JPH09221490A - 新規な結晶形を有するテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト - Google Patents
新規な結晶形を有するテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイトInfo
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- JPH09221490A JPH09221490A JP8245282A JP24528296A JPH09221490A JP H09221490 A JPH09221490 A JP H09221490A JP 8245282 A JP8245282 A JP 8245282A JP 24528296 A JP24528296 A JP 24528296A JP H09221490 A JPH09221490 A JP H09221490A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 安定化特性が向上したテトラキス−(2,4
−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン
ジホスホナイトを提供する。 【構成】 融点が185℃〜186℃であり、下記式を
有する、結晶形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイ
ト。 【化1】
−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン
ジホスホナイトを提供する。 【構成】 融点が185℃〜186℃であり、下記式を
有する、結晶形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイ
ト。 【化1】
Description
【0001】本発明は、新規な結晶形を有するテトラキ
ス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−
ビフェニレンジホスホナイトに関し、より詳しくは、新
規な結晶形を有するテトラキス−(2,4−ジ−t−ブ
チルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイ
ト、およびその有機重合体における安定剤としての使用
に関する。本発明の別の目的は、上記のジホスホナイト
で安定化させた重合体組成物に関する。
ス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−
ビフェニレンジホスホナイトに関し、より詳しくは、新
規な結晶形を有するテトラキス−(2,4−ジ−t−ブ
チルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイ
ト、およびその有機重合体における安定剤としての使用
に関する。本発明の別の目的は、上記のジホスホナイト
で安定化させた重合体組成物に関する。
【0002】例えば英国特許第1,372,528号お
よび米国特許第3,852,629号および第4,07
5,163号に記載されているテトラキス−(2,4−
ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジ
ホスホナイトは、式
よび米国特許第3,852,629号および第4,07
5,163号に記載されているテトラキス−(2,4−
ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジ
ホスホナイトは、式
【化3】 を有する化合物であり、環境条件、主として紫外線、に
長時間さらされた時に劣化し、また処理および成形工程
の際に達する高温のために容易に劣化する有機材料用、
特に有機重合体用の安定剤として使用される。これらの
劣化により、有機重合体の物理的特性の低下、例えば破
断負荷およびたわみ性の低下、を引き起こし、それと共
に粘度係数が変化し、最終製品の光学特性も変化する。
通常、少量の安定性付与化合物を有機重合体中に導入
し、これらの劣化を防止する。上記の特許は、ビフェニ
ルを三塩化アルミニウム(AlCl3 )および三塩化リ
ン(PCl3 )と反応させ、三塩化アルミニウムと錯体
形成した4,4’−ビフェニル−ビス−ジクロロホスフ
ィンを形成し、適当な錯化剤を使用して反応混合物から
三塩化アルミニウムを分離し、続いて4,4’−ビフェ
ニル−ビス−ジクロロホスフィンを2,4−ジ−t−ブ
チルフェノールと反応させる、テトラキス−(2,4−
ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジ
ホスホナイトの製造方法も記載している。上記特許の表
1、実施例12は、融点が94℃〜96℃である結晶形
態のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)
−4,4’−ビフェニレンジホスホナイトを示してい
る。
長時間さらされた時に劣化し、また処理および成形工程
の際に達する高温のために容易に劣化する有機材料用、
特に有機重合体用の安定剤として使用される。これらの
劣化により、有機重合体の物理的特性の低下、例えば破
断負荷およびたわみ性の低下、を引き起こし、それと共
に粘度係数が変化し、最終製品の光学特性も変化する。
通常、少量の安定性付与化合物を有機重合体中に導入
し、これらの劣化を防止する。上記の特許は、ビフェニ
ルを三塩化アルミニウム(AlCl3 )および三塩化リ
ン(PCl3 )と反応させ、三塩化アルミニウムと錯体
形成した4,4’−ビフェニル−ビス−ジクロロホスフ
ィンを形成し、適当な錯化剤を使用して反応混合物から
三塩化アルミニウムを分離し、続いて4,4’−ビフェ
ニル−ビス−ジクロロホスフィンを2,4−ジ−t−ブ
チルフェノールと反応させる、テトラキス−(2,4−
ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジ
ホスホナイトの製造方法も記載している。上記特許の表
1、実施例12は、融点が94℃〜96℃である結晶形
態のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)
−4,4’−ビフェニレンジホスホナイトを示してい
る。
【0003】この様にして得られる化合物は、それ自体
が単独で、または他の公知の安定剤、例えば立体障害を
有するフェノールまたはホスファイト、との組合せで、
有機材料の安定化に使用される。この分野で公知の様に
テトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトと呼ばれること
が多い市販の製品Sandostab P-EPQ は、純粋な結晶性製
