JPH02270892A - ホスホナイト化合物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ボリラー基IIのための力11工安定剤とし
て適当な、新規な、till成物に関する。
て適当な、新規な、till成物に関する。
本発明によれば、成分:
a)40〜99.9重■%の式I
の1種または2種以上のボスポナ・(l・(以後、成分
Iと定義する)および b)0.1〜60重量%の式■: のボスファイl−(以後、成分IIと定義する)式中、 mは0または1であり、 nは0または1であり、 であり、ここで R5は水素、C+ C8アルキルまたはCOOR6で
あり、ここで R6はC+ Ceアルキルであり、各R−0−は、
独立に、1〜3つのOH基を含有する脂肪族、脂環族ま
たは芳香族のアルコールから誘導された基であり、ただ
し2つの一〇H基はP含有環を形成するように位置する
ことができない(以後、R−0−の−価の意味として定
義する)か、あるいは 両者のR−0−は、−緒になって、少なくとも2つのO
H基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコー
ルから誘導された基を形成し、前記OH基の2つはそれ
らが単一のリン原子と環状基を形成できるように位置し
く以後、Rの二価の意味として定義する)、そして R3−0−はR−0−の−価の意味を有し、そして 各R1−〇−は、独立に、1つまたは2つのOH基を含
有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコールから誘
導された基であり、ただし2つの−OH基はP含有環を
形成するように位置することができない(以後、R1−
0−の−価の意味として定義する)か、あるいは 両者のRI−0−は、−緒になって、少なくとも2つの
OH基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコ
ールから誘導された基を形成し、前記OH基はそれらが
単一のリン原子と環状基を形成できるように位置しく以
後、R3の二価の意味として定義する)、 からなり、ただし 1)弐Iの化合物はテトラキス(2,4−ジーL−プチ
ルホスポナイト)−ビフェニレンジボスボナイトではな
く、そして好ましくは 2)少なくとも1つのRおよび少なくとも1つのR3は
2−位置に少なくとも1つの立体障害された基を含有す
るフェノールから誘導された基である、 ポリマーのための加工安定剤として適当な組成物(以後
、安定化組成物として定義する)が提供される。
Iと定義する)および b)0.1〜60重量%の式■: のボスファイl−(以後、成分IIと定義する)式中、 mは0または1であり、 nは0または1であり、 であり、ここで R5は水素、C+ C8アルキルまたはCOOR6で
あり、ここで R6はC+ Ceアルキルであり、各R−0−は、
独立に、1〜3つのOH基を含有する脂肪族、脂環族ま
たは芳香族のアルコールから誘導された基であり、ただ
し2つの一〇H基はP含有環を形成するように位置する
ことができない(以後、R−0−の−価の意味として定
義する)か、あるいは 両者のR−0−は、−緒になって、少なくとも2つのO
H基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコー
ルから誘導された基を形成し、前記OH基の2つはそれ
らが単一のリン原子と環状基を形成できるように位置し
く以後、Rの二価の意味として定義する)、そして R3−0−はR−0−の−価の意味を有し、そして 各R1−〇−は、独立に、1つまたは2つのOH基を含
有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコールから誘
導された基であり、ただし2つの−OH基はP含有環を
形成するように位置することができない(以後、R1−
0−の−価の意味として定義する)か、あるいは 両者のRI−0−は、−緒になって、少なくとも2つの
OH基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコ
ールから誘導された基を形成し、前記OH基はそれらが
単一のリン原子と環状基を形成できるように位置しく以
後、R3の二価の意味として定義する)、 からなり、ただし 1)弐Iの化合物はテトラキス(2,4−ジーL−プチ
ルホスポナイト)−ビフェニレンジボスボナイトではな
く、そして好ましくは 2)少なくとも1つのRおよび少なくとも1つのR3は
2−位置に少なくとも1つの立体障害された基を含有す
るフェノールから誘導された基である、 ポリマーのための加工安定剤として適当な組成物(以後
、安定化組成物として定義する)が提供される。
好ましくは、R−0−および/またはR1−0−が二価
の意味であるとき、これらから誘導されるアルコールは
2つまたは3つのOH、lを含有する。
の意味であるとき、これらから誘導されるアルコールは
2つまたは3つのOH、lを含有する。
好ましくは、RはR′であり、ここでR′はアルキル、
アラルキル、アリールまたはアルカリールである(以後
、R′の一価の意味と呼ぶ)か、あるいはR′は式α を有し、ここでフェニル基AおよびBはさらに置換され
ることができ、そしてY′は一〇−1−8−または−C
H(R5)−であり、ここでR5は水素、C,−C,l
アルキルまたはC00I1.であり、ここでR6はC+
Caアルキルであり(以後、R′の二価の意味と定
義する)そしてnは0または1である。
アラルキル、アリールまたはアルカリールである(以後
、R′の一価の意味と呼ぶ)か、あるいはR′は式α を有し、ここでフェニル基AおよびBはさらに置換され
ることができ、そしてY′は一〇−1−8−または−C
H(R5)−であり、ここでR5は水素、C,−C,l
アルキルまたはC00I1.であり、ここでR6はC+
Caアルキルであり(以後、R′の二価の意味と定
義する)そしてnは0または1である。
より好ましくは、RはR″であり、ここでR″はC1−
C2□アルキル;置換されていないが、あるいはC,−
C2□アルキル、C+ Cz□アルコキシおよび−C
1b C6H5から選択される1〜3つの基により置
換されているフェニル;−C611S、2゜2.6.6
−チトラメチルビベリジニルー4−1−〇 (CI+3
) z C61Is、−COOI(、−OHl (
C+ −C日アルキJし)フェニル、−co2−c、−
c2□アルキル、 CH2CH2C0OR+5、−CN
または−C1h−5−CICz□アルキルから選択され
るが、あるいはR″は式1〜■11 L−ブチル ((li) CH3 のいずれか1つをもつ基であるか、あるいは両者のRr
rは式ガi 式中、R15は水素またはCl−C2□アル−1;ルで
ある、 の基であり、 Y′は水素、−〇−1−3−または−CH(Rs)−で
あり、 nはOまたは1であり、 RI6は水素、CICeアルキルまたは−COC。
C2□アルキル;置換されていないが、あるいはC,−
C2□アルキル、C+ Cz□アルコキシおよび−C
1b C6H5から選択される1〜3つの基により置
換されているフェニル;−C611S、2゜2.6.6
