JP2001164246A - 低塩素安定剤の製造方法 - Google Patents
低塩素安定剤の製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 低塩素含有安定剤の製造方法を提供する。
【解決手段】 ａ）テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト及びその異性体
５０−８０重量％、ｂ）ビス（２，４−ジ第三ブチルフ
ェニル）ビフェニレンモノホスホナイト及びその異性体
５−２５重量％、並びにｃ）トリス（２，４−ジ第三ブ
チルフェニル）ホスホナイト５−２５重量％からなり、
成分ａ）ないしｃ）の全量が１００重量％より多くない
低塩素含有安定剤混合物の、フリーデル−クラフト反応
によりビフェニルを三塩化リン及び三塩化アルミニウム
と反応させ、形成された二層を分離しつつ、第三アミン
又は芳香族アミン及び溶媒の存在下で該生成物を２，４
−ジ第三ブチルフェノールと反応させることによる製造
方法に関する。該方法は、水、塩基及び乾燥剤による溶
媒層処理、安定剤混合物含有溶液からの沈殿物分離及び
溶媒蒸発を含む。
フェニル）ビフェニレンジホスホナイト及びその異性体
５０−８０重量％、ｂ）ビス（２，４−ジ第三ブチルフ
ェニル）ビフェニレンモノホスホナイト及びその異性体
５−２５重量％、並びにｃ）トリス（２，４−ジ第三ブ
チルフェニル）ホスホナイト５−２５重量％からなり、
成分ａ）ないしｃ）の全量が１００重量％より多くない
低塩素含有安定剤混合物の、フリーデル−クラフト反応
によりビフェニルを三塩化リン及び三塩化アルミニウム
と反応させ、形成された二層を分離しつつ、第三アミン
又は芳香族アミン及び溶媒の存在下で該生成物を２，４
−ジ第三ブチルフェノールと反応させることによる製造
方法に関する。該方法は、水、塩基及び乾燥剤による溶
媒層処理、安定剤混合物含有溶液からの沈殿物分離及び
溶媒蒸発を含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、酸化、熱または光
により誘発された分解に対して有機材料を安定化するた
めに適する、低量の塩素を含む安定剤混合物製造のため
の新しい製造方法に関する。
により誘発された分解に対して有機材料を安定化するた
めに適する、低量の塩素を含む安定剤混合物製造のため
の新しい製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】米国特許第４０７５１６３号には、酸
化、熱または光により誘発された分解に対して有機材料
を安定化するために適する、テトラキス（２，４−ジ第
三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイトの合成
が記載されている（第７欄、表１、化合物１２）。この
化合物は、例えばクラリアント社(Clariant)（スイス
国）からサンドスタブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)として
市販品で入手可能である。欧州特許第０６３３２８７号
公報では、実施例１に上記市販品で入手可能なサンドス
タブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)がａ）テトラキス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイ
ト６５重量％、ｂ）ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
ル）ビフェニレンモノホスホナイト１５重量％、ｃ）ト
リス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスホナイト１
３重量部、ｄ）２，４−ジ第三ブチルフェノール１．５
重量部、ｅ）塩素１重量％まで（１００００ｍｇ／ｋｇ
まで）、ｆ）揮発性物質０．５重量％まで、およびｇ）
酸化テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフ
ェニレンジホスホナイト４ないし５重量％からなるいく
つかの成分の混合物であることが記載されている。
化、熱または光により誘発された分解に対して有機材料
を安定化するために適する、テトラキス（２，４−ジ第
三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイトの合成
が記載されている（第７欄、表１、化合物１２）。この
化合物は、例えばクラリアント社(Clariant)（スイス
国）からサンドスタブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)として
市販品で入手可能である。欧州特許第０６３３２８７号
公報では、実施例１に上記市販品で入手可能なサンドス
タブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)がａ）テトラキス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイ
ト６５重量％、ｂ）ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
ル）ビフェニレンモノホスホナイト１５重量％、ｃ）ト
リス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスホナイト１
３重量部、ｄ）２，４−ジ第三ブチルフェノール１．５
重量部、ｅ）塩素１重量％まで（１００００ｍｇ／ｋｇ
まで）、ｆ）揮発性物質０．５重量％まで、およびｇ）
酸化テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフ
ェニレンジホスホナイト４ないし５重量％からなるいく
つかの成分の混合物であることが記載されている。
【０００３】ホスフィットおよびホスホナイトは加水分
解に対して非常に不安定である（米国特許第４０７５１
６３号の実施例２９を参照せよ）。従って、サンドスタ
ブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)の合成時、反応混合物が水
と接触しないようにしなければならない。サンドスタブ
(Sandostab) P-EPQ (RTM)の実際的な大規模製造におい
ては、残渣の三塩化アルミニウム／ピリジン／塩酸錯体
の中和は気体アンモニアにより行われる（本明細書比較
例２を参照せよ）。しかしながら、例えば塩化アンモニ
ウムのような形成塩の幾分かが最終製品に残留する。こ
れらの塩不純物は、最終安定剤混合物がわずかに濁りを
有するものとなる原因となり得る。このような濁りを有
する安定剤をポリオレフィンに使用することによりポリ
オレフィン中に曇りが誘発されるので、これはいくつか
の用途に対しては明らかに望ましくない。
解に対して非常に不安定である（米国特許第４０７５１
６３号の実施例２９を参照せよ）。従って、サンドスタ
ブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)の合成時、反応混合物が水
と接触しないようにしなければならない。サンドスタブ
(Sandostab) P-EPQ (RTM)の実際的な大規模製造におい
ては、残渣の三塩化アルミニウム／ピリジン／塩酸錯体
の中和は気体アンモニアにより行われる（本明細書比較
例２を参照せよ）。しかしながら、例えば塩化アンモニ
ウムのような形成塩の幾分かが最終製品に残留する。こ
れらの塩不純物は、最終安定剤混合物がわずかに濁りを
有するものとなる原因となり得る。このような濁りを有
する安定剤をポリオレフィンに使用することによりポリ
オレフィン中に曇りが誘発されるので、これはいくつか
の用途に対しては明らかに望ましくない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、低量の塩素を含み、そして濁りを有さない製品を形