品ではなく、 −テトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト約70%、 −トリス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−ホス
ファイト約15%、 −ビス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4−ビ
フェニル−ホスホナイト約10%、および −2,4−ジ−t−ブチルフェノール約1.7%の混合
物である。
が単独で、または他の公知の安定剤、例えば立体障害を
有するフェノールまたはホスファイト、との組合せで、
有機材料の安定化に使用される。この分野で公知の様に
テトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトと呼ばれること
が多い市販の製品Sandostab P-EPQ は、純粋な結晶性製
品ではなく、 −テトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト約70%、 −トリス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−ホス
ファイト約15%、 −ビス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4−ビ
フェニル−ホスホナイト約10%、および −2,4−ジ−t−ブチルフェノール約1.7%の混合
物である。
【0004】ここで本発明者は驚くべきことに、融点が
185℃〜186℃であり、白色の、流動性が良く、加
水分解安定性が公知の市販ホスホナイトのそれよりも優
れた(図3参照)、新規な結晶形態のテトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトを開発した。そこで本発明は、
式
185℃〜186℃であり、白色の、流動性が良く、加
水分解安定性が公知の市販ホスホナイトのそれよりも優
れた(図3参照)、新規な結晶形態のテトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトを開発した。そこで本発明は、
式
【化4】 を有する、結晶形態の、融点が185℃〜186℃であ
るテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトに関する。上記
のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトは、分光法(31
P−NMRおよび 1H−NMR)、DSC(示差走査熱
量測定)、およびCuKα放射線およびニッケルフィル
ターを使用し、粉末用のPhilips 測角測光計で行なうX
線回折測定法により分析した。分光分析(31P−NMR
および 1H−NMR)およびDSCの結果は実施例中に
示してあり、回折測定法による分析(XRD)の結果は
表1および図1に示す。
るテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトに関する。上記
のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトは、分光法(31
P−NMRおよび 1H−NMR)、DSC(示差走査熱
量測定)、およびCuKα放射線およびニッケルフィル
ターを使用し、粉末用のPhilips 測角測光計で行なうX
線回折測定法により分析した。分光分析(31P−NMR
および 1H−NMR)およびDSCの結果は実施例中に
示してあり、回折測定法による分析(XRD)の結果は
表1および図1に示す。
【0005】本発明の結晶性テトラキス−(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトは、(a)ビフェニルおよび三塩化リン(P
Cl3 )を、フリーデル−クラフツ触媒の存在下で反応
させる工程、(b)溶剤の存在下で、適当な錯化剤を使
用し、フリーデル−クラフツ触媒との該付加物を分解す
ることにより、工程(a)で得たビフェニル−ビス−ジ
クロロホスフィンを分離する工程、(c)溶剤の存在下
または不存在下で、工程(b)で回収されたビフェニル
−ビス−ジクロロホスフィンを2,4−ジ−t−ブチル
フェノールと反応させる工程、および(d)溶剤の存在
下で、工程(c)で得られたテトラキス−(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトを結晶化させる工程を含んで成る方法により
製造することができる。
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトは、(a)ビフェニルおよび三塩化リン(P
Cl3 )を、フリーデル−クラフツ触媒の存在下で反応
させる工程、(b)溶剤の存在下で、適当な錯化剤を使
用し、フリーデル−クラフツ触媒との該付加物を分解す
ることにより、工程(a)で得たビフェニル−ビス−ジ
クロロホスフィンを分離する工程、(c)溶剤の存在下
または不存在下で、工程(b)で回収されたビフェニル
−ビス−ジクロロホスフィンを2,4−ジ−t−ブチル
フェノールと反応させる工程、および(d)溶剤の存在
下で、工程(c)で得られたテトラキス−(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトを結晶化させる工程を含んで成る方法により
製造することができる。
【0006】上記方法の工程(a)における好ましいフ
リーデル−クラフツ触媒は三塩化アルミニウム(AlC
l3 )である。この場合、ビフェニル/PCl3 /Al
Cl3 のモル比は1/2/2〜1/10/5、好ましく
は1/5/2〜1/8/4である。工程(a)は、温度
40℃〜80℃、好ましくは60℃〜75℃で5〜12
時間、好ましくは7〜10時間行なう。反応後、減圧蒸
留により未反応の三塩化リンを除去する。工程(b)で
は、例えばオキシ塩化リン(POCl3 )、第3級アミ
ン、ピリジン、等の適当な錯化剤を使用し、フリーデル
−クラフツ触媒をビフェニル−ビス−ジクロロホスフィ
ンから分離する。好ましい錯化剤であるオキシ塩化リン
の場合、POCl3 /AlCl3 のモル比は1/1〜3
/1、好ましくは1/1〜2/1である。工程(b)で
有用な溶剤は、三塩化リン(PCl3 )、モノクロロベ
ンゼン、トルエン、等の炭化水素である。次いで、遠心
分離や濾過などの通常の技術を使用し、ビフェニル−ビ
ス−ジクロロホスフィンの溶液を三塩化アルミニウム
(AlCl3 )の固体錯体から分離してビフェニル−ビ
ス−ジクロロホスフィンを回収し、続いて減圧蒸留によ
り溶剤を除去する。
リーデル−クラフツ触媒は三塩化アルミニウム(AlC
l3 )である。この場合、ビフェニル/PCl3 /Al
Cl3 のモル比は1/2/2〜1/10/5、好ましく
は1/5/2〜1/8/4である。工程(a)は、温度
