JPH0224321A - 熱可塑性樹脂として加工できる芳香族コポリエーテルアミド、その製造方法およびそれを成形体の製造に用いる方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の利用分野１ 本発明は、熱可塑性樹脂として加工できる芳香族コポリ
エーテルアミド、それを低温溶解−１界面−または溶融
縮合によりて製造すること、それから製造される成形品
、例えば成形体、フィルム、線状物およびフィラメント
並びに可能な用途に関する。本発明の成形体は優れた性
質を有し、容易に入手できる単量体で製造することがで
きそして問題なく熱可塑性樹脂として加工あるいは成形
され得る。性質に関しては、特に良好な機械的性質、特
に高い初期モジュール、高いガラス転移温度およびそれ
故に優れた熱安定性が有利であると考えられる。

［従来技術ｌ 芳香族ポリアミドは、その優れた熱的、化学的および機
械的性質に付いて知られている。

主としてｐ−位で結合したホモポリマー、例えばｐ−フ
ェニレンジアミン（ＰＰＤ）　とテレフラロイルジクロ
ライド（ＴＰＣ）より成るポリ−ｐ−フェニレン−テレ
フタルアミド（ＰＰＴＡ）は、確かに非常に良好な機械
的性質を示すが、その融点以前で分解しそして有機溶剤
に僅かしか溶解しないので濃硫酸（二段階法、腐食問題
）で−加工しなければならない（ドイツ特許出願公開第
２．２１９゜７０３号明細書）。原因はこのポリマーの
非常に強固な構造にある。

救済手段は先ず最初にＰＰＴＡを基礎とするコポリマー
が提供している。この場合確かに有機溶剤中での加工は
可撓性の基を組み入れることによってできるが、このポ
リマーはＰＰＴＡと同様に融点以下で未だ分解する。こ
の場合に用いられるコモノマーとして、例えば３，４゛
−ジアミノジフェニルエーテル（３，４°−０ＤＡ）あ
るいは１．４−ビス−（４゛−アミノフェノキシ）ベン
ゼン（ＢＡＰＯＢ）が使用される（ヨーロッパ特許出願
公告第０４５．９３４号公報あるいはヨーロンバ特許出
願公開第１９９．０９０号公報）。か−るコポリアミド
、例えば３．４’−０ＤＡを含有するポリマーについて
プレス加工する試みでは成形体が得られるが、熱可塑的
加工または続いての成形の慣用の方法を用いることがで
きない（特開昭６１−２６４．０２２号公報）。

トフェニレンジアミン（ＭＰＤ）およびイソフタロイル
−ジクロライド（ＩＰＣ）より成る系に変えることが更
に高い溶解性のポリマーをもたらすが、この場合も分解
が未だ融点以下で生ずる（米国特許第３．０６３．９６
６号明細書）。この芳香族ポリアミドのプレス成形は、
上記と同じ欠点を持つ成形体をもたらし、更にその機械
的性質は比較的低いレベルにある（ヨーロッパ特許出願
公開第１９８．１６７号公報および同第２００．４７２
号公報）。

更に可撓性の成分を組入れるだけで溶融可能なポリアラ
ミド類がもたらされる。この場合の問題は、熱可塑性樹
脂としての加工性□即ち、必要とされる加工温度と分解
温度との間の範囲が狭いこと□となお良好な機械的性質
との間の狭い許容範囲にある。何故ならば、初期モジュ
ールの高い値は出来るだけ強固なポリマー構造、要する
にできるだけｐ−位結合であることに基づいているから
である。更に、脂肪族基の組入れが熱安定性の悪化をも
たらすので、必要な熱安定性が主として芳香族成分を用
いるという限定を付している（米国特許第４，０７２，
６６５号明細書および同第４，０８７，４８１号明細書
）。

芳香族ポリエーテルアミドの製造にしばしば用いられる
主として芳香族で、比較的可撓性で且つ容易に入手し得
るモノマーは、２，２−ビス＝（４゛−アミノフェノキ
シフェニル）−プロパン（ＢＡＰ）である。このものは
工業的に大規模に製造できる生成物のビスフェノール−
Ａとｐ−クロロニトロベンゼンとから有利に合成される
。

ＩＰＣとＲＡＰとを基礎とする溶融性ポリエーテルアミ
ドも公知である（米国特許第３．５０５．２８８号明細
書、実施例３および４）。ｍ−構造の割合が多いことお
よび相応して機械的性質、特に初期モジュールが比較的
低いこと力（欠点として判っている。ＴＰＣとＢＡＰと
のポリマー（実施例５）は熔融せず３５０″Ｃの分解温
度すると記載されている。

