JPH02265056A - 光磁気メモリ装置 - Google Patents
光磁気メモリ装置Info
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- JPH02265056A JPH02265056A JP8592089A JP8592089A JPH02265056A JP H02265056 A JPH02265056 A JP H02265056A JP 8592089 A JP8592089 A JP 8592089A JP 8592089 A JP8592089 A JP 8592089A JP H02265056 A JPH02265056 A JP H02265056A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 abstract description 5
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、レーザビームの強度変調のみにより(光変調
法による)直接オーバーライトを行なう光磁気メモリ装
置に関する。
法による)直接オーバーライトを行なう光磁気メモリ装
置に関する。
[従来の技術]
光磁気メモリ装置は、現在のディスクメモリ装置の代表
的なものである固定磁気ディスクメモリ装置に比べて容
量やディスクの可換性で優れているが、アクセスが遅い
、直接オーバーライトができないなどの欠点がある。そ
こで従来いくつかの直接オーバーライト方式が提案され
ている。その中で例えば、Appl、Phys、Let
t、52.1537(1988)、等に示されている光
変調法によれば、レーザビームのパルス幅及びパルス高
さを情報の記録時と消去時で変えることによって、バイ
アス磁界の向きならびに大きさを変えることなく直接オ
ーバーライトを実現することができる。
的なものである固定磁気ディスクメモリ装置に比べて容
量やディスクの可換性で優れているが、アクセスが遅い
、直接オーバーライトができないなどの欠点がある。そ
こで従来いくつかの直接オーバーライト方式が提案され
ている。その中で例えば、Appl、Phys、Let
t、52.1537(1988)、等に示されている光
変調法によれば、レーザビームのパルス幅及びパルス高
さを情報の記録時と消去時で変えることによって、バイ
アス磁界の向きならびに大きさを変えることなく直接オ
ーバーライトを実現することができる。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、前述の従来技術では記録膜に急峻な温度勾配を
形成することにより磁区を収縮させて消去を行なうので
あるが、消去用レーザビームとして時間幅の短い、繰り
返し周波数の高いパルス発振を記録膜に照射することが
困難で、パルス発振の立ち上がり、立ち下がりにおける
時間遅れやオーバーシュートが発生しやすいため、消し
残りやジッタの発生などによる信号劣化が起こり易いと
いう課題を有する。一方、データを高速で転送するため
には、ディスクを高速で回転させる必要があるが、この
場合には上述の課題が更に重大になる。
形成することにより磁区を収縮させて消去を行なうので
あるが、消去用レーザビームとして時間幅の短い、繰り
返し周波数の高いパルス発振を記録膜に照射することが
困難で、パルス発振の立ち上がり、立ち下がりにおける
時間遅れやオーバーシュートが発生しやすいため、消し
残りやジッタの発生などによる信号劣化が起こり易いと
いう課題を有する。一方、データを高速で転送するため
には、ディスクを高速で回転させる必要があるが、この
場合には上述の課題が更に重大になる。
そこで本発明はこのような課題を解決するもので、その
目的とするところは、光学ヘッドの光学系を分離し半導
体レーザ(以下LDと記す)を固定部に設置することに
より、所望の正確な消去用のパルス発振を容易にし、直
接オーバーライト可能な高転送レートの光磁気メモリ装
置を提供するところにある。
目的とするところは、光学ヘッドの光学系を分離し半導
体レーザ(以下LDと記す)を固定部に設置することに
より、所望の正確な消去用のパルス発振を容易にし、直
接オーバーライト可能な高転送レートの光磁気メモリ装
置を提供するところにある。
[課題を解決するための手段]
本発明の光磁気メモリ装置は、記録時と消去時にバイア
ス磁界の方向ならびに大きさを変えることなく、レーザ
ビームの強度変調のみにより直接オーバーライトを行な
う光磁気メモリ装置において、 シャーシベースに固定されて、LDの出射ビームを平行
ビームに整形する光学系及び光磁気ディスクから反射さ
れたレーザビームより光磁気信号とサーボ信号等を検出
する光学系からなる固定光学系と、前記光磁気ディスク
の内周から外周にわたって移動するアクセス手段に搭載
されて、前記固定光学系から出射されたレーザビームを
前記光磁気ディスクの記録膜上べ集光させる対物レンズ
等の移動光学系から構成される光学ヘッドを備えたこと
を特徴とする。
ス磁界の方向ならびに大きさを変えることなく、レーザ
ビームの強度変調のみにより直接オーバーライトを行な
