JPH0225017A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
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- JPH0225017A JPH0225017A JP17552888A JP17552888A JPH0225017A JP H0225017 A JPH0225017 A JP H0225017A JP 17552888 A JP17552888 A JP 17552888A JP 17552888 A JP17552888 A JP 17552888A JP H0225017 A JPH0225017 A JP H0225017A
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- Japan
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- exhaust
- exhaust pressure
- damper
- pressure
- control circuit
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Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 16
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000003203 everyday effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000011017 operating method Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、半導体ウェハに対するレジストの塗布装置
に関し、さらに詳しくは、塗布膜厚を一定に制御形成し
得るように改良したレジスト塗布装置に係るものである
。
に関し、さらに詳しくは、塗布膜厚を一定に制御形成し
得るように改良したレジスト塗布装置に係るものである
。
従来例によるこの種の半導体ウェハに対するレジスト塗
布装置の概要構成を第2図に示す。
布装置の概要構成を第2図に示す。
すなわち、この第2図従来例構成において、符号11は
レジスト塗布装置のスピンカップ、12はこのスピンカ
ップll内に設けられ、外部から駆動モータ13で回転
駆動されるスピンチャックであり、レジストを塗布形成
する半導体ウェハaは、このスピンチャック12上に固
定して支持され、よく知られているように、半導体ウェ
ハaに対しレジスト膜を回転塗布して形成する。
レジスト塗布装置のスピンカップ、12はこのスピンカ
ップll内に設けられ、外部から駆動モータ13で回転
駆動されるスピンチャックであり、レジストを塗布形成
する半導体ウェハaは、このスピンチャック12上に固
定して支持され、よく知られているように、半導体ウェ
ハaに対しレジスト膜を回転塗布して形成する。
また、+4は前記スピンカップ11の底部−側に開口さ
せた内部排気バイブ、15はこの内部排気バイブ14を
接続させた排気ボックスを示し、レジスト膜の回転塗布
時にスピンカップll内を排気させるようにしており、
31はこの排気ボックス15と外部排気バイブ17との
間に介装された手動操作される排気ダンパーで、その開
度を制御することで排気ボックス15内の排気圧を調整
し得るようにされており、32は排気ボックス15に設
けられて、同排気ボックス15内の排気圧を検出表示す
る排気マノメータである。
せた内部排気バイブ、15はこの内部排気バイブ14を
接続させた排気ボックスを示し、レジスト膜の回転塗布
時にスピンカップll内を排気させるようにしており、
31はこの排気ボックス15と外部排気バイブ17との
間に介装された手動操作される排気ダンパーで、その開
度を制御することで排気ボックス15内の排気圧を調整
し得るようにされており、32は排気ボックス15に設
けられて、同排気ボックス15内の排気圧を検出表示す
る排気マノメータである。
しかして、この従来例装置の場合には、排気ボックス1
5内での設定排気圧によって、処理対象の半導体ウェハ
aに対するレジストの塗布膜厚が最適になるように制御
されるために、このレジスト膜の塗布形成に先立って、
排気ボックスI5に設けられでいる排気マノメータ32
により、同排気ボックス15内での排気圧が予め設定さ
れている値であるか否かを確認し、これが異なっている
ときには、外部から手動ダンパー31の開度を調整して
、この排気圧を設定値に合せた上で、所期の作業を行な
うようにしており、この排気圧の確認操作は、毎日の作
業開始毎に始業点検として実施されている。
5内での設定排気圧によって、処理対象の半導体ウェハ
aに対するレジストの塗布膜厚が最適になるように制御
されるために、このレジスト膜の塗布形成に先立って、
