JPH0745492A - 真空チャンバの圧力制御装置 - Google Patents
真空チャンバの圧力制御装置Info
- Publication number
- JPH0745492A JPH0745492A JP20464893A JP20464893A JPH0745492A JP H0745492 A JPH0745492 A JP H0745492A JP 20464893 A JP20464893 A JP 20464893A JP 20464893 A JP20464893 A JP 20464893A JP H0745492 A JPH0745492 A JP H0745492A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure control
- vacuum chamber
- pressure
- valve
- exhaust
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】半導体製造装置の反応室等の真空チャンバの圧
力制御の制御範囲を拡大する。 【構成】真空チャンバ１と、該真空チャンバに接続され
た太さの異なる複数の排気管１２，１３，１４と、それ
ぞれの排気管に設けられた開閉バルブ１５，１６，１７
と、前記複数の排気管が接続された圧力制御バルブ７
と、圧力制御バルブの開度を検出する開度検出器１９
と、該開度検出器からの信号に応じて前記複数の開閉バ
ルブを開閉するバルブ制御器１８とを具備し、開閉バル
ブを適宜選択して、或は組合わせて開閉することで、排
気系のコンダクタンスを変更し、圧力制御バルブによる
圧力制御範囲を拡大する。
力制御の制御範囲を拡大する。 【構成】真空チャンバ１と、該真空チャンバに接続され
た太さの異なる複数の排気管１２，１３，１４と、それ
ぞれの排気管に設けられた開閉バルブ１５，１６，１７
と、前記複数の排気管が接続された圧力制御バルブ７
と、圧力制御バルブの開度を検出する開度検出器１９
と、該開度検出器からの信号に応じて前記複数の開閉バ
ルブを開閉するバルブ制御器１８とを具備し、開閉バル
ブを適宜選択して、或は組合わせて開閉することで、排
気系のコンダクタンスを変更し、圧力制御バルブによる
圧力制御範囲を拡大する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造装置の反応室
等の真空チャンバの圧力制御を行う真空チャンバの圧力
制御装置に関するものである。
等の真空チャンバの圧力制御を行う真空チャンバの圧力
制御装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体素子の製造工程でシリコンウェー
ハの表面、或はガラス基板の表面に薄膜を生成する等の
処理があり、斯かる処理は減圧下で反応ガスを供給して
行われ、反応中の反応室の圧力制御は製品品質に大きな
影響を及ぼす。
ハの表面、或はガラス基板の表面に薄膜を生成する等の
処理があり、斯かる処理は減圧下で反応ガスを供給して
行われ、反応中の反応室の圧力制御は製品品質に大きな
影響を及ぼす。
【０００３】従来の反応室の圧力制御装置について、図
２に於いて説明する。
２に於いて説明する。
【０００４】反応室を画成する真空チャンバ１にガス供
給ライン２、排気ライン３を連通し、前記ガス供給ライ
ン２には流量制御器４、エアバルブ５が設けられ、前記
排気ライン３にはエアバルブ６、圧力制御バルブ７、排
気ポンプ８が設けられている。又、前記真空チャンバ１
には圧力検出器９が設けられ、該圧力検出器９の検出結
果は圧力制御装置１０に入力され、該圧力制御装置１０
は前記圧力検出器９からの信号と圧力設定値１１との比
較で、前記真空チャンバ１内の圧力が前記圧力設定値と
合致する様、前記圧力制御バルブ７の開度を制御する。
給ライン２、排気ライン３を連通し、前記ガス供給ライ
ン２には流量制御器４、エアバルブ５が設けられ、前記
排気ライン３にはエアバルブ６、圧力制御バルブ７、排
気ポンプ８が設けられている。又、前記真空チャンバ１
には圧力検出器９が設けられ、該圧力検出器９の検出結
果は圧力制御装置１０に入力され、該圧力制御装置１０
は前記圧力検出器９からの信号と圧力設定値１１との比
較で、前記真空チャンバ１内の圧力が前記圧力設定値と
合致する様、前記圧力制御バルブ７の開度を制御する。
【０００５】尚、前記真空チャンバ１に供給するガスの
流量は手動で設定している。
流量は手動で設定している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記従来例では、圧力
制御を前記圧力制御バルブ７単体で行っている為、目的
の制御値とするには前記流量制御器４による供給流量、
前記排気ポンプ８による排気流量を前記圧力制御バルブ
７の制御範囲に適合する様に調整設定しなければならな
い。従って、制御範囲が狭いという問題があった。
制御を前記圧力制御バルブ７単体で行っている為、目的
の制御値とするには前記流量制御器４による供給流量、
前記排気ポンプ８による排気流量を前記圧力制御バルブ
７の制御範囲に適合する様に調整設定しなければならな
い。従って、制御範囲が狭いという問題があった。
【０００７】本発明は斯かる実情に鑑み、広範囲に亘る
圧力制御を可能にした半導体製造装置に於ける反応室等
の真空チャンバの圧力制御装置を提供しようとするもの
である。
圧力制御を可能にした半導体製造装置に於ける反応室等