う光磁気メモリ装置において、 シャーシベースに固定されて、LDの出射ビームを平行
ビームに整形する光学系及び光磁気ディスクから反射さ
れたレーザビームより光磁気信号とサーボ信号等を検出
する光学系からなる固定光学系と、前記光磁気ディスク
の内周から外周にわたって移動するアクセス手段に搭載
されて、前記固定光学系から出射されたレーザビームを
前記光磁気ディスクの記録膜上べ集光させる対物レンズ
等の移動光学系から構成される光学ヘッドを備えたこと
を特徴とする。
[作用]
本発明の上記の構成によれば、LD駆動回路のドライブ
段出力とLDを配線を介さずに直接接続できるため、立
ち上がり時間及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュ
ートの少ないレーザ発(辰が容易に得られ、情報の消去
を正確に行なうことが可能となる。
段出力とLDを配線を介さずに直接接続できるため、立
ち上がり時間及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュ
ートの少ないレーザ発(辰が容易に得られ、情報の消去
を正確に行なうことが可能となる。
[実施例コ
以下本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
第1図は本発明の光磁気メモリ装置の一実施例における
光学ヘッド部の主要構成図で、 (a)は平面図、 (
b)は(a)のAA’断面図である。
光学ヘッド部の主要構成図で、 (a)は平面図、 (
b)は(a)のAA’断面図である。
1が固定光学系である。第2図に固定光学系における光
学素子の構成図を示す。シャーシベース2に取り付けら
れているLD3はLD駆動回路34のドライブ段35に
直接接続され、レーザ変調信号に従って立ち上がり時間
及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュートの少ない
高速なパルス変調も容易に得ることができる。LDから
出射されたレーザビームは、コリメートレンズ4、整形
プリズム5、ビームスプリッタ(以下BSと記す)6を
通過してガルバノミラ−(以下GMと記す)7へ入射す
る。GMに入射したレーザビームは光路を曲げられ固定
光学系より出射される。固定光学系より出射されたレー
ザビームは移動光学系8のミラー9で光路変換された後
、対物レンズ10を通って光磁気ディスク11の記録膜
12上に集光されビームスポットを形成する。移動光学
系は、磁石とヨークからなる磁気回路13とコイル(図
示せず)とによって構成されているいわゆるボイスコイ
ルモータ(以下VCMと記す)に搭載され、ガイドレー
ル14.15上を矢印Bのように光磁気デ・fスフ記録
領域の最内周16から最外周17の間で移動することが
できる。光磁気ディスクから反射され情報を含んだレー
ザビームは対物レンズ、ミラー GMを経てBS6で光
路を曲げられB518を通過し一方は偏光ビームスプリ
ッタ19で分けられレンズ20.21によりホトダイオ
ード(以下PDと記す)22.23上に集光され電気信
号に変換される。この二つの出力を差動増幅器24で差
をとることにより光磁気信号が得られ信号処理系25に
入力される。また、B518を通ったもう一方のレーザ
ビームはB526を通りレンズ27、円筒レンズ28に
よりPD29上に集光され電気信号に変換される。この
出力をフォーカシングザーホ回路30で処理し、レンズ
フォーカシングアクチュエータ(以下LFAと記す)3
1を駆動する。そして、B526で分けられたもう一方
のレーザビームはPD32で電気信号に変換され、トラ
ッキングサーホ回路33で処理されGM、V CMを駆
動する。
学素子の構成図を示す。シャーシベース2に取り付けら
れているLD3はLD駆動回路34のドライブ段35に
直接接続され、レーザ変調信号に従って立ち上がり時間
及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュートの少ない
高速なパルス変調も容易に得ることができる。LDから
出射されたレーザビームは、コリメートレンズ4、整形
プリズム5、ビームスプリッタ(以下BSと記す)6を
通過してガルバノミラ−(以下GMと記す)7へ入射す
る。GMに入射したレーザビームは光路を曲げられ固定
光学系より出射される。固定光学系より出射されたレー
ザビームは移動光学系8のミラー9で光路変換された後
、対物レンズ10を通って光磁気ディスク11の記録膜
12上に集光されビームスポットを形成する。移動光学
系は、磁石とヨークからなる磁気回路13とコイル(図
示せず)とによって構成されているいわゆるボイスコイ
ルモータ(以下VCMと記す)に搭載され、ガイドレー
ル14.15上を矢印Bのように光磁気デ・fスフ記録
領域の最内周16から最外周17の間で移動することが
できる。光磁気ディスクから反射され情報を含んだレー
ザビームは対物レンズ、ミラー GMを経てBS6で光
路を曲げられB518を通過し一方は偏光ビームスプリ
ッタ19で分けられレンズ20.21によりホトダイオ
ード(以下PDと記す)22.23上に集光され電気信
号に変換される。この二つの出力を差動増幅器24で差