排気ボックスI5に設けられでいる排気マノメータ32
により、同排気ボックス15内での排気圧が予め設定さ
れている値であるか否かを確認し、これが異なっている
ときには、外部から手動ダンパー31の開度を調整して
、この排気圧を設定値に合せた上で、所期の作業を行な
うようにしており、この排気圧の確認操作は、毎日の作
業開始毎に始業点検として実施されている。
従来のレジスト塗布装置は、以上のように構成されてお
り、同装置を使用するのには、その作業開始毎に、予め
排気マノメータ32によって排気ボックス】5内での排
気圧を確認した上で、これを外部から手動ダンパー31
により、処理対象の半導体ウェハ8面上に形成されるレ
ジスト膜の膜厚が、最適になるように一々設定調整する
必要があって、操作手順が極めて煩雑であるばかりか、
例えば、供給される排気圧の変動などに伴ない、レジス
ト膜の膜厚についても、これが変動する惧わがあるなど
の問題点があった9 この発明は、従来のこのような問題点を解消するために
なされたもので、その目的とするところは、半導体ウェ
ハ面に塗布形成されるレジスト膜の膜厚が、常時、最適
になるようにして、排気系内での排気圧を自動的に設定
保持し得るようにした。この種のレジスト塗布装置を提
供することである。
り、同装置を使用するのには、その作業開始毎に、予め
排気マノメータ32によって排気ボックス】5内での排
気圧を確認した上で、これを外部から手動ダンパー31
により、処理対象の半導体ウェハ8面上に形成されるレ
ジスト膜の膜厚が、最適になるように一々設定調整する
必要があって、操作手順が極めて煩雑であるばかりか、
例えば、供給される排気圧の変動などに伴ない、レジス
ト膜の膜厚についても、これが変動する惧わがあるなど
の問題点があった9 この発明は、従来のこのような問題点を解消するために
なされたもので、その目的とするところは、半導体ウェ
ハ面に塗布形成されるレジスト膜の膜厚が、常時、最適
になるようにして、排気系内での排気圧を自動的に設定
保持し得るようにした。この種のレジスト塗布装置を提
供することである。
〔3題を解決するための手段〕
前記目的を達成するために、この発明に係るレジスト塗
布装置は、装置内での排気系の排気圧を排気圧センサー
により検出し、その排気圧検出値を予め設定した排気圧
設定値と比較して、排気ダンパーの開度、ひいては排気
系の排気圧を、常時、自動的に設定値に保持させるよう
にしたものである。
布装置は、装置内での排気系の排気圧を排気圧センサー
により検出し、その排気圧検出値を予め設定した排気圧
設定値と比較して、排気ダンパーの開度、ひいては排気
系の排気圧を、常時、自動的に設定値に保持させるよう
にしたものである。
すなわち、この発明は、排気系に接続されるスピンカッ
プ、排気系内の排気圧を調整する排気ダンパー、および
スピンカップ内に設けられて回転駆動されるスピンチャ
ックを有し、スピンチャック上に固定支持される半導体
クエへ面に、レジスト膜を回転塗布するレジスト塗布装
置において、排気系内の排気圧を検出する排気圧センサ
ー、および排気ダンパーを開閉作動するダンパー作動機
構を設けると共に、排気圧センサーによって検出された
排気圧検出値と、予め設定された排気圧設定値とを比較
して出力する制御回路を設け、この制御回路からの出力
により、ダンパー作動機構を介し排気ダンパーを開閉制
御して、排気系内の排気圧を設定値に保持させるように
したことを特徴とするレジスト塗布装置である。
プ、排気系内の排気圧を調整する排気ダンパー、および
スピンカップ内に設けられて回転駆動されるスピンチャ
ックを有し、スピンチャック上に固定支持される半導体
クエへ面に、レジスト膜を回転塗布するレジスト塗布装
置において、排気系内の排気圧を検出する排気圧センサ
ー、および排気ダンパーを開閉作動するダンパー作動機
構を設けると共に、排気圧センサーによって検出された
排気圧検出値と、予め設定された排気圧設定値とを比較
して出力する制御回路を設け、この制御回路からの出力
により、ダンパー作動機構を介し排気ダンパーを開閉制
御して、排気系内の排気圧を設定値に保持させるように
したことを特徴とするレジスト塗布装置である。
従って、この発明においては、装置内での排気系の排気
圧を排気圧センサーにより検出して、その排気圧検出値
を制御回路に入力し、この制御回路に予め設定されてい
る排気圧設定値と比較することで、これらの検出値と設
定値との比較信号を得ると共に、この比較信号をダンパ
ー作動機構に入力させて排気ダンパーを開閉制御させる
ようにしたから、排気ダンパーの開度、ひいては排気系
の排気圧を、常時、自動的に設定値に保持させることが
でき、半導体ウェハ面に塗布形成されるレジスト膜の膜
厚をして、可及的に一定に塗布し得るのである。
圧を排気圧センサーにより検出して、その排気圧検出値
を制御回路に入力し、この制御回路に予め設定されてい
る排気圧設定値と比較することで、これらの検出値と設
定値との比較信号を得ると共に、この比較信号をダンパ
