JPH02258829A - エポキシ系樹脂組成物 - Google Patents
エポキシ系樹脂組成物Info
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- JPH02258829A JPH02258829A JP1080919A JP8091989A JPH02258829A JP H02258829 A JPH02258829 A JP H02258829A JP 1080919 A JP1080919 A JP 1080919A JP 8091989 A JP8091989 A JP 8091989A JP H02258829 A JPH02258829 A JP H02258829A
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- epoxy resin
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- silica powder
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、信頼性を改良した半導体封止用エポキシ系樹
脂組成物に関するものである。
脂組成物に関するものである。
〈従来の技術〉
たとえば、半導体装置などの電子回路部品の封止方法と
しては、従来より金属やセラミックスによるハーメチッ
クシールやフェノール樹脂、シリコーン樹脂およびエポ
キシ樹脂などによる樹脂封止が提案されているが、経済
性、生産性および物性のバランスの点からエポキシ樹脂
による樹脂封止が中心になっている。
しては、従来より金属やセラミックスによるハーメチッ
クシールやフェノール樹脂、シリコーン樹脂およびエポ
キシ樹脂などによる樹脂封止が提案されているが、経済
性、生産性および物性のバランスの点からエポキシ樹脂
による樹脂封止が中心になっている。
しかるに、エポキシ樹脂は耐熱性、耐湿性、電気特性お
よび接着性などが優れており、さらには配合処方により
種々の特性を付与できるという特徴を有しているものの
、剛直な網目構造を有するために熱応力が発生しやすく
、たとえば、半導体装置の封止に用いた場合、急激な温
度変化によりパシベーション膜や素子の表面にクラック
を生じなり、アルミ配線がスライドして電流がリークし
たり、さらには封止樹脂自体にクラックを生じたりする
という好ましくない傾向があった。
よび接着性などが優れており、さらには配合処方により
種々の特性を付与できるという特徴を有しているものの
、剛直な網目構造を有するために熱応力が発生しやすく
、たとえば、半導体装置の封止に用いた場合、急激な温
度変化によりパシベーション膜や素子の表面にクラック
を生じなり、アルミ配線がスライドして電流がリークし
たり、さらには封止樹脂自体にクラックを生じたりする
という好ましくない傾向があった。
このために、エポキシ樹脂に対する低応力剤としてゴム
類を配合する方法(特開昭58−219218号、特開
昭59−96122号公報)およびシリコーンオイル類
を配合する方法(特公昭61−48544号公報)など
が提案されており、なかでもシリコーンオイル類、すな
わちオルガノポリシロキサン誘導体を用いたエボキシ樹
脂組成物は、金型離型性および低応力性が改良されて、
半導体封止用樹脂としての優れた性能を具備している。
類を配合する方法(特開昭58−219218号、特開
昭59−96122号公報)およびシリコーンオイル類
を配合する方法(特公昭61−48544号公報)など
が提案されており、なかでもシリコーンオイル類、すな
わちオルガノポリシロキサン誘導体を用いたエボキシ樹
脂組成物は、金型離型性および低応力性が改良されて、
半導体封止用樹脂としての優れた性能を具備している。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、オルガノポリシロキサン誘導体は、エポ
キシ樹脂との相溶性がよくないため、このものをそのま
ま添加した鳩舎には、エポキシ樹脂中での分散が悪く、
成形時のパリを大幅に増加させると共に、耐熱性や電気
絶縁性も不十分であるなどの点で、信頼性に劣るという
問題があった。
キシ樹脂との相溶性がよくないため、このものをそのま
ま添加した鳩舎には、エポキシ樹脂中での分散が悪く、
成形時のパリを大幅に増加させると共に、耐熱性や電気
絶縁性も不十分であるなどの点で、信頼性に劣るという
問題があった。
そこで本発明の課題は、上述した従来の半導体封止用エ