をとることにより光磁気信号が得られ信号処理系25に
入力される。また、B518を通ったもう一方のレーザ
ビームはB526を通りレンズ27、円筒レンズ28に
よりPD29上に集光され電気信号に変換される。この
出力をフォーカシングザーホ回路30で処理し、レンズ
フォーカシングアクチュエータ(以下LFAと記す)3
1を駆動する。そして、B526で分けられたもう一方
のレーザビームはPD32で電気信号に変換され、トラ
ッキングサーホ回路33で処理されGM、V CMを駆
動する。
次に、トラッキング及びフォーカシングの機構を説明す
る。まずG、Mは、矢印Cのように軸の回りに回転可能
となっている。ミラー面に入射したレーザビームを微少
に振ることにより対物レンズへ入射させるレーザビーム
の光軸を傾はビームスポットを動かし、 ドラッギング
を行なう。一方、フォーカシングはVCMに搭載された
LFAにより対物レンズを第1図の矢印りのように変位
させて行なう。
る。まずG、Mは、矢印Cのように軸の回りに回転可能
となっている。ミラー面に入射したレーザビームを微少
に振ることにより対物レンズへ入射させるレーザビーム
の光軸を傾はビームスポットを動かし、 ドラッギング
を行なう。一方、フォーカシングはVCMに搭載された
LFAにより対物レンズを第1図の矢印りのように変位
させて行なう。
この光磁気メモリ装置を用いて光変調法による直接オー
バーライトを試みた。本実施例で用いた光磁気ディスク
は、連続溝例きの5.25インチ径のポリカーボネイト
ディスク基板上に、SiNの保護膜60nm、TbFe
の補償組成付近の光磁気記録膜40nm、A1反射膜3
0nm、SiNの保護膜40nmをスパッタ法で成膜し
、更に紫外線硬化樹脂で溝のないポリカーボネイト基板
と貼合わせたものを20kOeの直流磁場で初期化して
用いた。
バーライトを試みた。本実施例で用いた光磁気ディスク
は、連続溝例きの5.25インチ径のポリカーボネイト
ディスク基板上に、SiNの保護膜60nm、TbFe
の補償組成付近の光磁気記録膜40nm、A1反射膜3
0nm、SiNの保護膜40nmをスパッタ法で成膜し
、更に紫外線硬化樹脂で溝のないポリカーボネイト基板
と貼合わせたものを20kOeの直流磁場で初期化して
用いた。
まずはじめに固定永久磁石によるバイアス磁場2000
e、回転数360Orpm、レーザ変調周波数3.7M
Hz、記録レーザパワー6mW、再生レーザパワー1m
Wで半径60mmの位置に信号の記録・再生を行なった
。差動増幅器の出力再生信号をスペクトラムアナライザ
を用いて搬送波対雑音比(CNR)を分解能バンド幅3
0kHzで測定したところ55dBを得た。引き続いて
、この3.7MHzの信号が記録された光磁気ディスク
に同じく回転数360Orpm、バイアス磁場2000
eの条件下でパルス幅100ns、パルス高さ6mW、
繰り返し周波数5MHzの記録パルスと記録パルスの間
にパルス幅20ns、パルス高さ8mW、50MHzの
消去パルスがくるように変調したレーザビームを半径6
0mmの位置に照射した。再生信号をスペクトラムアナ
ライザで測定したところ3.7MHzの成分はノイズレ
ベルで5MHzにピークが見られCNRは53.dBで
あった。更にパルス幅131ns、パルス高さ6mW、
繰り返し周波数3.7MHzの記録パルスと記録パルス
の間にパルス幅20ns、パルス高さ8mW、50 M
Hzの消去パルスがくるように変調したレーザビーム
を半径60mmの位置に照射し3.7MHzの直接オー
バーライトを行なったところ、同じく良好な情報の書換
えができた。
e、回転数360Orpm、レーザ変調周波数3.7M
Hz、記録レーザパワー6mW、再生レーザパワー1m
Wで半径60mmの位置に信号の記録・再生を行なった
。差動増幅器の出力再生信号をスペクトラムアナライザ
を用いて搬送波対雑音比(CNR)を分解能バンド幅3
0kHzで測定したところ55dBを得た。引き続いて
、この3.7MHzの信号が記録された光磁気ディスク
に同じく回転数360Orpm、バイアス磁場2000
eの条件下でパルス幅100ns、パルス高さ6mW、
繰り返し周波数5MHzの記録パルスと記録パルスの間
にパルス幅20ns、パルス高さ8mW、50MHzの
消去パルスがくるように変調したレーザビームを半径6
0mmの位置に照射した。再生信号をスペクトラムアナ
ライザで測定したところ3.7MHzの成分はノイズレ
ベルで5MHzにピークが見られCNRは53.dBで
あった。更にパルス幅131ns、パルス高さ6mW、
繰り返し周波数3.7MHzの記録パルスと記録パルス
の間にパルス幅20ns、パルス高さ8mW、50 M
Hzの消去パルスがくるように変調したレーザビーム
を半径60mmの位置に照射し3.7MHzの直接オー
バーライトを行なったところ、同じく良好な情報の書換
えができた。
[発明の効果]
以上述べたように本発明によれば、光学ヘッドの光学系
を分離しLDを固定部に設置することにより、所望の正
確な消去用のパルス発振を容易にし、直接オーバーライ
ト、高転送レートを実現するという効果を有する。本発
明の光磁気メモリ装置は、コンピュータメモ1尺 光デ
イスクファイルなどに応用することが可能で装置の高性