−チトラメチルビベリジニルー4−1−〇 (CI+3
) z C61Is、−COOI(、−OHl (
C+ −C日アルキJし)フェニル、−co2−c、−
c2□アルキル、 CH2CH2C0OR+5、−CN
または−C1h−5−CICz□アルキルから選択され
るが、あるいはR″は式1〜■11 L−ブチル ((li) CH3 のいずれか1つをもつ基であるか、あるいは両者のRr
rは式ガi 式中、R15は水素またはCl−C2□アル−1;ルで
ある、 の基であり、 Y′は水素、−〇−1−3−または−CH(Rs)−で
あり、 nはOまたは1であり、 RI6は水素、CICeアルキルまたは−COC。
Caアルキルであり、
RI7は水素またはC1C2゜アルキルであり、そして
R111は水素、CIC22アルキル、C,−C,□ア
ルコキシ、 CH2C6H5、−C(CI+3) t
CbHs、C6H5、OH、CH2CH2C0OR+
s、=(C,−C。
ルコキシ、 CH2C6H5、−C(CI+3) t
CbHs、C6H5、OH、CH2CH2C0OR+
s、=(C,−C。
アルキル)フェニル、 CO2CI CZZアルキル
、CN 、 CH2CH2C0OR+5、 CHz
S CI C2□アルキルまたは2,2,6.6
−チトラメチルビペリジニルー4−であり、そして R24は水素、c、−c2□アルキル、OHまたはC,
−C2□アルコキシである。
、CN 、 CH2CH2C0OR+5、 CHz
S CI C2□アルキルまたは2,2,6.6
−チトラメチルビペリジニルー4−であり、そして R24は水素、c、−c2□アルキル、OHまたはC,
−C2□アルコキシである。
最も好ましくは、RはR″′であり、ここでR″′は、
式a)〜g) 式中、 R1゜ハ水素、C,−CIlフルキル、C+ Csア
ルコキシ、フェニル、フェニルC+ C−アルキルま
たは(C8−CBアルキル)フェニルであり、 R++およびRI2は、独立に、水素、C1−02□ア
ルキル、(CI CBアルキル)、(CI C
Bアルキル)およびフェニルから選択され、R111は
水素およびCI C8アルキルから選択され、そし
て R14は−CNまたは−C02R13である、のいずれ
か1つの基をもつ基から選択される。
式a)〜g) 式中、 R1゜ハ水素、C,−CIlフルキル、C+ Csア
ルコキシ、フェニル、フェニルC+ C−アルキルま
たは(C8−CBアルキル)フェニルであり、 R++およびRI2は、独立に、水素、C1−02□ア
ルキル、(CI CBアルキル)、(CI C
Bアルキル)およびフェニルから選択され、R111は
水素およびCI C8アルキルから選択され、そし
て R14は−CNまたは−C02R13である、のいずれ
か1つの基をもつ基から選択される。
(a)の好ましい基は、次ののちのから選択される:2
−t−ブチルフェニル;2−フェニルフェニル; 2−
(1’ 、1’−ジメチルプロピル);2−シクロ
へキシルフェニル;2−L−ブチル−4−メチルフェニ
ル;2,4−ジ−t−ブチルフェニル;2.4−ジフェ
ニルフェニルi2,1−L−オクチルフェニル;2−も
−ブチル−4−フェニル−フェニル;2.4−ビス(1
’、1’−ジメチルプロピル)フェニル;2−(1−フ
ェニル−1−メチルエチル)フェニル;2,4−ビス(
1−フェニル−1−メチルエチル)フェニル;および2
,4−ジ−t−ブチルフェニル。
−t−ブチルフェニル;2−フェニルフェニル; 2−
(1’ 、1’−ジメチルプロピル);2−シクロ
へキシルフェニル;2−L−ブチル−4−メチルフェニ
ル;2,4−ジ−t−ブチルフェニル;2.4−ジフェ
ニルフェニルi2,1−L−オクチルフェニル;2−も
−ブチル−4−フェニル−フェニル;2.4−ビス(1
’、1’−ジメチルプロピル)フェニル;2−(1−フ
ェニル−1−メチルエチル)フェニル;2,4−ビス(
1−フェニル−1−メチルエチル)フェニル;および2
,4−ジ−t−ブチルフェニル。
好ましくは、R8はR、rであり、ここでR3′はR′
の意味をR′に独立にを有する。より好ましくは、R3
ばR1″であり、ここでR1″はR”の意味をRrrに
独立にを有する。最も好ましくは、R,はR、rrrで
あり、ここでR、ruはR″′の意味をR″′に独立に
を有する。
の意味をR′に独立にを有する。より好ましくは、R3
ばR1″であり、ここでR1″はR”の意味をRrrに
独立にを有する。最も好ましくは、R,はR、rrrで
あり、ここでR、ruはR″′の意味をR″′に独立に
を有する。
R3は好ましくはR3′であり、ここでR、lはR′の
一価の意味をR、rに独立にを有する。より好ましくは
、R3はR3″であり、ここでR3″はRitの一価の
意味をR″に独立にを有する。最も好ましくは、R3は
R3rrrであり、ここでR,IllはR″′の一価の
意味をR″′に独立にを有する。
一価の意味をR、rに独立にを有する。より好ましくは
、R3はR3″であり、ここでR3″はRitの一価の
意味をR″に独立にを有する。最も好ましくは、R3は
R3rrrであり、ここでR,IllはR″′の一価の
意味をR″′に独立にを有する。
好ましくはmは1である。
好ましくは、本発明による組成物は、成分:a)上に定
義した式Iのジホスホナイト(以後、成分aと定義する
)、 b)上に定義した弐IIのホスファイト(以後、成分I
Iと定義する)、および C)上に定義した式Iのモノホスホナイト(以後、成分
Cと定義する)、 を含有する。
義した式Iのジホスホナイト(以後、成分aと定義する
)、 b)上に定義した弐IIのホスファイト(以後、成分I
Iと定義する)、および C)上に定義した式Iのモノホスホナイト(以後、成分
Cと定義する)、 を含有する。
本発明による安定化組成物は、さらにd)式IVまたは
弐V: R?(OH) (IV)R11(O
H) (V)式中、弐■においで、
R1はRの一価の意味であり、そして弐Vにおいて、R
8は二価の意味である、 のフェノール(以後、成分dと定義する)を含有するこ
とができる。
弐V: R?(OH) (IV)R11(O
H) (V)式中、弐■においで、
R1はRの一価の意味であり、そして弐Vにおいて、R
8は二価の意味である、 のフェノール(以後、成分dと定義する)を含有するこ
とができる。
疑問をなくすために、記号が1つの本発明による安定化
組成物の式中に1回より多くあるいは2つの異なる式中
に1回より多く現れるとき、その意味は、特記しない限
り、独立である。しかしながら、安定化組成物において
、式Iおよび式■および必要に応して弐■および弐Vに
1つの記号が現れるとき、その記号の意味は好ましくは
同一である。
組成物の式中に1回より多くあるいは2つの異なる式中
に1回より多く現れるとき、その意味は、特記しない限
り、独立である。しかしながら、安定化組成物において
、式Iおよび式■および必要に応して弐■および弐Vに
1つの記号が現れるとき、その記号の意味は好ましくは
同一である。
本発明による安定化組成物において、好ましくはR,は
Rと同一の意味を有する。
Rと同一の意味を有する。
好ましくは、本発明による安定化組成物中に存在する成
分Iの量は50〜95%(より好ましくは70〜90%
)である。好ましくは、本発明による安定化組成物中に