40℃〜80℃、好ましくは60℃〜75℃で5〜12
時間、好ましくは7〜10時間行なう。反応後、減圧蒸
留により未反応の三塩化リンを除去する。工程(b)で
は、例えばオキシ塩化リン(POCl3 )、第3級アミ
ン、ピリジン、等の適当な錯化剤を使用し、フリーデル
−クラフツ触媒をビフェニル−ビス−ジクロロホスフィ
ンから分離する。好ましい錯化剤であるオキシ塩化リン
の場合、POCl3 /AlCl3 のモル比は1/1〜3
/1、好ましくは1/1〜2/1である。工程(b)で
有用な溶剤は、三塩化リン(PCl3 )、モノクロロベ
ンゼン、トルエン、等の炭化水素である。次いで、遠心
分離や濾過などの通常の技術を使用し、ビフェニル−ビ
ス−ジクロロホスフィンの溶液を三塩化アルミニウム
(AlCl3 )の固体錯体から分離してビフェニル−ビ
ス−ジクロロホスフィンを回収し、続いて減圧蒸留によ
り溶剤を除去する。
【0007】工程(c)で、ビフェニル−ビス−ジクロ
ロホスフィンと2,4−ジ−t−ブチルフェノールの反
応は、塊状で、またはモノクロロベンゼン、トルエン、
等の炭化水素から選択された溶剤の存在下で、2%〜3
0%、好ましくは5%〜25%の過剰の2,4−ジ−t
−ブチルフェノールを使用して行ない、反応中に形成さ
れた塩酸を、反応混合物中に不活性ガスを通すことによ
り、あるいは第3級アミンまたはピリジンを使用して除
去する。反応は、温度100℃〜170℃、好ましくは
120℃〜160℃で、6〜15時間、好ましくは8〜
13時間行なう。反応後、塩が形成された場合にはそれ
を濾別し、減圧蒸留により溶剤を除去する。工程(d)
で使用できる結晶化溶剤は、メチルエチルケトン、アセ
トンなどのケトンである。結晶化には、最初に反応混合
物を溶剤の沸点に加熱し、固体が完全に溶解するまで攪
拌し、続いて、得られた溶液を、穏やかに攪拌しなが
ら、結晶化が起こるまで、0℃〜20℃に徐々に冷却す
る。こうして得られた結晶を溶液から濾別し、減圧下で
乾燥させる。工程(d)で得られた結晶性テトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトは、その融点(185℃〜18
6℃)を超える温度に加熱し、得られた溶融物を急冷す
ることができる。この場合、無定形のテトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトが得られる。
ロホスフィンと2,4−ジ−t−ブチルフェノールの反
応は、塊状で、またはモノクロロベンゼン、トルエン、
等の炭化水素から選択された溶剤の存在下で、2%〜3
0%、好ましくは5%〜25%の過剰の2,4−ジ−t
−ブチルフェノールを使用して行ない、反応中に形成さ
れた塩酸を、反応混合物中に不活性ガスを通すことによ
り、あるいは第3級アミンまたはピリジンを使用して除
去する。反応は、温度100℃〜170℃、好ましくは
120℃〜160℃で、6〜15時間、好ましくは8〜
13時間行なう。反応後、塩が形成された場合にはそれ
を濾別し、減圧蒸留により溶剤を除去する。工程(d)
で使用できる結晶化溶剤は、メチルエチルケトン、アセ
トンなどのケトンである。結晶化には、最初に反応混合
物を溶剤の沸点に加熱し、固体が完全に溶解するまで攪
拌し、続いて、得られた溶液を、穏やかに攪拌しなが
ら、結晶化が起こるまで、0℃〜20℃に徐々に冷却す
る。こうして得られた結晶を溶液から濾別し、減圧下で
乾燥させる。工程(d)で得られた結晶性テトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトは、その融点(185℃〜18
6℃)を超える温度に加熱し、得られた溶融物を急冷す
ることができる。この場合、無定形のテトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトが得られる。
【0008】そこで本発明のもう一つの目的は、ガラス
転移温度(Tg )が78℃〜84℃である、式
転移温度(Tg )が78℃〜84℃である、式
【化5】 を有する無定形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト
である。無定形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト
は、DSC(示差走査熱量測定)、およびCuKα放射
線およびニッケルフィルターを使用し、粉末用のPhilip
s 測角測光計で行なうX線回折測定法により分析した。
DSC分析の結果は実施例中に示してあり、回折測定分
析(XRD)の結果は図2に示す。無定形のテトラキス
−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビ
フェニレンジホスホナイトは、加水分解安定性が、公知
の市販ホスホナイトのそれよりも高い(図3参照)。
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト
である。無定形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチ
ルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト
は、DSC(示差走査熱量測定)、およびCuKα放射
線およびニッケルフィルターを使用し、粉末用のPhilip
s 測角測光計で行なうX線回折測定法により分析した。
DSC分析の結果は実施例中に示してあり、回折測定分
析(XRD)の結果は図2に示す。無定形のテトラキス
−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビ
フェニレンジホスホナイトは、加水分解安定性が、公知
の市販ホスホナイトのそれよりも高い(図3参照)。
【0009】溶融物を急速固化させるのに適した急冷
は、この分野で公知のいずれかの方法により行なうこと
ができる。好ましい方法では、 −溶融物を、例えば室温以下の温度の低温金属シート上
に流す、 −溶融物を、非溶剤で、非反応性の、例えば室温以下の
低温液体中に注ぎ込む、あるいは −噴射造粒と同様の技術により、溶融物をガス(例えば
窒素)中に滴下して冷却する。 上記の技術により、状況に応じて、フレーキングおよび
/または粉砕にかけるべき固体の形態にある、または所
望の大きさを有する自由流動性の顆粒の形態にある、無
定形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイトを製造す
ることができる。
は、この分野で公知のいずれかの方法により行なうこと
ができる。好ましい方法では、 −溶融物を、例えば室温以下の温度の低温金属シート上
に流す、 −溶融物を、非溶剤で、非反応性の、例えば室温以下の
低温液体中に注ぎ込む、あるいは −噴射造粒と同様の技術により、溶融物をガス(例えば