ー作動機構に入力させて排気ダンパーを開閉制御させる
ようにしたから、排気ダンパーの開度、ひいては排気系
の排気圧を、常時、自動的に設定値に保持させることが
でき、半導体ウェハ面に塗布形成されるレジスト膜の膜
厚をして、可及的に一定に塗布し得るのである。
(実 施 例)
以下、この発明に係るレジスト塗布装置の一実施例につ
き、第1図を参照して詳細に説明する。
き、第1図を参照して詳細に説明する。
第1図はこの実施例を適用したレジスト塗布装置の概要
を示す構成説明図であり、この第1図実施例構成におい
て、前記第2図従来例構成と同一符号は同一または相当
部分を示している。
を示す構成説明図であり、この第1図実施例構成におい
て、前記第2図従来例構成と同一符号は同一または相当
部分を示している。
すなわち、この第1図実施例構成においても、符号11
はレジスト塗布装置のスピンカップ、12はこのスピン
カップll内に設けられて、外部から駆動モータ13に
よって回転駆動されるスピンチャックであり、処理対象
の半導体ウェハaは、このスピンチャック12上に固定
して支持され、よく知られているように、この半導体ウ
ェハaに対しレジスト膜を回転塗布して形成する。
はレジスト塗布装置のスピンカップ、12はこのスピン
カップll内に設けられて、外部から駆動モータ13に
よって回転駆動されるスピンチャックであり、処理対象
の半導体ウェハaは、このスピンチャック12上に固定
して支持され、よく知られているように、この半導体ウ
ェハaに対しレジスト膜を回転塗布して形成する。
また、14は前記スピンカップ11の底部−側に開口さ
せた内部排気バイブ、15はこの内部排気パイプ14を
接続させた排気ボックスを示し、レジスト膜の回転塗布
時にスピンカップll内を排気させるようにしており、
16はこの排気ボックス15と外部排気バイブ17との
間に介装された排気ダンパー機構、こ)ではリニア作動
される排気ダンパーであって、その開度によって排気ボ
ックス15内の排気圧を調整する。
せた内部排気バイブ、15はこの内部排気パイプ14を
接続させた排気ボックスを示し、レジスト膜の回転塗布
時にスピンカップll内を排気させるようにしており、
16はこの排気ボックス15と外部排気バイブ17との
間に介装された排気ダンパー機構、こ)ではリニア作動
される排気ダンパーであって、その開度によって排気ボ
ックス15内の排気圧を調整する。
さらに、18は前記スピンカップ11から排気ボックス
15に至るまでの排気系、こiでは内部排気バイブ14
に設けられて、この排気系内の排気圧を検出する排気圧
センサーであり、19は前記排気ダンパー機構16を開
閉駆動するダンパー作動機構、こSでは前記排気ダンパ
ー16をリニア作動して開度調整するパルスモータであ
る。
15に至るまでの排気系、こiでは内部排気バイブ14
に設けられて、この排気系内の排気圧を検出する排気圧
センサーであり、19は前記排気ダンパー機構16を開
閉駆動するダンパー作動機構、こSでは前記排気ダンパ
ー16をリニア作動して開度調整するパルスモータであ
る。
そしてまた、20は排気圧設定器21によって設定され
た排気圧設定値と、前記排気圧センサー18によって検
出された排気圧検出値とを、リアルタイムに比較して出
力する制御回路、22はこの制御回路20の比較出力に
よって前記パルスモータ19.ひいては前記排気ダンパ
ー16を開閉作動させるモータ駆動回路、23は前記排
気圧センサー18によって検出された排気圧検出値を表
示する排気圧表示器である。
た排気圧設定値と、前記排気圧センサー18によって検
出された排気圧検出値とを、リアルタイムに比較して出
力する制御回路、22はこの制御回路20の比較出力に
よって前記パルスモータ19.ひいては前記排気ダンパ
ー16を開閉作動させるモータ駆動回路、23は前記排
気圧センサー18によって検出された排気圧検出値を表
示する排気圧表示器である。
しかして、この実施例構成によるレジスト塗布装置の場
合にも、装置の使用、つまりレジスト膜の塗布形成に先
立って、まず、処理対象の半導体ウェハaに対するレジ
ストの塗布膜厚が最適になるように、予め排気ボックス
15内での排気圧設定値を、排気圧設定器21から制御
回路20に入力させることにより、この制御回路20で
は、人力された排気圧設定値と、そのときの排気圧セン
サー18によって検出された排気圧検出値とを比較して
、これらの両値間に差があるときには、その比較信号を
モータ駆動回路22に出力してパルスモータ19を作動
させ、排気ダンパー16の開度を調整して排気系の排気
圧を設定値に一致させ、かつまた、排気圧検出値を排気
圧表示器23に表示させて、その排気圧の監視に役立て
る。
合にも、装置の使用、つまりレジスト膜の塗布形成に先
立って、まず、処理対象の半導体ウェハaに対するレジ
ストの塗布膜厚が最適になるように、予め排気ボックス
15内での排気圧設定値を、排気圧設定器21から制御
回路20に入力させることにより、この制御回路20で
は、人力された排気圧設定値と、そのときの排気圧セン
