JPH02306450A - 光磁気メモリ装置 - Google Patents
光磁気メモリ装置Info
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- JPH02306450A JPH02306450A JP12581989A JP12581989A JPH02306450A JP H02306450 A JPH02306450 A JP H02306450A JP 12581989 A JP12581989 A JP 12581989A JP 12581989 A JP12581989 A JP 12581989A JP H02306450 A JPH02306450 A JP H02306450A
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- Japan
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- optical
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- optical system
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims description 2
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- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、レーザビームの変調のみにより(光変調法に
よる)直接オーバーライトを行なう光磁気メモリ装置に
関する。
よる)直接オーバーライトを行なう光磁気メモリ装置に
関する。
[従来の技術]
光磁気メモリ装置は、現在のディスクメモリ装置の代表
的なものである固定磁気ディスクメモリ装置に比べて容
量やディスクの可換性で優れているが、アクセスが遅い
、直接オーバーライトができないなどの欠点がある。そ
こで従来いくつかの直接オーバーライト方式が提案され
ている。その中で例えば、Appl、Phys、Let
t、52.1537(1988)、等に示されている光
変調法によれば、レーザビームのパルス幅及びパルス高
さを情報の記録時と消去時で変えることによって、バイ
アス磁界の向きならびに大きさを変えることなく直接オ
ーバーライトを実現することができる。
的なものである固定磁気ディスクメモリ装置に比べて容
量やディスクの可換性で優れているが、アクセスが遅い
、直接オーバーライトができないなどの欠点がある。そ
こで従来いくつかの直接オーバーライト方式が提案され
ている。その中で例えば、Appl、Phys、Let
t、52.1537(1988)、等に示されている光
変調法によれば、レーザビームのパルス幅及びパルス高
さを情報の記録時と消去時で変えることによって、バイ
アス磁界の向きならびに大きさを変えることなく直接オ
ーバーライトを実現することができる。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、前述の従来技術では記録膜に急峻な温度勾配を
形成することにより磁区を収縮させて消去を行なうので
あるが、消去用レーザビームとして時間幅の短い、繰り
返し周波数の高いパルス発振を記録膜に照射することが
必要で、パルス発振の立ち上がり及び立ち下がりにおけ
る時間遅れやオーバーシュートが発生し易いため、消し
残りやジッタの発生などによる信号劣化が起こるという
課題を有する。また、半導体レーザ(以下LDと記す)
への給電線やLD・の温度変化等の影響によリレーザビ
ームの変調制御は非常に煩雑となる。
形成することにより磁区を収縮させて消去を行なうので
あるが、消去用レーザビームとして時間幅の短い、繰り
返し周波数の高いパルス発振を記録膜に照射することが
必要で、パルス発振の立ち上がり及び立ち下がりにおけ
る時間遅れやオーバーシュートが発生し易いため、消し
残りやジッタの発生などによる信号劣化が起こるという
課題を有する。また、半導体レーザ(以下LDと記す)
への給電線やLD・の温度変化等の影響によリレーザビ
ームの変調制御は非常に煩雑となる。
一方、データを高速で転送するためには、ディスクを高
速で回転させる必要があるが、この場合には上述の信号
劣化の課題が更に重大になる。
速で回転させる必要があるが、この場合には上述の信号