ポキシ系樹脂組成物が有する問題点を解消することにあ
る。
ポキシ系樹脂組成物が有する問題点を解消することにあ
る。
したがって本発明の目的は、クラックやパリの発生がな
く、しかも低応力性、耐熱性および電気絶縁性などが優
れ、信頼性が向上した半導体対土用エポキシ系樹脂組成
物を提供することにある。
く、しかも低応力性、耐熱性および電気絶縁性などが優
れ、信頼性が向上した半導体対土用エポキシ系樹脂組成
物を提供することにある。
く課題を解決するための手段〉
本発明者らは、上記目的を達成するために鋭意検討した
結果、両末端にアミノ基を含有するオルガノポリシロキ
サンと、無水マレイン酸との反応生成物を低応力化剤と
して使用することにより、上記目的に合致したエポキシ
樹脂組成物が得られることを見出し、本発明に到達した
。
結果、両末端にアミノ基を含有するオルガノポリシロキ
サンと、無水マレイン酸との反応生成物を低応力化剤と
して使用することにより、上記目的に合致したエポキシ
樹脂組成物が得られることを見出し、本発明に到達した
。
すなわち本発、明は、エポキシ樹脂くA)、硬化剤(B
)、両末端にアミン基を含有するオルガノポリシロキサ
ンと、無水マレイン酸との反応生成物(以下、変性オル
ガノポリシロキサンと呼ぶ) (C)およびシリカ粉末
(D)からなることを特徴とするエポキシ系樹脂組成物
を提供するものである。
)、両末端にアミン基を含有するオルガノポリシロキサ
ンと、無水マレイン酸との反応生成物(以下、変性オル
ガノポリシロキサンと呼ぶ) (C)およびシリカ粉末
(D)からなることを特徴とするエポキシ系樹脂組成物
を提供するものである。
本発明で使用するエポキシ樹脂(A)としては、たとえ
ば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAやレゾル
シンなどから合成される各種ノボラック型エポキシ樹脂
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキ
シ樹脂、脂環式エポキシ樹脂および複素環式エポキシ樹
脂などが挙げられる。なかでもノボラック型エポキシ樹
脂が耐湿性の面から最も好適に使用できる。
ば、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAやレゾル
シンなどから合成される各種ノボラック型エポキシ樹脂
、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキ
シ樹脂、脂環式エポキシ樹脂および複素環式エポキシ樹
脂などが挙げられる。なかでもノボラック型エポキシ樹
脂が耐湿性の面から最も好適に使用できる。
なお、上記エポキシ樹脂(A)は、それぞれ単独で、あ
るいは二種以上を併用して使用することができるが、さ
らに室温では固体であるが、高温では粘度の低い液体と
なる、下記一般式(I>で表わされる骨格を有するエポ
キシ樹脂(A゛)を混合使用することにより、取扱作業
性の向上やシリカの添加量増加などを図ることができる
。
るいは二種以上を併用して使用することができるが、さ
らに室温では固体であるが、高温では粘度の低い液体と
なる、下記一般式(I>で表わされる骨格を有するエポ
キシ樹脂(A゛)を混合使用することにより、取扱作業
性の向上やシリカの添加量増加などを図ることができる
。
RI R5RI R2
(ただし、R1,l:j 8は水素原子、C1〜C4の
低級アルキル基またはハロゲン原子を示す、)これらエ
ポキシ樹脂(ANの具体例としては、4,4゛−ビス(
2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル、4,4゛−
ビス(2,3−エポキシプロポキシ>−3,3−,5,
5テトラメチルビフエニル、4.4−一ビス(2゜3−
エポキシプロポキシ)−3,3−,5,5−−テトラメ
チル−2−クロロビフェニル、4゜4−一ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)3.3−.5.5−−テトラメ
チル−2−ブロモビフェニル、4.4゛−ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)−3,3−,5,5−−テトラ
エチルビフェニルおよび4.4°−ビス(2゜3−エポ
キシプロポキシ)−3,3−,5,5−テトラブチルビ
フェニルなどが挙げられ、これらの配合量は上記エポキ
シ樹脂(A)に対して通常5重量%以上が好適である。
