JPH0855769A - 装置内外の差圧自動調整方法 - Google Patents
装置内外の差圧自動調整方法Info
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- JPH0855769A JPH0855769A JP6187380A JP18738094A JPH0855769A JP H0855769 A JPH0855769 A JP H0855769A JP 6187380 A JP6187380 A JP 6187380A JP 18738094 A JP18738094 A JP 18738094A JP H0855769 A JPH0855769 A JP H0855769A
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- JP
- Japan
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- pressure
- semiconductor manufacturing
- outside
- pressure difference
- air volume
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D16/00—Control of fluid pressure
- G05D16/20—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means
- G05D16/2006—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means
- G05D16/2013—Control of fluid pressure characterised by the use of electric means with direct action of electric energy on controlling means using throttling means as controlling means
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- General Physics & Mathematics (AREA)
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- Automation & Control Theory (AREA)
- Control Of Fluid Pressure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体製造装置内の圧力を同一、もしくは所
定の圧力差として、パーティクルの巻き上げを防止し、
装置内を人為的に再調整することなく適正なエアフロー
を得る。 【構成】 半導体製造装置１の内，外にそれぞれ圧力セ
ンサ２，３を設け、これらの圧力センサ２，３の圧力値
により前記装置１内に設けた風量制御器４を制御し、前
記装置１内，外の圧力を同一、もしくは所定の圧力差と
することを特徴とする。
定の圧力差として、パーティクルの巻き上げを防止し、
装置内を人為的に再調整することなく適正なエアフロー
を得る。 【構成】 半導体製造装置１の内，外にそれぞれ圧力セ
ンサ２，３を設け、これらの圧力センサ２，３の圧力値
により前記装置１内に設けた風量制御器４を制御し、前
記装置１内，外の圧力を同一、もしくは所定の圧力差と
することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置の内外
の圧力を同一、もしくは所定の圧力差とする装置内外の
差圧を自動調整する方法に係り、具体的にはクリーンル
ーム内で使用する装置において、ウェーハを出し入れす
る時等、装置内とクリーンルーム間の差圧を自動的に調
整することによりパーティクルの巻上がりを防止する装
置内外の差圧自動調整方法に関する。
の圧力を同一、もしくは所定の圧力差とする装置内外の
差圧を自動調整する方法に係り、具体的にはクリーンル
ーム内で使用する装置において、ウェーハを出し入れす
る時等、装置内とクリーンルーム間の差圧を自動的に調
整することによりパーティクルの巻上がりを防止する装
置内外の差圧自動調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、クリーンルーム内で半導体製造装
置を用い、クリーンルーム内から半導体製造装置内にウ
ェーハを搬入して、成膜処理，酸化処理等の熱処理を行
い、処理済のウェーハを半導体製造装置内からクリーン
ルーム内に搬出する場合、半導体製造装置内の圧力をク
リーンルーム内の圧力に合せて圧力センサにより一定に
する技術はない。
置を用い、クリーンルーム内から半導体製造装置内にウ
ェーハを搬入して、成膜処理，酸化処理等の熱処理を行
い、処理済のウェーハを半導体製造装置内からクリーン
ルーム内に搬出する場合、半導体製造装置内の圧力をク
リーンルーム内の圧力に合せて圧力センサにより一定に
する技術はない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来技術にあっては、
半導体製造装置内の圧力をクリーンルーム内の圧力に合
せて調整する技術がなかったため、クリーンルーム内の
圧力に変化が生じた場合、この圧力変化に応じて装置内
圧力を調整することができないという課題がある。
半導体製造装置内の圧力をクリーンルーム内の圧力に合
せて調整する技術がなかったため、クリーンルーム内の
圧力に変化が生じた場合、この圧力変化に応じて装置内
