JPH02256060A - 電子写真感光体 - Google Patents
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Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、導電層の表面に下引層を有し、その上に光導
電層を積層した電子写真感光体に関する。
電層を積層した電子写真感光体に関する。
(従来の技術)
光導電性物質を感光材料として利用する電子写真感光体
において、光導電性物質としては、従来。
において、光導電性物質としては、従来。
セレ/、酸化亜鉛、酸化チタン、硫化カドミウム等の無
機系光導電性物質が主に用いられてきた。
機系光導電性物質が主に用いられてきた。
しかし、これらの多くは一般に毒性が強く廃棄する方法
にも問題がある。
にも問題がある。
一方、有機光導電性化合物を使用した感光体は。
無機系光導電性物質を使用する場合に比べて、−般に毒
性が弱く、更に透明性、可とう性、軽量性。
性が弱く、更に透明性、可とう性、軽量性。
表面平滑性9価格等の点において有利であるので最近広
く研究されてきている。
く研究されてきている。
その中で電荷の発生と輸送という機能を分離した複合型
感光体、すなわち導電層の上に電荷発生層と電荷輸送層
を積層した感光体は、従来、有機光導電性化合物を使用
した感光体の大きな欠点であった感度を大幅に向上させ
ることができるため近年急速な進展を遂げている。
感光体、すなわち導電層の上に電荷発生層と電荷輸送層
を積層した感光体は、従来、有機光導電性化合物を使用
した感光体の大きな欠点であった感度を大幅に向上させ
ることができるため近年急速な進展を遂げている。
しかしながら導電層の上に直接光導電層を設けた場合、
特に光導電層が電荷発生層と電荷輸送層の2層からなり
、電荷発生層が直接導電層に接している場合、導電層上
の傷や腐食といった表面欠陥をそのまま画像に反映し、
いわゆる黒点や白抜けなどの画像欠陥を発生しやすいと
いう問題がある。また導電層からの電荷の注入例よる表
面電荷の減少、すなわち帯電性の低下、あるいは導電層
と感光層の密着性が劣るといったいろいろな問題が発生
しやすい。そこでこれらの問題を改良する方策として従
来から導電層と光導電層の間に下弓層を設けるという手
法が検討されている(特開昭57−90639号、特開
昭58−86556号。
特に光導電層が電荷発生層と電荷輸送層の2層からなり
、電荷発生層が直接導電層に接している場合、導電層上
の傷や腐食といった表面欠陥をそのまま画像に反映し、
いわゆる黒点や白抜けなどの画像欠陥を発生しやすいと
いう問題がある。また導電層からの電荷の注入例よる表
面電荷の減少、すなわち帯電性の低下、あるいは導電層
と感光層の密着性が劣るといったいろいろな問題が発生
しやすい。そこでこれらの問題を改良する方策として従
来から導電層と光導電層の間に下弓層を設けるという手
法が検討されている(特開昭57−90639号、特開
昭58−86556号。
特開昭60−202449号、特開昭60−10886
0号)。
0号)。
(発明が解決しようとする課題)
下引層の検討にあたっては、■画像欠陥がないこと、■
帯電性の低下がないこと、■電子写真特性を低下さ匈喰
いこと、■形成する方法が簡便なこと、特に塗布法で形
成する場合には塗工性が良く、低温短時間の加熱条件で
形成できること、■下引層の上に光導電層を積層する際
に光導電層用塗液に浸されないこと、■密着性に優れる
こと。
帯電性の低下がないこと、■電子写真特性を低下さ匈喰
いこと、■形成する方法が簡便なこと、特に塗布法で形
成する場合には塗工性が良く、低温短時間の加熱条件で
形成できること、■下引層の上に光導電層を積層する際
に光導電層用塗液に浸されないこと、■密着性に優れる
こと。
などが必要条件となる。しかしながら従来の検討ではこ
れらの全てを満足する下引層は見い出せなかった。
れらの全てを満足する下引層は見い出せなかった。
本発明は、電子写真特性を損なうことなく、導電層の表
面欠陥に基づく画像欠陥の発生抑制、帯電性の向上及び
電位低下の抑制ができる。優れた電子写真特性と良好な
画像を提供し、繰シ返し使用時の特性の低下の少ない電
子写真感光体を提供することを目的とする。
面欠陥に基づく画像欠陥の発生抑制、帯電性の向上及び
電位低下の抑制ができる。優れた電子写真特性と良好な
画像を提供し、繰シ返し使用時の特性の低下の少ない電
子写真感光体を提供することを目的とする。
(課題を解決するための手段)
本発明は、導電層の上に、下引層及び光導電層が積層さ
れている電子写真感光体において、下り層にヒドロキシ
ル基を有するスチレン樹脂及びヒドロキシル基と反応す
る架橋剤の硬化物が含有されてなる電子写真感光体に関
する。
れている電子写真感光体において、下り層にヒドロキシ
ル基を有するスチレン樹脂及びヒドロキシル基と反応す
る架橋剤の硬化物が含有されてなる電子写真感光体に関
する。
本発明になる電子写真感光体に用いられる材料について
以下に詳述する。
以下に詳述する。
まず本発明において導電層とは、導電処理した紙又はプ
ラスチックフィルム、アルミニウム等の金属の金属箔を
積層したプラスチックフィルム。
ラスチックフィルム、アルミニウム等の金属の金属箔を
積層したプラスチックフィルム。
アルミニウム等の金属の金属板又は金属ドラム等の導電
体である。
体である。
光導電層は、−層でその機能をはたす一層型光導電層で
も、主に電荷発生機能を有する電荷発生層と主に電荷輸
送機能を有する電荷輸送層からなる機能分離型の複合型
光導電層でもよい。以下に本発明の光導電層の態様につ
込て説明する。
も、主に電荷発生機能を有する電荷発生層と主に電荷輸
送機能を有する電荷輸送層からなる機能分離型の複合型
光導電層でもよい。以下に本発明の光導電層の態様につ
込て説明する。
(11本発明の光導電層の一例は、電荷を発生する有機
顔料を含有する電荷発生層及び電荷輸送性物質を含有す
る電荷輸送層をこの順に、又は逆の順に積層したもので
ある。
顔料を含有する電荷発生層及び電荷輸送性物質を含有す
る電荷輸送層をこの順に、又は逆の順に積層したもので
ある。
電荷発生層に含まれる電荷を発生する有機顔料としては
、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベ
ンズイミダゾール系、多環式キノリン系、インジゴイド
系、キナクリドン系、7タロシアニy系、ナフタロシア
ニン系、ペリレン系。
、アゾキシベンゼン系、ジスアゾ系、トリスアゾ系、ベ
ンズイミダゾール系、多環式キノリン系、インジゴイド