低級アルキル基またはハロゲン原子を示す、)これらエ
ポキシ樹脂(ANの具体例としては、4,4゛−ビス(
2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル、4,4゛−
ビス(2,3−エポキシプロポキシ>−3,3−,5,
5テトラメチルビフエニル、4.4−一ビス(2゜3−
エポキシプロポキシ)−3,3−,5,5−−テトラメ
チル−2−クロロビフェニル、4゜4−一ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)3.3−.5.5−−テトラメ
チル−2−ブロモビフェニル、4.4゛−ビス(2,3
−エポキシプロポキシ)−3,3−,5,5−−テトラ
エチルビフェニルおよび4.4°−ビス(2゜3−エポ
キシプロポキシ)−3,3−,5,5−テトラブチルビ
フェニルなどが挙げられ、これらの配合量は上記エポキ
シ樹脂(A)に対して通常5重量%以上が好適である。
本発明で用いる(B)硬化剤は、エポキシ樹脂(A)と
反応して硬化されるものであれば特に限定されるもので
はなく、たとえば、フェノールノボラック樹脂、クレゾ
ールノボラック樹脂、下記一般式(II)で表わされる
ノボラック樹脂、 OH OH (M) (ただし、nは0以上の整数を示す。)ビスフェノール
Aやレゾルシンから合成される各種ノボラック樹脂、各
種多価フェノール化合物、無水マレイン酸、無水フタル
酸、無水ピロメリット酸などの酸無水物およびメタフェ
ニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルホンなどの芳香族アミンなどが挙げられ
る。なかでも、ノボラック型フェノール樹脂が好適であ
り、ここでいうノボラック型フェノール樹脂としては、
フェノールおよびアルキルフェノールなどのフェノール
類とホルムアルデヒドとを反応させて得られるノボラッ
ク型フェノール樹脂を特に制限なく使用することができ
るが、望ましくは、軟化点が70〜95℃、水酸基当量
が95〜150のものがさらに好適である。
反応して硬化されるものであれば特に限定されるもので
はなく、たとえば、フェノールノボラック樹脂、クレゾ
ールノボラック樹脂、下記一般式(II)で表わされる
ノボラック樹脂、 OH OH (M) (ただし、nは0以上の整数を示す。)ビスフェノール
Aやレゾルシンから合成される各種ノボラック樹脂、各
種多価フェノール化合物、無水マレイン酸、無水フタル
酸、無水ピロメリット酸などの酸無水物およびメタフェ
ニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノ
ジフェニルスルホンなどの芳香族アミンなどが挙げられ
る。なかでも、ノボラック型フェノール樹脂が好適であ
り、ここでいうノボラック型フェノール樹脂としては、
フェノールおよびアルキルフェノールなどのフェノール
類とホルムアルデヒドとを反応させて得られるノボラッ
ク型フェノール樹脂を特に制限なく使用することができ
るが、望ましくは、軟化点が70〜95℃、水酸基当量
が95〜150のものがさらに好適である。
本発明のエポキシ系樹脂組成物において、硬化剤(B)
の配合量については特に制限はないが、通常は1〜20
重量%、好ましくは2〜15重量%である。
の配合量については特に制限はないが、通常は1〜20
重量%、好ましくは2〜15重量%である。
エポキシ樹脂(A)と硬化剤(B)の配合比は、機械的
性質や耐熱性などの点からエポキシ樹脂(A)に対する
硬化剤(B)の化学当量比が0.5〜1.5、特に0.
7〜1.3の範囲にあることが好ましい。
性質や耐熱性などの点からエポキシ樹脂(A)に対する
硬化剤(B)の化学当量比が0.5〜1.5、特に0.
7〜1.3の範囲にあることが好ましい。
次に、本発明で使用する変性オルガノポリシロキサン(
C)を形成する両末端にアミノ基を含有するオルガノポ
リシロキサンとは、次の一般式(III)で示される化
合物である。
C)を形成する両末端にアミノ基を含有するオルガノポ
リシロキサンとは、次の一般式(III)で示される化
合物である。
CH3CH3
(式中、nは1以上の整数を示す。)
上記式(III)においてnは1以上であれば特に制限
はないが、好ましくは5〜200である。
はないが、好ましくは5〜200である。
上記両末端にアミン基を含有するオルガノポリシロキサ
ンに対する無水マレイン酸の反応割合は、前者のアミン
基1当量に対し、後者が0゜5〜2.0当量、特に0.