圧力を調整することができないという課題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明方法は、上記の課
題を解決するため半導体製造装置１の内，外にそれぞれ
圧力センサ２，３を設け、これらの圧力センサ２，３の
圧力値により前記装置１内に設けた風量制御器４を制御
し、前記装置１内，外の圧力を同一、もしくは所定の圧
力差とすることを特徴とする。
題を解決するため半導体製造装置１の内，外にそれぞれ
圧力センサ２，３を設け、これらの圧力センサ２，３の
圧力値により前記装置１内に設けた風量制御器４を制御
し、前記装置１内，外の圧力を同一、もしくは所定の圧
力差とすることを特徴とする。
【０００５】
【作 用】このような構成であるから、半導体製造装置
１の内，外の圧力がそれぞれ圧力センサ２，３により検
出され、それらの圧力値が装置１内の風量制御器４に入
力されて風量が制御され、装置１内の圧力が自動調整さ
れることになる。即ち、装置１外の圧力が変化すると、
該圧力が圧力センサ３により検出され、その圧力値が風
量制御器４に入力されて風量が制御され、装置１内の圧
力が装置１外の圧力に応じて自動調整されることにな
る。
１の内，外の圧力がそれぞれ圧力センサ２，３により検
出され、それらの圧力値が装置１内の風量制御器４に入
力されて風量が制御され、装置１内の圧力が自動調整さ
れることになる。即ち、装置１外の圧力が変化すると、
該圧力が圧力センサ３により検出され、その圧力値が風
量制御器４に入力されて風量が制御され、装置１内の圧
力が装置１外の圧力に応じて自動調整されることにな
る。
【０００６】
【実施例】図１は本発明方法を実施する装置の１例を示
す説明図である。図１において１はウェーハに成膜処
理，酸化処理等の熱処理を行う半導体製造装置、例えば
縦型拡散・ＣＶＤ装置、２，３はそれぞれ該装置１内及
び装置１外であるクリーンルーム７内に設けられた圧力
センサ、４はこれらの圧力センサ２，３の検出圧力を入
力して風量を制御する風量制御器（エアコントロー
ラ）、５はこの風量制御器４により風量調整されるファ
ン、６は装置１の開口部を開閉するフロントシャッタ、
８Ａ，８Ｂはそれぞれ装置１内及び装置１外であるクリ
ーンルーム７内に設けられたクリーンユニットである。
す説明図である。図１において１はウェーハに成膜処
理，酸化処理等の熱処理を行う半導体製造装置、例えば
縦型拡散・ＣＶＤ装置、２，３はそれぞれ該装置１内及
び装置１外であるクリーンルーム７内に設けられた圧力
センサ、４はこれらの圧力センサ２，３の検出圧力を入
力して風量を制御する風量制御器（エアコントロー
ラ）、５はこの風量制御器４により風量調整されるファ
ン、６は装置１の開口部を開閉するフロントシャッタ、
８Ａ，８Ｂはそれぞれ装置１内及び装置１外であるクリ
ーンルーム７内に設けられたクリーンユニットである。
【０００７】上記構成において縦型拡散・ＣＶＤ装置１
のフロントシャッタ６が閉状態で装置１内が密閉された
状態にある時、フロントシャッタ６を開いてウェーハの
搬入出を行う場合、図２に示すようにフロントシャッタ
６の開により装置１内のエアフローが変わり圧力が変わ
ってしまう。これを防止するため、装置１内とクリーン
ルーム７内にそれぞれ設けられた圧力センサ２，３によ
り装置１内の圧力及びルーム７内の圧力が測定される。
この各圧力が風量制御器４に入力されてその差圧が処理
され、フロントシャッタ６を開けた時等にクリーンユニ
ット８Ａ，８Ｂ及びファン５を動作させる電圧が変えら
れて風量が自動調整されることになる。
のフロントシャッタ６が閉状態で装置１内が密閉された
状態にある時、フロントシャッタ６を開いてウェーハの
搬入出を行う場合、図２に示すようにフロントシャッタ
６の開により装置１内のエアフローが変わり圧力が変わ
ってしまう。これを防止するため、装置１内とクリーン
ルーム７内にそれぞれ設けられた圧力センサ２，３によ
り装置１内の圧力及びルーム７内の圧力が測定される。
この各圧力が風量制御器４に入力されてその差圧が処理
され、フロントシャッタ６を開けた時等にクリーンユニ
ット８Ａ，８Ｂ及びファン５を動作させる電圧が変えら
れて風量が自動調整されることになる。
【０００８】例えば圧力センサ２，３の圧力に差が生
じ、圧力センサ２の圧力値が圧力センサ３の圧力値より
小さい場合、装置１内のクリーンユニット８Ａの風量が
減少され、ファン５の風量が増大され、一方、圧力セン
サ２の圧力値が圧力センサ３の圧力値より大きい場合、
装置１内のクリーンユニット８Ａの風量が増大され、フ
ァン５の風量が減少される。これによって装置１内の圧
力とルーム７内の圧力が等しく、即ち差圧が０になった
時、フロントシャッタ６が開けられることになる。
じ、圧力センサ２の圧力値が圧力センサ３の圧力値より
小さい場合、装置１内のクリーンユニット８Ａの風量が
減少され、ファン５の風量が増大され、一方、圧力セン
サ２の圧力値が圧力センサ３の圧力値より大きい場合、
装置１内のクリーンユニット８Ａの風量が増大され、フ
ァン５の風量が減少される。これによって装置１内の圧
力とルーム７内の圧力が等しく、即ち差圧が０になった
時、フロントシャッタ６が開けられることになる。
【０００９】上記本実施例によれば、装置１内の圧力と
クリーンルーム７内の圧力との差圧を圧力センサ２，３
で把握して、クリーンユニット８Ａ及びファン５の風量
を自動的に調整することにより、装置１内の圧力を一定
に保つことができ、装置１内を適正なエアフローに設定
したままにすることができる。また経済性として、クリ
ーンルーム７の環境が変化しても、自動調整する機能が
あるため、適正なエアフローに人が再調整する必要がな
くなるという効果を奏する。
クリーンルーム７内の圧力との差圧を圧力センサ２，３