存在する成分IIの量は5〜50%(より好ましくは1
0〜30%)である。
分Iの量は50〜95%(より好ましくは70〜90%
)である。好ましくは、本発明による安定化組成物中に
存在する成分IIの量は5〜50%(より好ましくは1
0〜30%)である。
本発明による最も好ましい安定化組成物は、成分:
a ) 60〜80%の上に定義した成分子)、b)5
〜20%の上に定義した成分II)、c)10〜20%
上に定義した成分c)、およびe)0〜5%の上に定義
した成分d)、からなる。
〜20%の上に定義した成分II)、c)10〜20%
上に定義した成分c)、およびe)0〜5%の上に定義
した成分d)、からなる。
別の好ましい組成物は、成分:
a)16〜50%の成分I)、
b)20〜60%の成分II)、
c)3〜20%成分c)、および
e)0〜5%の成分d)、
からなる。すべては組成物の重量による。
式Iの化合物は、
a)2モルの式X
R2O0+1 (X)式中、R3゜
ばRの一価の意味を有する、の化合物、および必要に応
じて、2モルの式X111、、−011
(X I )式中、R31はR,の−価の意味を有
する、の化合物を、1モルの式XIV 式中、Y、mおよびnは上に定義した通りである、 の化合物と反応ざ一1゛るか、あるいはb)1モルの式
XI[ Rsz (011)2 (X l )式中
、R3□は」二に定義したR、の二価の意味を有する、 および必要に応して2モルの上に定義した式Xの化合物
を、1モルの」二に定義した式X 11の化合物、およ
び1モルの弐X III Rz:+ (−flll)z (X Il
l )式中、R3はRの二価の意味を有する、の化合物
と、高温(好ましくは40〜140°C)において反応
さセ・ることによって調製することができる。
ばRの一価の意味を有する、の化合物、および必要に応
じて、2モルの式X111、、−011
(X I )式中、R31はR,の−価の意味を有
する、の化合物を、1モルの式XIV 式中、Y、mおよびnは上に定義した通りである、 の化合物と反応ざ一1゛るか、あるいはb)1モルの式
XI[ Rsz (011)2 (X l )式中
、R3□は」二に定義したR、の二価の意味を有する、 および必要に応して2モルの上に定義した式Xの化合物
を、1モルの」二に定義した式X 11の化合物、およ
び1モルの弐X III Rz:+ (−flll)z (X Il
l )式中、R3はRの二価の意味を有する、の化合物
と、高温(好ましくは40〜140°C)において反応
さセ・ることによって調製することができる。
さらに、本発明によれば、式XV
式中、
nは0またば1であり、
dは1または2であり、
各R2゜は、独立に、水素、c、−c、アルキルまたは
−C(C)+3) 2 C6H5であり、そしてR2
□は、独立に、R21の意味をR21に独立にを有し、 ただし 1)少なくとも1つの基R21または少なくとも1つの
基R22は−C(CHa) 2 C6H5であり、そ
してii)少なくとも1つのR21は立体障害された基
ではない、 の化合物が提供される。
−C(C)+3) 2 C6H5であり、そしてR2
□は、独立に、R21の意味をR21に独立にを有し、 ただし 1)少なくとも1つの基R21または少なくとも1つの
基R22は−C(CHa) 2 C6H5であり、そ
してii)少なくとも1つのR21は立体障害された基
ではない、 の化合物が提供される。
この明細書における用語立体障害された基は、t−アル
キルまたはアルカリール基、好ましくはt Ca
Czzフルキル基(すなわち、C4C22基のα−炭素
原子はt−炭素原子である)を包含することを意味する
。
キルまたはアルカリール基、好ましくはt Ca
Czzフルキル基(すなわち、C4C22基のα−炭素
原子はt−炭素原子である)を包含することを意味する
。
さらに、本発明によれば、式X■
式中、dば1または2である、
の化合物が提供される。
さらに本発明によれば、成分:
a)50〜95%の上に定義した式XVまたはXVIの
化合物、および b)5〜50%の上に定義した式IIのホスファイト、 からなる安定化組成物が提供される。
化合物、および b)5〜50%の上に定義した式IIのホスファイト、 からなる安定化組成物が提供される。
さらに、本発明によれば、ポリマー材料および安定化量
の本発明による安定化組成物または式X■または式XV
Iを必要に応じて式IIのホスファイトと一緒に含んで
なるポリマー組成物が提供される。
の本発明による安定化組成物または式X■または式XV
Iを必要に応じて式IIのホスファイトと一緒に含んで
なるポリマー組成物が提供される。
このようなポリマー材料中に存在する本発明による安定
化組成物の成分Iおよび成分IIの量は、ポリマー材料
の重量に基づいて0.01〜2重量%、より好ましくは
0.05〜0.3重量%である。
化組成物の成分Iおよび成分IIの量は、ポリマー材料
の重量に基づいて0.01〜2重量%、より好ましくは
0.05〜0.3重量%である。
本発明による安定化組成物中のI)およびII)の組み
合わせは、それを適用するポリマー組成物の加工および
老化安定性に相乗効果を生成することが発見された。ポ
リマー組成物の性質、例えば、黄色化(黄色指数を使用
して測定する)およびメルトフローインデックス(MP
I)は、成分Iまたは成分IIのみが存在するものより
も有意に改良される。
合わせは、それを適用するポリマー組成物の加工および
老化安定性に相乗効果を生成することが発見された。ポ
リマー組成物の性質、例えば、黄色化(黄色指数を使用
して測定する)およびメルトフローインデックス(MP
I)は、成分Iまたは成分IIのみが存在するものより
も有意に改良される。
本発明による安定化組成物により安定化されるポリマー
材料は、次のホモポリマー、コポリマーおよびポリマー
のブレンドを包含する:酢酸セルロース;酢酸酪酸セル
ロース;酢酸プロピオン酸セルロース;クレゾール−ホ
ルムアルデヒド樹脂;カルボキシメチルセルロース;硝
酸セルロース;プロピオン酸セルロース;カゼインプラ
スチック;カゼイン−ホルムアルデヒド;セルロースト
リアセテート;エチルセルロース;エポキシ樹脂;メチ
ルセルロース;メラミン−ホルムアルデヒド樹脂;ポリ
アミド;ポリアミドイミド;ポリアクリロニトリル;ポ
リブテン−1;ポリブチルアクリレート;ポリ(ブチレ
ンテレフタレート);ポリカーボネート;ポリ (クロ
ロ1−リフルオロエチレン);ポリ (ジアリルフタレ
ート);ポリエチレン;塩化ポリエチレン;ポリ(エー
テルエーテルケトン);ポリエーテルイミド;ポリエチ
レンオキシド;ポリエーテルスルホン;ポリエチレンテ
レフタレート;ポリテトラフルオロエチレン;フェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂;ポリイミド;ポリイソブチ
レン;ポリイソシアネート;ポリメタクリルイミド;ポ
リメチルメタクリレート;ポリ(−4−メチルペンテン
−1);ポリ(α−メチルスチレン);ポリオキシメチ
レン:ポリアセタール;ポリプロピレン;ボリフェニレ
ンエーテル:ボリフェニレンサルファイド;フェニルフ
ェニレンスルホン;ポリスチレン;ポリスルホン;ポリ