成し、合成ポリマー中にいかなる曇りを誘発しないサン
ドスタブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)の合成に関して、改
良された製造方法を見出すことである。
は、低量の塩素を含み、そして濁りを有さない製品を形
成し、合成ポリマー中にいかなる曇りを誘発しないサン
ドスタブ(Sandostab) P-EPQ (RTM)の合成に関して、改
良された製造方法を見出すことである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】従って本発明は、ａ）次
式Ｉ
式Ｉ
【化８】 で表されるジホスホナイト５０ないし８０重量％ ｂ）次式ＩＩ
【化９】 で表されるモノホスホナイト５ないし２５重量％、およ
び ｃ）次式ＩＩＩ
び ｃ）次式ＩＩＩ
【化１０】 で表されるホスフィット５ないし２５重量％（式Ｉ、Ｉ
ＩおよびＩＩＩ中、Ｒは次式ＩＶ
ＩおよびＩＩＩ中、Ｒは次式ＩＶ
【化１１】 で表される基を表す。）からなり、そして式Ｉ、ＩＩお
よびＩＩＩで表される化合物の全量が１００重量％より
多くない、低量の塩素を含む安定剤混合物を、フリーデ
ル−クラフツ反応条件下で次式Ｖ
よびＩＩＩで表される化合物の全量が１００重量％より
多くない、低量の塩素を含む安定剤混合物を、フリーデ
ル−クラフツ反応条件下で次式Ｖ
【化１２】 で表されるビフェニルを三塩化リンおよび三塩化アルミ
ニウムと反応させることにより、そして形成された二つ
の層を分離しつつ、第三アミンまたは芳香族アミンおよ
び溶媒の存在下で生成物混合物を次式ＶＩ
ニウムと反応させることにより、そして形成された二つ
の層を分離しつつ、第三アミンまたは芳香族アミンおよ
び溶媒の存在下で生成物混合物を次式ＶＩ
【化１３】 で表される２，４−ジ第三ブチルフェノールと反応させ
ることにより製造する方法であって、溶媒層を水、塩基
および乾燥剤で処理すること、安定剤混合物を含む溶液
から沈殿物を分離し、そして溶媒を蒸発させることを含
む製造方法に関する。
ることにより製造する方法であって、溶媒層を水、塩基
および乾燥剤で処理すること、安定剤混合物を含む溶液
から沈殿物を分離し、そして溶媒を蒸発させることを含
む製造方法に関する。
【０００６】
【発明の実施の形態】好ましくは、第三アミンは次式Ｖ
ＩＩ
ＩＩ
【化１４】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は同一であるか、または異
なっており、炭素原子数１ないし２４のアルキル基、酸
素原子１個もしくはそれより多くにより中断された炭素
原子数４ないし２４のアルキル基、フェニル基、炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数７な
いし９のアルキルフェニル基を表すか；あるいはＲ1、
Ｒ2およびＲ3の２つはそれらが結合している窒素原子と
一緒になって、任意により更なる酸素原子、窒素原子ま
たはイオウ原子を含み、そして任意により炭素原子数１
ないし４のアルキル基１個もしくはそれより多くにより
置換された５−、６−または７員環複素環式残基を形成
し、そしてＲ1、Ｒ2およびＲ 3の残りの１つは炭素原子
数１ないし２４のアルキル基または酸素原子１個もしく
はそれより多くにより中断された炭素原子数４ないし２
４のアルキル基を表す。）で表される化合物である。
なっており、炭素原子数１ないし２４のアルキル基、酸
素原子１個もしくはそれより多くにより中断された炭素
原子数４ないし２４のアルキル基、フェニル基、炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数７な
いし９のアルキルフェニル基を表すか；あるいはＲ1、
Ｒ2およびＲ3の２つはそれらが結合している窒素原子と
一緒になって、任意により更なる酸素原子、窒素原子ま
たはイオウ原子を含み、そして任意により炭素原子数１
ないし４のアルキル基１個もしくはそれより多くにより
置換された５−、６−または７員環複素環式残基を形成
し、そしてＲ1、Ｒ2およびＲ 3の残りの１つは炭素原子
数１ないし２４のアルキル基または酸素原子１個もしく
はそれより多くにより中断された炭素原子数４ないし２
４のアルキル基を表す。）で表される化合物である。
【０００７】２４個までの炭素原子を有するアルキル基
は、分枝鎖状もしくは非分枝鎖状の基であり、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル
基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチ
ル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル
基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチ
ル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，
１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，
３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基ま
たはドコシル基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の好ましい
定義の一つは、例えば炭素原子数２ないし１８のアルキ
ル基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の特に好ましい定義は
炭素原子数２ないし８のアルキル基、例えばエチル基で
ある。
は、分枝鎖状もしくは非分枝鎖状の基であり、例えばメ
チル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、第二ブチル基、イソブチル基、第三ブチル
基、２−エチルブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチ
ル基、１−メチルペンチル基、１，３−ジメチルブチル
基、ｎ−ヘキシル基、１−メチルヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、イソヘプチル基、１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル基、１−メチルヘプチル基、３−メチルヘプチ
ル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、１，
１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，３−テト
ラメチルペンチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル
基、１−メチルウンデシル基、ドデシル基、１，１，
３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル
基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、エイコシル基ま
たはドコシル基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の好ましい
定義の一つは、例えば炭素原子数２ないし１８のアルキ
ル基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の特に好ましい定義は
炭素原子数２ないし８のアルキル基、例えばエチル基で
ある。
【０００８】酸素原子１個もしくはそれより多くにより
中断された炭素原子数４ないし２４のアルキル基は、例
えば２−エトキシプロピル基、１−メトキシプロピル
基、１−メトキシブチル基、ｎ−ブトキシエチル基、１
−メトキシオクチル基、１−メトキシデシル基、１−メ
トキシドデシル基、１−メトキシヘキサデシル基、１−
