JPH02247846A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH02247846A JPH02247846A JP6881789A JP6881789A JPH02247846A JP H02247846 A JPH02247846 A JP H02247846A JP 6881789 A JP6881789 A JP 6881789A JP 6881789 A JP6881789 A JP 6881789A JP H02247846 A JPH02247846 A JP H02247846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- magneto
- optical disk
- recording
- magnetization
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 claims abstract description 45
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract description 28
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 12
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 4
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052689 Holmium Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
光磁気ディスク媒体に関し。
磁化の反転エネルギーを下げて記録感度を向上させ、デ
ィスクの高速回転に対応できるようにすることを目的と
し。
ィスクの高速回転に対応できるようにすることを目的と
し。
レーザ光線によってデータの記録および再生を行う磁気
光学記録装置に用いる。垂直磁化膜を記録膜とする光磁
気ディスク媒体において、垂直磁化膜の上地および／ま
たは下地に非磁性金属元素を添加した面内磁化膜を形成
するように構成する。
光学記録装置に用いる。垂直磁化膜を記録膜とする光磁
気ディスク媒体において、垂直磁化膜の上地および／ま
たは下地に非磁性金属元素を添加した面内磁化膜を形成
するように構成する。
（産業上の利用分野）
本発明は、光磁気ディスク媒体、特に、レーザ光線によ
ってデータの記録および再生を行う磁気光学記録装置に
用いる。垂直磁化膜を記録膜とする光磁気ディスク媒体
に関する。
ってデータの記録および再生を行う磁気光学記録装置に
用いる。垂直磁化膜を記録膜とする光磁気ディスク媒体
に関する。
光磁気ディスクにおいては、メモリとしての応用分野を
拡大するために、データの転送速度を向上させることが
重要である。
拡大するために、データの転送速度を向上させることが
重要である。
このため、光磁気ディスクを高速回転させても。
小さなレーザ・パワーで記録することができるように、
光磁気ディスク媒体そのものの記録感度を向上させるこ
とが要望されている。
光磁気ディスク媒体そのものの記録感度を向上させるこ
とが要望されている。
第５図は、従来の光磁気ディスク媒体の例を示す図であ
る。
る。
同図において、２１は透明基板、２２は上面保護膜、２
３は下面保護膜、２４は垂直磁化膜である。
３は下面保護膜、２４は垂直磁化膜である。
上面保護膜２２および下面保護１１４２３は９例えば、
厚さ約１１００ｎのＴｂ−３１０，膜からなる。
厚さ約１１００ｎのＴｂ−３１０，膜からなる。
垂直磁化膜２４は、厚さ約１１００ｎの稀土類−遷移金
属アモルファス合金からなる記録膜である。稀土類とし
ては、 Ｔｂ、 Ｇｄ、 Ｈｏなどが用いられ。
属アモルファス合金からなる記録膜である。稀土類とし
ては、 Ｔｂ、 Ｇｄ、 Ｈｏなどが用いられ。
遷移金属としては、 Ｐｅ、 Ｃｏなどが用いられる。
従来の光磁気ディスク媒体では、記録膜としての垂直磁
化膜２４は、上述の稀土類および遷移金属からなる２例
えば、 ＴｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴｂＦｅＣｏなどのアモ
ルファス合金で形成していた。
化膜２４は、上述の稀土類および遷移金属からなる２例
えば、 ＴｂＦｅＣｏ、 ＧｄＴｂＦｅＣｏなどのアモ
ルファス合金で形成していた。
しかしながら、記録膜としての垂直磁化膜２４をＴｂＰ
ｅＣｏ、 ＧｄＴｂＦｅＣｏなどのアモルファス合金で
形成した場合、光磁気ディスクを３６００ｒｐｍという
高速回転で使用すると、データの記録に、約！５ｍＷと
いう高いレーザ・パワーが必要となる。
ｅＣｏ、 ＧｄＴｂＦｅＣｏなどのアモルファス合金で
形成した場合、光磁気ディスクを３６００ｒｐｍという
高速回転で使用すると、データの記録に、約！５ｍＷと
いう高いレーザ・パワーが必要となる。
このパワーは、半導体レーザのパワーを遥かに超えてし
まい、実用性に欠ける。
まい、実用性に欠ける。