ウレタン;ポリ酢酸ビニル;ポリビニルアルコール;ポ
リビニルブチラール;Jlu化ポリ塩化ビニル;ポリ塩
化ビニリデン;ポリフッ化ビニリデン;ポリフッ化ビニ
ル;ポリビニルホルムアルデヒド;ポリビニルカルバゾ
ール;ポリビニルピロリドン;シリコーンポリマー;飽
和ポリエステル;尿素−ホルムアルデヒド樹脂;不飽和
ポリエステル;ポリアクリレート;ポリメタクリレート
;ポリアクリルアミド;フレイネート樹脂;フェノール
系樹脂;アニリン樹脂;フラン樹脂;およびカタバミド
樹脂。
材料は、次のホモポリマー、コポリマーおよびポリマー
のブレンドを包含する:酢酸セルロース;酢酸酪酸セル
ロース;酢酸プロピオン酸セルロース;クレゾール−ホ
ルムアルデヒド樹脂;カルボキシメチルセルロース;硝
酸セルロース;プロピオン酸セルロース;カゼインプラ
スチック;カゼイン−ホルムアルデヒド;セルロースト
リアセテート;エチルセルロース;エポキシ樹脂;メチ
ルセルロース;メラミン−ホルムアルデヒド樹脂;ポリ
アミド;ポリアミドイミド;ポリアクリロニトリル;ポ
リブテン−1;ポリブチルアクリレート;ポリ(ブチレ
ンテレフタレート);ポリカーボネート;ポリ (クロ
ロ1−リフルオロエチレン);ポリ (ジアリルフタレ
ート);ポリエチレン;塩化ポリエチレン;ポリ(エー
テルエーテルケトン);ポリエーテルイミド;ポリエチ
レンオキシド;ポリエーテルスルホン;ポリエチレンテ
レフタレート;ポリテトラフルオロエチレン;フェノー
ル−ホルムアルデヒド樹脂;ポリイミド;ポリイソブチ
レン;ポリイソシアネート;ポリメタクリルイミド;ポ
リメチルメタクリレート;ポリ(−4−メチルペンテン
−1);ポリ(α−メチルスチレン);ポリオキシメチ
レン:ポリアセタール;ポリプロピレン;ボリフェニレ
ンエーテル:ボリフェニレンサルファイド;フェニルフ
ェニレンスルホン;ポリスチレン;ポリスルホン;ポリ
ウレタン;ポリ酢酸ビニル;ポリビニルアルコール;ポ
リビニルブチラール;Jlu化ポリ塩化ビニル;ポリ塩
化ビニリデン;ポリフッ化ビニリデン;ポリフッ化ビニ
ル;ポリビニルホルムアルデヒド;ポリビニルカルバゾ
ール;ポリビニルピロリドン;シリコーンポリマー;飽
和ポリエステル;尿素−ホルムアルデヒド樹脂;不飽和
ポリエステル;ポリアクリレート;ポリメタクリレート
;ポリアクリルアミド;フレイネート樹脂;フェノール
系樹脂;アニリン樹脂;フラン樹脂;およびカタバミド
樹脂。
適当なコポリマーの例は、次のとおりである:アクリロ
ニトリル/ブタジェン/アクリレート;アクリロニトリ
ル/ブタジェン/スチレン;アクリロニトリル/メチル
ヌククリレート;アクリロニトリル/スチレン/アクリ
ルエステル;アクリロニトリル/エチレン−プロピレン
ジエン/スチレン;アクリロニトリル/塩化ポリエチレ
ン/スチレン;エチレン/エチルアクリレート;エチル
メタクリル酸エステル;エチレン/プロピレン;エチレ
ン/プロピレン−ジエン;エチレン/酢酸ヒ゛ニル;エ
チレン/ヒ゛ニルアルコール/テトラフルオロエチレン
;テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロエチレン;
メチルアクリレート/ブタジェン/スチレン;メラミン
/フェノール−ホルムアルデヒド;ポリエステルブロッ
クアミド;パーフルオロ−アルコキシ−アルカン;スチ
レン/アクリロニトリル;スチレン/ブタジェン;スチ
レン/無水マレイン酸;スチレン/α−メチルスチレン
;塩化ビニル/エチレン;塩化ビニル/エチレン/メチ
ルアクリレート;塩化ビニル/エチレン/酢酸ビニル;
塩化ビニル/メチルメタクリレート;塩化ビニル/オク
チルアクリレート;塩化ビニル/酢酸ビニル;および酢
酸ビニル/塩化ビニリデン。
ニトリル/ブタジェン/アクリレート;アクリロニトリ
ル/ブタジェン/スチレン;アクリロニトリル/メチル
ヌククリレート;アクリロニトリル/スチレン/アクリ
ルエステル;アクリロニトリル/エチレン−プロピレン
ジエン/スチレン;アクリロニトリル/塩化ポリエチレ
ン/スチレン;エチレン/エチルアクリレート;エチル
メタクリル酸エステル;エチレン/プロピレン;エチレ
ン/プロピレン−ジエン;エチレン/酢酸ヒ゛ニル;エ
チレン/ヒ゛ニルアルコール/テトラフルオロエチレン
;テトラフルオロエチレン/ヘキサフルオロエチレン;
メチルアクリレート/ブタジェン/スチレン;メラミン
/フェノール−ホルムアルデヒド;ポリエステルブロッ
クアミド;パーフルオロ−アルコキシ−アルカン;スチ
レン/アクリロニトリル;スチレン/ブタジェン;スチ
レン/無水マレイン酸;スチレン/α−メチルスチレン
;塩化ビニル/エチレン;塩化ビニル/エチレン/メチ
ルアクリレート;塩化ビニル/エチレン/酢酸ビニル;
塩化ビニル/メチルメタクリレート;塩化ビニル/オク
チルアクリレート;塩化ビニル/酢酸ビニル;および酢
酸ビニル/塩化ビニリデン。
安定化すべき好ましいポリマー材料は、ポリオレフィン
、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン(例えば、高
密度ポリエチレン、低密度ボリエチレン、線状低密度ポ
リエチレンまたは中密度ポリエチレン)、ポリブチレン
、ポリ−4−メチルペンテンおよびそれらのコポリマー
である。
、例えば、ポリプロピレン、ポリエチレン(例えば、高
密度ポリエチレン、低密度ボリエチレン、線状低密度ポ
リエチレンまたは中密度ポリエチレン)、ポリブチレン
、ポリ−4−メチルペンテンおよびそれらのコポリマー
である。
本発明による安定化組成物またはポリマー組成物に添加
することができる他の添加剤は、次のものを包含する:
酸化防止剤、例えば、立体障害されたフェノール、第二
芳香族アミドまたはチオエーテル、例えば、次の文献に
記載されているもの;”Kunststoff−八dd
itive”、 GWchter/Muller、
3゜ハusgabe 1989. p、42 48、
その開示をここに引用によって加える;真空下に安定剤
、例えば、立体障害されたアミン(例えば、N−非置換
、N−アルキルまたはN−アシル置換2,2,6.6−
チトラメチルピペリジン化合物)〔また、立体障害され
たアミン光安定剤として知られている一IA1.rS)
および紫外線吸収剤(例えば、l−(2’−ヒドロキシ
フェニル)−ヘンシトリアゾロン、2−ヒドロキシヘン
シフエノン、1.3−ビス(2′−ヒドロキシベンゾイ
ル)ベンゼンサリシレート、シンナメートおよびシュウ
酸ジアミド)、紫外線クエンチャ−(quencher
)、例えば、ヘンシェードおよび置換ベンゾエート、静
電防止剤、防炎剤、軟化剤、核化剤、金属不活性化剤、
殺微生物剤、衝撃変性剤、充填剤、顔料および殺菌剤。
することができる他の添加剤は、次のものを包含する:
酸化防止剤、例えば、立体障害されたフェノール、第二
芳香族アミドまたはチオエーテル、例えば、次の文献に
記載されているもの;”Kunststoff−八dd
itive”、 GWchter/Muller、
3゜ハusgabe 1989. p、42 48、
その開示をここに引用によって加える;真空下に安定剤
、例えば、立体障害されたアミン(例えば、N−非置換
、N−アルキルまたはN−アシル置換2,2,6.6−