劣化の課題が更に重大になる。
そこで本発明はこのような課題を解決するもので、その
目的とするところは、光学ヘッドの光学系を分離しLD
を固定部に設置し、更に簡易な駆動回路でLDの変調を
制御することにより、所望の正確な消去用のパルス発振
を容易にし、直接オーバーライト可能な高転送レートの
光磁気メモリ装置を提供するところにある。
目的とするところは、光学ヘッドの光学系を分離しLD
を固定部に設置し、更に簡易な駆動回路でLDの変調を
制御することにより、所望の正確な消去用のパルス発振
を容易にし、直接オーバーライト可能な高転送レートの
光磁気メモリ装置を提供するところにある。
[課題を解決するための手段]
本発明の光磁気メモリ装置は、記録時と消去時にバイア
ス磁界の方向ならびに大きさを変えることなく、レーザ
ビームの変調のみにより直接オーバーライトを行なう光
磁気メモリ装置において、シャーシベースに固定されて
、温度コントロール部を具備し出射光量を制御量とする
閉ループ制御により駆動されるLD、該LDの出射ビー
ムを平行ビームに整形する光学系、光磁気ディスクから
反射されたレーザビームより光磁気信号とサーボ信号等
を検出する光学系及び前記LDの出射光量をモニタする
光学系からなる固定光学系と、前記光磁気ディスクの内
周から外周にわたって移動するアクセス手段に搭載され
て、前記固定光学系から出射されたレーザビームを前記
光磁気ディスクの記録膜上へ集光させる対物レンズ等の
移動光学系 から構成される光学ヘッドを備えたことを特徴とする。
ス磁界の方向ならびに大きさを変えることなく、レーザ
ビームの変調のみにより直接オーバーライトを行なう光
磁気メモリ装置において、シャーシベースに固定されて
、温度コントロール部を具備し出射光量を制御量とする
閉ループ制御により駆動されるLD、該LDの出射ビー
ムを平行ビームに整形する光学系、光磁気ディスクから
反射されたレーザビームより光磁気信号とサーボ信号等
を検出する光学系及び前記LDの出射光量をモニタする
光学系からなる固定光学系と、前記光磁気ディスクの内
周から外周にわたって移動するアクセス手段に搭載され
て、前記固定光学系から出射されたレーザビームを前記
光磁気ディスクの記録膜上へ集光させる対物レンズ等の
移動光学系 から構成される光学ヘッドを備えたことを特徴とする。
[作用]
本発明の上記の構成によれば、LDが固定部に存在する
ため高速アクセス性を損なわずにLD駆動回路のドライ
ブ段出力とLDを配線を介さずに直接接続でき、また温
度コントロールされたLDからの出射光量を高速にモニ
タしLD駆動を閉ループ制御で行なうため、立ち上がり
時間及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュートの少
ない所望の光量のレーザ発振が容易に得られ、情報の消
去を正確に行なうことが可能となる。
ため高速アクセス性を損なわずにLD駆動回路のドライ
ブ段出力とLDを配線を介さずに直接接続でき、また温
度コントロールされたLDからの出射光量を高速にモニ
タしLD駆動を閉ループ制御で行なうため、立ち上がり
時間及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュートの少
ない所望の光量のレーザ発振が容易に得られ、情報の消
去を正確に行なうことが可能となる。
[実施例コ
以下本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
第1図は本発明の光磁気メモリ装置の一実施例における
光学ヘッド部の主要構成図で、 (a)は平面図、 (
b)は(a)のAA’断面図である。
光学ヘッド部の主要構成図で、 (a)は平面図、 (
b)は(a)のAA’断面図である。
1が固定光学系である。第2図に固定光学系における光
学素子の構成図を示す。LD3の出射光量は外部モニタ
用ホトダイオード(以下PDと記す)41により検出さ
れる。PD41は応答性の優れたものを用い、その出力
をLD駆動回路の閉ループ制御(第4図)に用いること
により後述の消去用の高速パルス変調も精度良く行なう
ことができる。第3図はLD3の周辺を示した図で、温
度コントロール部36及びLD駆動部である。L′Dは
シャーシベース2に固定されヒートシンク37に囲まれ
ている。LDの温度は温度センサ38で測定され、温度
制御回路39で処理されペルチェ素子40を制御してL