系、キナクリドン系、7タロシアニy系、ナフタロシア
ニン系、ペリレン系。
メチン系等の電荷を発生することが知られている顔料を
使用できる。これらの顔料は9例えば、特開昭47−3
7453号、特開昭47−37544号、特開昭47−
18543号、特開昭47−18544号、特開昭48
−43942号、特開昭48−70538号、特開昭4
9−1231号。
使用できる。これらの顔料は9例えば、特開昭47−3
7453号、特開昭47−37544号、特開昭47−
18543号、特開昭47−18544号、特開昭48
−43942号、特開昭48−70538号、特開昭4
9−1231号。
特開昭49−105536号、fF開昭50−7521
4号、特開昭50−92738号公報等に開示されてい
る。特に特開昭58−182640号公報及びヨーロッ
パ特許出願公開第92255号公報に記載されているτ
、τ′、η及びη′型型金金属フタロシアニン長波長に
まで高感度を有し、ダイオードレーザ−を搭載したプリ
ンター用の電子写真感光体としても有効である。とのよ
うなもののほか光照射によシミ荷担体を発生する任意の
有機顔料を使用することができる。
4号、特開昭50−92738号公報等に開示されてい
る。特に特開昭58−182640号公報及びヨーロッ
パ特許出願公開第92255号公報に記載されているτ
、τ′、η及びη′型型金金属フタロシアニン長波長に
まで高感度を有し、ダイオードレーザ−を搭載したプリ
ンター用の電子写真感光体としても有効である。とのよ
うなもののほか光照射によシミ荷担体を発生する任意の
有機顔料を使用することができる。
また電荷発生層に、電子写真感光体に通常使用される結
合剤、可塑剤、流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添
加剤を必要に応じて用いることができる。結合剤として
は、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタ
クリル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が挙げ
られる。また、熱及び/又は光硬化性樹脂も使用できる
。いずれにしても電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成
しうる樹脂であれば特に制限はない。
合剤、可塑剤、流動性付与剤、ピンホール抑制剤等の添
加剤を必要に応じて用いることができる。結合剤として
は、シリコーン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリケトン樹脂
、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタ
クリル酸メチル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂等が挙げ
られる。また、熱及び/又は光硬化性樹脂も使用できる
。いずれにしても電気絶縁性で通常の状態で皮膜を形成
しうる樹脂であれば特に制限はない。
電荷発生層中、結合剤は、前記有機顔料に対して300
重′!Jkts以下の量で使用する。3oO重量%を越
えると、1!子写真特性が低下する。
重′!Jkts以下の量で使用する。3oO重量%を越
えると、1!子写真特性が低下する。
可塑剤としてはハロゲン化パラフィン、ジメチルナフタ
リン、ジブチルフタレート等が挙げられる。流動性付与
剤としては、モダンロ−(モンサンドケミカル社製)、
アクロナール4F(バスフ社製)等が挙げられ、ピンホ
ール抑制剤としては。
リン、ジブチルフタレート等が挙げられる。流動性付与
剤としては、モダンロ−(モンサンドケミカル社製)、
アクロナール4F(バスフ社製)等が挙げられ、ピンホ
ール抑制剤としては。
ベンゾイン、ジメチルフタレート等が挙げられる。
これらは、各々、前記有機顔料に対して5重量%以下で
使用するのが好ましい。
使用するのが好ましい。
前記電荷輸送層に用いる電荷輸送性物質は、具体的1’
B;l−、フルオレン、フルオレノン、 2.7−シニ
トロー9−フルオレノン、2,4.7−)リートロー9
−フルオレノン、4H−インデノ(1,2,6)チオフ
ェン−4−オン、 3.7−シニトロージベンゾチオフ
エンー5−オキシド、テトラクロル無水フタル酸、ス5
−ジクロルー1,4−ベンゾキノ/。
B;l−、フルオレン、フルオレノン、 2.7−シニ
トロー9−フルオレノン、2,4.7−)リートロー9
−フルオレノン、4H−インデノ(1,2,6)チオフ
ェン−4−オン、 3.7−シニトロージベンゾチオフ
エンー5−オキシド、テトラクロル無水フタル酸、ス5
−ジクロルー1,4−ベンゾキノ/。
スロージクロル−1,4−ベンゾキノン、21式5.6
−テトラクロル−1,4−ベンゾキノン、アントラキノ
ン、2−クロルアントラキノン、l、8−ジクロルアン
トラキノン、1.5−ジクロルアントラキノン、1,2
,5.8−テトラヒドロキシアントラキノン、2−メチ
ルアントラキノン、1.4−ナフトキノン、λ3−ジク
ロルー1.4−ナフトキノン、213.5−)サクロル
ー1,4−ナフトキノン、ス3−ジクロルー5−ブロム
−1,4−ナフトキノン、2−ニトロ−3−メチル−1
,4−ナフトキノン、2゜3−ジブロム−5−メチル−
1,4−す7トキノン。
−テトラクロル−1,4−ベンゾキノン、アントラキノ
ン、2−クロルアントラキノン、l、8−ジクロルアン
トラキノン、1.5−ジクロルアントラキノン、1,2
,5.8−テトラヒドロキシアントラキノン、2−メチ
ルアントラキノン、1.4−ナフトキノン、λ3−ジク
ロルー1.4−ナフトキノン、213.5−)サクロル
ー1,4−ナフトキノン、ス3−ジクロルー5−ブロム
−1,4−ナフトキノン、2−ニトロ−3−メチル−1
,4−ナフトキノン、2゜3−ジブロム−5−メチル−
1,4−す7トキノン。
2.3−ジブロム−5−エチル−1,4−ナフトキノン
、テトラシアノエチレン、トリニトロベンゼン。
、テトラシアノエチレン、トリニトロベンゼン。
テトラシアノキノジメタン等並びにこれらの誘導体など
の電子受容性化合物やポリ−N−ビニルカルバゾール、
ポリビニルピレン、ポリビニルピラゾリン等の高分子化
合物、カルバゾール、3−フェニルカルバゾール、2−
フェニルインドール。
の電子受容性化合物やポリ−N−ビニルカルバゾール、
ポリビニルピレン、ポリビニルピラゾリン等の高分子化
合物、カルバゾール、3−フェニルカルバゾール、2−
フェニルインドール。
オキサジアゾール、1−フェニル−3−(4−ジエチル
アミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、ヒドラゾン、2−フェニル−4−(4−
ジエチルアミノフェニル)−5−フェニルオキサゾール
、トリフェニルアミン。
アミノスチリル)−5−(4−ジエチルアミノフェニル
)ピラゾリン、ヒドラゾン、2−フェニル−4−(4−
ジエチルアミノフェニル)−5−フェニルオキサゾール
、トリフェニルアミン。
イミダゾール等の低分子化合物及びこれらの誘導体等の
電子供与性化合物などがある。
電子供与性化合物などがある。
電荷輸送層にも電荷発生層と同様な結合剤、可塑剤、流
動性付与剤、ピンホール抑制剤等を必要に応じて用いる
ことができる。この中で結合剤は電荷輸送性物質に対し
、電子写真特性が低下しないように4003i%以下が
好ましく、低分子電荷輸送性物質に対しては皮膜特性の
関係上50重i−1以上が好ましい。その他の添加剤は
、各々。
動性付与剤、ピンホール抑制剤等を必要に応じて用いる
ことができる。この中で結合剤は電荷輸送性物質に対し
、電子写真特性が低下しないように4003i%以下が
好ましく、低分子電荷輸送性物質に対しては皮膜特性の
関係上50重i−1以上が好ましい。その他の添加剤は
、各々。
電荷輸送性物質に対して5重i%以下が好ましい。
(2)本発明の光導電層の他の例は、電荷を発生する有
機顔料を含有する層の一層又はこれらの積層体からなる
。また核層は、電荷輸送性物質を含んでいてもよい。
機顔料を含有する層の一層又はこれらの積層体からなる
。また核層は、電荷輸送性物質を含んでいてもよい。
ここで電荷を発生する有機顔料及びこれを含む層に含有
させてもよい結合剤及び可塑剤、流動性付与剤、ピンホ
ール抑制剤等の添加剤は、前記(1)の電荷発生層に使
用できるものと同様のものが使用できる。また、電荷輸
送性物質としては、前記(1)項に記載した電荷輸送性
物質が使用できる。
させてもよい結合剤及び可塑剤、流動性付与剤、ピンホ
ール抑制剤等の添加剤は、前記(1)の電荷発生層に使
用できるものと同様のものが使用できる。また、電荷輸
送性物質としては、前記(1)項に記載した電荷輸送性
物質が使用できる。
この例において、光導電層は、電荷を発生する・有機顔
料に対して、該有機顔料(i−電荷輸送性物質と共に使
用しないときは、結合剤′!1l−100〜900重i
t%使用するのが好ましく、特に200〜400重1i
t%使用するのが好ましい。このとき結合剤が多すぎる
と感光体の感度が低下しやすくなり、少なすぎると帯電
性が低下しやすくなる。
料に対して、該有機顔料(i−電荷輸送性物質と共に使
用しないときは、結合剤′!1l−100〜900重i
t%使用するのが好ましく、特に200〜400重1i
t%使用するのが好ましい。このとき結合剤が多すぎる
と感光体の感度が低下しやすくなり、少なすぎると帯電
性が低下しやすくなる。
また、この例において、光導電層中に、電荷を発生する
有機顔料と電荷輸送性物質を共に含有させる場合、結合
剤の上限の使用量は、電荷輸送性物質に対して450重
i%以下が好ましく、特に300重i′チ以下が好まし
い。結合剤が多すぎると感光体の感度が低下しやすくな
る。また、結合剤の下限の使用tは、電荷輸送性物質が
低分子化合物のときは、該化合物に対して、80重i#
チ以上が好ましく、特に100重量%以上が好ましい。
有機顔料と電荷輸送性物質を共に含有させる場合、結合
剤の上限の使用量は、電荷輸送性物質に対して450重
i%以下が好ましく、特に300重i′チ以下が好まし
い。結合剤が多すぎると感光体の感度が低下しやすくな
る。また、結合剤の下限の使用tは、電荷輸送性物質が
低分子化合物のときは、該化合物に対して、80重i#
チ以上が好ましく、特に100重量%以上が好ましい。
このとき、結合剤が少なすぎると光導電層が十分に強度
を保持できず、また、帯電性が低下する傾向がある。電
荷輸送性物質が高分子化合物のときも、帯電性の点から
、結合剤を該化合物に対して80重is以上使用するの
が好ましく、特に100重fL%以上使用するのが好ま
しい。電荷を発生する有機顔料は、電荷輸送性物質及び
結合剤の総量に対して、0,1〜20重i%使用するの
が好ましく、特に0.5〜5重量%使用するのが好まし
い。
を保持できず、また、帯電性が低下する傾向がある。電
荷輸送性物質が高分子化合物のときも、帯電性の点から
、結合剤を該化合物に対して80重is以上使用するの
が好ましく、特に100重fL%以上使用するのが好ま
しい。電荷を発生する有機顔料は、電荷輸送性物質及び
結合剤の総量に対して、0,1〜20重i%使用するの
が好ましく、特に0.5〜5重量%使用するのが好まし
い。
これが少なすぎると感光体の感度が低下しやすくなり、
多すぎると帯電性が低下する傾向がある。
多すぎると帯電性が低下する傾向がある。
さらに、他の添加剤は、光導電層中に0〜5重量%の範
囲で使用されるのが好ましい。
囲で使用されるのが好ましい。
これらの各層の膜厚は(1)の光導電層の場合、電荷発
生層が0.001〜10μmが好ましく、特に0.2〜
5μmが好ましい。電荷輸送層は、いずれのものも5〜
50μmが好ましく、特に8〜20μmが好ましい。電
荷発生層の膜厚がo、ooiμm未満では感度が劣る傾
向があシ、10μmを越えると残留電位が増加する傾向
がある。また電荷輸送層の膜厚が5μm未満では帯電性
が劣る傾向がある。50μmを越えると感度が低下する
傾向がある。(2)の感光体の光導電層の膜厚は5〜5
0μmが好ましく、特に8〜20μmが好ましい。
生層が0.001〜10μmが好ましく、特に0.2〜
5μmが好ましい。電荷輸送層は、いずれのものも5〜
50μmが好ましく、特に8〜20μmが好ましい。電
荷発生層の膜厚がo、ooiμm未満では感度が劣る傾
向があシ、10μmを越えると残留電位が増加する傾向
がある。また電荷輸送層の膜厚が5μm未満では帯電性
が劣る傾向がある。50μmを越えると感度が低下する
傾向がある。(2)の感光体の光導電層の膜厚は5〜5
0μmが好ましく、特に8〜20μmが好ましい。
5μm未満では帯電性が劣シやすくなシ、50μmを越
えると感度が低下する傾向がある。
えると感度が低下する傾向がある。
次に各層の形成法について述べる。
(1)の光導電層の場合、を荷発生層を形成する方法と
して、有機顔料のみを用いる場合には、真空蒸着で行う
こともできるが、有機顔料、結合剤及び場合により添加
剤をアセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、キシレン。
して、有機顔料のみを用いる場合には、真空蒸着で行う