〔発明が解決しようとする課題］
従来の光磁気ディスク媒体は、データの記録に過大なレ
ーザ・パワーを必要とするため、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等の
大きなレーザ源を使わなければならず。
ーザ・パワーを必要とするため、Ｈｅ−Ｎｅレーザ等の
大きなレーザ源を使わなければならず。
装置も大型化し、コストも高くなる。という問題があっ
た。
た。
本発明は、磁化の反転エネルギーを下げて記録感度を向
上させ、ディスクの高速回転に対応できるようにした光
磁気ディスク媒体を提供することを目的とする。
上させ、ディスクの高速回転に対応できるようにした光
磁気ディスク媒体を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段］
上記の目的を達成するために３本発明に係る光磁気ディ
スク媒体は、レーザ光線によってデータの記録および再
生を行う磁気光学記録装置に用いる。垂直磁化膜を記録
膜とする光磁気ディスク媒体において、垂直磁化膜の上
地および／または下地に非磁性金属元素を添加した面内
磁化膜を形成するように構成する。
スク媒体は、レーザ光線によってデータの記録および再
生を行う磁気光学記録装置に用いる。垂直磁化膜を記録
膜とする光磁気ディスク媒体において、垂直磁化膜の上
地および／または下地に非磁性金属元素を添加した面内
磁化膜を形成するように構成する。
本発明に係る光磁気ディスク媒体は、膜面に垂直の方向
に磁気異方性を有する。記録膜としての垂直磁化膜の上
地および／または下地に非磁性金属元素を添加した面内
磁化膜を形成しているので。
に磁気異方性を有する。記録膜としての垂直磁化膜の上
地および／または下地に非磁性金属元素を添加した面内
磁化膜を形成しているので。
磁化の反転エネルギーを減少させることができる。
この結果、データの記録に使用するレーザ・パワーを小
さくすることができるので１通常用いられている１８０
０ｒｐｍ対応の半導体レーザと同程度のパワーでデータ
の記録を行うことが可能となる。
さくすることができるので１通常用いられている１８０
０ｒｐｍ対応の半導体レーザと同程度のパワーでデータ
の記録を行うことが可能となる。
すなわち２本発明に係る光磁気ディスク媒体によれば、
記録感度を向上させることができる。
記録感度を向上させることができる。
［実施例］
［第１の実施例］
第１図は、本発明の第１の実施例に係る光磁気ディスク
媒体を示す図である。
媒体を示す図である。
、同図において、１は透明基板、２は上面保護膜。
３は下面保護膜、４は垂直磁化膜、５は上地面内磁化膜
である。
である。
透明基板１は、ガラス５プラスチツクなどからなり、ト
ラッキング・ガイド部１例えば、ガイド用溝がホトポリ
マー法などで形成されている。
ラッキング・ガイド部１例えば、ガイド用溝がホトポリ
マー法などで形成されている。
上面保護膜２台よび下面保護膜３には、厚さ約１１００
ｎのＴｂ ５ｉＯｚ複合膜を用いる。
ｎのＴｂ ５ｉＯｚ複合膜を用いる。
記録膜としての垂直磁化膜４には、厚さ約１１００ｎの
稀土類−遷移金属アモルファス合金であるＴｂＦｅＣｏ
を使用する。
稀土類−遷移金属アモルファス合金であるＴｂＦｅＣｏ
を使用する。
上地面内磁化膜５は、厚さ約２０ｎｍで、垂直磁化膜４
と上面保護膜２の間に設けられ、＋４土頻−遷移金属ア
モルファス合金であるＴｂＦｅＣｏに、非磁性金属であ
るＢｉを添加した。 ＴｂＦｅＣｏ−Ｂ１が使用される
。
と上面保護膜２の間に設けられ、＋４土頻−遷移金属ア
モルファス合金であるＴｂＦｅＣｏに、非磁性金属であ
るＢｉを添加した。 ＴｂＦｅＣｏ−Ｂ１が使用される
。
次に１本実施例に係る光磁気ディスク媒体の製造方法を
説明する。
説明する。
各膜は、マグネトロン・スパッタにより、成１模する。
スパッタは、ＲＦ、ＤＣのいずれを用いててもよい。
以下、各工程を説明する。
■透明基板ｌ上に、厚さ１１００ｎのＴｂ−ＳｉＯｘ複
合膜を成膜して、下面保護膜３を形成する゛。
合膜を成膜して、下面保護膜３を形成する゛。
■厚さ１０ Ｑ ｎｍのＴｂＦｅＣｏを成膜して、記録
膜としての垂直磁化膜４を形成する。
膜としての垂直磁化膜４を形成する。
■厚さ２０ｎｍのＴｂＦｅＣｏ−Ｂ１を成膜して、上地
面内磁化１ｇ１５を形成する。
面内磁化１ｇ１５を形成する。
■厚さ１１００ｎのＴｂ−５ｉＯ□複合膜を成膜し７て
。
。
上面保護膜２を形成する。
［第２の実施例］
第２図は１本発明の第２の実施例に係る光磁気ディスク
媒体を示す図である。
媒体を示す図である。
同図において、６は透明基板、７は上面保護膜。
８は下面保護膜、９は垂直磁化膜、１０は下地面内磁化
膜である。
膜である。
透明基板６ば、ガラス、プラスチックなどからなり、ト
ラッキング・ガイド部１例えば、ガイド用溝がホトポリ
マー法などで形成されている。
ラッキング・ガイド部１例えば、ガイド用溝がホトポリ
マー法などで形成されている。
上面保ａＩ膜７および下面保護膜８には、厚さ約１１０
０ｎのＴｂ−３ＬＯ，複合膜を用いる。
０ｎのＴｂ−３ＬＯ，複合膜を用いる。