窒素)中に滴下して冷却する。 上記の技術により、状況に応じて、フレーキングおよび
/または粉砕にかけるべき固体の形態にある、または所
望の大きさを有する自由流動性の顆粒の形態にある、無
定形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイトを製造す
ることができる。
【0010】本発明の、結晶形ならびに無定形のテトラ
キス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’
−ビフェニレンジホスホナイト(以下、テトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトは結晶形ならびに無定形にある
ものと考える)は、オレフィン系ポリマー、ポリカーボ
ネート、ポリエステル、重合体アロイ、ABS、等の、
あらゆる有機重合体の、光および/または熱により引き
起こされる酸化劣化に対する安定化に使用することがで
きる。そこで、本発明の別の目的は、有機重合体および
安定化させる量の、本発明のテトラキス−(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトを含んで成る、安定化させた重合体組成物に
関する。一般的に、本発明のテトラキス−(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトは、安定化させるべき重合体組成物中に、
0.005〜5重量%の量で配合することができる。し
かし、使用する安定化化合物の量は、安定化させるべき
重合体基材および最終製品の用途に応じて変えることが
できる。好ましい実施態様では、重合体組成物は0.0
05〜2重量%、好ましくは0.05〜1重量%の量の
安定剤を含む。
キス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’
−ビフェニレンジホスホナイト(以下、テトラキス−
(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフ
ェニレンジホスホナイトは結晶形ならびに無定形にある
ものと考える)は、オレフィン系ポリマー、ポリカーボ
ネート、ポリエステル、重合体アロイ、ABS、等の、
あらゆる有機重合体の、光および/または熱により引き
起こされる酸化劣化に対する安定化に使用することがで
きる。そこで、本発明の別の目的は、有機重合体および
安定化させる量の、本発明のテトラキス−(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトを含んで成る、安定化させた重合体組成物に
関する。一般的に、本発明のテトラキス−(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホ
スホナイトは、安定化させるべき重合体組成物中に、
0.005〜5重量%の量で配合することができる。し
かし、使用する安定化化合物の量は、安定化させるべき
重合体基材および最終製品の用途に応じて変えることが
できる。好ましい実施態様では、重合体組成物は0.0
05〜2重量%、好ましくは0.05〜1重量%の量の
安定剤を含む。
【0011】本発明のテトラキス−(2,4−ジ−t−
ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナ
イトは、最終製品の製造工程前に、通常の技術により有
機重合体中に配合することができる。例えば、安定剤の
粉末を重合体粉末と混合する、あるいは安定剤の懸濁液
またはエマルションを重合体粉末と、または重合体の懸
濁液またはエマルションと混合することができる。本発
明の別の目的である安定化させた重合体組成物は、所望
により各種の通常の添加剤またはそれらの混合物を、
0.01〜5重量%、好ましくは0.025〜2重量
%、より好ましくは0.1〜1重量%の量で含むことが
できる。例えば、通常の添加剤としては、ホスファイ
ト、立体障害を有するアミンまたは光および紫外線に対
する他の安定剤、立体障害を有するフェノール、「金属
不活性化剤」、ヒドロキシルアミン、塩基性共安定剤、
核形成剤、補強性充填材および補強材、他の添加剤、例
えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光学光沢剤、難燃
性付与剤、帯電防止剤、膨脹剤、チオ相乗剤(例えばチ
オジプロピオン酸ジラウリルまたはチオジプロピオン酸
ジステアリル)を挙げることができる。下記の実施例
は、本発明およびその実施態様をより良い理解のための
ものであり、本発明の範囲を制限するものではない。
ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナ
イトは、最終製品の製造工程前に、通常の技術により有
機重合体中に配合することができる。例えば、安定剤の
粉末を重合体粉末と混合する、あるいは安定剤の懸濁液
またはエマルションを重合体粉末と、または重合体の懸
濁液またはエマルションと混合することができる。本発
明の別の目的である安定化させた重合体組成物は、所望
により各種の通常の添加剤またはそれらの混合物を、
0.01〜5重量%、好ましくは0.025〜2重量
%、より好ましくは0.1〜1重量%の量で含むことが
できる。例えば、通常の添加剤としては、ホスファイ
ト、立体障害を有するアミンまたは光および紫外線に対
する他の安定剤、立体障害を有するフェノール、「金属
不活性化剤」、ヒドロキシルアミン、塩基性共安定剤、
核形成剤、補強性充填材および補強材、他の添加剤、例
えば可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光学光沢剤、難燃
性付与剤、帯電防止剤、膨脹剤、チオ相乗剤(例えばチ
オジプロピオン酸ジラウリルまたはチオジプロピオン酸
ジステアリル)を挙げることができる。下記の実施例
は、本発明およびその実施態様をより良い理解のための
ものであり、本発明の範囲を制限するものではない。
【0012】実施例1 結晶形態のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェ
ニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合
物番号1) 不活性雰囲気中で操作し、プロペラ攪拌機、温度計およ
び冷却器を取り付けた500mlフラスコ中で、ビフェニ
ル40g、三塩化リン240gおよび三塩化アルミニウ
ム104.6gを混合する。混合物を三塩化リンの沸点
(75℃)に加熱し、反応混合物を強く攪拌しながら、
発生する塩酸を水中に捕獲する。反応混合物をこれらの
条件下に7〜8時間維持する。反応後、減圧蒸留により
未反応の三塩化リンを除去する。得られた赤色オイルを
モノクロロベンゼン300g中に懸濁させ、10℃に冷
却し、得られた低温の懸濁液にオキシ塩化リン120.