こともできるが、有機顔料、結合剤及び場合により添加
剤をアセトン、メチルエチルケトン、テトラヒドロフラ
ン、トルエン、キシレン。
塩化メチレン、トリクロルエタン等の溶剤に均一に溶解
又は分散させた後、塗布し乾燥して形成することもでき
る。
又は分散させた後、塗布し乾燥して形成することもでき
る。
電荷輸送層を形成する場合には、いずれのものも電荷輸
送性物質、結合剤及び添加剤等を前記の電荷発生層の場
合と同様な溶剤に均一に溶解した後、塗布し乾燥して形
成することができる。
送性物質、結合剤及び添加剤等を前記の電荷発生層の場
合と同様な溶剤に均一に溶解した後、塗布し乾燥して形
成することができる。
また、(2)の光導電層の場合には、1荷発生材料並び
に場合によシミ荷輸送性物質、結合剤及び添加剤等を前
記の電荷発生層の場合と同様な溶剤に均一に溶解又は分
散させた後、塗布し乾燥して形成することができる。
に場合によシミ荷輸送性物質、結合剤及び添加剤等を前
記の電荷発生層の場合と同様な溶剤に均一に溶解又は分
散させた後、塗布し乾燥して形成することができる。
本発明の感光体は光導電層のすぐ上に保護層を設けても
よい。
よい。
次に本発明における下引層について説明する。
本発明におけるヒドロキシル基を有するスチレン樹脂は
9例えば、スチレンとビニルアルコール。
9例えば、スチレンとビニルアルコール。
71Jルアルコール、ヒドロキシメチルアクリレート、
ヒドロキシメチルメタクリレート、2−ヒトo=lj−
ジエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート等のヒドロキシル基を分子内に有する重合性単量
体とをアセトン、メチルエチルケトン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、テトラヒドロフラン、等の汎用有機溶
媒中で常温から120℃付近の温度下9通常の溶液重合
や塊状重合を行い、共重合させることにより得るととが
できる。また懸濁重合によっても得ることができる。
ヒドロキシメチルメタクリレート、2−ヒトo=lj−
ジエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート等のヒドロキシル基を分子内に有する重合性単量
体とをアセトン、メチルエチルケトン、ベンゼン、トル
エン、キシレン、テトラヒドロフラン、等の汎用有機溶
媒中で常温から120℃付近の温度下9通常の溶液重合
や塊状重合を行い、共重合させることにより得るととが
できる。また懸濁重合によっても得ることができる。
またスチレン自身にヒドロキシル基をもった4−ヒドロ
キシスチレン等を用いる場合にはこれとはよい。これら
の重合にはラジカル重合開始剤1例えば過酸化ベンゾイ
ル、ジクミルパーオキサイド。
キシスチレン等を用いる場合にはこれとはよい。これら
の重合にはラジカル重合開始剤1例えば過酸化ベンゾイ
ル、ジクミルパーオキサイド。
クメンヒドロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニト
リルや過酸化水素−第一鉄塩、過硫酸塩−酸性亜硫酸ナ
トリウムなどのレドックス開始剤。
リルや過酸化水素−第一鉄塩、過硫酸塩−酸性亜硫酸ナ
トリウムなどのレドックス開始剤。
またアニオン重合開始剤9例えばLi、Naなどのアル
カリ金属、アルカリアミド、アルキル金属アルカリ、グ
リニヤール試薬、及びカチオン重合開始剤9例えばHC
I Oa 、 H3PO4などのプロトン酸。
カリ金属、アルカリアミド、アルキル金属アルカリ、グ
リニヤール試薬、及びカチオン重合開始剤9例えばHC
I Oa 、 H3PO4などのプロトン酸。
BFs、 klcls などのルイス酸など斉種開始
剤を適宜用いることができる。この場合、開始剤の使用
量はスチレンとヒドロキシル基を分子内に有する重合性
単量体との混合物に対して0.01〜5重量%用いるこ
とが好ましい。開始剤の使用量がo、oi重量%未満で
は生成する樹脂の分子量が高くなりすぎて溶媒に対する
溶解性が悪くなり、また5重量%を越えると分子量が低
すぎて膜がもろくなる傾向がある。本発明におけるヒド
ロキシル基を有するスチレン樹脂の重量平均分子量は。
剤を適宜用いることができる。この場合、開始剤の使用
量はスチレンとヒドロキシル基を分子内に有する重合性
単量体との混合物に対して0.01〜5重量%用いるこ
とが好ましい。開始剤の使用量がo、oi重量%未満で
は生成する樹脂の分子量が高くなりすぎて溶媒に対する
溶解性が悪くなり、また5重量%を越えると分子量が低
すぎて膜がもろくなる傾向がある。本発明におけるヒド
ロキシル基を有するスチレン樹脂の重量平均分子量は。
1,000〜50.000であることが好ましい。また
、ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂にはスチレン(
スチレン自身にヒドロキシル基をもった4−ヒドロキシ
スチレン等4 含む)トヒドロキシル基を分子内に有す
る重合性単量体以外に無水マレイン酸、アクリロニトリ
ル、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチ
ルメタクリレート、ブチルアクリルート、メタクリル酸
、アクリル酸、3−ビニルピリジる ビニルピラジン、
ビニルスルホン、ビニルアセトン、ビニルピリジ。
、ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂にはスチレン(
スチレン自身にヒドロキシル基をもった4−ヒドロキシ
スチレン等4 含む)トヒドロキシル基を分子内に有す
る重合性単量体以外に無水マレイン酸、アクリロニトリ
ル、メチルメタクリレート、メチルアクリレート、ブチ
ルメタクリレート、ブチルアクリルート、メタクリル酸
、アクリル酸、3−ビニルピリジる ビニルピラジン、
ビニルスルホン、ビニルアセトン、ビニルピリジ。
ビニルカルバゾール、ビニルエチルエーテル、2−ビニ
ルキノリン、ビニル酢酸、ビニルシクロプロパン、ビニ
ルシクロヘキサン、ビニルナフタレン、ビニルピロリド
ン、ビニルトルエン、p−シアノスチレン、p−クロロ
スチレン、p−メトキシスチレン、α−メチルスチレン
、塩化ビニル。
ルキノリン、ビニル酢酸、ビニルシクロプロパン、ビニ
ルシクロヘキサン、ビニルナフタレン、ビニルピロリド
ン、ビニルトルエン、p−シアノスチレン、p−クロロ
スチレン、p−メトキシスチレン、α−メチルスチレン
、塩化ビニル。
塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、ビニリデンシアニ