の真空チャンバの圧力制御装置を提供しようとするもの
である。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、真空チャンバ
と、該真空チャンバに接続された太さの異なる複数の排
気管と、それぞれの排気管に設けられた開閉バルブと、
前記複数の排気管が接続された圧力制御バルブと、圧力
制御バルブの開度を検出する開度検出器と、該開度検出
器からの信号に応じて前記複数の開閉バルブを開閉する
バルブ制御器とを具備したことを特徴とするものであ
る。
と、該真空チャンバに接続された太さの異なる複数の排
気管と、それぞれの排気管に設けられた開閉バルブと、
前記複数の排気管が接続された圧力制御バルブと、圧力
制御バルブの開度を検出する開度検出器と、該開度検出
器からの信号に応じて前記複数の開閉バルブを開閉する
バルブ制御器とを具備したことを特徴とするものであ
る。
【０００９】
【作用】排気管に設けられた開閉バルブを適宜選択し
て、或は組合わせて開閉することで、排気系のコンダク
タンスを変更し、圧力制御バルブによる圧力制御範囲を
拡大する。
て、或は組合わせて開閉することで、排気系のコンダク
タンスを変更し、圧力制御バルブによる圧力制御範囲を
拡大する。
【００１０】
【実施例】以下、図面を参照しつつ本発明の一実施例を
説明する。
説明する。
【００１１】尚、図１に於いて図２中で示したものと同
一のものには同符号を付し、その説明を省略する。
一のものには同符号を付し、その説明を省略する。
【００１２】真空チャンバ１に太径の第１排気管１２、
中径の第２排気管１３、小径の第３排気管１４を接続
し、該第１排気管１２、中径の第２排気管１３、小径の
第３排気管１４を合流させて圧力制御バルブ７に接続
し、前記第１排気管１２にエアバルブ１５を設け、前記
第２排気管１３にエアバルブ１６を設け、第３排気管１
４にエアバルブ１７を設ける。
中径の第２排気管１３、小径の第３排気管１４を接続
し、該第１排気管１２、中径の第２排気管１３、小径の
第３排気管１４を合流させて圧力制御バルブ７に接続
し、前記第１排気管１２にエアバルブ１５を設け、前記
第２排気管１３にエアバルブ１６を設け、第３排気管１
４にエアバルブ１７を設ける。
【００１３】前記圧力制御バルブ７には該圧力制御バル
ブ７の開度を検出する開度検出器１９が設けられ、該開
度検出器１９は前記圧力制御バルブ７の開度信号をバル
ブ制御器１８に入力する。該バルブ制御器１８は入力さ
れた前記圧力制御バルブ７の開度状態に応じて前記エア
バルブ１５、エアバルブ１６、エアバルブ１７のいずれ
かを選択して開放する様になっている。
ブ７の開度を検出する開度検出器１９が設けられ、該開
度検出器１９は前記圧力制御バルブ７の開度信号をバル
ブ制御器１８に入力する。該バルブ制御器１８は入力さ
れた前記圧力制御バルブ７の開度状態に応じて前記エア
バルブ１５、エアバルブ１６、エアバルブ１７のいずれ
かを選択して開放する様になっている。
【００１４】以下、作動を説明する。
【００１５】先ず、真空チャンバ１を真空排気し、その
後ガスを供給して所定の圧力とする場合に、先ずエアバ
ルブ１５を開き、エアバルブ１６、エアバルブ１７を閉
じる。ガスの供給に伴い、真空チャンバ１内の圧力が上
昇し、前記開度検出器１９が前記圧力制御バルブ７の開
度が全開近くなったことを検出すると、前記バルブ制御
器１８は前記エアバルブ１５を閉じ、前記エアバルブ１
６を開く、同様に圧力が上昇し、再び圧力制御バルブ７
が全開近くなると前記エアバルブ１６が閉じられ、前記
エアバルブ１７が開かれる。
後ガスを供給して所定の圧力とする場合に、先ずエアバ
ルブ１５を開き、エアバルブ１６、エアバルブ１７を閉
じる。ガスの供給に伴い、真空チャンバ１内の圧力が上
昇し、前記開度検出器１９が前記圧力制御バルブ７の開
度が全開近くなったことを検出すると、前記バルブ制御
器１８は前記エアバルブ１５を閉じ、前記エアバルブ１
６を開く、同様に圧力が上昇し、再び圧力制御バルブ７
が全開近くなると前記エアバルブ１６が閉じられ、前記
エアバルブ１７が開かれる。
【００１６】而して、排気ライン３のコンダクタンスを
変化させることで圧力の制御範囲が拡大する。
変化させることで圧力の制御範囲が拡大する。
【００１７】尚、上記説明ではエアバルブ１５，１６，
１７のいずれかを選択して１つだけ開いたが、適宜組合
わせて開く様にすれば、更にきめ細かな圧力制御を行う
ことができると共に初期にエアバルブ１５，１６，１７
の全てを開放すれば排気効率を著しく高めることが可能
となる。又排気管、エアバルブの組数は上記３組に限ら
れるものではなく、２組或は４組以上であってもよい。
１７のいずれかを選択して１つだけ開いたが、適宜組合
わせて開く様にすれば、更にきめ細かな圧力制御を行う
ことができると共に初期にエアバルブ１５，１６，１７
の全てを開放すれば排気効率を著しく高めることが可能
となる。又排気管、エアバルブの組数は上記３組に限ら
れるものではなく、２組或は４組以上であってもよい。
【００１８】図３は真空チャンバ１の体積９．８ｌ、第
１排気管１２の管径を５４．９インチ、第２排気管１３
の管径を３／８インチ、第３排気管１４の管径を１／４
インチ、ガス供給量２０ＬＭ、排気ポンプ８の排気速度
９００ｌ／min 、到達圧力１０-3Torrとした場合の圧力
制御可能範囲を示すものである。
１排気管１２の管径を５４．９インチ、第２排気管１３
の管径を３／８インチ、第３排気管１４の管径を１／４
インチ、ガス供給量２０ＬＭ、排気ポンプ８の排気速度