メトキシエイコシル基、１−メトキシテトラエイコシル
基および２−メトキシエトキシメチル基を含む。炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えばベンジ
ル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジ
ル基または２−フェニルエチル基である。好ましくはベ
ンジル基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の２個により形成
された複素環式基は、好ましくは６員環であり、例えば
ピペリジノ環、モルホリノ環、チオモルホリノ環および
４−炭素原子数１ないし４のアルキル−ピペラジノ環で
ある。
中断された炭素原子数４ないし２４のアルキル基は、例
えば２−エトキシプロピル基、１−メトキシプロピル
基、１−メトキシブチル基、ｎ−ブトキシエチル基、１
−メトキシオクチル基、１−メトキシデシル基、１−メ
トキシドデシル基、１−メトキシヘキサデシル基、１−
メトキシエイコシル基、１−メトキシテトラエイコシル
基および２−メトキシエトキシメチル基を含む。炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基は、例えばベンジ
ル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジ
ル基または２−フェニルエチル基である。好ましくはベ
ンジル基である。Ｒ1、Ｒ2およびＲ3の２個により形成
された複素環式基は、好ましくは６員環であり、例えば
ピペリジノ環、モルホリノ環、チオモルホリノ環および
４−炭素原子数１ないし４のアルキル−ピペラジノ環で
ある。
【０００９】好ましい芳香族アミンはピリジンであり、
任意により炭素原子数１ないし４のアルキル基１個もし
くはそれより多くにより置換されている。任意により炭
素原子数１ないし４のアルキル基１個もしくはそれより
多くにより置換されているピリジンは、例えば２，３−
ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジンまたは
３，４−ルチジンである。好ましい溶媒はベンゼンであ
り、任意により塩素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基１個もしくはそれより多くにより置換されて
いるものである。任意により塩素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基１個もしくはそれより多くによ
り置換されているベンゼンは、例えばクロロベンゼン、
トルエンまたはキシレンである。好ましくはクロロベン
ゼンである。
任意により炭素原子数１ないし４のアルキル基１個もし
くはそれより多くにより置換されている。任意により炭
素原子数１ないし４のアルキル基１個もしくはそれより
多くにより置換されているピリジンは、例えば２，３−
ルチジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジンまたは
３，４−ルチジンである。好ましい溶媒はベンゼンであ
り、任意により塩素原子または炭素原子数１ないし４の
アルキル基１個もしくはそれより多くにより置換されて
いるものである。任意により塩素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基１個もしくはそれより多くによ
り置換されているベンゼンは、例えばクロロベンゼン、
トルエンまたはキシレンである。好ましくはクロロベン
ゼンである。
【００１０】好ましい塩基は、アルカリ金属またはアル
カリ土類金属の水酸化物、酸化物、リン酸水素塩、リン
酸二水素塩、炭酸塩、炭酸水素塩または四ホウ酸塩であ
る。アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、
酸化物、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、炭酸塩、炭酸
水素塩または四ホウ酸塩は、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウム、酸化カルシウム、リン酸水素ナト
リウム、リン酸二水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カルシウム、炭酸水素ナトリウムまたは四ホウ酸ナト
リウム十水和物である。有利には、上記塩基は溶媒層重
量を基準として０．１ないし１０重量％、特に０．１な
いし５重量％、例えば０．１ないし２重量％の量で使用
される。
カリ土類金属の水酸化物、酸化物、リン酸水素塩、リン
酸二水素塩、炭酸塩、炭酸水素塩または四ホウ酸塩であ
る。アルカリ金属またはアルカリ土類金属の水酸化物、
酸化物、リン酸水素塩、リン酸二水素塩、炭酸塩、炭酸
水素塩または四ホウ酸塩は、例えば水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウ
ム、水酸化バリウム、酸化カルシウム、リン酸水素ナト
リウム、リン酸二水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カルシウム、炭酸水素ナトリウムまたは四ホウ酸ナト
リウム十水和物である。有利には、上記塩基は溶媒層重
量を基準として０．１ないし１０重量％、特に０．１な
いし５重量％、例えば０．１ないし２重量％の量で使用
される。
【００１１】好ましい乾燥剤は、アルカリ金属の硫酸
塩、アルカリ土類金属の硫酸塩もしくは酸化物、モレキ
ュラーシーブまたは酸化アルミニウムである。アルカリ
金属の硫酸塩、アルカリ土類金属の硫酸塩もしくは酸化
物、モレキュラーシーブまたは酸化アルミニウムは、例
えば酸化マグネシウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウ
ム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム、モレキュラーシ
ーブ３Å、モレキュラーシーブ４Å、粉末状酸化アルミ
ニウム、塩基性酸化アルミニウム、焼成酸化アルミニウ
ム、溶融酸化アルミニウム、顆粒状酸化アルミニウムま
たは燒結酸化アルミニウムである。有利には、上記乾燥
剤は溶媒層重量を基準として０．１ないし１０重量％、
特に０．１ないし５重量％、例えば０．１ないし２重量
％の量で使用される。例えば硫酸ナトリウムのようない
くつかの乾燥剤は、カチオン性沈殿物としても作用し得
る。
塩、アルカリ土類金属の硫酸塩もしくは酸化物、モレキ
ュラーシーブまたは酸化アルミニウムである。アルカリ
金属の硫酸塩、アルカリ土類金属の硫酸塩もしくは酸化
物、モレキュラーシーブまたは酸化アルミニウムは、例
えば酸化マグネシウム、酸化カルシウム、硫酸ナトリウ
ム、硫酸マグネシウム、硫酸バリウム、モレキュラーシ
ーブ３Å、モレキュラーシーブ４Å、粉末状酸化アルミ
ニウム、塩基性酸化アルミニウム、焼成酸化アルミニウ
ム、溶融酸化アルミニウム、顆粒状酸化アルミニウムま
たは燒結酸化アルミニウムである。有利には、上記乾燥
剤は溶媒層重量を基準として０．１ないし１０重量％、
特に０．１ないし５重量％、例えば０．１ないし２重量
％の量で使用される。例えば硫酸ナトリウムのようない
くつかの乾燥剤は、カチオン性沈殿物としても作用し得
る。
【００１２】安定剤混合物を含む溶液から沈殿物を分離
する前に、溶媒層を付加的にろ過助剤で処理することを
含む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造方法は興味
深い。好ましいろ過助剤は、例えば酸性白土［メルクイ
ンデックス(Merck Index)第１０版，4162(1983)］また
は滴虫土［メルクインデックス(Merck Index)第１０
版，4857(1983)］であり、フロリジン；ケイ酸アルミニ
ウムマグネシウム、多孔質珪藻土（キーゼルグール）、
