明誘電体を
通して金属膜に伝わり光磁気記録媒体の温度上昇を妨げ
書き込みレーザーパワーの上昇を引き起こす。そして第
３周期以上の膜厚では第３層誘導体の膜厚分布をかなり
抑える必要があり、量産時の歩留まりを考えると望まし
くない。
また、光磁気記録媒体膜の膜厚は、４００Å以下である
必要がある。４００人を超えると媒体透過光が減少しフ
ァラデー効果の有効利用ができず特性の低下をもたらす
。
必要がある。４００人を超えると媒体透過光が減少しフ
ァラデー効果の有効利用ができず特性の低下をもたらす
。
１５０Å以上の場合、酸素、窒素等に対する長期耐候性
を十分満足して好ましい。
を十分満足して好ましい。
実施例
厚さ１．２ｆｌのポリカーボネートの溝付き透明基板上
に第１層誘電体として屈折率１．８の窒化珪素を９００
人、高周波スパッタリング法により形成し、その上に直
流スパッタ法で３００人のＴｂｏｚＦｅｏ、 ７ＣＯＯ
，Ｉなる組成の光磁気記録媒体を製膜、そして第３層と
して窒化珪素を第１Ｎと同様の製膜方法で１６００人付
け、更に反射層としてＡβを８００人製膜した。
に第１層誘電体として屈折率１．８の窒化珪素を９００
人、高周波スパッタリング法により形成し、その上に直
流スパッタ法で３００人のＴｂｏｚＦｅｏ、 ７ＣＯＯ
，Ｉなる組成の光磁気記録媒体を製膜、そして第３層と
して窒化珪素を第１Ｎと同様の製膜方法で１６００人付
け、更に反射層としてＡβを８００人製膜した。
このようにして作製した光磁気ディスクの前記Ｒθ、−
ｄ３曲線を計算してプロットしたのが第１図である。本
実施例の場合、第３層の第２周期のエンハンス条件を満
足する膜厚は９５〜１９５ｎｍとなる。この光磁気ディ
スクに対して線速度 ５゜６５ ｍ ／ ｓ 、記録周
波数３．７ＭＨｚ（デユーティ比３３％）、外部磁界２
０００ｅで書き込みパワーを変えてＣＮＲを測定したも
のを第２図に示す。
ｄ３曲線を計算してプロットしたのが第１図である。本
実施例の場合、第３層の第２周期のエンハンス条件を満
足する膜厚は９５〜１９５ｎｍとなる。この光磁気ディ
スクに対して線速度 ５゜６５ ｍ ／ ｓ 、記録周
波数３．７ＭＨｚ（デユーティ比３３％）、外部磁界２
０００ｅで書き込みパワーを変えてＣＮＲを測定したも
のを第２図に示す。
また、第３図に温度６０℃、相対湿度８０％の雰囲気に
暴露した後のＣＮＲ（読み出しパワー１．５ｍＷ）の経
時変化を示す。
暴露した後のＣＮＲ（読み出しパワー１．５ｍＷ）の経
時変化を示す。
比較例
第３層として窒化珪素を２５０人付けた以外は、実施例
と同様に試験した。
と同様に試験した。
実施例の光磁気ディスクは立ち上がりパワーが４ｍＷで
あるのに対し比較例では５．６ｍＷあり、１．６ｍＷ感
度が良くなっている。
あるのに対し比較例では５．６ｍＷあり、１．６ｍＷ感
度が良くなっている。
以上説明したように、本発明によると、高い記録再生特
性をもったまま書き込みパワーの低い光磁気ディスクを
提供できる。
性をもったまま書き込みパワーの低い光磁気ディスクを
提供できる。
第１図は実施例における第３層誘電体の膜厚と性能指数
をグラフ化したものであり、第２図および第３図はいず
れも実施例と比較例の動特性である。 特許出願人 住友金属鉱山株式会社 書き込みパワ （ｍＷ） 第 図 暴露時間 （Ｈｏｕｒｓ） 第 図
をグラフ化したものであり、第２図および第３図はいず
れも実施例と比較例の動特性である。 特許出願人 住友金属鉱山株式会社 書き込みパワ （ｍＷ） 第 図 暴露時間 （Ｈｏｕｒｓ） 第 図
Claims (2)
- （１）透明基板上に、第１層として誘電体膜、第２層と
して膜厚４００Å以下の光磁気記録媒体膜、第３層とし
て膜厚が第２周期のエンハンス条件を満足する誘電体膜
および第４層として金属膜が形成されてなる光磁気ディ
スク。 - （２）光磁気記録媒体膜の膜厚が１５０Å以上である請
求項（１）記載の光磁気ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9630689A JPH02276042A (ja) | 1989-04-18 | 1989-04-18 | 光滋気ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9630689A JPH02276042A (ja) | 1989-04-18 | 1989-04-18 | 光滋気ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02276042A true JPH02276042A (ja) | 1990-11-09 |
Family
ID=14161346
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9630689A Pending JPH02276042A (ja) | 1989-04-18 | 1989-04-18 | 光滋気ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02276042A (ja) |
-
1989
- 1989-04-18 JP JP9630689A patent/JPH02276042A/ja active Pending
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