8〜1.2当量となる範囲が好適である。無水マレイン
酸の反応割合が上記の範囲よりも多いと、得られるエポ
キシ系樹脂組成物の吸水率が高くなり、また上記の範囲
よりも少ないと、組成物の成形時にパリを生じたり、前
者のオルガノポリシロキサン成分の滲み出しが生起する
という好ましくない傾向が招かれることがある。
ンに対する無水マレイン酸の反応割合は、前者のアミン
基1当量に対し、後者が0゜5〜2.0当量、特に0.
8〜1.2当量となる範囲が好適である。無水マレイン
酸の反応割合が上記の範囲よりも多いと、得られるエポ
キシ系樹脂組成物の吸水率が高くなり、また上記の範囲
よりも少ないと、組成物の成形時にパリを生じたり、前
者のオルガノポリシロキサン成分の滲み出しが生起する
という好ましくない傾向が招かれることがある。
なお、上記両末端にアミノ基を含有するオルガノポリシ
ロキサンと、無水マレイン酸の反応は、55±5℃の温
度で予め無水マレイン酸を融解させておき、これに両末
端にアミノ基を含有するオルガノポリシロキサンを直接
加え、アミック酸の状態にした後、今度は150℃から
250℃、とくに170〜200℃の温度で加熱するこ
とにより、末端基をイミドにするという方法がとられる
。第1段階の反応温度が60℃を越えると、無水マレイ
ン酸の二重結合がアミン基と反応するため、好ましくな
い。
ロキサンと、無水マレイン酸の反応は、55±5℃の温
度で予め無水マレイン酸を融解させておき、これに両末
端にアミノ基を含有するオルガノポリシロキサンを直接
加え、アミック酸の状態にした後、今度は150℃から
250℃、とくに170〜200℃の温度で加熱するこ
とにより、末端基をイミドにするという方法がとられる
。第1段階の反応温度が60℃を越えると、無水マレイ
ン酸の二重結合がアミン基と反応するため、好ましくな
い。
本発明における変性オルガノポリシロキサン(C)は、
上記両末端にアミノ基を含有するオルガノポリシロキサ
ンと無水マレイン酸が全て反応、イミド化したものに限
らず、未反応原料を一部含有しているものも包含するが
、望ましくは全てが反応したものが好適である。
上記両末端にアミノ基を含有するオルガノポリシロキサ
ンと無水マレイン酸が全て反応、イミド化したものに限
らず、未反応原料を一部含有しているものも包含するが
、望ましくは全てが反応したものが好適である。
これら変性オルガノポリシロキサン(C)の添加方法に
は特に制限はないが、予めシリカ粉末(D)と混合して
おくか、あるいはエポキシ樹脂(A)と加熱混合する方
法が望ましい。
は特に制限はないが、予めシリカ粉末(D)と混合して
おくか、あるいはエポキシ樹脂(A)と加熱混合する方
法が望ましい。
次いで、本発明で用いるシリカ粉末(D)については、
その種類を特に限定しないが、好ましくは、平均粒径3
0μm以下で、最大粒径100μm以下のものであれば
粉砕品でも、球状品でも、また両者の混合品でも使用す
ることができる。
その種類を特に限定しないが、好ましくは、平均粒径3
0μm以下で、最大粒径100μm以下のものであれば
粉砕品でも、球状品でも、また両者の混合品でも使用す
ることができる。
シリカ(D>の配合割合は、エポキシ樹脂組成物に対し
て65〜85重量%が好ましい。この範囲より多くなる
と流動性が極端に低下し成形ができなくなり、またこの
範囲より少なくなると組成物の熱膨張率が大きくなるな
どの好ましくない問題を生ずることがある。
て65〜85重量%が好ましい。この範囲より多くなる
と流動性が極端に低下し成形ができなくなり、またこの
範囲より少なくなると組成物の熱膨張率が大きくなるな
どの好ましくない問題を生ずることがある。
本発明においては、上記4成分のほかに必要に応じて硬
化促進剤、離型剤、カップリング剤、難燃剤、着色剤を
用いることができる。硬化促進剤としては、エポキシ樹
脂をフェノールで硬化させる際の反応触媒となるものは
すべて用いることができ、たとえば、2−メチルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール
類、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
(5,,4,0)ウンデセン−7(DBUと略す)など
のアミン類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニル
ホスホニウムテトラフェニルボレートなどの有機リン化
合物などが好ましく用いられる。
化促進剤、離型剤、カップリング剤、難燃剤、着色剤を
用いることができる。硬化促進剤としては、エポキシ樹
脂をフェノールで硬化させる際の反応触媒となるものは
すべて用いることができ、たとえば、2−メチルイミダ
ゾール、2−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール
類、ベンジルジメチルアミン、1,8−ジアザビシクロ
(5,,4,0)ウンデセン−7(DBUと略す)など
のアミン類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニル
ホスホニウムテトラフェニルボレートなどの有機リン化
合物などが好ましく用いられる。
離型剤としては、天然ワックス類、合成ワックス類およ