セライト、例えばヒフロ スーパー セル(Hyflo Super C
el)［(RTM)，アルドリッチ(Aldrich) 39, 254-5］のよ
うな珪藻土を含む非プラスチック性の種々のカオリンを
含む。有利には、上記ろ過助剤は溶媒層重量を基準とし
て０．１ないし１０重量％、特に０．１ないし５重量
％、例えば０．１ないし２重量％の量で使用される。
する前に、溶媒層を付加的にろ過助剤で処理することを
含む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造方法は興味
深い。好ましいろ過助剤は、例えば酸性白土［メルクイ
ンデックス(Merck Index)第１０版，4162(1983)］また
は滴虫土［メルクインデックス(Merck Index)第１０
版，4857(1983)］であり、フロリジン；ケイ酸アルミニ
ウムマグネシウム、多孔質珪藻土（キーゼルグール）、
セライト、例えばヒフロ スーパー セル(Hyflo Super C
el)［(RTM)，アルドリッチ(Aldrich) 39, 254-5］のよ
うな珪藻土を含む非プラスチック性の種々のカオリンを
含む。有利には、上記ろ過助剤は溶媒層重量を基準とし
て０．１ないし１０重量％、特に０．１ないし５重量
％、例えば０．１ないし２重量％の量で使用される。
【００１３】水を、塩基に存在する結晶水の形態で添加
することを含む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造
方法は特に興味深い。好ましい、結晶水を含む塩基は、
例えば四ホウ酸ナトリウム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０
Ｈ2Ｏ）、Ｎａ2ＨＰＯ4１２Ｈ2ＯまたはＮａ2ＣＯ3１０
Ｈ2Ｏである。
することを含む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造
方法は特に興味深い。好ましい、結晶水を含む塩基は、
例えば四ホウ酸ナトリウム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０
Ｈ2Ｏ）、Ｎａ2ＨＰＯ4１２Ｈ2ＯまたはＮａ2ＣＯ3１０
Ｈ2Ｏである。
【００１４】温度範囲０ないし２５℃、例えば５ないし
２０℃で溶媒層を水、塩基および乾燥剤で処理すること
を含む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造方法が好
ましい。溶媒層を水、塩基および乾燥剤で処理して、ｐ
Ｈ範囲を７．０ないし１３、特に７．５ないし１２、例
えば８ないし１２とすることを含む、低量の塩素を含む
安定剤混合物の製造方法も好ましい。
２０℃で溶媒層を水、塩基および乾燥剤で処理すること
を含む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造方法が好
ましい。溶媒層を水、塩基および乾燥剤で処理して、ｐ
Ｈ範囲を７．０ないし１３、特に７．５ないし１２、例
えば８ないし１２とすることを含む、低量の塩素を含む
安定剤混合物の製造方法も好ましい。
【００１５】溶媒層を、溶媒層の重量を基準として０．
１ないし１０重量％、特に０．１ないし５重量％、例え
ば０．１ないし２重量％の量の水で処理することを含
む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造方法は特に興
味深い。最終製品混合物における塩素の量が５０００ｍ
ｇ／ｋｇより低い、特に１５００ｍｇ／ｋｇより低い、
例えば５００ｍｇ／ｋｇより低い安定剤混合物の製造方
法も特に興味深い。
１ないし１０重量％、特に０．１ないし５重量％、例え
ば０．１ないし２重量％の量の水で処理することを含
む、低量の塩素を含む安定剤混合物の製造方法は特に興
味深い。最終製品混合物における塩素の量が５０００ｍ
ｇ／ｋｇより低い、特に１５００ｍｇ／ｋｇより低い、
例えば５００ｍｇ／ｋｇより低い安定剤混合物の製造方
法も特に興味深い。
【００１６】フリーデル−クラフツ反応条件下での、次
式Ｖで表されるビフェニルの三塩化リンおよび三塩化ア
ルミニウムとの反応において、三塩化リンは、好ましく
は試薬および溶媒として使用される。従って、１モルの
ビフェニルの反応に対して、３ないし１０モル、特に３
ないし８モル、例えば３ないし５モルの三塩化リンが使
用される。好ましくは、反応は、４ないし１０時間、特
に４ないし８時間、例えば５ないし７時間還流下に保た
れる。好ましくは、過剰量の三塩化リンが留去される。
続く、第三アミンまたは芳香族アミンおよび溶媒の存在
下での上記粗製製品混合物と２，４−ジ第三ブチルフェ
ノールとの反応において、温度範囲は、有利には１０な
いし１００℃、特に１０ないし８０℃、例えば２０ない
し８０℃である。反応混合物の濃度は、有利には１０な
いし８０重量％、特に１０ないし６０重量％である。第
三アミンまたは芳香族アミンは、２，４−ジ第三ブチル
フェノールのモル量を基準として、１０ないし１００
％、特に２０ないし８０％、例えば３０ないし７０％の
過剰量で有利に使用される。
式Ｖで表されるビフェニルの三塩化リンおよび三塩化ア
ルミニウムとの反応において、三塩化リンは、好ましく
は試薬および溶媒として使用される。従って、１モルの
ビフェニルの反応に対して、３ないし１０モル、特に３
ないし８モル、例えば３ないし５モルの三塩化リンが使
用される。好ましくは、反応は、４ないし１０時間、特
に４ないし８時間、例えば５ないし７時間還流下に保た
れる。好ましくは、過剰量の三塩化リンが留去される。
続く、第三アミンまたは芳香族アミンおよび溶媒の存在
下での上記粗製製品混合物と２，４−ジ第三ブチルフェ
ノールとの反応において、温度範囲は、有利には１０な
いし１００℃、特に１０ないし８０℃、例えば２０ない
し８０℃である。反応混合物の濃度は、有利には１０な
いし８０重量％、特に１０ないし６０重量％である。第
三アミンまたは芳香族アミンは、２，４−ジ第三ブチル
フェノールのモル量を基準として、１０ないし１００
％、特に２０ないし８０％、例えば３０ないし７０％の
過剰量で有利に使用される。
【００１７】上記改良されたサンドスタブ(Sandostab)
P-EPQ (RTM)は、以下の節においてＬＣＴ（低塩素透明
性）安定剤混合物と命名される。このＬＣＴ安定剤混合
物は、酸化、熱または光により誘発された分解に対して
有機材料を安定化するために適当である。
P-EPQ (RTM)は、以下の節においてＬＣＴ（低塩素透明
性）安定剤混合物と命名される。このＬＣＴ安定剤混合
物は、酸化、熱または光により誘発された分解に対して
有機材料を安定化するために適当である。
【００１８】以下の実施例は、本発明をさらに説明する
ものである。部または百分率は重量に関する。実施例１：安定剤混合物の粗製クロロベンゼン溶液（３
５％ｗ／ｗ）の製造 メカニカルスターラーおよび還流冷却器を取り付けた
１．５リットルジャケット付ガラス反応器中、ビフェニ
ル９０ｇ（０．５８４モル）、無水塩化アルミニウム２
０４ｇ（１．５３モル）および三塩化リン３０５ｇ
（２．２１８モル）の混合物を窒素雰囲気下で、内部温
度７５℃で６時間撹拌しながら還流した。その間、塩酸
ガスが発生するので、これを水によりスクラバー塔に捕
捉した。該反応混合物を冷却し、過剰量の三塩化リン
を、内部温度６３ないし６５℃、および４００ないし１
８０ｍｂａｒの減圧下で留去した。粗製溶融物を３５℃
まで冷却し、クロロベンゼン２２０ｇで希釈した。
ものである。部または百分率は重量に関する。実施例１：安定剤混合物の粗製クロロベンゼン溶液（３
５％ｗ／ｗ）の製造 メカニカルスターラーおよび還流冷却器を取り付けた
１．５リットルジャケット付ガラス反応器中、ビフェニ
ル９０ｇ（０．５８４モル）、無水塩化アルミニウム２
０４ｇ（１．５３モル）および三塩化リン３０５ｇ
（２．２１８モル）の混合物を窒素雰囲気下で、内部温
度７５℃で６時間撹拌しながら還流した。その間、塩酸
