JPH0992590A - 半導体装置のための真空装置 - Google Patents
半導体装置のための真空装置Info
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- JPH0992590A JPH0992590A JP8085360A JP8536096A JPH0992590A JP H0992590 A JPH0992590 A JP H0992590A JP 8085360 A JP8085360 A JP 8085360A JP 8536096 A JP8536096 A JP 8536096A JP H0992590 A JPH0992590 A JP H0992590A
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- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D16/00—Control of fluid pressure
- G05D16/20—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空信頼度を高めた真空装置を提供する。
【解決手段】 真空変数測定制御系３７は三つの真空変
数即ち、圧力、設定された圧力に至る時間及び温度を測
定し、これを設定された値と比較して該比較結果により
前記真空室３１を制御する。すなわち、装置制御系３９
により真空室３１内の圧力を調節する。前記三つの真空
変数が設定された値より大きいと真空室３１は作動し、
そうでないと真空室３１は作動を止めると同時に警報装
置が作動される。
数即ち、圧力、設定された圧力に至る時間及び温度を測
定し、これを設定された値と比較して該比較結果により
前記真空室３１を制御する。すなわち、装置制御系３９
により真空室３１内の圧力を調節する。前記三つの真空
変数が設定された値より大きいと真空室３１は作動し、
そうでないと真空室３１は作動を止めると同時に警報装
置が作動される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置のための
真空装置に係り、さらに詳細には複数個の真空変数を用
いて真空状態を測定及び制御する真空装置に関する。
真空装置に係り、さらに詳細には複数個の真空変数を用
いて真空状態を測定及び制御する真空装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】多種の半導体装備が製造工程において真
空装置を用いている。そのうち、殆どの装備が細密な制
御を要求しており、よってここに用いられる真空装置も
高信頼度の真空を保つべきである。もし、信頼度が下が
ると半導体装置の収率の低下と特性の劣化を招き易い。
以下、従来の真空装置について説明する。
空装置を用いている。そのうち、殆どの装備が細密な制
御を要求しており、よってここに用いられる真空装置も
高信頼度の真空を保つべきである。もし、信頼度が下が
ると半導体装置の収率の低下と特性の劣化を招き易い。
以下、従来の真空装置について説明する。
【０００３】図１は従来の真空装置の概略図である。該
構成を調べてみれば、真空室１と前記真空室１に連結さ
れた気体入力制御系３、排気系５、真空測定系７及び装
置制御系９よりなっている。
構成を調べてみれば、真空室１と前記真空室１に連結さ
れた気体入力制御系３、排気系５、真空測定系７及び装
置制御系９よりなっている。
【０００４】前記真空室１は設定された値で真空状態を
保つ。前記気体入力制御系３は必要に応じて前記真空室
１に気体を注入し該気体の注入量を調節する。前記排気
系５は必要に応じて前記真空室１に注入された気体を外
に排出する。前記真空測定系７は前記真空室１の内部に
設けられた圧力測定ゲージを用いて真空室１の圧力を測
定し、該測定結果を前記装置制御系９に送信する。前記
装置制御系９は前記真空測定系７から送られた圧力測定
データを基にして真空室１の圧力を調節する。かかる装
置において、若し、圧力測定ゲージがその機能を発揮で
きないと真空測定系７は不正確な圧力測定値を得るよう
になる。従って、装置制御系９は該不正確なデータに基
づき真空室１の内部の圧力を調節し、よって真空室は正
確な真空状態を保つことができない。
保つ。前記気体入力制御系３は必要に応じて前記真空室
１に気体を注入し該気体の注入量を調節する。前記排気
系５は必要に応じて前記真空室１に注入された気体を外
に排出する。前記真空測定系７は前記真空室１の内部に
設けられた圧力測定ゲージを用いて真空室１の圧力を測
定し、該測定結果を前記装置制御系９に送信する。前記
装置制御系９は前記真空測定系７から送られた圧力測定
データを基にして真空室１の圧力を調節する。かかる装
置において、若し、圧力測定ゲージがその機能を発揮で
きないと真空測定系７は不正確な圧力測定値を得るよう
になる。従って、装置制御系９は該不正確なデータに基
づき真空室１の内部の圧力を調節し、よって真空室は正
確な真空状態を保つことができない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は複数個
の真空変数を用いて真空室の真空状態を測定及び制御す
ることによって、真空信頼度を高めた真空装置を提供す
るにある。
の真空変数を用いて真空室の真空状態を測定及び制御す
ることによって、真空信頼度を高めた真空装置を提供す
るにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに本発明の真空装置は、真空室に気体入力制御系、排
気系及び装置制御系の連結された真空装置において、前
記真空室に連結され複数個の真空変数を測定してそれぞ
れの設定された値と比較し、その比較結果により真空室
を制御する真空変数測定制御系を具備することを特徴と
する。
めに本発明の真空装置は、真空室に気体入力制御系、排
気系及び装置制御系の連結された真空装置において、前
記真空室に連結され複数個の真空変数を測定してそれぞ
れの設定された値と比較し、その比較結果により真空室
を制御する真空変数測定制御系を具備することを特徴と
する。
【０００７】前記真空変数は三つの変数、即ち圧力、設
定された圧力に至る時間及び温度である。もし、前記設
定された圧力に至る時間と温度とも設定された値より大
きいと後続工程が行われ、そうでないと真空室の作動が
止まると同時に警報装置が作動される。そして、前記真
空変数測定制御系はマイクロコンピュータを用いて前記
真空変数が制御できる。
定された圧力に至る時間及び温度である。もし、前記設
定された圧力に至る時間と温度とも設定された値より大
きいと後続工程が行われ、そうでないと真空室の作動が