チトラメチルピペリジン化合物)〔また、立体障害され
たアミン光安定剤として知られている一IA1.rS)
および紫外線吸収剤(例えば、l−(2’−ヒドロキシ
フェニル)−ヘンシトリアゾロン、2−ヒドロキシヘン
シフエノン、1.3−ビス(2′−ヒドロキシベンゾイ
ル)ベンゼンサリシレート、シンナメートおよびシュウ
酸ジアミド)、紫外線クエンチャ−(quencher
)、例えば、ヘンシェードおよび置換ベンゾエート、静
電防止剤、防炎剤、軟化剤、核化剤、金属不活性化剤、
殺微生物剤、衝撃変性剤、充填剤、顔料および殺菌剤。
本発明による安定化組成物は、重合工程の前、間または
後にポリマー材料に添加することができ、そして固体ま
たは溶融した固体で、溶液で、好ましくは次の成分もの
として添加することができる=10〜80重景%の組重
量および90〜20重量%の溶媒を含有する液状濃厚物
または10〜80重量%(より好ましくは40〜70重
量%)の組成物および90〜20重量%(より好ましく
は60〜30重量%)の固体ポリマー材料(これは安定
化すべき材料と同一であるか、あるいはそれと相溶性で
ある)の固体のマスターハツチ。
後にポリマー材料に添加することができ、そして固体ま
たは溶融した固体で、溶液で、好ましくは次の成分もの
として添加することができる=10〜80重景%の組重
量および90〜20重量%の溶媒を含有する液状濃厚物
または10〜80重量%(より好ましくは40〜70重
量%)の組成物および90〜20重量%(より好ましく
は60〜30重量%)の固体ポリマー材料(これは安定
化すべき材料と同一であるか、あるいはそれと相溶性で
ある)の固体のマスターハツチ。
本発明による組成物は、既知の方法により、安定化すべ
きポリマー材料中に混入することができる。化合物と溶
融状態の熱可塑性ポリマーと、例えば、溶融ブレンダー
においであるいは造形物品、例えば、はく、チューブ、
繊維またはフオームの押出、射出成形、吹込成形、紡糸
または針金被覆の間にブレンドすることはとくに重要で
ある。本発明による組成物はポリエチレンのためにとく
に有用である。
きポリマー材料中に混入することができる。化合物と溶
融状態の熱可塑性ポリマーと、例えば、溶融ブレンダー
においであるいは造形物品、例えば、はく、チューブ、
繊維またはフオームの押出、射出成形、吹込成形、紡糸
または針金被覆の間にブレンドすることはとくに重要で
ある。本発明による組成物はポリエチレンのためにとく
に有用である。
さらに、この明細書において、範囲が与えられている場
合、範囲を規定する数値はその中に含まれる。直鎖状も
しくは分枝鎖状であることができる基は、特記しない限
り、直鎖状もしくは分枝鎮状である。
合、範囲を規定する数値はその中に含まれる。直鎖状も
しくは分枝鎖状であることができる基は、特記しない限
り、直鎖状もしくは分枝鎮状である。
疑いを避ける目的で、この明細書においてt−ブチルは
第三ブチル、 C(Cth)3を意味する。
第三ブチル、 C(Cth)3を意味する。
次の実施例によって、本発明をさらに説明する。
これらの実施例において、特記しない限り、すべての部
および百分率は重量により、そしてすべての温度は°C
である。
および百分率は重量により、そしてすべての温度は°C
である。
尖旌炎上
実施例1における反応は、乾燥窒素雰囲気中で空気を湿
気の不存在下に実施する。
気の不存在下に実施する。
16.9gのビフェニル、38.5gの三塩化アルミニ
ウムおよび58gの三塩化リンを、強く撹拌しなから6
時間72〜74°Cにおいて還流下に一緒に加熱する。
ウムおよび58gの三塩化リンを、強く撹拌しなから6
時間72〜74°Cにおいて還流下に一緒に加熱する。
5.6gのHCIガス(−理論値の73%)が発生する
。
。
最後に、減圧下に55〜60°Cにおいて過剰の三塩化
リンを、反応混合物の蒸気圧が760トルから60トル
に低下するまで、蒸留除去する。
リンを、反応混合物の蒸気圧が760トルから60トル
に低下するまで、蒸留除去する。
赤色の透明な反応混合物を、80°Cにおいて1時間か
けて、230gのトルエンおよび69gのピリジン中の
145gの2.4−ビス(1−フェニル−1−メチルエ
チル)フェノールの溶液に満々添加する。次いで、この
混合物を80°Cにおいて4時間撹拌する。156gの
そのように形成した錯塩を分離した後、さらに5gのピ
リジンおよび三塩化アルミニウムを低温濾過により一1
0°Cにおいて分離する。次いで、溶媒を蒸留により分
離する。残る残留物は155gの黄色透明生成物であり
、これは室温において固化してガラス様固体生成物とな
る。
けて、230gのトルエンおよび69gのピリジン中の
145gの2.4−ビス(1−フェニル−1−メチルエ
チル)フェノールの溶液に満々添加する。次いで、この
混合物を80°Cにおいて4時間撹拌する。156gの
そのように形成した錯塩を分離した後、さらに5gのピ
リジンおよび三塩化アルミニウムを低温濾過により一1
0°Cにおいて分離する。次いで、溶媒を蒸留により分
離する。残る残留物は155gの黄色透明生成物であり
、これは室温において固化してガラス様固体生成物とな
る。
この生成物は、装置の大きさ(1j2のフラスコ)およ
び同一樹脂速度(300rpm)に依存して、下の式1
a〜1dの化合物からなる: 0〜5モル%の式1dのフェノール; R−011(Ia) 5〜15モル%の弐lbのボスファイト;P(OIり:
I (I b )10〜25モル
%の式1cのモノボスホナイト;50〜75モル%の式
1dのジホスホナイト;ごこで各R基(式1a〜1dに
おいて)はである。
び同一樹脂速度(300rpm)に依存して、下の式1
a〜1dの化合物からなる: 0〜5モル%の式1dのフェノール; R−011(Ia) 5〜15モル%の弐lbのボスファイト;P(OIり:
I (I b )10〜25モル
%の式1cのモノボスホナイト;50〜75モル%の式
1dのジホスホナイト;ごこで各R基(式1a〜1dに
おいて)はである。
この生成物は83〜88°Cの融点および93°Cのド
リップ点(dripping point)を有する。
リップ点(dripping point)を有する。
個々の化合物は、必要に応じて、既知の方法により分離
することができる(例えば、不活性溶媒、例えば、ジオ
キサンまたはヘキサン中の再結晶化により)。
することができる(例えば、不活性溶媒、例えば、ジオ
キサンまたはヘキサン中の再結晶化により)。
実施炎にη
実施例1の式1a、1b、1cおよび1dのものに類似
する生成物(ここでRは下表1において定義する)を、
実施例1の方法に類似する方法により適当な反応成分の
反応により調製することができる。
する生成物(ここでRは下表1において定義する)を、
実施例1の方法に類似する方法により適当な反応成分の
反応により調製することができる。
濠−一−1
実施例番号 R
22−も−オクチル−4−メチルフェニル3 2.4
−ジt−ブチル−6−メヂルフエニ4 2−t−ブチ
ルフェニル 5 2−フェニル−フェニル 6 2−(1,1−ジメチルプロピル)フエニ7
2−シクロへキシルフェニル 8 2−L−ブチル−4−フェニル−フェニル9
2−t−ブチル−4−メチル−フェニル10 2.