記録膜としての垂直磁化膜９には、厚さ約１１００ｎの
稀土類−遷移金属アモルファス合金であるＴｂＦｅＣｏ
を使用する。
稀土類−遷移金属アモルファス合金であるＴｂＦｅＣｏ
を使用する。
下地面内磁化１１９１０は、Ｗ−さ約２０ｎｍで、垂直
磁化膜９と下面保護膜８の間に設けられ、稀土類−遷移
金属アモルファス合金であるＴｂＦｅＣｏに。
磁化膜９と下面保護膜８の間に設けられ、稀土類−遷移
金属アモルファス合金であるＴｂＦｅＣｏに。
非磁性金属であるＢｉを添加した。 ＴｂＦｅＣｏ−Ｂ
１が使用される。
１が使用される。
次に１本実施例に係る光６■気ディスク媒体の製造方法
を説明する。
を説明する。
各膜は、マグネトロン・スパッタにより、成膜する。ス
パッタは、ＲＦ、ＤＣのいずれを用いててもよい。
パッタは、ＲＦ、ＤＣのいずれを用いててもよい。
以下、各工程を説明する。
■透明基板６上に、厚さ１１００ｎのＴｂ ＳｉＯｘ
複合膜を成膜して、下面保護膜８を形成する。
複合膜を成膜して、下面保護膜８を形成する。
■厚さ２０ｎｍのＴｂＦｅＣｏ−Ｂ＋を成膜して、下地
面内磁化膜１０を形成する。
面内磁化膜１０を形成する。
■厚さ１１００ｎのＴｂＦｅＣｏを成膜して、記録膜と
しての垂直磁化膜９を形成する。
しての垂直磁化膜９を形成する。
■厚さ１１００ｎのＴｂ ５ｉＯｚ？Ｊ１合膜を成膜
して、上面保護膜７を形成する。
して、上面保護膜７を形成する。
［第３の実施例］
第３図は１本発明の第３の実施例に係る光磁気ディスク
媒体を示す図である。
媒体を示す図である。
同図において、１１は透明基板、１２は上面保護膜、１
３は下面保護膜、１４は垂直磁化膜、１５は上地面内磁
化膜、１６は下地面内磁化膜である。
３は下面保護膜、１４は垂直磁化膜、１５は上地面内磁
化膜、１６は下地面内磁化膜である。
透明基板１１は、ガラス、プラスチックなどからなり、
トラッキング・ガイド部２例えば、ガイド用溝がホトポ
リマー法などで形成されている。
トラッキング・ガイド部２例えば、ガイド用溝がホトポ
リマー法などで形成されている。
上面保護膜１２および下面保護膜１３には、厚さ約１１
００ｎのＴｂ ＳｉＯ□複合膜を用いる。
００ｎのＴｂ ＳｉＯ□複合膜を用いる。
記録膜としての垂直磁化膜１４には、厚さ約１１００ｎ
の稀土類−遷移金属アモルファス合金であるＴｂＦｓＣ
ｏを使用する。
の稀土類−遷移金属アモルファス合金であるＴｂＦｓＣ
ｏを使用する。
上地面内磁化膜１５および下地面内磁化膜１６は１両者
共厚さ約２０ｎｍで、垂直磁化膜１４と上面保護膜１２
との間、および、垂直磁化膜１４と下面保護膜１３との
間に設けられ、稀土類−遷移金属アモルファス合金であ
るＴｂＦｅＣｏに、非磁性金属であるＢｉを添加した。
共厚さ約２０ｎｍで、垂直磁化膜１４と上面保護膜１２
との間、および、垂直磁化膜１４と下面保護膜１３との
間に設けられ、稀土類−遷移金属アモルファス合金であ
るＴｂＦｅＣｏに、非磁性金属であるＢｉを添加した。
ＴｂＦｅＣｏ−Ｂ１が使用される。
次に１本実施例に係る光磁気ディスク媒体の製造方法を
説明する。
説明する。
各膜は、マグネトロン・スパッタにより、成１１りする
。スパッタは、ＲＦ、ＤＣのいずれを用いでてもよい。
。スパッタは、ＲＦ、ＤＣのいずれを用いでてもよい。
以下５各工程を説明する。
■透明基板１１上に、厚さ１１００ｎのＴｂ−３ｉＯ□
複合膜を成膜して、下面保護膜１３を形成する。
複合膜を成膜して、下面保護膜１３を形成する。
■厚さ２０ｎｍのＴｂＦｅＣｏ −Ｂ ｉを成膜して、
下地面内磁化膜１６を形成する。
下地面内磁化膜１６を形成する。
■厚さ１１００ｎのＴｂＦｅＣｏを成膜して、記録膜と
しての垂直磁化１１４を形成する。
しての垂直磁化１１４を形成する。
■厚さ２０ｎｍのＴｂＦｅＣｏ−Ｂ１を成膜して、上地
面内磁化膜１５を形成する。
面内磁化膜１５を形成する。
■厚さ１１００ｎのＴｂ Ｓｉｎｇ複合膜を成膜シテ
。
。
上面保護膜１２を形成する。
［計測結果〕
以上に説明した。第１．第２および第３の実施例に係る
光磁気ディスク媒体を３６０Ｏｒｐｍで回転させた場合
のキュリー温度に対する最適記録パワー（感度）を計測
した結果を第４図に示す。
光磁気ディスク媒体を３６０Ｏｒｐｍで回転させた場合
のキュリー温度に対する最適記録パワー（感度）を計測
した結果を第４図に示す。
（キュリー温度は、 ＴｂＰｅＣｏのＣｏｉを変化させ
ることによって得た。） 第４図において、Ｏ印が本発明に係る光磁気ディスク媒
体の計測値である。比較のために、従来の光磁気ディス
ク媒体の計測値を・印で示した。
ることによって得た。） 第４図において、Ｏ印が本発明に係る光磁気ディスク媒
体の計測値である。比較のために、従来の光磁気ディス
ク媒体の計測値を・印で示した。
同図から１本発明によると、従来例に比して。
最適記録パワーを格段に低くできることがわかる。
［変形例］
第１．第２および第３の実施例では、記録膜としての垂
直磁化膜として、 ＴｂＦｅＣｏ膜を用いたが。
直磁化膜として、 ＴｂＦｅＣｏ膜を用いたが。
これに限らず、 ＤｙＦｅＣｏ等の積上類−遷移金属ア
モルファス合金を使用することができる。