ド、インブチルビニルエーテル、ブタジェン、イソプレ
ン、エチレン、プロピレンなどの重合性単量体もスチレ
ン(スチレン自身にヒドロキシル基をもった4−ヒドロ
キシスチレン等も含む)とヒドロキシル基を分子内に有
する重合性単量体の総量100重量部に対して300重
量部未満で用い、共重合させることもできる。これらの
重合性単量体が300重量部を越えると本発明における
ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂を下引層に用いる
効果が薄れる傾向がある。
ド、インブチルビニルエーテル、ブタジェン、イソプレ
ン、エチレン、プロピレンなどの重合性単量体もスチレ
ン(スチレン自身にヒドロキシル基をもった4−ヒドロ
キシスチレン等も含む)とヒドロキシル基を分子内に有
する重合性単量体の総量100重量部に対して300重
量部未満で用い、共重合させることもできる。これらの
重合性単量体が300重量部を越えると本発明における
ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂を下引層に用いる
効果が薄れる傾向がある。
また、スチレン樹脂内へのヒドロキシル基の導入法とし
て、ヒドロキシル基を分子内に有する重合性単量体をス
チレンと共重合させる方法以外に。
て、ヒドロキシル基を分子内に有する重合性単量体をス
チレンと共重合させる方法以外に。
例えば式(r)及び(Illに示すようにあらかじめス
チレンとクロロメチルスチレンやアセトキシスチレンを
共重合させておき、得られた樹脂をアルカリ等で加水分
解して、樹脂中にヒドロキシル基を導入kbC21 しtムu、t−i CHs H したシアスチレン単独の樹脂をフリーデルクラフッ反応
により直接ベンゼン核にヒドロキシル基を導入する方法
々ど、スチレンを含有した樹脂を後から変性して樹脂内
にヒドロキシル基を導入することも可能である。いずれ
にしても本発明におけるヒドロキシル基を有するスチレ
ン樹脂中のヒドロキシル基の含有量はヒドロキシル価が
10〜250の範囲が好ましく、特に40〜100の範
囲が好ましい。ヒドロキシル価が10未満では後述する
架橋剤との硬化による架橋密度が低く、目的とする膜の
耐溶剤性が低く、その上に光導電層を塗工する際に下引
層が浸されてしまう傾向があり、また250を越すと膜
がもろくなシ、かつ膜の吸水率が高くなシ高湿下では電
子写真特性が低下し9画質低下の原因になりやすい。ま
た、ヒドロキシル基を有する樹脂中のスチレンの含有量
は。
チレンとクロロメチルスチレンやアセトキシスチレンを
共重合させておき、得られた樹脂をアルカリ等で加水分
解して、樹脂中にヒドロキシル基を導入kbC21 しtムu、t−i CHs H したシアスチレン単独の樹脂をフリーデルクラフッ反応
により直接ベンゼン核にヒドロキシル基を導入する方法
々ど、スチレンを含有した樹脂を後から変性して樹脂内
にヒドロキシル基を導入することも可能である。いずれ
にしても本発明におけるヒドロキシル基を有するスチレ
ン樹脂中のヒドロキシル基の含有量はヒドロキシル価が
10〜250の範囲が好ましく、特に40〜100の範
囲が好ましい。ヒドロキシル価が10未満では後述する
架橋剤との硬化による架橋密度が低く、目的とする膜の
耐溶剤性が低く、その上に光導電層を塗工する際に下引
層が浸されてしまう傾向があり、また250を越すと膜
がもろくなシ、かつ膜の吸水率が高くなシ高湿下では電
子写真特性が低下し9画質低下の原因になりやすい。ま
た、ヒドロキシル基を有する樹脂中のスチレンの含有量
は。
スチレン自身にヒドロキシル基をもっている場合以外は
30重量−以上が好ましい。30重量%未満では本発明
の目的とする下引層を設ける効果が減じやすい。スチレ
ン自身にヒドロキシル基をもっている4−ヒドロキシス
チレンを用いる場合は4−ヒドロキシルスチレンとスチ
レンの合計カ30重量%以上になることが好ましい。も
ちろんこの場合前述のようにスチレンを用いずに4−ヒ
ドロキシスチレン単独でもよい。
30重量−以上が好ましい。30重量%未満では本発明
の目的とする下引層を設ける効果が減じやすい。スチレ
ン自身にヒドロキシル基をもっている4−ヒドロキシス
チレンを用いる場合は4−ヒドロキシルスチレンとスチ
レンの合計カ30重量%以上になることが好ましい。も
ちろんこの場合前述のようにスチレンを用いずに4−ヒ
ドロキシスチレン単独でもよい。
次に、前記のヒドロキシル基を有するスチレン樹脂と反
応して硬化させる架橋剤について説明する。架橋剤はヒ
ドロキシル基と反応する官能基を分子内に2つ以上有す
る物質であればよく9例えば、メラミン樹脂、ベンゾグ
アナミン樹脂、尿素樹脂、インシアネート化合物(トリ
レ%ジイソシアネート、インホロンジイソシアネート、
m−〕二ニレしジイソシアネートなど)、及び多塩基酸
もしくはその酸無水物(フタル酸、トリメリド酸。
応して硬化させる架橋剤について説明する。架橋剤はヒ
ドロキシル基と反応する官能基を分子内に2つ以上有す
る物質であればよく9例えば、メラミン樹脂、ベンゾグ
アナミン樹脂、尿素樹脂、インシアネート化合物(トリ
レ%ジイソシアネート、インホロンジイソシアネート、
m−〕二ニレしジイソシアネートなど)、及び多塩基酸
もしくはその酸無水物(フタル酸、トリメリド酸。
ピロメリト酸など、もしくはそれらの酸無水物)などが
用いられる。特にメラミン樹脂は本発明になるヒドロキ
シル基を含むスチレン樹脂との反応性が高く、硬化した
膜の耐溶剤性が良好でこの上に光導電層を塗布、形成し
ても溶媒に浸されることがないという利点があるので好
適である。これら架橋剤の使用1・はスチレン樹脂中の
ヒドロキシル基の含有量と架橋剤中のヒドロキシル基と
反応する官能基の種類や含有量によるため一概に言えな
いが大旨ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂100重
量部に対し、5重量部から100重量部が好ましい範囲
といえる。架橋剤が少なすぎると膜の架橋密度が上がら
ず、膜の耐溶剤性が低い丸め、その上に光導電層を形成
するのが困難とがる場合があシ、また多すぎると、膜が
もろく導電層との密着性も低下しやすくなる。また、硬
化反応を促進するために2例えば架橋剤がメラミン樹脂
の場合にはp−)ルエンスルホン酸、ピロメリト酸、ト
リメリド酸などの硬化触媒や促進剤を適宜。
用いられる。特にメラミン樹脂は本発明になるヒドロキ
シル基を含むスチレン樹脂との反応性が高く、硬化した
膜の耐溶剤性が良好でこの上に光導電層を塗布、形成し
ても溶媒に浸されることがないという利点があるので好