4−ジメチル−6−t−プチルフェニ11、 2.
4−ジ−t−ブチル−6−ニチルフエ12 2.4
−ジフェニルフェニル13 2.4−ジ−t−オク
チルフェニル14 1−(1−フェニル−1−メチ
ルエチル)ニル 1.5 2.4−ビス(1,1−ジメチルプロピル
エニル 兼−m−上(続き) 実施例番号 R (−ブチル 栽−−−1(続き) 実施例番号 R 次の化合物、: 0〜5%の式23aのフェノール: R+ (Oll) Z (23a
)5〜20%の式23bのポスファイト;10〜20%
の式23cのモノホスホナイト;50〜70%の式23
dのジボスボナイ1−;ここでRは下表2において定義
するとおりである、の生成物は、実施例1により方法に
従い、適当な反応成分から調製し、次いで必要に応じて
、生ずる生成物の各々を既知の方法(例えば、再結晶化
)により分別することができる。すべての百分率はモル
%である。
−ジt−ブチル−6−メヂルフエニ4 2−t−ブチ
ルフェニル 5 2−フェニル−フェニル 6 2−(1,1−ジメチルプロピル)フエニ7
2−シクロへキシルフェニル 8 2−L−ブチル−4−フェニル−フェニル9
2−t−ブチル−4−メチル−フェニル10 2.
4−ジメチル−6−t−プチルフェニ11、 2.
4−ジ−t−ブチル−6−ニチルフエ12 2.4
−ジフェニルフェニル13 2.4−ジ−t−オク
チルフェニル14 1−(1−フェニル−1−メチ
ルエチル)ニル 1.5 2.4−ビス(1,1−ジメチルプロピル
エニル 兼−m−上(続き) 実施例番号 R (−ブチル 栽−−−1(続き) 実施例番号 R 次の化合物、: 0〜5%の式23aのフェノール: R+ (Oll) Z (23a
)5〜20%の式23bのポスファイト;10〜20%
の式23cのモノホスホナイト;50〜70%の式23
dのジボスボナイ1−;ここでRは下表2において定義
するとおりである、の生成物は、実施例1により方法に
従い、適当な反応成分から調製し、次いで必要に応じて
、生ずる生成物の各々を既知の方法(例えば、再結晶化
)により分別することができる。すべての百分率はモル
%である。
弐−〜−λ
実施例番号
ズ新l釦好
実施例27の反応は、乾燥窒素雰囲気中で空気を湿気の
不存在下に実施する。
不存在下に実施する。
a ) 11.1gのビフェニル、25.4gの三塩化
アルミニウムおよび37.7gの三塩化リンを、強く撹
拌しながら6時間72〜74°Cにおいて還流下に一緒
に加熱する。4.1gのHCIガス(−理論値の82%
)が発生ずる。
アルミニウムおよび37.7gの三塩化リンを、強く撹
拌しながら6時間72〜74°Cにおいて還流下に一緒
に加熱する。4.1gのHCIガス(−理論値の82%
)が発生ずる。
最後に、減圧下に55〜60°Cにおいて過剰の三塩化
リンを、反応混合物の蒸気圧が760トルから60トル
に低下するまで、蒸留除去する。
リンを、反応混合物の蒸気圧が760トルから60トル
に低下するまで、蒸留除去する。
b)5.5gのPChを上のa)の生成物に室温におい
て添加する。
て添加する。
C)赤色の透明な反応混合物を、80°Cにおいて1時
間かけて、160gのクロロヘンゼンおよび54.4g
のピリジン中の66.8gの2−メチル−6−t−ブチ
ルフェノールの溶液に滴々添加する。次いで、この混合
物を80°Cにおいて4時間撹拌する。
間かけて、160gのクロロヘンゼンおよび54.4g
のピリジン中の66.8gの2−メチル−6−t−ブチ
ルフェノールの溶液に滴々添加する。次いで、この混合
物を80°Cにおいて4時間撹拌する。
そのように形成した錯塩を分離した後、さらに2gのピ
リジン−三塩化アルミニウム錯塩を低温源過により一1
0°Cにおいて分離する。次いで、溶媒を蒸留により分
離する。残る残留物は81gの黄色透明生成物であり、
これは室温において固化してガラス様固体生成物となる
(融点ha62〜83°Cであり、ドリップ点は89°
Cである)。
リジン−三塩化アルミニウム錯塩を低温源過により一1
0°Cにおいて分離する。次いで、溶媒を蒸留により分
離する。残る残留物は81gの黄色透明生成物であり、
これは室温において固化してガラス様固体生成物となる
(融点ha62〜83°Cであり、ドリップ点は89°
Cである)。
この生成物は、装置の大きさ(1j2のフラスコ)およ
び同一樹脂速度(300rpm)に依存して、下の式2
7a〜27dの化合物からなる2 0〜5モル%の式27aのフェノール;n−on
(27a)35〜45モル%の式27b
のポスファイト;+1(OIIL (
27b )10〜20モル%の式27cのモノボスボナ
イ1〜;(2)C) 40〜40モル%の式27dのジボスボナイト;こごで
各R基(式27a〜27(Iにおいて)はである。
び同一樹脂速度(300rpm)に依存して、下の式2
7a〜27dの化合物からなる2 0〜5モル%の式27aのフェノール;n−on
(27a)35〜45モル%の式27b
のポスファイト;+1(OIIL (
27b )10〜20モル%の式27cのモノボスボナ
イ1〜;(2)C) 40〜40モル%の式27dのジボスボナイト;こごで
各R基(式27a〜27(Iにおいて)はである。
個々の化合物は、必要に応じて、既知の方法により分離
することができる(例えば、不活性溶媒、例えば、ジオ
キサンまたはへ4−リ゛ン中の再結晶化により)。PC
l3の使用量を変化させることにより、式27a〜27
bの化合物の比を変化させることかできる。
することができる(例えば、不活性溶媒、例えば、ジオ
キサンまたはへ4−リ゛ン中の再結晶化により)。PC
l3の使用量を変化させることにより、式27a〜27
bの化合物の比を変化させることかできる。
実l」桂ル装置
実施例1の式27a、27t+、27cおよび27dの
ものに類似する生成物(ごごでRは下表3において定義
する)を、実施例27の方法に類似する方法により適当
な反応成分の反応により調製することができる。
ものに類似する生成物(ごごでRは下表3において定義
する)を、実施例27の方法に類似する方法により適当
な反応成分の反応により調製することができる。
表−一旦
適用実施例
ポリプロピレン組成物を次のようにして調製する:
重量部
BCD
ポリプロピレン’ 100 100 100
100ステアリン酸カルシウム −0,1,0,1,
0,IIrganox 10102−−− 0.1 0
.1. 0.1実施例1の生成物 −−−−−−
0,1−−−3andostab P−EPQ″−−−
−−−−−−0,11使用したポリプロピレンはHos
ta len PPI、o160Pであった。
100ステアリン酸カルシウム −0,1,0,1,
0,IIrganox 10102−−− 0.1 0
.1. 0.1実施例1の生成物 −−−−−−
0,1−−−3andostab P−EPQ″−−−
−−−−−−0,11使用したポリプロピレンはHos