サー18によって検出された排気圧検出値とを比較して
、これらの両値間に差があるときには、その比較信号を
モータ駆動回路22に出力してパルスモータ19を作動
させ、排気ダンパー16の開度を調整して排気系の排気
圧を設定値に一致させ、かつまた、排気圧検出値を排気
圧表示器23に表示させて、その排気圧の監視に役立て
る。
ついで、この状態で装置を稼動させ、半導体ウェハ8面
へのレジスト膜の塗布操作を行なうが、排気圧センサー
18は、この塗布操作の全期間を通して、常時、排気系
での排気圧を検出し、これを制御回路20に人力させて
おり、一方、この制御回路20においては、この排気圧
検出値を設定されている排気圧設定値とリアルタイムに
比較し、面記した如くこれらの両値間に差を生じないよ
うに、排気ダンパー16の開度を自動的に調整して、排
気系の排気圧を設定値に維持し得るのである。
へのレジスト膜の塗布操作を行なうが、排気圧センサー
18は、この塗布操作の全期間を通して、常時、排気系
での排気圧を検出し、これを制御回路20に人力させて
おり、一方、この制御回路20においては、この排気圧
検出値を設定されている排気圧設定値とリアルタイムに
比較し、面記した如くこれらの両値間に差を生じないよ
うに、排気ダンパー16の開度を自動的に調整して、排
気系の排気圧を設定値に維持し得るのである。
従って、この実施例装置では、排気系の排気圧を常時、
設定値に自動的に保持させているので、その作業中、供
給される排気圧の変動などに全く影響されることなく、
常に半導体ウェハaに対するレジスト膜の膜厚を可及的
に一定に塗布できるのである。
設定値に自動的に保持させているので、その作業中、供
給される排気圧の変動などに全く影響されることなく、
常に半導体ウェハaに対するレジスト膜の膜厚を可及的
に一定に塗布できるのである。
なお、前記実施例においては、排気圧センサーを内部排
気バイブに設けているが、そのほかにも排気ボックスに
設けるようにしてもよく、要は排気系内の排気圧を検出
し得るようにすればよいものであり、また、排気ダンパ
ーについても、必ずしもリニア作動させる必要がなく、
その開度制御によって排気系内での排気圧を調整できる
ものであればよく、同様にダンパー作動機構の態様にも
制限されない。
気バイブに設けているが、そのほかにも排気ボックスに
設けるようにしてもよく、要は排気系内の排気圧を検出
し得るようにすればよいものであり、また、排気ダンパ
ーについても、必ずしもリニア作動させる必要がなく、
その開度制御によって排気系内での排気圧を調整できる
ものであればよく、同様にダンパー作動機構の態様にも
制限されない。
以上詳述したように、この発明によれば、排気系に接続
されるスピンカップと、排気系内の排気圧を調整する排
気ダンパーと、スピンカップ内に設けられて回転駆動さ
れるスピンチャックとを有して、スピンチャック上に固
定支持される半導体ウェハ面に、レジスト膜を回転塗布
するようにしたレジスト塗布装置において、排気圧セン
サーによって検出された排気系の排気圧検出値を、制御
回路に人力させて予め設定された排気圧設定値と比較し
、これらの検出値と設定値との比較信号を得て、この比
較信号をダンパー作動機構に入力させて排気ダンパーを
開閉制御させるようにしたから、排気ダンパーの開度、
ひいては排気系の排気圧を、常時、自動的に設定値に保
持させることができ、従来装置におけるように、人手に
よる排気圧の確認、および調整が不要になって、その操
作を極めて容易に行ない得ると共に、塗布作業が供給排
気圧の変動などに影響される惧れも全くなく、これらの
結果として、半導体ウェハ面でのレジスト膜を可及的に
一定の膜厚で塗布し得るのであり・、しかも、装置構造
自体についても比較的簡単で容易に実施できるなどの優
れた特長を有するものである。
されるスピンカップと、排気系内の排気圧を調整する排
気ダンパーと、スピンカップ内に設けられて回転駆動さ
れるスピンチャックとを有して、スピンチャック上に固
定支持される半導体ウェハ面に、レジスト膜を回転塗布
するようにしたレジスト塗布装置において、排気圧セン
サーによって検出された排気系の排気圧検出値を、制御
回路に人力させて予め設定された排気圧設定値と比較し
、これらの検出値と設定値との比較信号を得て、この比
較信号をダンパー作動機構に入力させて排気ダンパーを
開閉制御させるようにしたから、排気ダンパーの開度、
ひいては排気系の排気圧を、常時、自動的に設定値に保
持させることができ、従来装置におけるように、人手に
よる排気圧の確認、および調整が不要になって、その操
作を極めて容易に行ない得ると共に、塗布作業が供給排
気圧の変動などに影響される惧れも全くなく、これらの
結果として、半導体ウェハ面でのレジスト膜を可及的に
一定の膜厚で塗布し得るのであり・、しかも、装置構造
自体についても比較的簡単で容易に実施できるなどの優
れた特長を有するものである。
第1図はこの発明に係るレジスト塗布装置の一実施例に
よる概要を示す構成説明図であり、また、第2図は従来