適である。これら架橋剤の使用1・はスチレン樹脂中の
ヒドロキシル基の含有量と架橋剤中のヒドロキシル基と
反応する官能基の種類や含有量によるため一概に言えな
いが大旨ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂100重
量部に対し、5重量部から100重量部が好ましい範囲
といえる。架橋剤が少なすぎると膜の架橋密度が上がら
ず、膜の耐溶剤性が低い丸め、その上に光導電層を形成
するのが困難とがる場合があシ、また多すぎると、膜が
もろく導電層との密着性も低下しやすくなる。また、硬
化反応を促進するために2例えば架橋剤がメラミン樹脂
の場合にはp−)ルエンスルホン酸、ピロメリト酸、ト
リメリド酸などの硬化触媒や促進剤を適宜。
適量使用することもできる。
本発明における下引層には、ヒドロキシル基を有するス
チレン樹脂と架橋剤以外にも9通常下引層に用いられる
ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂。
チレン樹脂と架橋剤以外にも9通常下引層に用いられる
ポリアミド樹脂、シリコーン樹脂。
ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ブチラール樹脂、そ
のほか熱及び/又は光硬化性樹脂等も併用できる。この
場合には、下引層全体に対して通常50重itチ以下で
併用される。50重fチを越えると併用する樹脂により
、ヒドロキシル基を含むスチレン樹脂との相溶性が低下
し、均一な下引層を形成できなくなることがある。
のほか熱及び/又は光硬化性樹脂等も併用できる。この
場合には、下引層全体に対して通常50重itチ以下で
併用される。50重fチを越えると併用する樹脂により
、ヒドロキシル基を含むスチレン樹脂との相溶性が低下
し、均一な下引層を形成できなくなることがある。
また下引層にはさらに前記した光導電層に用いる電荷を
発生する有機顔料及び電荷輸送性物質を前記ヒドロキシ
ル基を有するスチレン樹脂、架橋剤及び場合によシ他の
樹脂類の総量100重量部に対しそれぞれ30重量部以
下で含有させることもできる。それぞれ30重量部を越
えると下引層を設ける効果が減じやすい。
発生する有機顔料及び電荷輸送性物質を前記ヒドロキシ
ル基を有するスチレン樹脂、架橋剤及び場合によシ他の
樹脂類の総量100重量部に対しそれぞれ30重量部以
下で含有させることもできる。それぞれ30重量部を越
えると下引層を設ける効果が減じやすい。
下引層にも前記の光導電層と同様な流動性付与剤、ピン
ホール抑制剤等を必要に応じて用いることができる。こ
れらは下引層に対して5重量%以下が好ましい。
ホール抑制剤等を必要に応じて用いることができる。こ
れらは下引層に対して5重量%以下が好ましい。
下引層の膜厚は、0.01〜15μmが好ましく。
0.1〜2μmがより好ましい。下引層が0.01μm
未満では下引層を設けた効果が少なく、15μmを越え
ると感度の低下や残留電位の増大がみられることがある
。
未満では下引層を設けた効果が少なく、15μmを越え
ると感度の低下や残留電位の増大がみられることがある
。
下引層の形成は9例えば、ヒドロキシル基を有するスチ
レン樹脂、架橋剤、さらに必要に応じて有機顔料、電荷
輸送材料及び各種添加剤をアセトン、メチルエチルケト
ン、テトラヒドロフラン。
レン樹脂、架橋剤、さらに必要に応じて有機顔料、電荷
輸送材料及び各種添加剤をアセトン、メチルエチルケト
ン、テトラヒドロフラン。
ベンゼン、トルエン、イソプロピルアルコール。
イソブチルアルコール、塩化メチレン、1,1.2−ト
リクロルエタン等の有機溶媒に溶解もしくは分散した後
、導電層の上に塗布し9通常60〜150℃で加熱硬化
して形成することができる。
リクロルエタン等の有機溶媒に溶解もしくは分散した後
、導電層の上に塗布し9通常60〜150℃で加熱硬化
して形成することができる。
このようにして形成された下引層の上に前記の光導電層
が形成される。
が形成される。
本発明になる電子写真感光体を用いて複写又は印刷を行
う場合には、従来と同様に表面に帯電。
う場合には、従来と同様に表面に帯電。
露光を施した後、現像を行い、普通紙等の被転写物上に
画像を転写し、定着すればよい。
画像を転写し、定着すればよい。
(実施例)
次に実施例によって本発明を詳述するが9本発明はこれ
に限定されるものではない。
に限定されるものではない。
以下の例中に用いる各材料を次に列記する。
(1) 下引雇用材料
(3) ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂(+)
スチレン/アクリルアルコール=92577.5(重
量比) ヒドロキシル価ニア2 POLYMERPRODUCTS、Incm )CIl
l り一ヒドロキシスチレン/メチルメタクリレート
=60/40(重量比) ヒドロキシル価:220 重量平均分子量: 8000 商品名ニレジンCMM(丸善石油化学製)(B) 加
橋剤 メラミン樹脂:メラン27(固形分57重量%9日立化
成工業■製) (2)電荷発生層用材料 入)電荷を発生する有機顔料 τ型無金属フタロシアニン(τ−H2I’cと略す)(
B) 結合剤 シリコーンフェス二に几−255(固形分50重量%、
信越化学工業■製) (3)電荷輸送層用材料 囚 電荷輸送性物質 2− (p−ジメチルアミノフェニル)−4−(p−ジ
メチルアミノフェニル)−(o−クロロフェニル) −
1,3−#キfソーk(OXZと略す) (B) 結合剤 ポリエステル樹脂:バイロン200(固形分100重量
%、東洋紡績■製) 比較例I T−H2Pc ZOg、 シリコーンフェス4.0g
(固形分2.09)及びテトラヒドロフラン94gをボ
ールミルを用いて8時間混練し念。得られた顔料分散液
をアプリケーターにより表面研摩していないアルミニウ
ム板(厚さ0.1 mm )上に塗工し。
スチレン/アクリルアルコール=92577.5(重
量比) ヒドロキシル価ニア2 POLYMERPRODUCTS、Incm )CIl
l り一ヒドロキシスチレン/メチルメタクリレート
=60/40(重量比) ヒドロキシル価:220 重量平均分子量: 8000 商品名ニレジンCMM(丸善石油化学製)(B) 加
橋剤 メラミン樹脂:メラン27(固形分57重量%9日立化
成工業■製) (2)電荷発生層用材料 入)電荷を発生する有機顔料 τ型無金属フタロシアニン(τ−H2I’cと略す)(
B) 結合剤 シリコーンフェス二に几−255(固形分50重量%、
信越化学工業■製) (3)電荷輸送層用材料 囚 電荷輸送性物質 2− (p−ジメチルアミノフェニル)−4−(p−ジ