ta len PPI、o160Pであった。
2 Irganox 1010は、ペンタエリスリト
ール−テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)であり、そして 3 5andostab PEPQは、サンド社(Sa
ndoz AG)がら入手可能な加工安定剤である。
ール−テトラキス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)であり、そして 3 5andostab PEPQは、サンド社(Sa
ndoz AG)がら入手可能な加工安定剤である。
ポリプロピレンは、20mmのスクリューを有するゲッ
トフェルト・エクストリジオメーター(G3tt−fe
l t extrusiometer) (圧縮比1:
3、直径対長さ〔d : N) = 1 :20)で2
70°Cにおいて押出す。
トフェルト・エクストリジオメーター(G3tt−fe
l t extrusiometer) (圧縮比1:
3、直径対長さ〔d : N) = 1 :20)で2
70°Cにおいて押出す。
多数回の押出(表3に通過として記載されている)を同
一条件下に実施する。メルトフローインデックス(MF
I)、230 ’C/ 2.16kpおよびYl(黄色
指数)を各押出後に測定する。
一条件下に実施する。メルトフローインデックス(MF
I)、230 ’C/ 2.16kpおよびYl(黄色
指数)を各押出後に測定する。
試料A−DのMFIおよび黄色指数を下表4に記載する
。
。
試料 135135
A 2.8 4.7 6.9 3.8
7.2 9.EB 1.8 2.7
4.1 3.5 9.3 12.<CO,91,
11,44,68,010jD1.01゜5 2.0
2.6 10.7 17.C上の結果が示すよ
うに、本発明によるリン安定剤を含有する試料Cは、加
熱およびポリマー加工の間劣化に対するポリプロピレン
のきわめてすぐれた抵抗性を有する。
7.2 9.EB 1.8 2.7
4.1 3.5 9.3 12.<CO,91,
11,44,68,010jD1.01゜5 2.0
2.6 10.7 17.C上の結果が示すよ
うに、本発明によるリン安定剤を含有する試料Cは、加
熱およびポリマー加工の間劣化に対するポリプロピレン
のきわめてすぐれた抵抗性を有する。
適用実施例を、実施例2〜37の生成物の1つを実施例
1の生成物の代わりに使用して反復する。
1の生成物の代わりに使用して反復する。
加熱および劣化に対するポリプロピレンのきわめてすぐ
れた抵抗性が得られる。
れた抵抗性が得られる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、成分: a)40〜99.9重量%の式 I ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) の1種または2種以上のホスホナイト(以後、成分 I
と定義する)および b)0.1〜60重量%の式II: ▲数式、化学式、表等があります▼(II) のホスファイト(以後、成分IIと定義する)式中、 mは0または1であり、 nは0または1であり、 Yは−O−、−S−、=CH(R_5)または▲数式、
化学式、表等があります▼であり、ここで R_5は水素、C_1−C_8アルキルまたはCOOR
_6であり、ここで R_6はC_1−C_8アルキルであり、 各R−O−は、独立に、1〜3つのOH基を含有する脂
肪族、脂環族または芳香族のアルコールから誘導された
基であり、ただし2つの−OH基はP含有環を形成する
ように位置することができない(以後、R−O−の一価
の意味として定義する)か、あるいは 両者のR−O−は、一緒になって、少なくとも2つのO
H基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコー
ルから誘導された基を形成し、前記OH基の2つはそれ
らが単一のリン原子と環状基を形成できるように位置し
(以後、Rの二価の意味として定義する)、そして R_3−O−はR−O−の一価の意味を有し、そして 各R_1−O−は、独立に、1つまたは2つのOH基を
含有する脂肪族、脂環族または芳香族のアルコールから
誘導された基であり、ただし2つの−OH基はP含有環
を形成するように位置することができない(以後、R_
1−O−の一価の意味として定義する)か、あるいは 両者のR_1−O−は、一緒になって、少なくとも2つ
のOH基を含有する脂肪族、脂環族または芳香族のアル
コールから誘導された基を形成し、前記OH基はそれら
が単一のリン原子と環状基を形成できるように位置し(
以後、R_1の二価の意味として定義する)、 からなり、ただし 1)式 I の化合物はテトラキス(2,4−ジ−t−ブ
チルホスホナイト)−ビフェニレンジホスホナイトでは
ない、 ポリマーのための加工安定剤として適当な組成物(以後
、安定化組成物として定義する)。 2、さらに少なくとも1つのRおよび少なくとも1つの
R_1は2−位置に少なくとも1つの立体障害された基
を含有するフェノールから誘導された基であることを条
件とする、上記第1項記載の組成物。 3、RはR′であり、ここでR′はアルキル、アラルキ
ル、アリールまたはアルカリールである(以後、R′の
一価の意味と呼ぶ)か、あるいはR′は式α ▲数式、化学式、表等があります▼(α) を有し、ここでフェニル基AおよびBはさらに置換され
ることができ、そしてY′は−O−、−S−または−C
H(R_5)−であり、ここでR_5は水素、C_1−
C_8アルキルまたはCOOR_6であり、ここでR_
6はC_1−C_8アルキルであり(以後、R′の二価
の意味と定義する)そしてnは0または1である、上記
第1または2項記載の組成物。 4、RはR″であり、ここでR″はC_1−C_2_2
アルキル;置換されていないか、あるいはC_1−C_
2_2アルキル、C_1−C_2_2アルコキシおよび
−CH_2−C_6H_5から選択される1〜3つの基
により置換されているフェニル;−C_6H_5、2,
2,6,6−テトラメチルピペリジニル−4−、−C(
CH_3)_2−C_6H_5、−COOH、−OH、
−(C_1−C_8アルキル)フェニル、−CO_2−
C_1−C_2_2アルキル、−CH_2CH_2−C
OOR_1_5、−CNまたは−CH_2−S−C_1
−C_2_2アルキルから選択されるか、あるいはR″
は式i〜vii ▲数式、化学式、表等があります▼(i)▲数式、化学
式、表等があります▼(ii) ▲数式、化学式、表等があります▼(iii);▲数式
、化学式、表等があります▼(iv); ▲数式、化学式、表等があります▼(v); ▲数式、化学式、表等があります▼(vi);または ▲数式、化学式、表等があります▼(vii) のいずれか1つをもつ基であるか、あるいは両者のR″