止まると同時に警報装置が作動される。そして、前記真
空変数測定制御系はマイクロコンピュータを用いて前記
真空変数が制御できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】図２は本発明による真空装置の概
略図である。具体的に、真空装置は真空室３１と前記真
空室３１に連結された気体入力制御系３３、排気系３
５、真空変数測定制御系３７及び装置制御系３９より構
成される。
略図である。具体的に、真空装置は真空室３１と前記真
空室３１に連結された気体入力制御系３３、排気系３
５、真空変数測定制御系３７及び装置制御系３９より構
成される。
【０００９】前記真空室３１は設定された値で真空状態
を保つところである。前記気体入力制御系３３は必要に
応じて前記真空室３１に気体を注入し、該気体の注入量
を調節する。前記排気系３５は必要に応じて前記真空室
３１に注入された気体を外に排出する。前記真空変数測
定制御系３７は三つの真空変数即ち、圧力、設定された
圧力に至る時間及び温度を測定し、これを設定された値
と比較して該比較結果により前記真空室３１を制御す
る。すなわち、装置制御系３９により前記真空室３１内
の圧力を調節する。もし、前記三つの真空変数が設定さ
れた値より大きいと前記真空室３１は作動し、そうでな
いと真空室３１は作動を止めると同時に警報装置が作動
される。そして、前記真空変数測定制御系３７はマイク
ロコンピュータを用いて前記真空変数が制御できる。前
記装置制御系３９は前記真空室３１の圧力を調節する。
を保つところである。前記気体入力制御系３３は必要に
応じて前記真空室３１に気体を注入し、該気体の注入量
を調節する。前記排気系３５は必要に応じて前記真空室
３１に注入された気体を外に排出する。前記真空変数測
定制御系３７は三つの真空変数即ち、圧力、設定された
圧力に至る時間及び温度を測定し、これを設定された値
と比較して該比較結果により前記真空室３１を制御す
る。すなわち、装置制御系３９により前記真空室３１内
の圧力を調節する。もし、前記三つの真空変数が設定さ
れた値より大きいと前記真空室３１は作動し、そうでな
いと真空室３１は作動を止めると同時に警報装置が作動
される。そして、前記真空変数測定制御系３７はマイク
ロコンピュータを用いて前記真空変数が制御できる。前
記装置制御系３９は前記真空室３１の圧力を調節する。
【００１０】図３は前記図２に示した真空装置の真空変
数を制御する方法を示すフローチャートである。具体的
に説明すれば、先ず、望む真空室の圧力Ｐ0 を設定する
（第５１段階）。その後、真空室の現在の圧力Ｐを設定
された圧力Ｐ0 と比較して同一であれば後続段階（第５
５段階）に進み、同一でなければ開始に戻る（第５３段
階）。設定された圧力に至るために望む時間ｔ0 と望む
温度Ｔ0 を設定する（第５５段階）。次に、設定された
圧力に至る時間ｔと温度Ｔを設定された値ｔ0、Ｔ0 と
それぞれ比較する（第５７段階）。最後に、前記二つの
真空変数ｔ、Ｔがいずれもそれぞれの設定された値より
大きいと後続工程を施し、そうでないと警報を鳴らすと
同時に真空室の作動を止める。真空室の作動が止まると
前記二つの真空変数ｔ、Ｔがそれぞれの設定された値ｔ
0 、Ｔ0 より大きくなるように自動システムまたは手動
で真空室の状態を調節する（第５９段階）。
数を制御する方法を示すフローチャートである。具体的
に説明すれば、先ず、望む真空室の圧力Ｐ0 を設定する
（第５１段階）。その後、真空室の現在の圧力Ｐを設定
された圧力Ｐ0 と比較して同一であれば後続段階（第５
５段階）に進み、同一でなければ開始に戻る（第５３段
階）。設定された圧力に至るために望む時間ｔ0 と望む
温度Ｔ0 を設定する（第５５段階）。次に、設定された
圧力に至る時間ｔと温度Ｔを設定された値ｔ0、Ｔ0 と
それぞれ比較する（第５７段階）。最後に、前記二つの
真空変数ｔ、Ｔがいずれもそれぞれの設定された値より
大きいと後続工程を施し、そうでないと警報を鳴らすと
同時に真空室の作動を止める。真空室の作動が止まると
前記二つの真空変数ｔ、Ｔがそれぞれの設定された値ｔ
0 、Ｔ0 より大きくなるように自動システムまたは手動
で真空室の状態を調節する（第５９段階）。
【００１１】
【発明の効果】以上に説明したように、圧力の他に望む
圧力に至る時間と温度を真空変数として用いることによ
り圧力測定ゲージに異常が生じても真空室の真空状態は
正確に保ち得る。
圧力に至る時間と温度を真空変数として用いることによ
り圧力測定ゲージに異常が生じても真空室の真空状態は
正確に保ち得る。
【図１】 従来の真空装置の概略図である。
【図２】 本発明による真空装置の概略図である。
【図３】 前記図２に示した真空装置の真空変数を制御
する方法を示したフローチャートである。
する方法を示したフローチャートである。
３１…真空室、 ３３…気体入力制御系、３５…排気
系、 ３７…真空変数測定制御系、３９…装置制御
系。
系、 ３７…真空変数測定制御系、３９…装置制御
系。
Claims (4)
- 【請求項１】 真空室に気体入力制御系、排気系及び装
置制御系の連結された真空装置において、 前記真空室に連結され複数個の真空変数を測定してそれ
ぞれの設定された値と比較し、その比較結果により真空
室を制御する真空変数測定制御系を具備することを特徴
とする真空装置。 - 【請求項２】 前記真空変数は圧力、設定された圧力に
至る時間及び温度であることを特徴とする請求項１に記
載の真空装置。 - 【請求項３】 前記圧力と設定された圧力とが一致した
状態で、前記設定された圧力に至る時間及び温度がいず
れも設定された値より大きいと真空室が作動し、前記設
定された圧力に至る時間及び温度中いずれか一つでも設
定された値より小さいと真空装置は作動を止めることを
特徴とする請求項２に記載の真空装置。 - 【請求項４】 前記真空変数測定制御系はマイクロコン
ピュータを用いて前記真空変数を測定及び制御し得るこ
とを特徴とする請求項１に記載の真空装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950031663A KR100234360B1 (ko) | 1995-09-25 | 1995-09-25 | 반도체 장치를 위한 진공장치 |
| KR95P31663 | 1995-09-25 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0992590A true JPH0992590A (ja) | 1997-04-04 |
| JP4012265B2 JP4012265B2 (ja) | 2007-11-21 |
Family