メチルアミノフェニル)−(o−クロロフェニル) −
1,3−#キfソーk(OXZと略す) (B) 結合剤 ポリエステル樹脂:バイロン200(固形分100重量
%、東洋紡績■製) 比較例I T−H2Pc ZOg、 シリコーンフェス4.0g
(固形分2.09)及びテトラヒドロフラン94gをボ
ールミルを用いて8時間混練し念。得られた顔料分散液
をアプリケーターにより表面研摩していないアルミニウ
ム板(厚さ0.1 mm )上に塗工し。
100℃で15分間乾燥して厚さ約1.0μmの電荷発
生層を形成した。
生層を形成した。
次に0XZ59とポリエステル樹脂159をテトラヒド
ロフラン1409に混合し、完全に溶解させた。得られ
た溶液を前記の電荷発生層上にアプリケーターによシ塗
工し、90℃で20分乾燥して膜厚15μmの電荷輸送
層を形成し、電子写真感光体を作製した。
ロフラン1409に混合し、完全に溶解させた。得られ
た溶液を前記の電荷発生層上にアプリケーターによシ塗
工し、90℃で20分乾燥して膜厚15μmの電荷輸送
層を形成し、電子写真感光体を作製した。
比較例2
r −HtPc O,6g、 OXZ 5.Og、ポリ
エステル樹脂14.49及びテトラヒドロンラン809
をボールミルを用いて10時間混練した。得られた分散
液をアプリケーターによシ、やはシ表面研摩していない
アルミニウム板上に塗工し、100℃で15分乾燥して
膜厚15μmの光導電層が一層型の電子写真感光体を作
製した。
エステル樹脂14.49及びテトラヒドロンラン809
をボールミルを用いて10時間混練した。得られた分散
液をアプリケーターによシ、やはシ表面研摩していない
アルミニウム板上に塗工し、100℃で15分乾燥して
膜厚15μmの光導電層が一層型の電子写真感光体を作
製した。
実施例1
ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂のP2O3゜7.
09.メラミン樹脂s、ag(固形分3.09)及びテ
トラヒドロフラン909の混合液を比較例1と同様に表
面研摩していないアルミニウム板上にアプリケーターに
よシ塗工し、110’Cで30分加熱硬化して厚さ約0
.3μmの下引層を形成した。
09.メラミン樹脂s、ag(固形分3.09)及びテ
トラヒドロフラン909の混合液を比較例1と同様に表
面研摩していないアルミニウム板上にアプリケーターに
よシ塗工し、110’Cで30分加熱硬化して厚さ約0
.3μmの下引層を形成した。
次にとの下引層の上に比較例1と同様な方法で同一の電
荷発生層上が電荷輸送I−を順次積層し、電子写真感光
体を作製した。
荷発生層上が電荷輸送I−を順次積層し、電子写真感光
体を作製した。
実施例2
とドロキシル基を有するスチレン樹脂のP2O3゜&O
g、メラミン樹脂a、59(固形分109)。
g、メラミン樹脂a、59(固形分109)。
トリメリド酸1.09及びテトラヒドロ7ラン909の
混合液を比較例1と同様に表面研摩していないアルミニ
ウム板上にアプリケーターによシ塗工し、110℃で3
0分加熱硬化して厚さ約0.4μmの下引層を形成した
。次にこの下引層の上に比較例1と同様な方法で同一の
電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層し、電子写真感光
体を作製した。
混合液を比較例1と同様に表面研摩していないアルミニ
ウム板上にアプリケーターによシ塗工し、110℃で3
0分加熱硬化して厚さ約0.4μmの下引層を形成した
。次にこの下引層の上に比較例1と同様な方法で同一の
電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層し、電子写真感光
体を作製した。
実施例3
ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂のP2O3゜9、
og、 メラミン樹脂1.89(固形分1.09 )、
τ−H2Pc O,2g及びテトラヒドロフラン91
9の混合液(ボールミルで5時間分散した液)を比較例
1と同様に表面研摩していないアルミニウム板上にアプ
リケーターにより塗工し、110℃で30分加熱硬化し
て厚さ約0.4μmの下引層を形成した。次にこの下引
層の上に比較例1と同様な方法で同一の電荷発生層及び
電荷輸送層を順次積層し。
og、 メラミン樹脂1.89(固形分1.09 )、
τ−H2Pc O,2g及びテトラヒドロフラン91
9の混合液(ボールミルで5時間分散した液)を比較例
1と同様に表面研摩していないアルミニウム板上にアプ
リケーターにより塗工し、110℃で30分加熱硬化し
て厚さ約0.4μmの下引層を形成した。次にこの下引
層の上に比較例1と同様な方法で同一の電荷発生層及び
電荷輸送層を順次積層し。
電子写真感光体を作表した。
実施例4
ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂のP2O3゜7.
09. メラミン樹脂s、ag(固形分a、og)。
09. メラミン樹脂s、ag(固形分a、og)。
無水ピロメリト酸0.59. T−H4F(! 0.
1 g及びテトラヒドロフラン95の混合液(5時間の
超音波分散を行った液)を比較例1と同様に表面研摩し
ていないアルミニウム板上洗アプリケーターにより塗工
し、110℃で30分加熱硬化して約0.5μmの下引
層を形成した。次にとの下引層の上に比較例1と同様な
方法で同一の電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層し、
を子写真感光体を作製した。
1 g及びテトラヒドロフラン95の混合液(5時間の
超音波分散を行った液)を比較例1と同様に表面研摩し
ていないアルミニウム板上洗アプリケーターにより塗工
し、110℃で30分加熱硬化して約0.5μmの下引
層を形成した。次にとの下引層の上に比較例1と同様な
方法で同一の電荷発生層及び電荷輸送層を順次積層し、
を子写真感光体を作製した。
実施例5
実施例1と同様な方法で同一の下引層を表面研摩してい
ないアルミニウム板上に形成した。この下引層の上に比
較例2と同様な方法で同一の光導電層を積層し、光導電
層が一層型の電子写真感光体を作製した。
ないアルミニウム板上に形成した。この下引層の上に比
較例2と同様な方法で同一の光導電層を積層し、光導電
層が一層型の電子写真感光体を作製した。
実施例6
ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂のレジンCMM
8.Og、 メラミ:、y樹脂7.19(固形分4.