ガスが発生するので、これを水によりスクラバー塔に捕
捉した。該反応混合物を冷却し、過剰量の三塩化リン
を、内部温度６３ないし６５℃、および４００ないし１
８０ｍｂａｒの減圧下で留去した。粗製溶融物を３５℃
まで冷却し、クロロベンゼン２２０ｇで希釈した。
【００１９】上記粗製溶液を、メカニカルスターラーお
よび外部水冷を伴う還流冷却器を取り付けた２．５リッ
トルジャケット付ガラス反応器中の２，４−ジ第三ブチ
ルフェノール４８２ｇ（２．３３４モル）、ピリジン３
６２ｇ（４．５７６モル）およびクロロベンゼン６００
ｇからなる撹拌溶液に添加した。反応は発熱性であり、
内部温度は８０℃以下に保たれた。添加の終了時、該混
合物は３時間、内部温度６３ないし６５℃に保たれた。
静置して、反応混合物を二層に分離した。下層の複合層
を分離し、上層の有機層をクロロベンゼン４３０ｇで希
釈し、安定剤混合物を含む粗製クロロベンゼン溶液（３
５％ｗ／ｗ）１６５０ｇを導く。該粗製溶液の酸塩基滴
定により、溶液１ｋｇに対してＫＯＨ０．１２５モルの
平均消費量が得られる。この溶液はＬＣＴ安定剤混合物
の製造に関する以下の例に使用される。
よび外部水冷を伴う還流冷却器を取り付けた２．５リッ
トルジャケット付ガラス反応器中の２，４−ジ第三ブチ
ルフェノール４８２ｇ（２．３３４モル）、ピリジン３
６２ｇ（４．５７６モル）およびクロロベンゼン６００
ｇからなる撹拌溶液に添加した。反応は発熱性であり、
内部温度は８０℃以下に保たれた。添加の終了時、該混
合物は３時間、内部温度６３ないし６５℃に保たれた。
静置して、反応混合物を二層に分離した。下層の複合層
を分離し、上層の有機層をクロロベンゼン４３０ｇで希
釈し、安定剤混合物を含む粗製クロロベンゼン溶液（３
５％ｗ／ｗ）１６５０ｇを導く。該粗製溶液の酸塩基滴
定により、溶液１ｋｇに対してＫＯＨ０．１２５モルの
平均消費量が得られる。この溶液はＬＣＴ安定剤混合物
の製造に関する以下の例に使用される。
【００２０】実施例２：比較例 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、１時間、−
１０℃まで冷却した。沈降残渣ＡｌＣｌ3−ピリジン錯
体から、上記混合物をろ過する。０ないし５℃で、気体
アンモニア（４．０ｇ）を該ろ液中に吹込み、その温度
で１時間保持した。水により撹拌されたアリコートは、
８ないし９のｐＨ値を示した。１００ないし１１０℃／
３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には１７
０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用し
て、溶媒を蒸発させた。残渣として、淡黄色の、濁りの
あるガラス状固体（Ｔｇ＝６５℃）の安定剤混合物３５
０ｇが得られる。残留塩素含有量は５０００ｍｇ／ｋｇ
より多い。
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、１時間、−
１０℃まで冷却した。沈降残渣ＡｌＣｌ3−ピリジン錯
体から、上記混合物をろ過する。０ないし５℃で、気体
アンモニア（４．０ｇ）を該ろ液中に吹込み、その温度
で１時間保持した。水により撹拌されたアリコートは、
８ないし９のｐＨ値を示した。１００ないし１１０℃／
３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には１７
０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用し
て、溶媒を蒸発させた。残渣として、淡黄色の、濁りの
あるガラス状固体（Ｔｇ＝６５℃）の安定剤混合物３５
０ｇが得られる。残留塩素含有量は５０００ｍｇ／ｋｇ
より多い。
【００２１】実施例３：低量の塩素を含むＬＣＴ安定剤
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、５ないし１
０℃まで冷却した。この混合物に、四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）５．０ｇ（０．０１
モル）、水２．５ｇ（０．１４モル）および硫酸ナトリ
ウム５．０ｇ（０．０４モル）を添加し、そして、その
間溶液の透明度を上げながら、１時間撹拌した。その
後、粉末水酸化カルシウム８．０ｇ（０．１１モル）、
酸化カルシウム５．０ｇ（０．０９モル）およびキーゼ
ルグール クラルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DI
F B)(RTM)５．０ｇを添加し、３時間２５℃で撹拌し
た。ろ過後、１００ないし１１０℃／３５０ないし３１
０ｍｂａｒで、そして最終的には１７０℃／＜１０ｍｂ
ａｒで、真空回転式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させ
た。残渣として、透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）
のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが得られる。残留塩素含
有量は１０００ｍｇ／ｋｇである。
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、５ないし１
０℃まで冷却した。この混合物に、四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）５．０ｇ（０．０１
モル）、水２．５ｇ（０．１４モル）および硫酸ナトリ
ウム５．０ｇ（０．０４モル）を添加し、そして、その
間溶液の透明度を上げながら、１時間撹拌した。その
後、粉末水酸化カルシウム８．０ｇ（０．１１モル）、
酸化カルシウム５．０ｇ（０．０９モル）およびキーゼ
ルグール クラルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DI
F B)(RTM)５．０ｇを添加し、３時間２５℃で撹拌し
た。ろ過後、１００ないし１１０℃／３５０ないし３１
０ｍｂａｒで、そして最終的には１７０℃／＜１０ｍｂ
ａｒで、真空回転式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させ
た。残渣として、透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）
のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが得られる。残留塩素含
有量は１０００ｍｇ／ｋｇである。
【００２２】実施例４：低量の塩素を含むＬＣＴ安定剤
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１１．１ｇ（０．０
２９モル）、水１１．０ｇ（０．６１モル）および水酸
化ナトリウム３．０ｇ（０．０７５モル）からなる中和
剤溶液を添加した。上記混合物を、その間溶液の透明度
を上げながら、１時間撹拌した。その後、粉末水酸化カ
ルシウム２．０ｇ（０．０２７モル）、酸化カルシウム
５．０ｇ（０．０９モル）およびキーゼルグール クラ
ルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．
０ｇを添加し、３時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１０
０ないし１１０℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そ
して最終的には１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転
式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させた。残渣として、