モルファス合金を使用することができる。
また１面内磁化膜として、積上類−遷移金属アモルファ
ス合金に旧を添加した例を示したが、 Ｂｉ以外に、
ＡＩ、 Ｃｕ等の非磁性金属を用いることができる。
ス合金に旧を添加した例を示したが、 Ｂｉ以外に、
ＡＩ、 Ｃｕ等の非磁性金属を用いることができる。
さらに、保護膜として、Ｔｂ−５ｉＯ□複合膜を使用し
た例を示したが、ＳｉＮ、／ＶＮ等を用いることができ
る。
た例を示したが、ＳｉＮ、／ＶＮ等を用いることができ
る。
本発明に係る光磁気ディスク媒体では、記録膜としての
垂直磁化膜の上地および／または下地に非磁性金属元素
を添加した面内磁化膜を形成しているので、ｔｔｔ化の
反転エネルギーを下げて記録感度を向上させることがで
き、光磁気ディスクの高速回転に対応することが可能と
なる。
垂直磁化膜の上地および／または下地に非磁性金属元素
を添加した面内磁化膜を形成しているので、ｔｔｔ化の
反転エネルギーを下げて記録感度を向上させることがで
き、光磁気ディスクの高速回転に対応することが可能と
なる。
第１図は第１の実施例を示す図。
第２図は第２の実施例を示す図。
第３図は第３の実施例を示す図。
第４図はキュリー温度と最適記録パワーとの関係を示す
図。 第５図は従来例を示す図 である。 第１図〜第３図において １、 ６．１１：透明基板 ２、 ７，１２：上面保護膜 ３、 ｓ、ｔ３：下面像ｆｌｌＦＪ４、 ９，１
４７垂直磁化膜 ５、 ｔ５：上地面内磁化膜 １０、 １６：下地面内磁化膜 第１図
図。 第５図は従来例を示す図 である。 第１図〜第３図において １、 ６．１１：透明基板 ２、 ７，１２：上面保護膜 ３、 ｓ、ｔ３：下面像ｆｌｌＦＪ４、 ９，１
４７垂直磁化膜 ５、 ｔ５：上地面内磁化膜 １０、 １６：下地面内磁化膜 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザ光線によってデータの記録および再生を行う磁気
光学記録装置に用いる、垂直磁化膜（４、９、１４）を
記録膜とする光磁気ディスク媒体において、 垂直磁化膜（４、９、１４）の上地および／または下地
に非磁性金属元素を添加した面内磁化膜（５、１０、１
５、１６）を形成した ことを特徴とする光磁気ディスク媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1068817A JP2953705B2 (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1068817A JP2953705B2 (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 光磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02247846A true JPH02247846A (ja) | 1990-10-03 |
| JP2953705B2 JP2953705B2 (ja) | 1999-09-27 |
Family
ID=13384645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1068817A Expired - Fee Related JP2953705B2 (ja) | 1989-03-20 | 1989-03-20 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2953705B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05120745A (ja) * | 1991-10-24 | 1993-05-18 | Sharp Corp | 光磁気メモリー素子 |
| EP0632437A2 (en) * | 1993-07-02 | 1995-01-04 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231935A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-18 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61188762A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61188758A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Canon Inc | 光磁気記録方式 |
| JPS63241739A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-07 | Fujitsu Ltd | 光磁気デイスク |
-
1989