Dの温度を一定に保ち、光量制御を容易にしている。L
DはLD駆動回路34のドライブ段35に直接接続され
、レニザ変調信号(第4図R)に従って立ち上がり時間
及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュートの少ない
高速なパルス変調も容易に得ることができる。ここで全
ての光学系がアクセス手段に載って移動するような場合
には、このような構成は高速アクセス性を阻害するため
困難である。第4図にLDの駆動方法を示す。 (a)
図が制御系のブロック線図、(b)図が回路ブロック図
である。LDの出射光3! (C)を制御量として閉ル
ープ制御を行なっている。LDから出射されたレーザビ
ームは、コリメートレンズ4、整形プリズム5、ビーム
スプリッタ(以下BSと記す)6を通過する。ガルバノ
ミラ−(以下GMと記す)7へ入射したレーザビームは
光路を曲げられ固定光学系より出射される。
学素子の構成図を示す。LD3の出射光量は外部モニタ
用ホトダイオード(以下PDと記す)41により検出さ
れる。PD41は応答性の優れたものを用い、その出力
をLD駆動回路の閉ループ制御(第4図)に用いること
により後述の消去用の高速パルス変調も精度良く行なう
ことができる。第3図はLD3の周辺を示した図で、温
度コントロール部36及びLD駆動部である。L′Dは
シャーシベース2に固定されヒートシンク37に囲まれ
ている。LDの温度は温度センサ38で測定され、温度
制御回路39で処理されペルチェ素子40を制御してL
Dの温度を一定に保ち、光量制御を容易にしている。L
DはLD駆動回路34のドライブ段35に直接接続され
、レニザ変調信号(第4図R)に従って立ち上がり時間
及び立ち下がり時間が短く、オーバーシュートの少ない
高速なパルス変調も容易に得ることができる。ここで全
ての光学系がアクセス手段に載って移動するような場合
には、このような構成は高速アクセス性を阻害するため
困難である。第4図にLDの駆動方法を示す。 (a)
図が制御系のブロック線図、(b)図が回路ブロック図
である。LDの出射光3! (C)を制御量として閉ル
ープ制御を行なっている。LDから出射されたレーザビ
ームは、コリメートレンズ4、整形プリズム5、ビーム
スプリッタ(以下BSと記す)6を通過する。ガルバノ
ミラ−(以下GMと記す)7へ入射したレーザビームは
光路を曲げられ固定光学系より出射される。
固定光学系より出射されたレーザビームは移動光学系8
のミラー9で光路変換された後、対物レンズ10を通っ
て光磁気ディスク11の記録膜12上に集光されビーム
スポットを形成する。移動光学系は、磁石とヨークから
なる磁気回路13とコイル(図示せず)とによって構成
されているボイスコイルモータ(以下VCMと記す)に
搭載され、ガイドレール14,15上を矢印Bのように
光磁気ディスク記録領域の最内周16から最外周17の
間で移動することができる。光磁気ディスクから反射さ
れ情報を含んだレーザビームは対物レンズ、ミラー、G
Mを経てBS6で光路を曲げられB518を通り一方は
偏光ビームスプリッタ19で分けられレンズ20,2.
1によりPD22.23上に集光され電気信号に変換さ
れる。この二つの出力を差動増幅@24で差をとること
により光磁気信号が得られ信号処理系25に入力される
。また、B518を通ったもう一方のレーザビームはB
526を通過しレンズ27、円筒レンズ28によりPD
29上に集光され電気信号に変換される。このPD比出
力フォーカシングサーボ回路30で処理し、レンズフォ
ーカシングアクチュエータ(以下LFAと記す)31を
駆動する。そして、B526で分けられたもう一方のレ
ーザビームはPD32で電気信号に変換され、トラッキ
ングサーボ回路33で処理されGM、VCMを駆動する
。
のミラー9で光路変換された後、対物レンズ10を通っ
て光磁気ディスク11の記録膜12上に集光されビーム
スポットを形成する。移動光学系は、磁石とヨークから
なる磁気回路13とコイル(図示せず)とによって構成
されているボイスコイルモータ(以下VCMと記す)に
搭載され、ガイドレール14,15上を矢印Bのように
光磁気ディスク記録領域の最内周16から最外周17の
間で移動することができる。光磁気ディスクから反射さ
れ情報を含んだレーザビームは対物レンズ、ミラー、G
Mを経てBS6で光路を曲げられB518を通り一方は
偏光ビームスプリッタ19で分けられレンズ20,2.
1によりPD22.23上に集光され電気信号に変換さ
れる。この二つの出力を差動増幅@24で差をとること
により光磁気信号が得られ信号処理系25に入力される
。また、B518を通ったもう一方のレーザビームはB
526を通過しレンズ27、円筒レンズ28によりPD
29上に集光され電気信号に変換される。このPD比出
力フォーカシングサーボ回路30で処理し、レンズフォ
ーカシングアクチュエータ(以下LFAと記す)31を
駆動する。そして、B526で分けられたもう一方のレ
ーザビームはPD32で電気信号に変換され、トラッキ
ングサーボ回路33で処理されGM、VCMを駆動する
。
次に、トラッキング及びフォーカシングの機構を説明す
る。まずGMは、矢印Cのように軸の回りに回転可能と
なっている。ミラー面に入射したレーザビームを微少に
振ることにより対物レンズへ入射させるレーザビームの
光軸を傾はビームスポットを動かし、トラッキングを行
なう。一方、フォーカシングはVCMに搭載されたLF
Aにより対物レンズを第1図の矢印りのように変位させ
て行なう。
る。まずGMは、矢印Cのように軸の回りに回転可能と
なっている。ミラー面に入射したレーザビームを微少に
振ることにより対物レンズへ入射させるレーザビームの
光軸を傾はビームスポットを動かし、トラッキングを行
なう。一方、フォーカシングはVCMに搭載されたLF
Aにより対物レンズを第1図の矢印りのように変位させ
て行なう。
この光磁気メモリ装置を用いて光変調法による直接オー
バーライトを試みた。本実施例で用いた光磁気ディスク
は、連続溝付きの5.25インチ径のポリカーボネイト
ディスク基板上に、SiHの保護膜60nm、TbFe
の補償組成付近の光磁気記録膜40nm、AI反射膜5
0nm、SiNの保護膜40nmをスパッタ法で成膜し
、更に紫外線硬化樹脂で溝のないポリカーボネイト基板
と貼合わせたものを直流磁場中で初期化して用いた。
バーライトを試みた。本実施例で用いた光磁気ディスク
は、連続溝付きの5.25インチ径のポリカーボネイト
ディスク基板上に、SiHの保護膜60nm、TbFe
の補償組成付近の光磁気記録膜40nm、AI反射膜5
0nm、SiNの保護膜40nmをスパッタ法で成膜し
、更に紫外線硬化樹脂で溝のないポリカーボネイト基板
と貼合わせたものを直流磁場中で初期化して用いた。
まず初めに固定永久磁石42によるバイアス磁場100
0e、回転数360Orpm、レーザ変調周波数3.7
MHz、記録レーザパワー6mW、再生レーザパワー
1mWで半径60mmの位置に信号の記録・再生を行な
った。差動増幅器の出力再生信号の搬送波対雑音比(C
NR)を、スペクトラムアナライザを用いて分解能バン
ド幅30に円− Hzで測定したところ56.6dBを得た。引き続いて
、この3.7MHzの信号が記録された光磁気ディスク
に同じく回転数3600rpm、バイアス磁場1000
eの条件下でパルス幅100ns。
0e、回転数360Orpm、レーザ変調周波数3.7
MHz、記録レーザパワー6mW、再生レーザパワー
1mWで半径60mmの位置に信号の記録・再生を行な
った。差動増幅器の出力再生信号の搬送波対雑音比(C
NR)を、スペクトラムアナライザを用いて分解能バン
ド幅30に円− Hzで測定したところ56.6dBを得た。引き続いて
、この3.7MHzの信号が記録された光磁気ディスク
に同じく回転数3600rpm、バイアス磁場1000
eの条件下でパルス幅100ns。
パルス高さ6mW、繰り返し周波数5MHzの記録パル
スと記録パルスの間にパルス幅20ns、パルス高さ8
mW、50MHzの消去パルスがくるように変調したレ
ーザビームを半径60mmの位置に照射した。再生信号
を同様にスペクトラムアナライザで測定したところ3.
7 MHzの成分はノイズレベルで5MHzにピークが
見られCNRは56.2dBであった。更にパルス幅1
31ns、パルス高さ6mW、繰り返し周波数3.7M
Hzの記録パルスと記録パルスの間にパルス幅20ns
。
スと記録パルスの間にパルス幅20ns、パルス高さ8
mW、50MHzの消去パルスがくるように変調したレ
ーザビームを半径60mmの位置に照射した。再生信号
を同様にスペクトラムアナライザで測定したところ3.
7 MHzの成分はノイズレベルで5MHzにピークが
見られCNRは56.2dBであった。更にパルス幅1
31ns、パルス高さ6mW、繰り返し周波数3.7M
Hzの記録パルスと記録パルスの間にパルス幅20ns
。
パルス高さ8mW、50MHzの消去パルスがくるよう
に変調したレーザビームを半径60mmの位置に照射し
3.7 MHzの直接オーバーライトを行なったところ
、同じく良好な情報の書換えができた。
に変調したレーザビームを半径60mmの位置に照射し
3.7 MHzの直接オーバーライトを行なったところ
、同じく良好な情報の書換えができた。
[発明の効果]
以上述べたように本発明によれば、光磁気メモリ装置の
光学ヘッドの光学系を分離しLDを固定部に設置し、ま
た温度コントロールされたLDからの出射光量を高速に
モニタしLD駆動を閉ループ制御で行なう簡易な駆動方
法でLDの変調を制御することにより、所望の正確な消
去用のパルス発振を容易にし、直接オーバーライト、高
転送レートを実現するという効果を有する。本発明の光
磁気メモリ装置は、コンピュータメモリ、光デイスクフ
ァイルなどに応用することが可能で装置の高性能化など
の多大な効果を有するものである。
光学ヘッドの光学系を分離しLDを固定部に設置し、ま
た温度コントロールされたLDからの出射光量を高速に
モニタしLD駆動を閉ループ制御で行なう簡易な駆動方
法でLDの変調を制御することにより、所望の正確な消
去用のパルス発振を容易にし、直接オーバーライト、高
転送レートを実現するという効果を有する。本発明の光
磁気メモリ装置は、コンピュータメモリ、光デイスクフ
ァイルなどに応用することが可能で装置の高性能化など
の多大な効果を有するものである。
第1図は本発明の光磁気メモリ装置の一実施例における
光学ヘッド部の主要構成図で、 (a)は平面図、 (
b)は(a)のAA’断面図。 第2図は固定光学系における光学素子の構成図。 第3図はLDの周辺を示す図。 第4図はLDの駆動方法を示す図で、 (a)は制御系
のブロック線図、 (b)は回路ブロック図。 1・・・・・・・・・・・・・・・・固定光学系2・・
・・・・・・・・・・・・・・シャーシベース3 ・・
・・・・・・・・・・・・・・LD4・・・・・・・・
・・・・・・・・コリメートレンズ5・・・・・・・・
・・・・・・・・整形プリズム6.18.26・・・・
・・BS 7 ・・・・・・・・・・・・・・・・0M8・・・・
・・・・・・・・・・・・移動光学系9・・・・・・・
・・・・・・・・・ミツ−10・・・・・・・・・・・
・・・対物レンズ11・・・・・・・・・・・・・・光
磁気ディスク12・・・・・・・・・・・・・・記録膜
13・・・・・・・・・・・・・・磁気回路14.15
・・・・・・・・・ガイドレール16・・・・・・・・
・・・・・・記録領域最内周17・・・・・・・・・・
・・・・記録領域最外周19・・・・・・・・・・・・
・・偏光ビームスプリッタ20.21.27・・・・レ
ンズ 22.23,29.32・・・PD 28・・・・・・・・・・・・・・円筒レンズ31・・
・・・・・・・・・・・・LFA34・・・・・・・・
・・・・・・LD駆動回路35・・・・・・・・・・・
・・・ドライブ段36・・・・・・・・・・・・・・温
度コントロール部37・・・・・・・・・・・・・・ヒ
ートシンク38・・・・・・・・・・・・・・温度セン
サ39・・・・・・・・・・・・・・温度制御回路40
・・・・・・・・・・・・・・ペルチェ素子41・・・
・・・・・・・・・・・外部モニタ用PD42・・・・
・・・・・・・・・・永久磁石以上
光学ヘッド部の主要構成図で、 (a)は平面図、 (
b)は(a)のAA’断面図。 第2図は固定光学系における光学素子の構成図。 第3図はLDの周辺を示す図。 第4図はLDの駆動方法を示す図で、 (a)は制御系
のブロック線図、 (b)は回路ブロック図。 1・・・・・・・・・・・・・・・・固定光学系2・・
・・・・・・・・・・・・・・シャーシベース3 ・・
・・・・・・・・・・・・・・LD4・・・・・・・・