ID=19427754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08536096A Expired - Fee Related JP4012265B2 (ja) | 1995-09-25 | 1996-04-08 | 半導体装置のための真空装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5760693A (ja) |
| JP (1) | JP4012265B2 (ja) |
| KR (1) | KR100234360B1 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6351723B1 (en) * | 1996-08-29 | 2002-02-26 | Fujitsu Limited | Failure diagnostic method and apparatus for equipment and recording medium in which program causing computer system to execute process in accordance with such method is stored |
| US6272400B1 (en) * | 1998-07-13 | 2001-08-07 | Helix Technology Corporation | Vacuum network controller |
| TW200406049A (en) * | 2002-09-10 | 2004-04-16 | Varian Semiconductor Equipment | Load lock optimization method and system |
| JP6706121B2 (ja) * | 2016-03-30 | 2020-06-03 | 株式会社フジキン | 圧力制御装置および圧力制御システム |
Family Cites Families (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4742857A (en) * | 1986-10-07 | 1988-05-10 | Techni Guidance, Inc. | Tire pressure sensor and air supply to maintain desired tire pressure |
| FR2622845B1 (fr) * | 1987-11-09 | 1990-02-09 | Michelin & Cie | Procede d'exploitation des mesures de pression et de temperature dans un dispositif de surveillance des pneumatiques |
| GB9100720D0 (en) * | 1991-01-12 | 1991-02-27 | Westland Aerostructures Ltd | Tyre pressure and temperature measurement system |
| US5231872A (en) * | 1991-02-21 | 1993-08-03 | Ttc/Truck Tech Corp. | Tire monitoring apparatus and method |
| DE69214976T2 (de) * | 1991-02-22 | 1997-05-28 | Smc Kk | Verfahren einer Verarbeitung von Vakuumdruckinformation in einer Vakuumeinheit zur Versagensvorkenntnis |
| JPH0569996A (ja) * | 1991-09-05 | 1993-03-23 | Smc Corp | 真空ユニツト |
| NO174120C (no) * | 1991-10-14 | 1994-03-16 | Ottestad Nils T | Pröveinnretning for trykkmålere |
| US5511427A (en) * | 1993-07-21 | 1996-04-30 | Honeywell Inc. | Cantilevered microbeam temperature sensor |
| US5556476A (en) * | 1994-02-23 | 1996-09-17 | Applied Materials, Inc. | Controlling edge deposition on semiconductor substrates |
| US5533074A (en) * | 1995-05-02 | 1996-07-02 | Mansell; Timothy E. | Nuclear reactor coolant level monitoring system |
-
1995
- 1995-09-25 KR KR1019950031663A patent/KR100234360B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-04-08 JP JP08536096A patent/JP4012265B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-04-30 US US08/640,403 patent/US5760693A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR970017926A (ko) | 1997-04-30 |
| JP4012265B2 (ja) | 2007-11-21 |
| US5760693A (en) | 1998-06-02 |
| KR100234360B1 (ko) | 1999-12-15 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061128 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070227 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070327 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070625 |
|
| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20070816 |
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