透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混
合物３５０ｇが得られる。残留塩素含有量は４００ｍｇ
／ｋｇである。
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１１．１ｇ（０．０
２９モル）、水１１．０ｇ（０．６１モル）および水酸
化ナトリウム３．０ｇ（０．０７５モル）からなる中和
剤溶液を添加した。上記混合物を、その間溶液の透明度
を上げながら、１時間撹拌した。その後、粉末水酸化カ
ルシウム２．０ｇ（０．０２７モル）、酸化カルシウム
５．０ｇ（０．０９モル）およびキーゼルグール クラ
ルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．
０ｇを添加し、３時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１０
０ないし１１０℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そ
して最終的には１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転
式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させた。残渣として、
透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混
合物３５０ｇが得られる。残留塩素含有量は４００ｍｇ
／ｋｇである。
【００２３】実施例５：低量の塩素を含むＬＣＴ安定剤
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１０．０ｇ（０．０
２６モル）を添加した。上記混合物を、その間溶液の透
明度を上げながら、１時間撹拌した。その後、四ホウ酸
ナトリウム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）６．６ｇ
（０．０１７モル）、水酸化ナトリウム１．８ｇ（０．
０４５モル）および水６．６ｇ（０．３７モル）からな
る中和剤溶液を添加した。上記混合物を室温で３０分間
撹拌した。その後、水酸化カルシウム２．０ｇ（０．０
２７モル）、酸化カルシウム６．０ｇ（０．１０７モ
ル）およびキーゼルグール クラルセル ＤＩＦ Ｂ(Kies
elgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０ｇを添加し、３時間
２５℃で撹拌した。ろ過後、１００ないし１１０℃／３
５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には１７０
℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用して、
ろ液を蒸発させた。残渣として、透明の、明黄色固体
（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが得ら
れる。残留塩素含有量は３００ｍｇ／ｋｇである。
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１０．０ｇ（０．０
２６モル）を添加した。上記混合物を、その間溶液の透
明度を上げながら、１時間撹拌した。その後、四ホウ酸
ナトリウム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）６．６ｇ
（０．０１７モル）、水酸化ナトリウム１．８ｇ（０．
０４５モル）および水６．６ｇ（０．３７モル）からな
る中和剤溶液を添加した。上記混合物を室温で３０分間
撹拌した。その後、水酸化カルシウム２．０ｇ（０．０
２７モル）、酸化カルシウム６．０ｇ（０．１０７モ
ル）およびキーゼルグール クラルセル ＤＩＦ Ｂ(Kies
elgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０ｇを添加し、３時間
２５℃で撹拌した。ろ過後、１００ないし１１０℃／３
５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には１７０
℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用して、
ろ液を蒸発させた。残渣として、透明の、明黄色固体
（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが得ら
れる。残留塩素含有量は３００ｍｇ／ｋｇである。
【００２４】実施例６：低量の塩素を含むＬＣＴ安定剤
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１７．０ｇ（０．０
４４モル）を添加した。上記混合物を、その間溶液の透
明度を上げながら、１時間撹拌した。その後、水酸化カ
ルシウム５．０ｇ（０．０６８モル）、酸化カルシウム
５．０ｇ（０．０８９モル）を添加し、そして１時間撹
拌した。次いで、キーゼルグール クラルセル ＤＩＦ
Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０ｇを添加し、
３時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１００ないし１１０
℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には
１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用
して、ろ液を蒸発させた。残渣として、透明の、明黄色
固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが
得られる。残留塩素含有量は２００ｍｇ／ｋｇである。
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウム
十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１７．０ｇ（０．０
４４モル）を添加した。上記混合物を、その間溶液の透
明度を上げながら、１時間撹拌した。その後、水酸化カ
ルシウム５．０ｇ（０．０６８モル）、酸化カルシウム
５．０ｇ（０．０８９モル）を添加し、そして１時間撹
拌した。次いで、キーゼルグール クラルセル ＤＩＦ
Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０ｇを添加し、
３時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１００ないし１１０
℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には
１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用
して、ろ液を蒸発させた。残渣として、透明の、明黄色
固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが
得られる。残留塩素含有量は２００ｍｇ／ｋｇである。
【００２５】実施例７：低量の塩素を含むＬＣＴ安定剤
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、炭酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４７モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウ
ム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１０．０ｇ（０．
０２６モル）を添加した。上記混合物を、その間溶液の
透明度を上げながら、１時間撹拌した。その後、四ホウ