び長鎖脂肪酸の金属塩類などを用いることができる。
び長鎖脂肪酸の金属塩類などを用いることができる。
本発明のエポキシ系樹脂組成物は、上記原料を用いて次
のようにして製造することもできる。
のようにして製造することもできる。
すなわち、上記エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)、変
性オルガノポリシロキサン(C)、シリカ(D)および
その他の添加剤とを適宜配合し、ミキサーなどで十分均
一混合した後、熱ロールなどで溶融混練し、室温に戻し
粉砕し封止材料用組成物とすることができる。この組成
物を用いて半導体素子を封止した場合、得られる装置は
、パリやクラックの発生が少なく、極めて優れた低応力
性、耐熱性および電気絶縁性を発揮する。
性オルガノポリシロキサン(C)、シリカ(D)および
その他の添加剤とを適宜配合し、ミキサーなどで十分均
一混合した後、熱ロールなどで溶融混練し、室温に戻し
粉砕し封止材料用組成物とすることができる。この組成
物を用いて半導体素子を封止した場合、得られる装置は
、パリやクラックの発生が少なく、極めて優れた低応力
性、耐熱性および電気絶縁性を発揮する。
〈実施例〉
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実験PA1(変性オルガノポリシロキサン(C)の合成
) 攪拌機、温度計を備えたフラスコ中に、まず無水マレイ
ン酸を仕込み、窒素雰囲気下55°Cに加熱して溶解さ
せた。完全に溶解したところで、両末端にアミノ基を含
有するオルガノポリシロキサンをすばやく加え、そのま
ま60分放置、反応させた。
) 攪拌機、温度計を備えたフラスコ中に、まず無水マレイ
ン酸を仕込み、窒素雰囲気下55°Cに加熱して溶解さ
せた。完全に溶解したところで、両末端にアミノ基を含
有するオルガノポリシロキサンをすばやく加え、そのま
ま60分放置、反応させた。
次に、170℃に昇温し、150分放置しくf!拌は継
続)、イミド閉環させた。同時に生成した水は、減圧濃
縮することにより除いた。
続)、イミド閉環させた。同時に生成した水は、減圧濃
縮することにより除いた。
以上の操作をアミン当量の異なるアミノ基を含有するオ
ルガノポリシロキサン2種について行い、変性オルガノ
ポリシロキサンCa−Cbを得た。なお、アミノ基を含
有するオルガノポリシロキサンの種類を表1に、無水マ
レイン酸との反応割合を表2に示した。
ルガノポリシロキサン2種について行い、変性オルガノ
ポリシロキサンCa−Cbを得た。なお、アミノ基を含
有するオルガノポリシロキサンの種類を表1に、無水マ
レイン酸との反応割合を表2に示した。
実施例1〜4.比較例1〜3
製造例1によって得られた変性オルガノポリシロキサン
Ca、Cbと他の原料を表3に示す割合で室温で混合し
た後、90〜95°Cで混練し冷却、粉砕し、目的とす
る粉末状のエポキシ系樹脂組成物を得た。
Ca、Cbと他の原料を表3に示す割合で室温で混合し
た後、90〜95°Cで混練し冷却、粉砕し、目的とす
る粉末状のエポキシ系樹脂組成物を得た。
この樹脂組成物を用い、低圧トランスファー成形法によ
り175℃×4分の条件で成形して曲げ試験片(5”X
i/2“Xi/4′i、円盤(4“φXi/8”)、お
よび模擬素子を封止した44pinQFPを得たのち、
175°Cで5時間ポストキュアした。ボストキュア後
、次の物性測定法により、各組成物の物性を測定した。
り175℃×4分の条件で成形して曲げ試験片(5”X
i/2“Xi/4′i、円盤(4“φXi/8”)、お
よび模擬素子を封止した44pinQFPを得たのち、
175°Cで5時間ポストキュアした。ボストキュア後
、次の物性測定法により、各組成物の物性を測定した。
曲げ弾性率:曲げ試験片を用いてASTM D790
規格にしたがい測定した。
規格にしたがい測定した。
ガラス転移温度:試料(1/2″×1/4″×1/4”
)についてTMA法 (昇温速度10℃/分)で測 定した。
)についてTMA法 (昇温速度10℃/分)で測 定した。
バ リ:パリ金型を用いて評価した。
ヒートサイクル: 44Din QFP50個に150
°C×30分〜−50℃×3 0分のサーマルサイクルを5 00回与え、50個のうちク ラックが発生する個数を求め た。
°C×30分〜−50℃×3 0分のサーマルサイクルを5 00回与え、50個のうちク ラックが発生する個数を求め た。
電気絶縁性:JIS K6911規格にしながい1体
積固有抵抗値を測定した。
積固有抵抗値を測定した。
これらの結果を表4に示す。
表4の結果から明らかなように、本発明のエポキシ系樹
脂組成物は、曲げ弾性率が低くて、良好な低応力性を有
しており、しかもクラックやパリの発生がなく、耐熱性
および電気絶縁性も優れている。
脂組成物は、曲げ弾性率が低くて、良好な低応力性を有
しており、しかもクラックやパリの発生がなく、耐熱性
および電気絶縁性も優れている。
〈発明の効果〉
本発明の封止用エポキシ系樹脂組成物は、クラックやパ
リの発生がなく、しかも耐熱性および電気絶縁性が優れ
ており、信頼性が向上した半導体装置を与えることがで
きる。
リの発生がなく、しかも耐熱性および電気絶縁性が優れ
ており、信頼性が向上した半導体装置を与えることがで