0g)及びテトラヒドロ7ラン909の混合液を比較例
1と同様に表面研摩してい々いアルミニウム板上にアプ
リケーターにより塗工し、110℃で30分加熱硬化し
て厚さ約0.2μmの下引層を形成した。次にとの下引
層の上に比較例1と同様な方法で同一の電荷発生層及び
電荷輸送層を順次積層し、電子写真感光体を作表した。
8.Og、 メラミ:、y樹脂7.19(固形分4.
0g)及びテトラヒドロ7ラン909の混合液を比較例
1と同様に表面研摩してい々いアルミニウム板上にアプ
リケーターにより塗工し、110℃で30分加熱硬化し
て厚さ約0.2μmの下引層を形成した。次にとの下引
層の上に比較例1と同様な方法で同一の電荷発生層及び
電荷輸送層を順次積層し、電子写真感光体を作表した。
実施例7
ヒドロキシル基を有するスチレン樹脂のレジンCMM7
.Og、 メラミン樹脂5.39(固形分3.0g)
、トリメリド酸1.3g及びテトラヒドロフラン909
の混合液を比較例1と同様に表面研摩していないアルミ
ニウム板上にアプリケーターによυ塗工し、110℃で
30分加熱硬化して厚さ約0.5μmの下引層を形成し
た。
.Og、 メラミン樹脂5.39(固形分3.0g)
、トリメリド酸1.3g及びテトラヒドロフラン909
の混合液を比較例1と同様に表面研摩していないアルミ
ニウム板上にアプリケーターによυ塗工し、110℃で
30分加熱硬化して厚さ約0.5μmの下引層を形成し
た。
次にこの下引層の上に比較例1と同様な方法で同一の電
荷発生層及び電荷輸送層を順次積層して電子写真感光体
を作製した。
荷発生層及び電荷輸送層を順次積層して電子写真感光体
を作製した。
比較例1〜2及び実施例1〜7で得られた電子写真感光
体の電子写真特性を静電記録紙試験装置(川口電機#5
P−428)を用いて測定した。
体の電子写真特性を静電記録紙試験装置(川口電機#5
P−428)を用いて測定した。
この結果を表1に示す。
なお表中の初期電位Vo (V)はダイナミック測定で
正又は負5kVのコロナを10秒間放電したときの帯電
電位を示し、暗減衰VKはその後暗所において30秒間
放置したときの電位保持率を示し、半減露光t&■は1
0I!uxの白色光を照射し、i位が50%低下するに
要した光量値(Eux−s)を示す。残留電位VBは1
0/uxの白色光を30秒間照射した後の表面電位を示
す。繰シ返し特性は、帯1!10秒−露光5秒の工程を
300回繰り返した際の初期電位の低下率を示す。ただ
し測定環境が低湿下(23℃、401RH)の場合と高
湿下(35℃、80%RH)の場合の2条件について初
期電位の低下率を調べた。
正又は負5kVのコロナを10秒間放電したときの帯電
電位を示し、暗減衰VKはその後暗所において30秒間
放置したときの電位保持率を示し、半減露光t&■は1
0I!uxの白色光を照射し、i位が50%低下するに
要した光量値(Eux−s)を示す。残留電位VBは1
0/uxの白色光を30秒間照射した後の表面電位を示
す。繰シ返し特性は、帯1!10秒−露光5秒の工程を
300回繰り返した際の初期電位の低下率を示す。ただ
し測定環境が低湿下(23℃、401RH)の場合と高
湿下(35℃、80%RH)の場合の2条件について初
期電位の低下率を調べた。
また比較例1〜2及び実施例1〜7の電子写真感光体を
画像評価機を用いて画質の評価を行った。
画像評価機を用いて画質の評価を行った。
画像評価の結果について表1に示す。
表1から、比較例1〜2に対して実施例1〜7の電子写
真感光体は、半減露光量は同等だが、初期電位及び暗減
衰が向上し、繰り返しによる電位低下は低湿下、高湿下
とも著しく抑制され、さらに画像欠陥の発生も大幅に抑
制されていることが分かる。
真感光体は、半減露光量は同等だが、初期電位及び暗減
衰が向上し、繰り返しによる電位低下は低湿下、高湿下
とも著しく抑制され、さらに画像欠陥の発生も大幅に抑
制されていることが分かる。
このように本発明における下引層を設けることによシ、
帯電性の向上や、使用環境に無関係に電位低下の抑制効
果を示し、かつ導電層の表面欠陥を画像に反映すること
なく良好な画像を提供する電子写真感光体であることが
確認された。
帯電性の向上や、使用環境に無関係に電位低下の抑制効
果を示し、かつ導電層の表面欠陥を画像に反映すること
なく良好な画像を提供する電子写真感光体であることが
確認された。
(発明の効果)
本発明に係る電子写真感光体は、優れた電子写真特性と
良好な画像を提供し、繰り返し使用時の特性の低下も少
ない。
良好な画像を提供し、繰り返し使用時の特性の低下も少
ない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、導電層の上に、下引層及び光導電層が積層されてい
る電子写真感光体において、下引層にヒドロキシル基を
有するスチレン樹脂及びヒドロキシル基と反応する架橋
剤の硬化物が含有されてなる電子写真感光体。 2、光導電層が電荷を発生する有機顔料を含有する電荷
発生層及び電荷輸送性物質を含有する電荷輸送層からな
る請求項1記載の電子写真感光体。 3、架橋剤がメラミン樹脂である請求項1又は2記載の
電子写真感光体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21461689A JPH02256060A (ja) | 1988-12-21 | 1989-08-21 | 電子写真感光体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32243888 | 1988-12-21 | ||
JP63-322438 | 1988-12-21 | ||
JP21461689A JPH02256060A (ja) | 1988-12-21 | 1989-08-21 | 電子写真感光体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02256060A true JPH02256060A (ja) | 1990-10-16 |
Family
ID=26520418
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21461689A Pending JPH02256060A (ja) | 1988-12-21 | 1989-08-21 | 電子写真感光体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02256060A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015099191A1 (en) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
-
1989
- 1989-08-21 JP JP21461689A patent/JPH02256060A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015099191A1 (en) * | 2013-12-26 | 2015-07-02 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
JP2015143832A (ja) * | 2013-12-26 | 2015-08-06 | キヤノン株式会社 | 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 |
CN105849644A (zh) * | 2013-12-26 | 2016-08-10 | 佳能株式会社 | 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 |
US9904188B2 (en) | 2013-12-26 | 2018-02-27 | Canon Kabushiki Kaisha | Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus |
CN105849644B (zh) * | 2013-12-26 | 2019-10-11 | 佳能株式会社 | 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备 |
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