- 1989-03-20 JP JP1068817A patent/JP2953705B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60231935A (ja) * | 1984-05-01 | 1985-11-18 | Ricoh Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61188762A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 光磁気記録媒体 |
| JPS61188758A (ja) * | 1985-02-18 | 1986-08-22 | Canon Inc | 光磁気記録方式 |
| JPS63241739A (ja) * | 1987-03-27 | 1988-10-07 | Fujitsu Ltd | 光磁気デイスク |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05120745A (ja) * | 1991-10-24 | 1993-05-18 | Sharp Corp | 光磁気メモリー素子 |
| EP0632437A2 (en) * | 1993-07-02 | 1995-01-04 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
| EP0632437A3 (en) * | 1993-07-02 | 1995-04-26 | Teijin Ltd | Magneto-optical recording medium. |
| US5665468A (en) * | 1993-07-02 | 1997-09-09 | Teijin Limited | Magneto-optical recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2953705B2 (ja) | 1999-09-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS61117747A (ja) | ２層膜光磁気記録媒体 | |
| US5862105A (en) | Information recording method capable of verifying recorded information simultaneously with recording, and magneto-optical recording medium used in the method | |
| JPH0684212A (ja) | 光磁気メモリー素子 | |
| JP3477384B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP3585671B2 (ja) | 光磁気記録媒体及びその再生方法 | |
| JP2703587B2 (ja) | 光磁気記録媒体および記録方法 | |
| JPH02247846A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH01143042A (ja) | 光磁気記録媒体の信号再生方法 | |
| JPH01124131A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP3208275B2 (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2001222843A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPH0528555A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2674275B2 (ja) | 光磁気記録媒体および光磁気記録方法 | |
| JPH11312342A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2778526B2 (ja) | 光磁気記録媒体およびその記録再生方法 | |
| JP4471060B2 (ja) | 光磁気ディスク | |
| JPH07254179A (ja) | 光磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JP2705066B2 (ja) | 光熱磁気記録媒体 | |
| JP3000385B2 (ja) | 光磁気記録方法 | |
| JP2004185718A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JPS63239636A (ja) | 光磁気記録媒体及び光磁気記録方法 | |
| JPS61117748A (ja) | 光磁気デイスク | |
| JPH0478039A (ja) | 光磁気記録媒体 | |
| JP2000242983A (ja) | 光磁気記録媒体とその製造方法 | |
| JPH11167753A (ja) | 光学式情報記録媒体及びフォーマット方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |