JPH02258833A - ポリイソチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 - Google Patents
ポリイソチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料Info
- Publication number
- JPH02258833A JPH02258833A JP8049689A JP8049689A JPH02258833A JP H02258833 A JPH02258833 A JP H02258833A JP 8049689 A JP8049689 A JP 8049689A JP 8049689 A JP8049689 A JP 8049689A JP H02258833 A JPH02258833 A JP H02258833A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyisothianaphthene
- aqueous dispersion
- thiophene
- groups
- isothianaphthene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 50
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 title description 2
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920006318 anionic polymer Polymers 0.000 claims abstract description 6
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- -1 isothianaphthene compound Chemical class 0.000 claims description 52
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 12
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 claims description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 18
- LYTMVABTDYMBQK-UHFFFAOYSA-N 2-benzothiophene Chemical compound C1=CC=CC2=CSC=C21 LYTMVABTDYMBQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 12
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 abstract description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 abstract description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 abstract description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 abstract 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 39
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 38
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 13
- 238000000502 dialysis Methods 0.000 description 12
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 10
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 10
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 10
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 9
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 7
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 7
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 5
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 3
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 3
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 3
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 3
- OABGEEWYLROVFX-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-benzothiophene Chemical compound C1=C(C)C=CC2=CSC=C21 OABGEEWYLROVFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 2
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 2
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 2
- YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N dioxolead Chemical compound O=[Pb]=O YADSGOSSYOOKMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N manganese dioxide Chemical compound O=[Mn]=O NUJOXMJBOLGQSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 2
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 2
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 1,4-benzoquinone Chemical compound O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methyl-5-propan-2-ylcyclohex-2-en-1-yl)propan-1-one Chemical compound CCC(=O)C1CC(C(C)C)CC=C1C DZSVIVLGBJKQAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUPYTANKWDPRDP-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophen-5-amine Chemical compound NC1=CC=C2SC=CC2=C1 ZUPYTANKWDPRDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000536 2-Acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid Polymers 0.000 description 1
- XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-2-[(1-oxo-2-propenyl)amino]-1-propanesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)CC(C)(C)NC(=O)C=C XHZPRMZZQOIPDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 2-Methylbenzenesulfonic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(O)(=O)=O LBLYYCQCTBFVLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzenesulfonic acid Chemical class OS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1C=C VMSBGXAJJLPWKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910004039 HBF4 Inorganic materials 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- 239000002174 Styrene-butadiene Substances 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005115 alkyl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005153 alkyl sulfamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004422 alkyl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 1
- MMCPOSDMTGQNKG-UHFFFAOYSA-N anilinium chloride Chemical compound Cl.NC1=CC=CC=C1 MMCPOSDMTGQNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 125000005116 aryl carbamoyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004421 aryl sulphonamide group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- YNKIJGKZJSKHEQ-UHFFFAOYSA-N benzenesulfonic acid;n,n-dibutylbutan-1-amine Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1.CCCC[NH+](CCCC)CCCC YNKIJGKZJSKHEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N butadiene-styrene rubber Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1 MTAZNLWOLGHBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000366 copper(II) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 239000004815 dispersion polymer Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004870 electrical engineering Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H iron(3+) sulfate Chemical compound [Fe+3].[Fe+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O RUTXIHLAWFEWGM-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000360 iron(III) sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003049 isoprene rubber Polymers 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical compound CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 1
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 1
- 229920000172 poly(styrenesulfonic acid) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229940005642 polystyrene sulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000011115 styrene butadiene Substances 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001814 trioxo-lambda(7)-chloranyloxy group Chemical group *OCl(=O)(=O)=O 0.000 description 1
Landscapes
- Polyoxymethylene Polymers And Polymers With Carbon-To-Carbon Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ポリイソチアナフテン系水分散液を製造する
方法及びポリイソチアナフテン系導電性高分子材料に関
する。詳しくは、得られる導電性高分子材料の電気伝導
度及び、透明性が高い、ポリイソチアナフテン系化合物
の安定な水分散液を製造する方法及び電気伝導度かつ透
明性が高いポリイソチアナフテン系導電性高分子材料に
関するものである。
方法及びポリイソチアナフテン系導電性高分子材料に関
する。詳しくは、得られる導電性高分子材料の電気伝導
度及び、透明性が高い、ポリイソチアナフテン系化合物
の安定な水分散液を製造する方法及び電気伝導度かつ透
明性が高いポリイソチアナフテン系導電性高分子材料に
関するものである。
〔従来の技術]
近年、従来より導電性を示すことが知られてきたπ電子
共役系を有する高分子化合物、例えばポリアセチレン、
ポリフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリ
アニリン、ポリイソチアナフテン等が電気工学や電子工
業の分野において、電池、コンデンサー、帯電防止材料
、it iff波遮蔽材料、電子デバイス、エレクトロ
クロミック素子等の各種の導電性材料として検討されて
いる。
共役系を有する高分子化合物、例えばポリアセチレン、
ポリフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリ
アニリン、ポリイソチアナフテン等が電気工学や電子工
業の分野において、電池、コンデンサー、帯電防止材料
、it iff波遮蔽材料、電子デバイス、エレクトロ
クロミック素子等の各種の導電性材料として検討されて
いる。
上記の導電性高分子のうちポリイソチアナフテンはP型
にドープすることにより半導体から全屈的状態になり、
可視域の吸収は非常に小さくなるため、透明導電性高分
子としての幅広い応用が期待されている。
にドープすることにより半導体から全屈的状態になり、
可視域の吸収は非常に小さくなるため、透明導電性高分
子としての幅広い応用が期待されている。
特開昭61−17581号には、ドーピングにより晶い
電導性を示し、電気化学的にも繰り返し酸化還元行うこ
とが可能で且つそれぞれの状態において固有の色を有す
るポリイソチアナフテン構造を有する重合体が開示され
ている。
電導性を示し、電気化学的にも繰り返し酸化還元行うこ
とが可能で且つそれぞれの状態において固有の色を有す
るポリイソチアナフテン構造を有する重合体が開示され
ている。
ポリイソチアナフテン等の製造方法としでは、酸化剤を
使用して化学的に酸化重合する方法、電気化学的に酸化
重合(電解重合)する方法が知られている0例えば、F
、 Mud Iらはジャーナル・オブ・オーガニック
・ケミストリー(Jourr+al ofOrgani
c chemistry )第49巻、第3382頁(
1984年)で、イソチアナフテンをLi[lrを溶解
したアセトニトリル中で電解重合すると、陽極上にポリ
イソチアナフテンがフィルム状に析出することを、また
、イソチアナフテンを塩化メチレン中で塩化アルミニウ
ムおよび塩化第二銅により酸化すると黒色の重合体が沈
澱が析出することを報告している。
使用して化学的に酸化重合する方法、電気化学的に酸化
重合(電解重合)する方法が知られている0例えば、F
、 Mud Iらはジャーナル・オブ・オーガニック
・ケミストリー(Jourr+al ofOrgani
c chemistry )第49巻、第3382頁(
1984年)で、イソチアナフテンをLi[lrを溶解
したアセトニトリル中で電解重合すると、陽極上にポリ
イソチアナフテンがフィルム状に析出することを、また
、イソチアナフテンを塩化メチレン中で塩化アルミニウ
ムおよび塩化第二銅により酸化すると黒色の重合体が沈
澱が析出することを報告している。
しかしながら、上記の酸化重合により得られた導電性高
分子は、不溶不融の粉末又は塊であるために、それ自体
の成形性能に劣っており、このような導電性高分子を導
電性材料として利用するには、適当なバインダーに分散
するか、圧縮成形による加工を行うなどの必要があると
いう不便さがあった。
分子は、不溶不融の粉末又は塊であるために、それ自体
の成形性能に劣っており、このような導電性高分子を導
電性材料として利用するには、適当なバインダーに分散
するか、圧縮成形による加工を行うなどの必要があると
いう不便さがあった。
また、上記の電解重合では、陽極上に導電性高分子がフ
ィルム状で生成するため、を極の大きさに生成物の大き
さが規制され、しかも、高価な設備を用いる必要からコ
スト高であるなどという不都合があった。
ィルム状で生成するため、を極の大きさに生成物の大き
さが規制され、しかも、高価な設備を用いる必要からコ
スト高であるなどという不都合があった。
導電性高分子の水分散液の製造の一例は、米国特許第4
,237.194号に示されているが、水と混和しうる
有機溶媒に溶解したポリアニリンをラテックスと混合し
、その後、有R溶媒を除去してポリアニリン会合ラテッ
クスを形成し、さらに酸の添加によりポリアニリン塩会
合ラテックスを形成するものであり、複雑な多くの操作
が必要で、本発明のように容易に水分散液を合成できる
ものではなかった。
,237.194号に示されているが、水と混和しうる
有機溶媒に溶解したポリアニリンをラテックスと混合し
、その後、有R溶媒を除去してポリアニリン会合ラテッ
クスを形成し、さらに酸の添加によりポリアニリン塩会
合ラテックスを形成するものであり、複雑な多くの操作
が必要で、本発明のように容易に水分散液を合成できる
ものではなかった。
また、米国特許第4,731.408号には、アニオン
性の表面特性を有するポリマーの存在下で導電性高分子
フィルムとして被覆可能な高分子分散物を製造する方法
が開示されているが、ポリイソチアナフテン系水分散物
を製造する方法やポリイソチアナフテン系導電性材料は
具体的に開示されていない。
性の表面特性を有するポリマーの存在下で導電性高分子
フィルムとして被覆可能な高分子分散物を製造する方法
が開示されているが、ポリイソチアナフテン系水分散物
を製造する方法やポリイソチアナフテン系導電性材料は
具体的に開示されていない。
本発明の目的は、ポリインチアナフテン系化合物の成形
性能に劣るという問題点を解決した安定なポリイソチア
ナフテン系水分散液を製造することにある。
性能に劣るという問題点を解決した安定なポリイソチア
ナフテン系水分散液を製造することにある。
更には、得られる成形体の電気伝導度及び、透明性が高
い、ポリイソチアナフテン系化合物の安定な水分散液を
製造することである。
い、ポリイソチアナフテン系化合物の安定な水分散液を
製造することである。
更には、電気伝導度及び、透明性が高い導電性高分子材
料を得ることにある。
料を得ることにある。
上記目的は、アニオン性高分子又はアニオン性界面活性
剤の存在下で、インチアナフテン系化合物を酸化重合し
て、ポリイソチアナフテン系水分散液を製造する方法及
びそれを乾燥してなるポリイソチアナフテン系導電性高
分子材料によって達成された。
剤の存在下で、インチアナフテン系化合物を酸化重合し
て、ポリイソチアナフテン系水分散液を製造する方法及
びそれを乾燥してなるポリイソチアナフテン系導電性高
分子材料によって達成された。
本発明はポリイソチアナフテンを水分散液として製造す
ることで、上記に示した成形性能に劣るという問題点を
解決するものである。このような導電性高分子の水分子
#に、?&、は、スプレー被膜形成法、コーターによる
表面コート法、押出成形法などにより塗布することが容
易で、更にはエマルジョン等とブレンドすることもでき
、乾燥により水を除去することでフィルム化することが
できるという利点がある。
ることで、上記に示した成形性能に劣るという問題点を
解決するものである。このような導電性高分子の水分子
#に、?&、は、スプレー被膜形成法、コーターによる
表面コート法、押出成形法などにより塗布することが容
易で、更にはエマルジョン等とブレンドすることもでき
、乾燥により水を除去することでフィルム化することが
できるという利点がある。
以下、本発明のポリイソチアナフテン系水分散液の製造
方法に関して説明する。
方法に関して説明する。
本発明の製造方法には、ラテックスの製造に用いられる
乳化重合と同様の公知の方法で行うことができる。91
えば、窒素雰囲気下でIF?されたアニオン表面特性保
有ラッテクスに、塩化メチレンに溶解したイソチアナフ
テンを加えて作られた溶液に、触媒としてFeCl、の
水溶液を滴下する方法である。
乳化重合と同様の公知の方法で行うことができる。91
えば、窒素雰囲気下でIF?されたアニオン表面特性保
有ラッテクスに、塩化メチレンに溶解したイソチアナフ
テンを加えて作られた溶液に、触媒としてFeCl、の
水溶液を滴下する方法である。
本発明の製造方法に用いられる溶媒は蒸留水が用いられ
るが、蒸留水にポリイソチアナフテン系化合物が溶解し
ない場合には、少量の有a溶媒も併せて用いることがで
きる。
るが、蒸留水にポリイソチアナフテン系化合物が溶解し
ない場合には、少量の有a溶媒も併せて用いることがで
きる。
本発明において用いられるインチアナフテン系化合物の
好ましい化合物は、以下の一般式(1)%式% ここで、R’ 、R’ 、R’及びR4は水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、アルキル
基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アミノ基、アルキルアミノ基(縮纜してもよい)
、ニトロ基、シアノ基、NHCOR’ Nll5
OtR’SORラ −SO□R’ −3o□NR
’COR’ −CONR’ 、複素環基(例えば、R
フ トリアゾール、デアゾール、ベンズチアゾール、フラン
、ピリジン、キナルジン、ベンズオキサゾール、ピリミ
ジン、オキサゾール、イミダゾール)を表す Bsはア
ルキル基又はアリール基を表す Rh及び R7は同じ
であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基
又はアリール基を表す R1とR”、R’とRt、また
はR8とR4は縮環してもよい 更に、上記のR1、Rg 、Ra及びR4のアルキル基
、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アル
キルアミノ基は更にil[fiされていてもよい、また
、上記のRs 、Ra及びRマのアル・キル基、アリー
ル基も更に置換されていてもよい。
好ましい化合物は、以下の一般式(1)%式% ここで、R’ 、R’ 、R’及びR4は水素原子、ハ
ロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)、アルキル
基、アリール基、水酸基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アミノ基、アルキルアミノ基(縮纜してもよい)
、ニトロ基、シアノ基、NHCOR’ Nll5
OtR’SORラ −SO□R’ −3o□NR
’COR’ −CONR’ 、複素環基(例えば、R
フ トリアゾール、デアゾール、ベンズチアゾール、フラン
、ピリジン、キナルジン、ベンズオキサゾール、ピリミ
ジン、オキサゾール、イミダゾール)を表す Bsはア
ルキル基又はアリール基を表す Rh及び R7は同じ
であっても異なっていてもよく、水素原子、アルキル基
又はアリール基を表す R1とR”、R’とRt、また
はR8とR4は縮環してもよい 更に、上記のR1、Rg 、Ra及びR4のアルキル基
、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アル
キルアミノ基は更にil[fiされていてもよい、また
、上記のRs 、Ra及びRマのアル・キル基、アリー
ル基も更に置換されていてもよい。
これらの置換基゛の例としては、アルコキシ基(例えば
、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例えば、
フェニルオキシ)、アルコキシカルボニル基(例えば、
メトキシカルボニル)、アシルアミノ基(例えば、アセ
チルアミノ)、カルバモイル基、アルキルカルバモイル
基(例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル
)、ジアルキル力ルイバモイル基(例えば、ジメチルカ
ルバモイル)、アリールカルバモイル基(例えば、フェ
ニルカルバモイル)、アルキルスルホニル基(例えば、
メチルスルホニル)、アリールスルホニル基(例えば、
フェニルスルホニル)、アルキルスルホンアミド基(例
えば、メタンスルホンアミド)、アリールスルホンアミ
ド基(例えば、フヱニルスルホンアミド)、スルファモ
イル基、アルキルスルファモイル基(例えば、エチルス
ルファモイル)、ジアルキルスルファモイル基(例えば
、ジメチルスルファモイル)、アルキルチオ基(例えば
、メチルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェニルチ
オ)、アミノ基、アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ
基、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)が挙
げられ、この置換基が2個以上あるときは同じであって
も異なっていてもよい。
、メトキシ、エトキシ)、アリールオキシ基(例えば、
フェニルオキシ)、アルコキシカルボニル基(例えば、
メトキシカルボニル)、アシルアミノ基(例えば、アセ
チルアミノ)、カルバモイル基、アルキルカルバモイル
基(例えば、メチルカルバモイル、エチルカルバモイル
)、ジアルキル力ルイバモイル基(例えば、ジメチルカ
ルバモイル)、アリールカルバモイル基(例えば、フェ
ニルカルバモイル)、アルキルスルホニル基(例えば、
メチルスルホニル)、アリールスルホニル基(例えば、
フェニルスルホニル)、アルキルスルホンアミド基(例
えば、メタンスルホンアミド)、アリールスルホンアミ
ド基(例えば、フヱニルスルホンアミド)、スルファモ
イル基、アルキルスルファモイル基(例えば、エチルス
ルファモイル)、ジアルキルスルファモイル基(例えば
、ジメチルスルファモイル)、アルキルチオ基(例えば
、メチルチオ)、アリールチオ基(例えば、フェニルチ
オ)、アミノ基、アルキルアミノ基、シアノ基、ニトロ
基、ハロゲン原子(例えば、フッ素、塩素、臭素)が挙
げられ、この置換基が2個以上あるときは同じであって
も異なっていてもよい。
上記イソチアナフテン系化合物として好ましいものとし
ては、イソチアナフテン、5−メチルベンゾ〔C〕チオ
フェン、5−エチルベンゾ〔C〕チオフェン、5−フェ
ニルベンゾ(C)チオフェン、4−メチルベンゾ(c)
チオフェン、4−エチルベンゾ(C)チオフェン、4−
フェニルベンゾ(C)チオフェン、4.5−ジメチルベ
ンゾ〔C〕ヂオフェン、4.5−ジエチルベンゾ〔C]
チオフェン、5.5°−ジメチルベンゾ〔C〕チオフェ
ン、4,4°−ジメチルベンゾ〔C〕チオフェン、5−
メトキシベンゾ(C)チオフェン、5−エトキシベンゾ
〔C〕チオフェン、5−フェノキシベンゾ(C)チオフ
ェン、4−メトキシベンゾ(C)チオフェン、4−エト
キシベンゾ(C)チオフェン、4−フェノキシベンゾ(
C)チオフェン、5−アミノベンゾチオフェン、5−フ
ェニルアミノベンゾ(C)チオフェン、5メチルフエニ
ルアミノベンゾ(C)チオフェン、5−ジメチルアミノ
ベンゾ(clチオフェン、5−ジフェニルアミノベンゾ
(C)チオフェン、4−アミノベンゾ(C)チオフェン
、4−フェニルアミノベンゾ(C)チオフェン、4−メ
チルフェニルアミノベンゾ(C)チオフェン、4−ジメ
チルアミノベンゾ(C)チオフェン、4−ジフェニルア
ミノベンゾCC)チオフェンが挙げられる。
ては、イソチアナフテン、5−メチルベンゾ〔C〕チオ
フェン、5−エチルベンゾ〔C〕チオフェン、5−フェ
ニルベンゾ(C)チオフェン、4−メチルベンゾ(c)
チオフェン、4−エチルベンゾ(C)チオフェン、4−
フェニルベンゾ(C)チオフェン、4.5−ジメチルベ
ンゾ〔C〕ヂオフェン、4.5−ジエチルベンゾ〔C]
チオフェン、5.5°−ジメチルベンゾ〔C〕チオフェ
ン、4,4°−ジメチルベンゾ〔C〕チオフェン、5−
メトキシベンゾ(C)チオフェン、5−エトキシベンゾ
〔C〕チオフェン、5−フェノキシベンゾ(C)チオフ
ェン、4−メトキシベンゾ(C)チオフェン、4−エト
キシベンゾ(C)チオフェン、4−フェノキシベンゾ(
C)チオフェン、5−アミノベンゾチオフェン、5−フ
ェニルアミノベンゾ(C)チオフェン、5メチルフエニ
ルアミノベンゾ(C)チオフェン、5−ジメチルアミノ
ベンゾ(clチオフェン、5−ジフェニルアミノベンゾ
(C)チオフェン、4−アミノベンゾ(C)チオフェン
、4−フェニルアミノベンゾ(C)チオフェン、4−メ
チルフェニルアミノベンゾ(C)チオフェン、4−ジメ
チルアミノベンゾ(C)チオフェン、4−ジフェニルア
ミノベンゾCC)チオフェンが挙げられる。
本発明においてイソチアナフテン系化合物を酸化重合さ
せるために使用する触媒としては、−aに用いられる公
知のものを用いることができる。
せるために使用する触媒としては、−aに用いられる公
知のものを用いることができる。
例えば、塩化第二鉄、塩化第二銅などの塩化物、硫酸第
二鉄、硫酸第二銅などの硫酸塩、二酸化鉛、二酸化マン
ガンなどの金属酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモ
ニウム、過酸化水素などの過酸化物、ベンゾキノンなど
のキノン類、沃素、臭素などのハロゲン、フェリシアン
化カリウムなどが挙げられる。これらの具体例は、特開
昭65−213518号、同63−193926号、同
62−126665号、同62−104832号、同6
3−215717号、同63−69823号、同63−
101415号、同60−58430号等にも記載され
ている。触媒の量はイソチアナフテン系化合物の特性と
使用される触媒により変化する。しかしながら、−aに
は、触媒/イソチアナフテン系化合物のモル比率は0.
01〜10の範囲であり、好ましくは、1〜5の範囲で
ある。
二鉄、硫酸第二銅などの硫酸塩、二酸化鉛、二酸化マン
ガンなどの金属酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモ
ニウム、過酸化水素などの過酸化物、ベンゾキノンなど
のキノン類、沃素、臭素などのハロゲン、フェリシアン
化カリウムなどが挙げられる。これらの具体例は、特開
昭65−213518号、同63−193926号、同
62−126665号、同62−104832号、同6
3−215717号、同63−69823号、同63−
101415号、同60−58430号等にも記載され
ている。触媒の量はイソチアナフテン系化合物の特性と
使用される触媒により変化する。しかしながら、−aに
は、触媒/イソチアナフテン系化合物のモル比率は0.
01〜10の範囲であり、好ましくは、1〜5の範囲で
ある。
本発明に用いられるアニオン性界面活性剤の具体例を以
下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
下に挙げるが、これらに限定されるものではない。
アニオン性界面活性剤の例としては以下のものが挙げら
れる。
れる。
C+5HstCOONa 、 C+5HstCOO
Na 。
Na 。
NaO,SC■C00CaH+t
C+ +Il*、CIICHtCIIzSOsNa署
H
C+glbsO(CHz)4SOJa
NaOiSCHCOOC*Il。
C+hHssO5OsNa
また本発明において用いられるアニオン性高分子は、一
般に用いられている公知のアニオン表面特性保有ポリマ
ーを用いることができる。好ましくは、乳化重合法によ
り製造されるラテックスである。アニオン表面特性は種
々の方法で導入できる0例えば、アニオン性基、例えば
スルホン酸基を有するエチレン性不飽和モノマー、また
はエチレン性不飽和モノマーとの混合物を重合して、ア
ニオン表面特性保有ラテックスを合成する方法である。
般に用いられている公知のアニオン表面特性保有ポリマ
ーを用いることができる。好ましくは、乳化重合法によ
り製造されるラテックスである。アニオン表面特性は種
々の方法で導入できる0例えば、アニオン性基、例えば
スルホン酸基を有するエチレン性不飽和モノマー、また
はエチレン性不飽和モノマーとの混合物を重合して、ア
ニオン表面特性保有ラテックスを合成する方法である。
この目的には2−アクリルアミド−2−メチルプロパン
スルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸の塩等を用いる
ことができるが、ポリマーにアニオン表面特性を導入で
きる他のエチレン性不飽和モノマー用いることが出来る
。
スルホン酸、ビニルベンゼンスルホン酸の塩等を用いる
ことができるが、ポリマーにアニオン表面特性を導入で
きる他のエチレン性不飽和モノマー用いることが出来る
。
この場合の具体例を以下に挙げるがこれらに限定される
ものではない。
ものではない。
CHl
0ONa
0OCR1
cooc寥H3
OOH
0ONa
CH8
さらに、アニオン表面特性はラテックス製造に前記のア
ニオン性界面活性剤を用いる方法であってもよい。
ニオン性界面活性剤を用いる方法であってもよい。
ポリインチアナフテン系化合物の分散に用いられるアニ
オン性高分子の量は、イソチアナフテン系化合物に対し
て1〜300重量%、好ましくは5〜200重量%であ
る。アニオン性界面活性剤の量は、イソチアナフテン系
化合物に対して0.01〜50重量%、好ましくは0.
1〜20重量%である。酸化重合における反応温度は、
−10〜100℃、好ましくは0〜50°Cである0反
応時間は、反応温度と関連するが、通常0.1〜100
時間、好ましくは0.1〜50時間である。
オン性高分子の量は、イソチアナフテン系化合物に対し
て1〜300重量%、好ましくは5〜200重量%であ
る。アニオン性界面活性剤の量は、イソチアナフテン系
化合物に対して0.01〜50重量%、好ましくは0.
1〜20重量%である。酸化重合における反応温度は、
−10〜100℃、好ましくは0〜50°Cである0反
応時間は、反応温度と関連するが、通常0.1〜100
時間、好ましくは0.1〜50時間である。
本発明の水分散液は、透析、限外濾過等の処理をして用
いても良い。
いても良い。
また、本発明の水分散液には、成形体の導電性をさらに
向上させるために、導電性化合物を添加することができ
る。これらの導電性化合物は、酸化重合の前後もしくは
その両方に添加してもよいが、重合前もしくは重合の前
後の両方に添加されるのが好ましい、更に透析、限外濾
過等の処理をする場合には処理後に加えてもよい。
向上させるために、導電性化合物を添加することができ
る。これらの導電性化合物は、酸化重合の前後もしくは
その両方に添加してもよいが、重合前もしくは重合の前
後の両方に添加されるのが好ましい、更に透析、限外濾
過等の処理をする場合には処理後に加えてもよい。
本発明で用いることのできる導電性化合物としては、ア
ルカリ金属カチオン(L i” 、Na’に゛等)、N
Oo、Not ’カチオン、オニウムカチオン(ELJ
” 、8u4N” 、BusP”等)と負イオン(BF
4− 、AlF4− 、AaF&−、5bFa−、5b
CIiPF& −、ClO4−、^IFa−、AlF6
− 、N1Fa”−ZrFa”−1TiF*”−1Ti
F&’\B+*CI+e ”−1CIBr−5F −、
H3O4−、SOa ”−等)からなる塩、スルホン酸
アニオン(CHjCJ4SOs−、CJsS(hcps
soz−等)を含む塩、!IC0OLiのようなカルボ
ン酸アニオンを含む塩、FeCl5のような塩化物、お
よび有機アミン、無機酸(例えば、HCI 、 HよS
04、ICl0n 、HBF4) 、有機酸(例えば、
トルエンスルホン酸、トリフルオロメチルスルホン酸、
ポリスチレンスルホン酸のようなスルホン酸、ギ酸、酢
酸、ポリアクリル酸のようなカルボン酸)あるいるが、
これらに限定されるものではない。
ルカリ金属カチオン(L i” 、Na’に゛等)、N
Oo、Not ’カチオン、オニウムカチオン(ELJ
” 、8u4N” 、BusP”等)と負イオン(BF
4− 、AlF4− 、AaF&−、5bFa−、5b
CIiPF& −、ClO4−、^IFa−、AlF6
− 、N1Fa”−ZrFa”−1TiF*”−1Ti
F&’\B+*CI+e ”−1CIBr−5F −、
H3O4−、SOa ”−等)からなる塩、スルホン酸
アニオン(CHjCJ4SOs−、CJsS(hcps
soz−等)を含む塩、!IC0OLiのようなカルボ
ン酸アニオンを含む塩、FeCl5のような塩化物、お
よび有機アミン、無機酸(例えば、HCI 、 HよS
04、ICl0n 、HBF4) 、有機酸(例えば、
トルエンスルホン酸、トリフルオロメチルスルホン酸、
ポリスチレンスルホン酸のようなスルホン酸、ギ酸、酢
酸、ポリアクリル酸のようなカルボン酸)あるいるが、
これらに限定されるものではない。
また、本発明の水分散液は高分子化合物とブレンドして
用いることができる3本発明でブレンドできる高分子化
合物としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、シリコーン樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリエチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリア
ミド樹脂等の合成樹脂、スチレン−ブタジェンゴム、ブ
タジェンゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、ニトリル
ゴム、クロロブレンゴム、エチレン−プロピレンゴム等
の合成ゴム、ポリ酢酸ビニル系ポリマー1、ポリスチレ
ン系ポリマー、ポリエチレン系ポリマー、ポリ(メタ)
アクリル酸エステル系ポリマー等を使用することができ
るが、これらに限定されるものではない、好ましくは、
これらの高分子化合物はエマルシヨンである。
用いることができる3本発明でブレンドできる高分子化
合物としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン
樹脂、シリコーン樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリスチ
レン樹脂、ポリエチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリア
ミド樹脂等の合成樹脂、スチレン−ブタジェンゴム、ブ
タジェンゴム、イソプレンゴム、ブチルゴム、ニトリル
ゴム、クロロブレンゴム、エチレン−プロピレンゴム等
の合成ゴム、ポリ酢酸ビニル系ポリマー1、ポリスチレ
ン系ポリマー、ポリエチレン系ポリマー、ポリ(メタ)
アクリル酸エステル系ポリマー等を使用することができ
るが、これらに限定されるものではない、好ましくは、
これらの高分子化合物はエマルシヨンである。
本発明の水分散液は、公知の塗布方法(例えば、デイツ
プコート、ローラーコート、バーコード、スピンコード
、カーテンコート、ギーサーコートなど)、スプレーに
よる被膜形成法、押出成形方法等及び公知の乾燥法を用
いて導電性高分子材料に容易に加工することができる。
プコート、ローラーコート、バーコード、スピンコード
、カーテンコート、ギーサーコートなど)、スプレーに
よる被膜形成法、押出成形方法等及び公知の乾燥法を用
いて導電性高分子材料に容易に加工することができる。
以下、具体例に基づいて本発明を詳述する。
合成例1
300−の370フラスコにスチレン−ブタジェン系ラ
テックスN1pO12570x5(日本ゼオン製)60
g、蒸留水15(ldをとり、窒素雰囲気下で攪拌しな
がら塩化メチレン10mに溶解したイソチアナフテン5
gを加えた。室温でこの液に、蒸留水30jIliに溶
解した10gのFeCl5・6H30を30分間にわた
って滴下した。
テックスN1pO12570x5(日本ゼオン製)60
g、蒸留水15(ldをとり、窒素雰囲気下で攪拌しな
がら塩化メチレン10mに溶解したイソチアナフテン5
gを加えた。室温でこの液に、蒸留水30jIliに溶
解した10gのFeCl5・6H30を30分間にわた
って滴下した。
滴下とともに発熱し、反応液は黒色に変化した。
さらに、2時間撹拌した後、透析を2日間行い(νl5
KASE 5ALES C0RP CELLtl
LO5I! T[IBING C−65三光純薬■
製を使用)、ポリインチアナフテンの水分散液を得た。
KASE 5ALES C0RP CELLtl
LO5I! T[IBING C−65三光純薬■
製を使用)、ポリインチアナフテンの水分散液を得た。
得られたポリイソチアナフテン粒子の平均粒径は120
nmであった(COULTER−N4型サブミクロン粒
子分析装置(コールタ−エレクトロニクス■)製で測定
)、また、この水分散液は、保存を20°Cおよび5℃
のどちらの温度で行っても安定であり、3ケ月経過後ど
ちらの温度で行った場合も粒子の沈降や凝集はなかった
。さらに、腐敗も見られなかった。
nmであった(COULTER−N4型サブミクロン粒
子分析装置(コールタ−エレクトロニクス■)製で測定
)、また、この水分散液は、保存を20°Cおよび5℃
のどちらの温度で行っても安定であり、3ケ月経過後ど
ちらの温度で行った場合も粒子の沈降や凝集はなかった
。さらに、腐敗も見られなかった。
合成例2
導電性塩としてベンゼンスルホン酸トリブチルアンモニ
ウム塩5gをインチアナフテンとともに添加した以外は
合成例1と同様に合成及び透析した結果、合成例1と同
様に安定なポリイソチアナフテン水分散液(平均粒径1
35nm)を得た。
ウム塩5gをインチアナフテンとともに添加した以外は
合成例1と同様に合成及び透析した結果、合成例1と同
様に安定なポリイソチアナフテン水分散液(平均粒径1
35nm)を得た。
合成例3
Nipo12570X5の代わりにアクリロニトリル−
ブタジェン系ラテックスN1pol1571(日本ゼオ
ン製)60g、イソチアナフテンの代わりに5−メチル
ベンゾ(C)チオフェン6gを使用した以外は合成例1
と同様にして合成及び透析をした結果、合成例1と同様
に腐敗も粒子の凝集も見られない安定なポリ(5−メチ
ルベンゾ(C)チオフェン)水分散液(平均粒径101
00nを得た。
ブタジェン系ラテックスN1pol1571(日本ゼオ
ン製)60g、イソチアナフテンの代わりに5−メチル
ベンゾ(C)チオフェン6gを使用した以外は合成例1
と同様にして合成及び透析をした結果、合成例1と同様
に腐敗も粒子の凝集も見られない安定なポリ(5−メチ
ルベンゾ(C)チオフェン)水分散液(平均粒径101
00nを得た。
合成例4
Nipo12570X5の代わりにアクリロニトリルー
プクジエン系ラテックス N1po11571(日本ゼ
オン製)60g、FeCl5 ・6H,Oの代わりに
過硫酸アンモニウム18gを使用した以外は合成例1と
同様にして合成及び透析をした結果、合成例1と同様に
安定なポリイソチアナフテン水分散液(平均粒径160
nm)を得た。
プクジエン系ラテックス N1po11571(日本ゼ
オン製)60g、FeCl5 ・6H,Oの代わりに
過硫酸アンモニウム18gを使用した以外は合成例1と
同様にして合成及び透析をした結果、合成例1と同様に
安定なポリイソチアナフテン水分散液(平均粒径160
nm)を得た。
合成例5
FeCI、 ・6H10の代わりに過硫酸アンモニウ
ム18gを使用した以外は合成例1と同様にして合成及
び透析をした結果、合成例1と同様に安定なポリイソチ
アナフテン水分散液(平均粒径90 nm)を得た。
ム18gを使用した以外は合成例1と同様にして合成及
び透析をした結果、合成例1と同様に安定なポリイソチ
アナフテン水分散液(平均粒径90 nm)を得た。
合成例6
Nipo12570X5の代わりにスチレンと2−アク
リルアミド2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩
の共重合体10gを使用した以外は合成例1と同様にし
て合成及び透析をした結果、合成例1と同様に安定なポ
リイソチアナフテン水分散液(平均粒径105 nm)
を得た。
リルアミド2−メチルプロパンスルホン酸ナトリウム塩
の共重合体10gを使用した以外は合成例1と同様にし
て合成及び透析をした結果、合成例1と同様に安定なポ
リイソチアナフテン水分散液(平均粒径105 nm)
を得た。
合成例7
N1po11570X5の代わりに
の代わりに5−エチルベンゾ(C)チオフェン6gを使
用した以外は合成例1と同様にして合成及び透析をした
結果、合成例1と同様に安定なポリ(5−エチルベンゾ
(C)チオフェン)水分散液(平均粒径120 nm)
を得た。
用した以外は合成例1と同様にして合成及び透析をした
結果、合成例1と同様に安定なポリ(5−エチルベンゾ
(C)チオフェン)水分散液(平均粒径120 nm)
を得た。
実施例1
合成例2で得たポリインチアナフテン水分散液をガラス
上に塗布し、窒素雰囲気下で乾燥し、その後、50℃に
加熱しながら減圧乾燥をすることでドーピングされたポ
リイソチアナフテンをフィルム化した。フィルムは厚さ
45μで透明性に優れていた(透過度的40%)、4端
子法によりそのフィルムの電気伝導度を測定したところ
、その値はlO弓S/CIであった。
上に塗布し、窒素雰囲気下で乾燥し、その後、50℃に
加熱しながら減圧乾燥をすることでドーピングされたポ
リイソチアナフテンをフィルム化した。フィルムは厚さ
45μで透明性に優れていた(透過度的40%)、4端
子法によりそのフィルムの電気伝導度を測定したところ
、その値はlO弓S/CIであった。
実施例2
合成例1で得たポリイソチアナフテン水分散液10gを
ポリ酢酸ビニルエマルジョン20gとブレンドした。こ
のブレンドした水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾
燥することで、厚さ40μの透明性に優れたフィルムを
得た(透過度的30%)、そのフィルムの電気伝導度は
、I O−’S/1であった。
ポリ酢酸ビニルエマルジョン20gとブレンドした。こ
のブレンドした水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾
燥することで、厚さ40μの透明性に優れたフィルムを
得た(透過度的30%)、そのフィルムの電気伝導度は
、I O−’S/1であった。
実施例3
合成例3で得たポリ(5−メチルベンゾ(C)チオフェ
ン)水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥すること
で、ポリ(5−メチルベンゾ(C〕チオフェン)をフィ
ルム化することができた。
ン)水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥すること
で、ポリ(5−メチルベンゾ(C〕チオフェン)をフィ
ルム化することができた。
フィルムは厚さ30μであり、透明性に優れていた(透
過度的30%)、そのフィルムの電気伝導度は、10−
’S/cmであった。
過度的30%)、そのフィルムの電気伝導度は、10−
’S/cmであった。
実施例4
合成例4で得たポリイソチアナフテン水分散液を実施例
1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ65aで透明
性に優れたポリイソチアナフテンのフィルムを得た(透
過度的35%)、電気伝導度は10−’S/cmであっ
た。
1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ65aで透明
性に優れたポリイソチアナフテンのフィルムを得た(透
過度的35%)、電気伝導度は10−’S/cmであっ
た。
実施例5
合成例5で得たポリイソチアナフテン水分散液を実施例
1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ30μで透明
性に優れたポリインチアナフテンのフィルムを得た(透
過度的30%)、電気伝導度は10−”37cmであっ
た。
1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ30μで透明
性に優れたポリインチアナフテンのフィルムを得た(透
過度的30%)、電気伝導度は10−”37cmであっ
た。
実施例6
合成例3で得たポリ(5−メチルベンゾ(C)チオフェ
ン)水分散液にLLiC10a3を添加した後、これを