例による同上レジスト塗布装置の概要を示す構成説明図
である。 11・・・・スピンカップ、12・・・・スピンチャッ
ク、13・・・・駆動モータ、I4・・・・内部排気パ
イプ、15・・・−排気ボックス、16・・・・排気ダ
ンパー(排気ダンパー機構)、17・・・・外部排気パ
イプ、18・・・・排気圧センサー、I9・・・・パル
スモータ(ダンパー作動機構)、20・・・・制御回路
、21・・・・排気圧設定器、22・・・・モータ駆動
回路、I3・・・・排気圧表示器、a・・・・半導体ウ
ェハ。 代理人 大 岩 増 雄 第1図 第2図
よる概要を示す構成説明図であり、また、第2図は従来
例による同上レジスト塗布装置の概要を示す構成説明図
である。 11・・・・スピンカップ、12・・・・スピンチャッ
ク、13・・・・駆動モータ、I4・・・・内部排気パ
イプ、15・・・−排気ボックス、16・・・・排気ダ
ンパー(排気ダンパー機構)、17・・・・外部排気パ
イプ、18・・・・排気圧センサー、I9・・・・パル
スモータ(ダンパー作動機構)、20・・・・制御回路
、21・・・・排気圧設定器、22・・・・モータ駆動
回路、I3・・・・排気圧表示器、a・・・・半導体ウ
ェハ。 代理人 大 岩 増 雄 第1図 第2図
Claims (1)
- 排気系に接続されるスピンカップ、排気系内の排気圧を
調整する排気ダンパー、およびスピンカップ内に設けら
れて回転駆動されるスピンチャックを有し、スピンチャ
ック上に固定支持される半導体ウェハ面に、レジスト膜
を回転塗布するレジスト塗布装置において、排気系内の
排気圧を検出する排気圧センサー、および排気ダンパー
を開閉作動するダンパー作動機構を設けると共に、排気
圧センサーによつて検出された排気圧検出値と、予め設
定された排気圧設定値とを比較して出力する制御回路を
設け、この制御回路からの出力により、ダンパー作動機
構を介し排気ダンパーを開閉制御して、排気系内の排気
圧を設定値に保持させるようにしたことを特徴とするレ
ジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17552888A JPH0225017A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | レジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17552888A JPH0225017A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | レジスト塗布装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0225017A true JPH0225017A (ja) | 1990-01-26 |
Family
ID=15997641
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17552888A Pending JPH0225017A (ja) | 1988-07-13 | 1988-07-13 | レジスト塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0225017A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002270493A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-20 | Oki Electric Ind Co Ltd | 被処理体の加熱処理装置及びその排気方法 |
CN112034898A (zh) * | 2020-08-03 | 2020-12-04 | 中国科学院空天信息创新研究院 | 系留气球压力控制电路、压力控制器及系留气球 |
CN114307673A (zh) * | 2021-12-22 | 2022-04-12 | 杨春波 | 一种管式复合膜内涂表膜工艺 |
-
1988
- 1988-07-13 JP JP17552888A patent/JPH0225017A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002270493A (ja) * | 2001-03-12 | 2002-09-20 | Oki Electric Ind Co Ltd | 被処理体の加熱処理装置及びその排気方法 |
CN112034898A (zh) * | 2020-08-03 | 2020-12-04 | 中国科学院空天信息创新研究院 | 系留气球压力控制电路、压力控制器及系留气球 |
CN114307673A (zh) * | 2021-12-22 | 2022-04-12 | 杨春波 | 一种管式复合膜内涂表膜工艺 |
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