能化などの多大な効果を有するものである。
を分離しLDを固定部に設置することにより、所望の正
確な消去用のパルス発振を容易にし、直接オーバーライ
ト、高転送レートを実現するという効果を有する。本発
明の光磁気メモリ装置は、コンピュータメモ1尺 光デ
イスクファイルなどに応用することが可能で装置の高性
能化などの多大な効果を有するものである。
第1図は本発明の光磁気メモリ装置の一実施例における
光学t・ラド部の主要構成図で、 (a、)は平面図、
(b)は(a)のAA’断面図。 第2図は固定光学系における光学素子の構成図。 1・・・・・・・・固定光学系 2・・・・・・・・シャーシベース 3・・・・・・・・LD 4・・・・・・・・コリメートレンズ 5・・・・・・・・整形プリズム 6.18.26・・・BS 7・・・・・・・・GM 8・・・・・・・・移動光学系 9・・・・・・・・ζツー 10・・・・・・・対物レンズ 11・・・・・・・光磁気ディスク 12・・・・・・・記録膜 13・・・・・・・磁気回路 14.15 ・・・・ガイドレール 16・・・・・・・記録領域最内周 17・・・・・・・記録領域最外周 19・・・・・・・偏光ビームスプリッタ20.21.
27・・レンズ 22.23,29.32・・・PD 28・・・・・・・円筒レンズ 31・・・・・・・LFA 34・・・・・・・LD駆動回路 35・・・・・・・ドライブ段 36・・・・・・・GM 37・・・・・・・LFA 38・・・・・・・VCM 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人弁理士 鈴木喜三部 他1名
光学t・ラド部の主要構成図で、 (a、)は平面図、
(b)は(a)のAA’断面図。 第2図は固定光学系における光学素子の構成図。 1・・・・・・・・固定光学系 2・・・・・・・・シャーシベース 3・・・・・・・・LD 4・・・・・・・・コリメートレンズ 5・・・・・・・・整形プリズム 6.18.26・・・BS 7・・・・・・・・GM 8・・・・・・・・移動光学系 9・・・・・・・・ζツー 10・・・・・・・対物レンズ 11・・・・・・・光磁気ディスク 12・・・・・・・記録膜 13・・・・・・・磁気回路 14.15 ・・・・ガイドレール 16・・・・・・・記録領域最内周 17・・・・・・・記録領域最外周 19・・・・・・・偏光ビームスプリッタ20.21.
27・・レンズ 22.23,29.32・・・PD 28・・・・・・・円筒レンズ 31・・・・・・・LFA 34・・・・・・・LD駆動回路 35・・・・・・・ドライブ段 36・・・・・・・GM 37・・・・・・・LFA 38・・・・・・・VCM 以 上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人弁理士 鈴木喜三部 他1名
Claims (1)
- (1)記録時と消去時にバイアス磁界の方向ならびに大
きさを変えることなく、レーザビームの強度変調のみに
より直接オーバーライトを行なう光磁気メモリ装置にお
いて、 シャーシベースに固定されて、半導体レーザの出射ビー
ムを平行ビームに整形する光学系及び光磁気ディスクか
ら反射されたレーザビームより光磁気信号とサーボ信号
等を検出する光学系からなる固定光学系と、前記光磁気
ディスクの内周から外周にわたって移動するアクセス手
段に搭載されて、前記固定光学系から出射されたレーザ
ビームを前記光磁気ディスクの記録膜上へ集光させる対
物レンズ等の移動光学系から構成される光学ヘッドを備
えたことを特徴とする光磁気メモリ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8592089A JPH02265056A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 光磁気メモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8592089A JPH02265056A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 光磁気メモリ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02265056A true JPH02265056A (ja) | 1990-10-29 |
Family
ID=13872222
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8592089A Pending JPH02265056A (ja) | 1989-04-05 | 1989-04-05 | 光磁気メモリ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02265056A (ja) |
-
1989
- 1989-04-05 JP JP8592089A patent/JPH02265056A/ja active Pending
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