・・・・・・・・コリメートレンズ5・・・・・・・・
・・・・・・・・整形プリズム6.18.26・・・・
・・BS 7 ・・・・・・・・・・・・・・・・0M8・・・・
・・・・・・・・・・・・移動光学系9・・・・・・・
・・・・・・・・・ミツ−10・・・・・・・・・・・
・・・対物レンズ11・・・・・・・・・・・・・・光
磁気ディスク12・・・・・・・・・・・・・・記録膜
13・・・・・・・・・・・・・・磁気回路14.15
・・・・・・・・・ガイドレール16・・・・・・・・
・・・・・・記録領域最内周17・・・・・・・・・・
・・・・記録領域最外周19・・・・・・・・・・・・
・・偏光ビームスプリッタ20.21.27・・・・レ
ンズ 22.23,29.32・・・PD 28・・・・・・・・・・・・・・円筒レンズ31・・
・・・・・・・・・・・・LFA34・・・・・・・・
・・・・・・LD駆動回路35・・・・・・・・・・・
・・・ドライブ段36・・・・・・・・・・・・・・温
度コントロール部37・・・・・・・・・・・・・・ヒ
ートシンク38・・・・・・・・・・・・・・温度セン
サ39・・・・・・・・・・・・・・温度制御回路40
・・・・・・・・・・・・・・ペルチェ素子41・・・
・・・・・・・・・・・外部モニタ用PD42・・・・
・・・・・・・・・・永久磁石以上
Claims (1)
- (1)記録時と消去時にバイアス磁界の方向ならびに大
きさを変えることなく、レーザビームの変調のみにより
直接オーバーライトを行なう光磁気メモリ装置において
、 シャーシベースに固定されて、温度コントロール部を具
備し出射光量を制御量とする閉ループ制御により駆動さ
れる半導体レーザ、該半導体レーザの出射ビームを平行
ビームに整形する光学系、光磁気ディスクから反射され
たレーザビームより光磁気信号とサーボ信号等を検出す
る光学系及び前記半導体レーザの出射光量をモニタする
光学系からなる固定光学系と、 前記光磁気ディスクの内周から外周にわたって移動する
アクセス手段に搭載されて、前記固定光学系から出射さ
れたレーザビームを前記光磁気ディスクの記録膜上へ集
光させる対物レンズ等の移動光学系 から構成される光学ヘッドを備えたことを特徴とする光
磁気メモリ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12581989A JPH02306450A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 光磁気メモリ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12581989A JPH02306450A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 光磁気メモリ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02306450A true JPH02306450A (ja) | 1990-12-19 |
Family
ID=14919723
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12581989A Pending JPH02306450A (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 光磁気メモリ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02306450A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04115326U (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-13 | 日本電気株式会社 | ヘツド分離型光磁気デイスク装置 |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP12581989A patent/JPH02306450A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04115326U (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-13 | 日本電気株式会社 | ヘツド分離型光磁気デイスク装置 |
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