酸ナトリウム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）９．９
ｇ（０．０２６モル）、水酸化ナトリウム１．８ｇ
（０．０４５モル）および水９．９ｇ（０．５５モル）
からなる中和剤溶液を添加した。上記混合物を室温で３
０分間撹拌した。その後、水酸化カルシウム２．０ｇ
（０．０２７モル）、酸化カルシウム５．０ｇ（０．０
８９モル）およびキーゼルグール クラルセル ＤＩＦ
Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０ｇを添加し、
３時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１００ないし１１０
℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には
１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用
して、ろ液を蒸発させた。残渣として、透明の、明黄色
固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが
得られる。残留塩素含有量は４００ｍｇ／ｋｇである。
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、炭酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０４７モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウ
ム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１０．０ｇ（０．
０２６モル）を添加した。上記混合物を、その間溶液の
透明度を上げながら、１時間撹拌した。その後、四ホウ
酸ナトリウム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）９．９
ｇ（０．０２６モル）、水酸化ナトリウム１．８ｇ
（０．０４５モル）および水９．９ｇ（０．５５モル）
からなる中和剤溶液を添加した。上記混合物を室温で３
０分間撹拌した。その後、水酸化カルシウム２．０ｇ
（０．０２７モル）、酸化カルシウム５．０ｇ（０．０
８９モル）およびキーゼルグール クラルセル ＤＩＦ
Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０ｇを添加し、
３時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１００ないし１１０
℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そして最終的には
１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式蒸発機を使用
して、ろ液を蒸発させた。残渣として、透明の、明黄色
固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが
得られる。残留塩素含有量は４００ｍｇ／ｋｇである。
【００２６】実施例８：低量の塩素を含むＬＣＴ安定剤
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０３５モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウ
ム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）５．０ｇ（０．０
１３モル）および水２．５ｇ（０．１３９モル）を添加
した。上記混合物を、その間溶液の透明度を上げなが
ら、１時間撹拌した。その後、クロロベンゼン９４ｇ中
酸化カルシウム８．７ｇ（０．１５５モル）および炭酸
ナトリウム十水和物２．７ｇ（０．００９モル）からな
る懸濁溶液を添加した。最後に、キーゼルグール クラ
ルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．
０ｇを添加し、２時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１０
０ないし１１０℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そ
して最終的には１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転
式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させた。残渣として、
透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混
合物３５０ｇが得られる。残留塩素含有量は１２００ｍ
ｇ／ｋｇである。
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、硫酸ナトリウム５．０ｇ
（０．０３５モル）を添加し、続いて四ホウ酸ナトリウ
ム十水和物（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）５．０ｇ（０．０
１３モル）および水２．５ｇ（０．１３９モル）を添加
した。上記混合物を、その間溶液の透明度を上げなが
ら、１時間撹拌した。その後、クロロベンゼン９４ｇ中
酸化カルシウム８．７ｇ（０．１５５モル）および炭酸
ナトリウム十水和物２．７ｇ（０．００９モル）からな
る懸濁溶液を添加した。最後に、キーゼルグール クラ
ルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．
０ｇを添加し、２時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１０
０ないし１１０℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そ
して最終的には１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転
式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させた。残渣として、
透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混
合物３５０ｇが得られる。残留塩素含有量は１２００ｍ
ｇ／ｋｇである。
【００２７】実施例９：低量の塩素を含むＬＣＴ安定剤
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、四ホウ酸ナトリウム十水和物
（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）５．０ｇ（０．０１３モ
ル）、粉末炭酸カルシウム１０．０ｇ（０．１０モ
ル）、硫酸ナトリウム５．０ｇ（０．０３５モル）を添
加し、続いて水２．５ｇ（０．１３９モル）を添加し
た。上記混合物を、その間溶液の透明度を上げながら、
１時間撹拌した。その後、酸化カルシウム５．０ｇ
（０．０８９モル）を添加し、そして該混合物を１時
間、室温で撹拌した。最後に、キーゼルグール クラル
セル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０
ｇを添加し、２時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１００
ないし１１０℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そし
て最終的には１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式
蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させた。残渣として、透