９００ｌ／min 、到達圧力１０-3Torrとした場合の圧力
制御可能範囲を示すものである。
【００１９】図３中、曲線Ａは、エアバルブ１５のみ開
いた場合、曲線Ｂはエアバルブ１６のみを開いた場合、
曲線Ｃはエアバルブ１７のみを開いた場合を示す。図３
で分かる様に、総合的には０．４〜１００Torr迄の大き
な制御範囲が得られた。
いた場合、曲線Ｂはエアバルブ１６のみを開いた場合、
曲線Ｃはエアバルブ１７のみを開いた場合を示す。図３
で分かる様に、総合的には０．４〜１００Torr迄の大き
な制御範囲が得られた。
【００２０】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、排気ラ
インのコンダクタンスを変化させることが可能であるの
で、圧力制御バルブによる圧力制御範囲が大幅に増大す
る。
インのコンダクタンスを変化させることが可能であるの
で、圧力制御バルブによる圧力制御範囲が大幅に増大す
る。
【図１】本発明の一実施例を示す系統説明図である。
【図２】従来例を示す系統説明図である。
【図３】本発明の制御範囲の一例を示す線図である。
１ 真空チャンバ ３ 排気ライン ７ 圧力制御バルブ １２ 第１排気管 １３ 第２排気管 １４ 第３排気管 １５ エアバルブ １６ エアバルブ １７ エアバルブ １８ バルブ制御器 １９ 開度検出器
Claims (1)
- 【請求項１】 真空チャンバと、該真空チャンバに接続
された太さの異なる複数の排気管と、それぞれの排気管
に設けられた開閉バルブと、前記複数の排気管が接続さ
れた圧力制御バルブと、圧力制御バルブの開度を検出す
る開度検出器と、該開度検出器からの信号に応じて前記
複数の開閉バルブを開閉するバルブ制御器とを具備した
ことを特徴とする真空チャンバの圧力制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20464893A JPH0745492A (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 真空チャンバの圧力制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20464893A JPH0745492A (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 真空チャンバの圧力制御装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0745492A true JPH0745492A (ja) | 1995-02-14 |
Family
ID=16493968
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20464893A Pending JPH0745492A (ja) | 1993-07-27 | 1993-07-27 | 真空チャンバの圧力制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0745492A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014207353A (ja) * | 2013-04-15 | 2014-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空装置及びバルブ制御方法 |
| KR20150114630A (ko) * | 2014-04-01 | 2015-10-13 | 피에스케이 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
| WO2022157986A1 (ja) | 2021-01-25 | 2022-07-28 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、圧力制御装置及び基板処理プログラム |
-
1993
- 1993-07-27 JP JP20464893A patent/JPH0745492A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014207353A (ja) * | 2013-04-15 | 2014-10-30 | 東京エレクトロン株式会社 | 真空装置及びバルブ制御方法 |
| TWI619166B (zh) * | 2013-04-15 | 2018-03-21 | Tokyo Electron Ltd | Vacuum device and valve control method |
| KR20150114630A (ko) * | 2014-04-01 | 2015-10-13 | 피에스케이 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
| CN104979241A (zh) * | 2014-04-01 | 2015-10-14 | Psk有限公司 | 基板处理装置及基板处理方法 |
| WO2022157986A1 (ja) | 2021-01-25 | 2022-07-28 | 株式会社Kokusai Electric | 基板処理装置、半導体装置の製造方法、圧力制御装置及び基板処理プログラム |
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