3gを滴下して加え、強く攪拌する。形成された黄白色
の固体を濾別する。得られた濾液を減圧蒸留してモノク
ロロベンゼンを除去し、黄−オレンジ色のオイル86.
2gを得る。得られたオイルをモノクロロベンゼン35
0g中に再溶解させ、この溶液に2,4−ジ−t−ブチ
ルフェノール240gを加える。反応混合物をモノクロ
ロベンゼンの沸点(132℃)に加熱し、反応中に放出
される塩酸を水中に捕獲する。反応混合物を攪拌しなが
らこれらの条件下に12時間保持する。モノクロロベン
ゼンおよび未反応2,4−ジ−t−ブチルフェノールを
減圧蒸留により除去する。黄色の固体239gが得られ
るので、これを、プロペラ攪拌機、温度計および冷却器
を取り付けた1リットルフラスコ中で、メチルエチルケ
トン480mlと混合する。混合物を80℃に加熱し、固
体が完全に溶解するまで攪拌する。次いで溶液を徐々に
10℃まで冷却し、結晶化が起こるまでゆっくり攪拌す
る。得られた結晶を濾過して集め、低温のメチルエチル
ケトンで洗浄し、次いで減圧下で乾燥させる。下記の特
性を有する、結晶性のテトラキス−(2,4−ジ−t−
ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナ
イト(化合物番号1)80gが得られる。 −融点(DSC):185.7℃、ΔH=62.4 J/g −31P−NMR(200 MHz、CDCl3 −H3 P
O4 )δ(ppm) (プロトンによりデカップリングされて
いる):−154 s(2P) −31P−NMR(200 MHz、CDCl3 −H3 P
O4 )δ(ppm) (プロトンによりデカップリングされて
いない):−154 t(2P) −31P−NMR(200 MHz、CDCl3 −H3 P
O4 )δ(ppm) :8.03m(4H),7.78m(4
H);7.35m(4H);7.14m(8H);1.
35s(36H);1.31s(36H) −純度(ガスクロマトグラフィー):≧98% 図1は、粉末のX線回折分析(XRD)に関連するスペ
クトルを示す。表1は、粉末のX線回折分析(XRD)
に関連する主要反射の一覧を示す。表1
ニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合
物番号1) 不活性雰囲気中で操作し、プロペラ攪拌機、温度計およ
び冷却器を取り付けた500mlフラスコ中で、ビフェニ
ル40g、三塩化リン240gおよび三塩化アルミニウ
ム104.6gを混合する。混合物を三塩化リンの沸点
(75℃)に加熱し、反応混合物を強く攪拌しながら、
発生する塩酸を水中に捕獲する。反応混合物をこれらの
条件下に7〜8時間維持する。反応後、減圧蒸留により
未反応の三塩化リンを除去する。得られた赤色オイルを
モノクロロベンゼン300g中に懸濁させ、10℃に冷
却し、得られた低温の懸濁液にオキシ塩化リン120.
3gを滴下して加え、強く攪拌する。形成された黄白色
の固体を濾別する。得られた濾液を減圧蒸留してモノク
ロロベンゼンを除去し、黄−オレンジ色のオイル86.
2gを得る。得られたオイルをモノクロロベンゼン35
0g中に再溶解させ、この溶液に2,4−ジ−t−ブチ
ルフェノール240gを加える。反応混合物をモノクロ
ロベンゼンの沸点(132℃)に加熱し、反応中に放出
される塩酸を水中に捕獲する。反応混合物を攪拌しなが
らこれらの条件下に12時間保持する。モノクロロベン
ゼンおよび未反応2,4−ジ−t−ブチルフェノールを
減圧蒸留により除去する。黄色の固体239gが得られ
るので、これを、プロペラ攪拌機、温度計および冷却器
を取り付けた1リットルフラスコ中で、メチルエチルケ
トン480mlと混合する。混合物を80℃に加熱し、固
体が完全に溶解するまで攪拌する。次いで溶液を徐々に
10℃まで冷却し、結晶化が起こるまでゆっくり攪拌す
る。得られた結晶を濾過して集め、低温のメチルエチル
ケトンで洗浄し、次いで減圧下で乾燥させる。下記の特
性を有する、結晶性のテトラキス−(2,4−ジ−t−
ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナ
イト(化合物番号1)80gが得られる。 −融点(DSC):185.7℃、ΔH=62.4 J/g −31P−NMR(200 MHz、CDCl3 −H3 P
O4 )δ(ppm) (プロトンによりデカップリングされて
いる):−154 s(2P) −31P−NMR(200 MHz、CDCl3 −H3 P
O4 )δ(ppm) (プロトンによりデカップリングされて
いない):−154 t(2P) −31P−NMR(200 MHz、CDCl3 −H3 P
O4 )δ(ppm) :8.03m(4H),7.78m(4
H);7.35m(4H);7.14m(8H);1.