で把握して、クリーンユニット８Ａ及びファン５の風量
を自動的に調整することにより、装置１内の圧力を一定
に保つことができ、装置１内を適正なエアフローに設定
したままにすることができる。また経済性として、クリ
ーンルーム７の環境が変化しても、自動調整する機能が
あるため、適正なエアフローに人が再調整する必要がな
くなるという効果を奏する。
【００１０】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、半導体製
造装置内の圧力を同一、もしくは所定の圧力差とするこ
とができ、パーティクルの巻き上げを防止することがで
きるばかりでなく、装置内を人為的に再調整することな
く適正なエアフローを得ることができる。
造装置内の圧力を同一、もしくは所定の圧力差とするこ
とができ、パーティクルの巻き上げを防止することがで
きるばかりでなく、装置内を人為的に再調整することな
く適正なエアフローを得ることができる。
【図１】本発明方法を実施する装置の１例を示す説明図
である。
である。
【図２】本発明の動作説明用フロー図である。
１ 半導体製造装置 ２ 圧力センサ ３ 圧力センサ ４ 風量制御器 ５ ファン ６ フロントシャッタ ７ クリーンルーム ８Ａ，８Ｂ クリーンユニット
Claims (1)
- 【請求項１】 半導体製造装置の内，外にそれぞれ圧力
センサを設け、これらの圧力センサの圧力値により前記
装置内に設けた風量制御器を制御し、前記装置内，外の
圧力を同一、もしくは所定の圧力差とすることを特徴と
する装置内外の差圧自動調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6187380A JPH0855769A (ja) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | 装置内外の差圧自動調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6187380A JPH0855769A (ja) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | 装置内外の差圧自動調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0855769A true JPH0855769A (ja) | 1996-02-27 |
Family
ID=16205005
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6187380A Pending JPH0855769A (ja) | 1994-08-09 | 1994-08-09 | 装置内外の差圧自動調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0855769A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000299265A (ja) * | 1999-04-03 | 2000-10-24 | Samsung Electronics Co Ltd | マイクロエレクトロニクス製造システムのクリーニング方法およびこれを用いたマイクロエレクトロニクス製造システム |
| WO2007005461A3 (en) * | 2005-07-04 | 2007-07-12 | Advanced Energy Ind Inc | Exhaust apparatus pressure control system |
| JP2010067992A (ja) * | 2003-06-02 | 2010-03-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板搬送方法 |
| CN104353133A (zh) * | 2014-08-12 | 2015-02-18 | 天津市同业科技发展有限公司 | 一种用于负压系统的自动调压控制器 |
-
1994
- 1994-08-09 JP JP6187380A patent/JPH0855769A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000299265A (ja) * | 1999-04-03 | 2000-10-24 | Samsung Electronics Co Ltd | マイクロエレクトロニクス製造システムのクリーニング方法およびこれを用いたマイクロエレクトロニクス製造システム |
| JP2010067992A (ja) * | 2003-06-02 | 2010-03-25 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板搬送方法 |
| WO2007005461A3 (en) * | 2005-07-04 | 2007-07-12 | Advanced Energy Ind Inc | Exhaust apparatus pressure control system |
| US7823604B2 (en) | 2005-07-04 | 2010-11-02 | Advanced Energy Industries, Inc. | Exhaust apparatus pressure control system |
| CN104353133A (zh) * | 2014-08-12 | 2015-02-18 | 天津市同业科技发展有限公司 | 一种用于负压系统的自动调压控制器 |
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