実施例1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ35μ
で透明性に優れたポリ(5−メチルベンゾ(C)チオフ
ェン)のフィルムを得た(透過度的30%)、電気伝導
度は10−’S/lであった。
ン)水分散液にLLiC10a3を添加した後、これを
実施例1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ35μ
で透明性に優れたポリ(5−メチルベンゾ(C)チオフ
ェン)のフィルムを得た(透過度的30%)、電気伝導
度は10−’S/lであった。
実施例7
合成例1で得たポリイソチアナフテン水分散液にKBF
43.5gを添加した後、その中から10gをとり、こ
れとポリスチレンエマルジゴン10gとをブレンドした
。このブレンドした水分散液を実施例1と同様に塗布及
び乾燥することで、厚さ45μで透明性に優れたポリイ
ソチアナフテンとポリスチレンとのブレンドフィルムを
得た(透過度的35%)、f!電気伝導度10弓S/c
■であった。
43.5gを添加した後、その中から10gをとり、こ
れとポリスチレンエマルジゴン10gとをブレンドした
。このブレンドした水分散液を実施例1と同様に塗布及
び乾燥することで、厚さ45μで透明性に優れたポリイ
ソチアナフテンとポリスチレンとのブレンドフィルムを
得た(透過度的35%)、f!電気伝導度10弓S/c
■であった。
実施例8
合成例6で得たポリイソチアナフテン水分散液を実施例
1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ40μで透明
性に優れたポリイソチアナフテンとポリスチレンとのブ
レンドフィルムを得た(透過度的40%)、電気伝導度
は1O−3S/cmであった。
1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ40μで透明
性に優れたポリイソチアナフテンとポリスチレンとのブ
レンドフィルムを得た(透過度的40%)、電気伝導度
は1O−3S/cmであった。
実施例9
合成例7で得たポリ(5−エチルベンゾ(C)チオフェ
ン)水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥すること
で、厚さ60μで透明性に優れたポリ(5−エチルベン
ゾ(C)チオフェン)のフィルムを得た(透過度的35
%)、電気伝導度は10−”S/amであった。
ン)水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥すること
で、厚さ60μで透明性に優れたポリ(5−エチルベン
ゾ(C)チオフェン)のフィルムを得た(透過度的35
%)、電気伝導度は10−”S/amであった。
比較例I
イソチアナフテンの代わりにピロールを使用した以外は
合成例1と同様にして合成及び透析をした結果、平均粒
径1100nのポリピロール水分散液を得た。この水分
散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ
35μで黒色のポリピロールフィルムを得たく透過度的
0%)、?4気伝導度は10−’S/amであった。
合成例1と同様にして合成及び透析をした結果、平均粒
径1100nのポリピロール水分散液を得た。この水分
散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ
35μで黒色のポリピロールフィルムを得たく透過度的
0%)、?4気伝導度は10−’S/amであった。
比較例2
イソチアナフテンの代わりにビロールを使用した以外は
合成例2と同様にして合成及び透析をした結果、平均粒
径80nmのポリピロール水分散液を得た。この水分散
液を実施例1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ5
5μで黒色のポリピロールフィルムを得た(透過度的0
%〕、電気伝導度は10−”S/cmであった。
合成例2と同様にして合成及び透析をした結果、平均粒
径80nmのポリピロール水分散液を得た。この水分散
液を実施例1と同様に塗布及び乾燥することで、厚さ5
5μで黒色のポリピロールフィルムを得た(透過度的0
%〕、電気伝導度は10−”S/cmであった。
比較例3
イソチアナフテンの代わりにアニリン塩酸塩を使用した
以外は合成例1と同様にして合成及び透析をした結果、
平均粒径130nmのポリアニリン水分散液を得た。こ
の水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥することで
、厚さ60μで黒色のポリアニリンのフィルムを得た(
透過度的0%)、電気伝導度は10−’S/cmであっ
た。
以外は合成例1と同様にして合成及び透析をした結果、
平均粒径130nmのポリアニリン水分散液を得た。こ
の水分散液を実施例1と同様に塗布及び乾燥することで
、厚さ60μで黒色のポリアニリンのフィルムを得た(
透過度的0%)、電気伝導度は10−’S/cmであっ
た。
以上、本発明の方法で得られたポリイソチアナフテン系
水分散液(合成例1〜5)はどれも、3ケ月の保存でも
安定で腐敗も粒子の凝集も見られなかつた。また、本発
明の方法で製造されたポリイソチアナフテン系水分散液
から得られたポリイソチアナフテン系導電性高分子は、
比較例■〜3で示されるようなポリピロールやポリアニ
リンよりも透明性に優れていた。
水分散液(合成例1〜5)はどれも、3ケ月の保存でも
安定で腐敗も粒子の凝集も見られなかつた。また、本発
明の方法で製造されたポリイソチアナフテン系水分散液
から得られたポリイソチアナフテン系導電性高分子は、
比較例■〜3で示されるようなポリピロールやポリアニ
リンよりも透明性に優れていた。
以上のように、本発明によれば安定なポリイソチアナフ
テン゛系化合物の水分散液を製造することが可能となり
、かつ電気伝導度の高く、透明性に優れた導電性高分子
材料を得ることが出来る。
テン゛系化合物の水分散液を製造することが可能となり
、かつ電気伝導度の高く、透明性に優れた導電性高分子
材料を得ることが出来る。
平成1年7月ム日
1、事件の表示
2)発明の名称
3、補正をする者
事件との関係
平成1年特願第rouyt号
ポリインチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを
用い九導電性高分子材料
用い九導電性高分子材料
Claims (2)
- (1)アニオン性高分子及び/又はアニオン性界面活性
剤の存在下でイソチアナフテン系化合物を酸化重合する
ことを特徴とするポリイソチアナフテン系水分散液の製
造方法。 - (2)特許請求の範囲第(1)項記載のポリイソチアナ
フテン系水分散液を乾燥してなる導電性高分子材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8049689A JPH02258833A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | ポリイソチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8049689A JPH02258833A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | ポリイソチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02258833A true JPH02258833A (ja) | 1990-10-19 |