35s(36H);1.31s(36H) −純度(ガスクロマトグラフィー):≧98% 図1は、粉末のX線回折分析(XRD)に関連するスペ
クトルを示す。表1は、粉末のX線回折分析(XRD)
に関連する主要反射の一覧を示す。表1
【表1】 (a)=格子面間隔 (b)=相対強度:vs=非常に強い(60〜10
0)、v=強い(40〜60)、m=中程度(20〜4
0)、w=弱い(0.20)
0)、v=強い(40〜60)、m=中程度(20〜4
0)、w=弱い(0.20)
【0013】実施例2 無定形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合物
番号2) 不活性雰囲気中で操作し、プロペラ攪拌機、温度計およ
び冷却器を取り付けた100mlの二つ口フラスコ中に、
実施例1で得た結晶形のテトラキス−(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホ
ナイト(化合物番号1)50gを入れる。内容物を結晶
が完全に融解するまで徐々に195℃に加熱する。この
温度で約15分間ゆるやかに攪拌した後、溶融物を低温
のアルミニウムシート上に流し、得られた固体をフレー
クの形態に変換した。下記の特性を有する無定形のテト
ラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,
4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合物番号2)5
0gが得られる。 −ガラス転移温度(DSC):78℃〜84℃ −純度(ガスクロマトグラフィー):≧98% 図2は、粉末のX線回折分析(XRD)に関連するスペ
クトルを示す。
ル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合物
番号2) 不活性雰囲気中で操作し、プロペラ攪拌機、温度計およ
び冷却器を取り付けた100mlの二つ口フラスコ中に、
実施例1で得た結晶形のテトラキス−(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホ
ナイト(化合物番号1)50gを入れる。内容物を結晶
が完全に融解するまで徐々に195℃に加熱する。この
温度で約15分間ゆるやかに攪拌した後、溶融物を低温
のアルミニウムシート上に流し、得られた固体をフレー
クの形態に変換した。下記の特性を有する無定形のテト
ラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,
4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合物番号2)5
0gが得られる。 −ガラス転移温度(DSC):78℃〜84℃ −純度(ガスクロマトグラフィー):≧98% 図2は、粉末のX線回折分析(XRD)に関連するスペ
クトルを示す。
【0014】実施例3 実施例1で得た結晶形のテトラキス−(2,4−ジ−t
−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホ
ナイト(化合物番号1)および実施例2で得た無定形の
テトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合物番号
2)の加水分解安定性を、Sandostab P-EPQとして知ら
れる市販製品と比較する。試験すべき各化合物(化合物
番号1、化合物番号2およびSandostab P-EPQ )につい
て、各化合物約1gを含む4個のアルミニウムカプセル
を調製した。カプセルに1〜4の番号を付け、続いて密
閉オーブン中に入れ、温度55℃および相対湿度100
%に維持する。下記の表2に示す各時間にカプセルをオ
ーブンから取り出す。 カプセル中に含まれていた化合物をトルエン中に溶解さ
せ、存在する濁りをすべて濾別し、ガスクロマトグラフ
ィー分析にかけ、上記のオーブン処理の際に放出された
2,4−ジ−t−ブチルフェノールの量を測定する。得
られた結果を図3に示す(横軸に時間を示し、縦軸にガ
スクロマトグラフィーで測定した2,4−ジ−t−ブチ
ルフェノールの%を示す)。
−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホ
ナイト(化合物番号1)および実施例2で得た無定形の
テトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイト(化合物番号
2)の加水分解安定性を、Sandostab P-EPQとして知ら
れる市販製品と比較する。試験すべき各化合物(化合物
番号1、化合物番号2およびSandostab P-EPQ )につい
て、各化合物約1gを含む4個のアルミニウムカプセル
を調製した。カプセルに1〜4の番号を付け、続いて密
閉オーブン中に入れ、温度55℃および相対湿度100
%に維持する。下記の表2に示す各時間にカプセルをオ
ーブンから取り出す。 カプセル中に含まれていた化合物をトルエン中に溶解さ
せ、存在する濁りをすべて濾別し、ガスクロマトグラフ
ィー分析にかけ、上記のオーブン処理の際に放出された
2,4−ジ−t−ブチルフェノールの量を測定する。得
られた結果を図3に示す(横軸に時間を示し、縦軸にガ
スクロマトグラフィーで測定した2,4−ジ−t−ブチ
ルフェノールの%を示す)。
【0015】実施例4 実施例1で得た化合物(化合物番号1)の加工安定化活
性を市販製品のSandostab P-EPQ のそれと比較する。活
性は、供試化合物0.1重量%を添加したポリプロピレ
ン(MOPLEN FLF 20)またはポリエチレン(LLDPE ERACLEA
R FP 180)を使用し、1回目、3回目および5回目の押
出し時における「メルトフローインデックス」(MF
I)およびイエローインデックス(YI)を評価するこ
とにより測定する。反復押出しは、直径19mm、長さ4
75mmのシリンダーを有するBrabender 押出機で、圧縮
比1:4、速度50回転/分で行なった。押出機の温度
プロファイルは、 −ポリプロピレンの場合は190−235−235−2
70℃ −ポリエチレンの場合は190−215−240−24
0℃である。1回目、3回目および5回目の押出し後に
得られた顆粒を分析し、MFI値(ASTM D−12
38)およびYI値(ASTM D−1925)を測定
した。得られた結果を表3および表4に示す。 表3 ポリプロピレン MFI YI 1回目 3回目 5回目 1回目 3回目 5回目 重合体自体 28.0 54.5 75.9 -4 -3.3 -3.3 Sandostab P-EPQ 13.1 14.7 16.2 -3.4 -2.5 -1.6 化合物番号1 13.3 14.3 16.0 -4.1 -3.6 -2.8 表4 ポリエチレン MFI YI 1回目 3回目 5回目 1回目 3回目 5回目 重合体自体 2.68 2.459 2.53 -2.1 0.3 1.6 Sandostab P-EPQ 2.72 2.66 2.62 -3.2 -0.5 0.7 化合物番号1 2.77 2.80 2.80 -3.2 -1.2 -0.2
性を市販製品のSandostab P-EPQ のそれと比較する。活
性は、供試化合物0.1重量%を添加したポリプロピレ
ン(MOPLEN FLF 20)またはポリエチレン(LLDPE ERACLEA