明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合
物３５０ｇが得られる。残留塩素含有量は２１００ｍｇ
／ｋｇである。
混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、２０℃まで
冷却した。この混合物に、四ホウ酸ナトリウム十水和物
（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）５．０ｇ（０．０１３モ
ル）、粉末炭酸カルシウム１０．０ｇ（０．１０モ
ル）、硫酸ナトリウム５．０ｇ（０．０３５モル）を添
加し、続いて水２．５ｇ（０．１３９モル）を添加し
た。上記混合物を、その間溶液の透明度を上げながら、
１時間撹拌した。その後、酸化カルシウム５．０ｇ
（０．０８９モル）を添加し、そして該混合物を１時
間、室温で撹拌した。最後に、キーゼルグール クラル
セル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DIF B)(RTM)５．０
ｇを添加し、２時間２５℃で撹拌した。ろ過後、１００
ないし１１０℃／３５０ないし３１０ｍｂａｒで、そし
て最終的には１７０℃／＜１０ｍｂａｒで、真空回転式
蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させた。残渣として、透
明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）のＬＣＴ安定剤混合
物３５０ｇが得られる。残留塩素含有量は２１００ｍｇ
／ｋｇである。
【００２８】実施例１０：低量の塩素を含むＬＣＴ安定
剤混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、１５℃まで
冷却した。この混合物に、四ホウ酸ナトリウム十水和物
（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１０．０ｇ（０．０２６モ
ル）および水４．０ｇ（０．２２２モル）を添加した。
上記混合物を、その間溶液の透明度を上げながら、２時
間撹拌した。その後、粉末無水炭酸ナトリウム１０．１
ｇ（０．０９５モル）を添加し、１時間撹拌した。次い
で、酸化カルシウム５．０ｇ（０．０８９モル）を添加
し、そして該混合物を１時間撹拌した。最後に、キーゼ
ルグール クラルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DI
F B)(RTM)５．０ｇを添加し、２時間２５℃で撹拌し
た。ろ過後、１００ないし１１０℃／３５０ないし３１
０ｍｂａｒで、そして最終的には１７０℃／＜１０ｍｂ
ａｒで、真空回転式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させ
た。残渣として、透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）
のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが得られる。残留塩素含
有量は２５０ｍｇ／ｋｇである。
剤混合物の製造 実施例１で得られた安定剤混合物の粗製クロロベンゼン
溶液（３５％ｗ／ｗ）１０００ｇを撹拌下、１５℃まで
冷却した。この混合物に、四ホウ酸ナトリウム十水和物
（Ｎａ2Ｂ4Ｏ7１０Ｈ2Ｏ）１０．０ｇ（０．０２６モ
ル）および水４．０ｇ（０．２２２モル）を添加した。
上記混合物を、その間溶液の透明度を上げながら、２時
間撹拌した。その後、粉末無水炭酸ナトリウム１０．１
ｇ（０．０９５モル）を添加し、１時間撹拌した。次い
で、酸化カルシウム５．０ｇ（０．０８９モル）を添加
し、そして該混合物を１時間撹拌した。最後に、キーゼ
ルグール クラルセル ＤＩＦ Ｂ(Kieselgur Clarcel DI
F B)(RTM)５．０ｇを添加し、２時間２５℃で撹拌し
た。ろ過後、１００ないし１１０℃／３５０ないし３１
０ｍｂａｒで、そして最終的には１７０℃／＜１０ｍｂ
ａｒで、真空回転式蒸発機を使用して、ろ液を蒸発させ
た。残渣として、透明の、明黄色固体（Ｔｇ＝６５℃）
のＬＣＴ安定剤混合物３５０ｇが得られる。残留塩素含
有量は２５０ｍｇ／ｋｇである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 サラテ，ロナルド スイス国，4312 マグデン，マイエンゲス リ １
Claims (10)
- 【請求項１】 ａ）次式Ｉ 【化１】 で表されるジホスホナイト５０ないし８０重量％ ｂ）次式ＩＩ 【化２】 で表されるモノホスホナイト５ないし２５重量％、およ
び ｃ）次式ＩＩＩ 【化３】 で表されるホスフィット５ないし２５重量％（式Ｉ、Ｉ
ＩおよびＩＩＩ中、Ｒは次式ＩＶ 【化４】 で表される基を表す。）からなり、そして式Ｉ、ＩＩお
よびＩＩＩで表される化合物の全量が１００重量％より
多くない、低量の塩素を含む安定剤混合物を、フリーデ
ル−クラフツ反応条件下で次式Ｖ 【化５】 で表されるビフェニルを三塩化リンおよび三塩化アルミ
ニウムと反応させることにより、そして形成された二つ
の層を分離しつつ、第三アミンまたは芳香族アミンおよ
び溶媒の存在下で生成物混合物を次式ＶＩ 【化６】 で表される２，４−ジ第三ブチルフェノールと反応させ
ることにより製造する方法であって、溶媒層を水、塩基
および乾燥剤で処理すること、安定剤混合物を含む溶液
から沈殿物を分離し、そして溶媒を蒸発させることを含
む製造方法。 - 【請求項２】 第三アミンが次式ＶＩＩ 【化７】 （式中、Ｒ1、Ｒ2およびＲ3は同一であるか、または異
なっており、炭素原子数１ないし２４のアルキル基、酸
素原子１個もしくはそれより多くにより中断された炭素
原子数４ないし２４のアルキル基、フェニル基、炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子数７な
いし９のアルキルフェニル基を表すか；あるいはＲ1、
Ｒ2およびＲ3の２つはそれらが結合している窒素原子と
一緒になって、任意により更なる酸素原子、窒素原子ま
たはイオウ原子を含み、そして任意により炭素原子数１
ないし４のアルキル基１個もしくはそれより多くにより
置換された５−、６−または７員環複素環式残基を形成
し、そしてＲ1、Ｒ2およびＲ 3の残りの１つは炭素原子
数１ないし２４のアルキル基または酸素原子１個もしく
はそれより多くにより中断された炭素原子数４ないし２
４のアルキル基を表す。）で表される化合物である請求
項１記載の方法。 - 【請求項３】 芳香族アミンが、任意により炭素原子数
１ないし４のアルキル基１個もしくはそれより多くによ
り置換されたピリジンである請求項１記載の方法。 - 【請求項４】 溶媒が、任意により塩素原子または炭素
原子数１ないし４のアルキル基１個もしくはそれより多
くにより置換されたベンゼンである請求項１記載の方
法。 - 【請求項５】 塩基が、アルカリ金属またはアルカリ土
類金属の水酸化物、酸化物、リン酸水素塩、リン酸二水
素塩、炭酸塩、炭酸水素塩または四ホウ酸塩である請求
項１記載の方法。 - 【請求項６】 乾燥剤が、アルカリ金属の硫酸塩、アル
カリ土類金属の硫酸塩もしくは酸化物、モレキュラシー
ブまたは酸化アルミニウムである請求項１記載の方法。 - 【請求項７】 安定剤混合物を含む溶液から沈殿物を分
離する前に、溶媒層を付加的にろ過助剤で処理すること
を含む請求項１記載の方法。 - 【請求項８】 ろ過助剤が酸性白土または滴虫土である
請求項７記載の方法。 - 【請求項９】 温度範囲０ないし２５℃で溶媒層を水、
塩基および乾燥剤で処理することを含む請求項１記載の
方法。 - 【請求項１０】 溶媒層を、溶媒層の重量を基準として
０．１ないし１０重量％の量の水で処理することを含む
請求項１記載の方法。
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