Family
ID=13719914
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8049689A Pending JPH02258833A (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | ポリイソチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02258833A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5530139A (en) * | 1993-05-31 | 1996-06-25 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Condensed heterocyclic compound with a sulfonic acid group and process for producing the same |
US5648453A (en) * | 1991-12-04 | 1997-07-15 | Showa Denko K.K. | Electroconductive polymer and process for producing the polymer |
US5688873A (en) * | 1991-12-04 | 1997-11-18 | Showa Denko K.K. | Electroconductive polymer and process for producing the polymer |
JP2004502004A (ja) * | 2000-06-26 | 2004-01-22 | アグフア−ゲヴエルト,ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | ポリチオフェンを含む再分散可能なラテックス |
JP2013249442A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Jfe Chemical Corp | 導電性高分子の分散体およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP8049689A patent/JPH02258833A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5648453A (en) * | 1991-12-04 | 1997-07-15 | Showa Denko K.K. | Electroconductive polymer and process for producing the polymer |
US5688873A (en) * | 1991-12-04 | 1997-11-18 | Showa Denko K.K. | Electroconductive polymer and process for producing the polymer |
US5530139A (en) * | 1993-05-31 | 1996-06-25 | Showa Denko Kabushiki Kaisha | Condensed heterocyclic compound with a sulfonic acid group and process for producing the same |
JP2004502004A (ja) * | 2000-06-26 | 2004-01-22 | アグフア−ゲヴエルト,ナームローゼ・フエンノートシヤツプ | ポリチオフェンを含む再分散可能なラテックス |
JP2013249442A (ja) * | 2012-06-04 | 2013-12-12 | Jfe Chemical Corp | 導電性高分子の分散体およびその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Andriianova et al. | Effect of structural factors on the physicochemical properties of functionalized polyanilines | |
KR100247528B1 (ko) | 수용성도전성 폴리아닐린 및 그 제조방법, 및 수용성도전성 고분자를 이용한 대전방지제 | |
KR100488441B1 (ko) | 수용성 도전성 폴리아닐린의 제조방법 | |
JP3184642B2 (ja) | 導電性複合材料およびその製造方法 | |
KR20050038628A (ko) | 전기전도성 폴리아닐린의 안정한 수분산액을 직접 제조하는방법 | |
JP3147407B2 (ja) | 導電性高分子複合材料およびその製造方法 | |
JPH02240139A (ja) | ポリアニリン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 | |
JPH02258833A (ja) | ポリイソチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 | |
JPH0656987A (ja) | 導電性高分子の製造方法 | |
JPH01158067A (ja) | 導電性ポリマー組成物とその製造方法 | |
JPH02240163A (ja) | 高分子導電性溶液 | |
EP0195380B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von elektrisch leitfähigen Schaumstoffen | |
JPH0782450A (ja) | 電解質シート | |
US4488987A (en) | Doped polymeric organic electrical conductors and a process for their manufacture | |
JPH02258832A (ja) | ポリイソチアナフテン系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 | |
JP4385254B2 (ja) | 導電性微粒子およびその製造方法 | |
JP3155723B2 (ja) | 水溶性導電性高分子を用いた帯電防止剤 | |
JPH03730A (ja) | ポリピロール系水分散液の製造方法及びそれを用いた導電性高分子材料 | |
JP3413958B2 (ja) | 新規導電性重合体およびその製造法 | |
JPH0574467A (ja) | 高分子固体電解質 | |
JPH0678493B2 (ja) | 電導性重合体組成物の製造方法 | |
JP2003238773A (ja) | 導電性組成物 | |
US5118445A (en) | Conductive high polymer composite of polyalkylether and aromatic poly-heterocycles and a process for preparing of it | |
JPH02252726A (ja) | ポリイソチアナフテン系重合体及び導電性材料 | |
JPH0555533B2 (ja) |