R FP 180)を使用し、1回目、3回目および5回目の押
出し時における「メルトフローインデックス」(MF
I)およびイエローインデックス(YI)を評価するこ
とにより測定する。反復押出しは、直径19mm、長さ4
75mmのシリンダーを有するBrabender 押出機で、圧縮
比1:4、速度50回転/分で行なった。押出機の温度
プロファイルは、 −ポリプロピレンの場合は190−235−235−2
70℃ −ポリエチレンの場合は190−215−240−24
0℃である。1回目、3回目および5回目の押出し後に
得られた顆粒を分析し、MFI値(ASTM D−12
38)およびYI値(ASTM D−1925)を測定
した。得られた結果を表3および表4に示す。 表3 ポリプロピレン MFI YI 1回目 3回目 5回目 1回目 3回目 5回目 重合体自体 28.0 54.5 75.9 -4 -3.3 -3.3 Sandostab P-EPQ 13.1 14.7 16.2 -3.4 -2.5 -1.6 化合物番号1 13.3 14.3 16.0 -4.1 -3.6 -2.8 表4 ポリエチレン MFI YI 1回目 3回目 5回目 1回目 3回目 5回目 重合体自体 2.68 2.459 2.53 -2.1 0.3 1.6 Sandostab P-EPQ 2.72 2.66 2.62 -3.2 -0.5 0.7 化合物番号1 2.77 2.80 2.80 -3.2 -1.2 -0.2
【図1】実施例1で得た本発明の化合物のX線回折分析
(XRD)の結果を示す図である。
(XRD)の結果を示す図である。
【図2】実施例2で得た本発明の化合物のX線回折分析
(XRD)の結果を示す図である。
(XRD)の結果を示す図である。
【図3】本発明の化合物および市販品(比較例)の加水
分解安定性を示す図である。
分解安定性を示す図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 69/00 KKM C08L 69/00 KKM 101/00 KCC 101/00 KCC (72)発明者 マルコ、ビッツァルリ イタリー国トレッツォ、スル、アッダ、ビ ア、ノベルラ、15 (72)発明者 ルチアーノ、パルリーニ イタリー国サン、ジュリアーノ、ミラネー ゼ、ビア、デルラ、レピュブリカ、19/デ イ
Claims (5)
- 【請求項1】融点が185℃〜186℃であり、下記式
を有する、結晶形のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブ
チルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイ
ト。 【化1】 - 【請求項2】ガラス転移温度(Tg )が78℃〜84℃
であり、下記式を有する無定形のテトラキス−(2,4
−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレン
ジホスホナイト。 【化2】 - 【請求項3】有機重合体および請求項1に記載の結晶形
のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトの安定化量を含
んで成ることを特徴とする、安定化重合体組成物。 - 【請求項4】有機重合体および請求項2に記載の無定形
のテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−
4,4’−ビフェニレンジホスホナイトの安定化量を含
んで成ることを特徴とする、安定化重合体組成物。 - 【請求項5】有機重合体が、オレフィン系重合体、ポリ
カーボネート、ポリエステル、重合体アロイ、ABSか
ら選択される、請求項3または4に記載の重合体組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT95MI001914A IT1277583B1 (it) | 1995-09-14 | 1995-09-14 | Forma cristallina del tetrakis-(2,4-di-t-butilfenil)-4,4'- bifenilene difosfonito |
IT95A001914 | 1995-09-14 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09221490A true JPH09221490A (ja) | 1997-08-26 |
Family
ID=11372247
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8245282A Pending JPH09221490A (ja) | 1995-09-14 | 1996-09-17 | 新規な結晶形を有するテトラキス−(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニレンジホスホナイト |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5852084A (ja) |
EP (1) | EP0763540A1 (ja) |
JP (1) | JPH09221490A (ja) |
IT (1) | IT1277583B1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001164246A (ja) * | 1999-11-02 | 2001-06-19 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 低塩素安定剤の製造方法 |
WO2005087852A1 (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Fuji Electric Holdings Co. Ltd. | 反応性難燃剤及びそれを用いた難燃性樹脂加工品 |
JP2008143873A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Konica Minolta Opto Inc | ホスホナイト化合物、その精製方法、それを用いたセルロースエステルフィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6207868B1 (en) * | 1997-06-13 | 2001-03-27 | The Penn State Research Foundation | Asymmetric synthesis catalyzed by transition metal complexes with chiral ligands |
US6187848B1 (en) * | 1998-02-20 | 2001-02-13 | General Electric Company | Glass filled polyester compositions with improved color stability |
JP4595343B2 (ja) * | 2004-02-20 | 2010-12-08 | 住友化学株式会社 | ポリオレフィン系樹脂組成物及びその製造法 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4075163A (en) | 1970-10-22 | 1978-02-21 | Sandoz Ltd. | Benzene phosphonous acid compounds, their production and use as stabilizers for organic materials |