は式viii ▲数式、化学式、表等があります▼(viii) 式中、R_1_5は水素またはC_1−C_2_2アル
キルである、 の基であり、 Y′は水素、−O−、−S−または−CH(R_5)−
であり、 nは0または1であり、 R_1_6は水素、C_1−C_8アルキルまたは−C
OC_1−C_8アルキルであり、 R_1_7は水素またはC_1−C_2_2アルキルで
あり、そして R_1_8は水素、C_1−C_2_2アルキル、C_
1−C_2_2アルコキシ、−CH_2−C_6H_5
、−C(CH_3)_2−C_6H_5、−C_6H_
5、−OH、−CH_2CH_2COOR_1_5、−
(C_1−C_8アルキル)フェニル、−CO_2−C
_1−C_2_2アルキル、−CN、−CH_2CH_
2−COOR_1_5、−CH_2−S−C_1−C_
2_2アルキルまたは2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジニル−4−であり、そして R_2_4は水素、C_1−C_2_2アルキル、OH
またはC_1−C_2_2アルコキシである、 上記第3項記載の組成物。 5、RはR′″であり、ここでR′″は、式a)〜g) ▲数式、化学式、表等があります▼(a)▲数式、化学
式、表等があります▼(b)▲数式、化学式、表等があ
ります▼(c) ▲数式、化学式、表等があります▼(d);▲数式、化
学式、表等があります▼(e)▲数式、化学式、表等が
あります▼(f) ▲数式、化学式、表等があります▼(g) 式中、 R_1_0は水素、C_1−C_8アルキル、C_1−
C_8アルコキシ、フェニル、フェニルC_1−C_4
アルキルまたは(C_1−C_8アルキル)フェニルで
あり、 R_1_1およびR_1_2は、独立に、水素、C_1
−C_2_2アルキル、(C_1−C_8アルキル)、
(C_1−C_8アルキル)およびフェニルから選択さ
れ、 R_1_3は水素およびC_1−C_8アルキルから選
択され、そして R_1_4は−CNまたは−CO_2R_1_3である
、のいずれか1つをもつ基から選択される、上記第4項
記載の組成物。 6、R_1はR_1′であり、ここでR_1′は上記第
3項記載のR′の意味をR′に独立にを有する、上記第
1〜5項のいずれかに記載の組成物。 7、R_1はR_1′であり、ここでR_1′は上記第
4項記載のR′の意味をR′に独立にを有する、上記第
6項記載の組成物。 8、R_1はR_1′であり、ここでR_1′″は上記
第5項記載のR′″の意味をR′″に独立にを有する、
上記第7項記載の組成物。 9、mは1である、上記第1項記載の組成物。 10、成分: a)上記第1項記載の式 I のジホスホナイト(以後、
成分aと定義する)、 b)上記第1項記載の式IIのホスファイト(以後、成分
IIと定義する)、および c)上記第1項記載の式 I のモノホスホナイト(以後
、成分cと定義する)、 を含有する安定化組成物。 11、さらにd)式IVまたは式V: R_7(OH)(IV) R_8(OH)(V) 式中、式IVにおいて、R_7は上記第1項記載のRの一
価の意味であり、そして式Vにおいて、R_8は上記第
1項記載の二価の意味である、 のフェノール(以後、成分dと定義する)を含有する、
上記第10項記載の安定化組成物。 12、成分 I の存在量は40〜95%である、上記第
1項記載の組成物。 13、成分IIの存在量は5〜60%である、上記第1項
記載の組成物。 14、成分: a)60〜80%の上記第1項記載の成分 I )、b)
5〜20%の上記第1項記載の成分II)、c)10〜2
0%上記第10項記載の成分c)、および e)0〜5%の上記第11項記載の成分d)、からなる
上記第11項記載の組成物。 15、式XV ▲数式、化学式、表等があります▼(XV) 式中、 nは0または1であり、 dは1または2であり、 各R_2_1は、独立に、水素、C_1−C_4アルキ
ルまたは−C(CH_3)_2−C_6H_5であり、
そしてR_2_2は、独立に、R_2_1の意味をR_
2_1に独立にを有し、 ただし i)少なくとも1つの基R_2_1または少なくとも1
つの基R_2_2は−C(CH_3)_2−C_6H_
5であり、そしてii)少なくとも1つのR_2_1は
立体障害された基ではない、 の化合物。 16、式XVI ▲数式、化学式、表等があります▼(XVI) 式中、dは1または2である、 の化合物。 17、ポリマー材料および安定化量の上記第1項記載の
安定化組成物からなるポリマー組成物。 18、ポリマー材料および安定化量の上記第15項記載
の式XVの化合物からなるポリマー組成物。 19、ポリマー材料および安定化量の上記第16項記載
の式XVIの化合物からなるポリマー組成物。 20、成分: a)40〜95%の上記第15項記載の式XVの化合物
、および b)5〜60%の式IIのホスファイト、 からなる安定化組成物。 21、このようなポリマー組成物中に存在する成分 I
)およびII)の量は0.01〜2%である、上記第17
項記載の組成物。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB898901517A GB8901517D0 (en) | 1989-01-24 | 1989-01-24 | Improvements in or relating to organic compounds |
GB8901517.6 | 1989-01-24 | ||
CN90100728.5A CN1054083A (zh) | 1989-01-24 | 1990-02-16 | 新亚膦酰酯化合物 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02270892A true JPH02270892A (ja) | 1990-11-05 |
Family
ID=36754787
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---|---|
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CN (1) | CN1054083A (ja) |
BE (1) | BE1003823A3 (ja) |
CA (1) | CA2008376A1 (ja) |
CH (1) | CH679862A5 (ja) |
DD (1) | DD291772A5 (ja) |
DE (1) | DE4001397A1 (ja) |
FR (2) | FR2642081B1 (ja) |
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HU (1) | HUT54380A (ja) |
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