きる。
特許出願大東し株式会社
Claims (1)
- エポキシ樹脂(A)、硬化剤(B)、両末端にアミノ基
を含有するオルガノポリシロキサンと、無水マレイン酸
との反応生成物(C)およびシリカ粉末(D)からなる
ことを特徴とするエポキシ系樹脂組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1080919A JPH02258829A (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | エポキシ系樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1080919A JPH02258829A (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | エポキシ系樹脂組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02258829A true JPH02258829A (ja) | 1990-10-19 |
Family
ID=13731821
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1080919A Pending JPH02258829A (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | エポキシ系樹脂組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02258829A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10221276B2 (en) * | 2013-09-27 | 2019-03-05 | Aditya Birla Chemicals (Thailand) Ltd. | Self-healing epoxy resin composition |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6147725A (ja) * | 1984-08-16 | 1986-03-08 | Yuka Shell Epoxy Kk | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPS6198726A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-17 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | 電子部品封止用エポキシ樹脂組成物 |
JPS61259552A (ja) * | 1985-05-14 | 1986-11-17 | Nitto Electric Ind Co Ltd | 半導体封止装置 |
JPS63130619A (ja) * | 1986-11-21 | 1988-06-02 | Hitachi Chem Co Ltd | 電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料 |
JPS6465116A (en) * | 1987-09-04 | 1989-03-10 | Toray Industries | Resin composition for semiconductor sealing |
JPH01121319A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-05-15 | Hitachi Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置 |
-
1989
- 1989-03-30 JP JP1080919A patent/JPH02258829A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS6147725A (ja) * | 1984-08-16 | 1986-03-08 | Yuka Shell Epoxy Kk | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物 |
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JPH01121319A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-05-15 | Hitachi Ltd | 半導体封止用エポキシ樹脂組成物及び樹脂封止型半導体装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US10221276B2 (en) * | 2013-09-27 | 2019-03-05 | Aditya Birla Chemicals (Thailand) Ltd. | Self-healing epoxy resin composition |
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