GB1372528A (en) * | 1970-10-22 | 1974-10-30 | Sandoz Ltd | Benzene phosphonous acid compounds their production and use as stabilizers for organic materials |
US3852629A (en) | 1973-12-13 | 1974-12-03 | Varian Associates | Offset stinger for arc lamp |
US4077940A (en) * | 1976-09-14 | 1978-03-07 | Chevron Research Company | Thermal stabilization of polypyrrolidone against reversion to monomer |
DE3049196A1 (de) * | 1980-12-24 | 1982-07-29 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur herstellung von granulaten aus organischen in form einer schmelze vorliegenden stoffen |
US4578021A (en) * | 1983-11-01 | 1986-03-25 | Santrade Ltd. | Apparatus for the production of granules from two-phase mixtures |
DE3522359A1 (de) * | 1985-06-22 | 1987-01-02 | Basf Ag | Verfahren zum konfektionieren von kristallinen, organischen materialien |
ATE82762T1 (de) * | 1987-02-13 | 1992-12-15 | Enichem Sintesi | Feste stabilisatormischung fuer organische polymere und verfahren zu ihrer herstellung. |
IT1202611B (it) * | 1987-03-03 | 1989-02-09 | Enichem Sintesi | Composizione solida stabilizzante per polimeri sintetici |
ES2032649T3 (es) * | 1988-12-21 | 1993-02-16 | Hoechst Aktiengesellschaft | Procedimiento para preparar derivados organicos fosforados del 2,4-di-t-butilfenol, los compuestos de 4,4'-dihalogenomagnesio de bifenilo, y la utilizacion de los derivados organicos fosforados para estabilizar materiales sinteticos, especialmente en masas de moldeo poliolefinas |
DE3923492A1 (de) * | 1989-05-20 | 1991-02-07 | Hoechst Ag | Kunststoff-formmasse |
TW209224B (ja) * | 1991-05-27 | 1993-07-11 | Yoshitomi Pharmaceutical | |
US5334739A (en) * | 1992-11-30 | 1994-08-02 | Ciba-Geigy Corporation | Process an alpha monoclinic crystalline modification of 2,2',2"-nitrilo[triethyl-tris-(3,3',5,5'-tetra-tert-butyl-1,1'-biphenyl-2,2'-diyl)phosphite] |
US5276076A (en) * | 1992-11-30 | 1994-01-04 | Ciba-Geigy Corporation | Amorphous solid modification of 2,2',2"-nitrilo[triethyl-tris-(3,3',5,5'-tetra-tert-butyl-1,1'-biphenyl-2,2'-diyl)phosphite] |
-
1995
- 1995-09-14 IT IT95MI001914A patent/IT1277583B1/it active IP Right Grant
-
1996
- 1996-07-19 EP EP96111672A patent/EP0763540A1/en not_active Withdrawn
- 1996-07-24 US US08/685,491 patent/US5852084A/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-09-17 JP JP8245282A patent/JPH09221490A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001164246A (ja) * | 1999-11-02 | 2001-06-19 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 低塩素安定剤の製造方法 |
WO2005087852A1 (ja) * | 2004-03-11 | 2005-09-22 | Fuji Electric Holdings Co. Ltd. | 反応性難燃剤及びそれを用いた難燃性樹脂加工品 |
JPWO2005087852A1 (ja) * | 2004-03-11 | 2008-01-24 | 富士電機ホールディングス株式会社 | 反応性難燃剤及びそれを用いた難燃性樹脂加工品 |
JP2008143873A (ja) * | 2006-12-13 | 2008-06-26 | Konica Minolta Opto Inc | ホスホナイト化合物、その精製方法、それを用いたセルロースエステルフィルム、偏光板及び液晶表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
IT1277583B1 (it) | 1997-11-11 |
ITMI951914A0 (it) | 1995-09-14 |
EP0763540A1 (en) | 1997-03-19 |
ITMI951914A1 (it) | 1997-03-14 |
US5852084A (en) | 1998-12-22 |
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