ポリエーテルアミド類の溶融性および機械的性質に関す
る改善は、エーテル基を持つ芳香族ジアミンとジカルボ
ン酸ジハロゲニドを含有する芳香族ジアミンとの組み合
わせより成るポリマーによって達成される（　ドイツ特
許出願公開第２，６３６．３７９号明細書）。特別な実
施例はＢＡＰ／ＭＰＤとＩＰＣを用いることを説明して
いる。

ＩＰＣとＲＡＰ／ＭＰＤ−混合物とより成るポリマーも
刊行物から公知である（米国特許第４，４１０．６８４
号明細書）。この場合には、大部分が−即ち５０モルχ
より多い□ＭＰＤである組成が開示されている。ＴＰＯ
に関してこの刊行物では全く言及されていない。

最後に挙げた二つの刊行物の構想は、低いガラス転移温
度および初期モジュールをもたらすｍ−構造を組入れる
ことあるいはト構造を用いることを基礎としている。こ
の場合も、ＴＰＣを用いることが特に価値ある性質を持
つコポリエーテルアミドをもたらすことは知ることがで
きない。

［発明が解決しようとする課題］ 本発明の課題は、高い機械的性質を示す熱可塑性樹脂と
して加工できる芳香族コポリエーテルアミドを開発する
ことである。特に、これは初期モジュールおよび高いガ
ラス転移温度に関する。即ち、優れた温度安定性を可能
とするべきである。

［発明の構成１ 本発明は、熱可塑性樹脂として加工できる芳香族コポリ
エーテルアミドにおいて、構造が下記式 ％式％（） ［式中、Ａｒ’　は炭素原子数６の二価の無置換の又は
置換された芳香族残基を意味し、但し該残基がｐ−位で
結合しており、 Ｘは２，２−プロピリデン結合でありそしてＡｒ２はＡ
ｒ’又はｍ−位で結合しているＡｒ’　と同じであるか
または基−Ａｒ’−Ｚ−Ａｒ’−であり、但しＺは直接
的結合又は残基−ＣＨ２−１−Ｃ（ＣＨｚ）　ｚ−−Ｓ
Ｏ□−−ＣＯ−１−０−−Ｃ１ｌ＝ＣＩ−−Ｃｏ−ＮＨ
又は−０−Ａｒ’−０−並びに下記残基（式中、Ｒは水
素原子又は炭素原子数１〜４の分岐した又は非分岐のア
ルキル基である。）である。１ で表される繰り返し単位より成り、単位（＾）の割合お
よび単位（Ｂ）と（Ｃ）との合計の割合がそれぞれ１０
０モルχと成り、但し単位（Ｃ）の割合が５０モルχま
ででありそして、２が−ＳＯ□−である場合には７５モ
ルχまででありそしてコポリエーテルアミドのシュタウ
ディンガー指数［η１が５０〜１０００ｃｍ３７ｇであ
りそしてガラス転移温度が２００°Ｃ以上であることを
特徴とする、上記芳香族コポリエーテルアミドに関する
。

Ｃ成分の割合は好ましくは２５モルχまででありそして
２が−５（ｈ−の場合には好ましくは５０モルχまでで
ある。

コポリマーは、一般的な縮合技術、例えば低温溶液−１
固体−１界面−または溶融縮合によって製造できる。

驚くべきことに、この芳香族コポリエーテルアミドは、
例えば成形体へのプレス成形、押出成形または射出成形
によって良好に熱可塑性樹脂と同様に加工でき、予期で
きなかった高い性質レベルを有している。成形体、例え
ばフィルムおよび線状物への加工は勿論、溶融法によっ
て特に有利に実施できるが、溶解法によってもフィルム
、フィラメントおよび線状物を得ることができる。

本発明のコポリエーテルアミドの製造に用いるには、以
下の化合物が適している： 下記式のジカルボン酸誘導体： Ｗ−Ｃｏ−Ａｒ’−ＧＯ−Ｗ　　　　　　　　（Ａ’）
［式中、Ａｒ’　は上述の二価の基であり、−は選択さ
れる縮合性次第で、ハロゲン原子、殊に塩素原子、又は
−〇Ｈ基または−ＯＲ基−但し、Ｒはアルキル基中炭素
原子数１〜４の分岐状または非分岐状脂肪族基であるー
または芳香族基である。１ 例えば、テレフタロイル−ジクロライド、２−クロロ−
テレフタロイル−ジクロライド、テレフタル酸またはジ
フェニルテレフタラート。

下記式の適する芳香族ジアミン： Ｎｔｈ−Ａｒ’−０−Ａｒ’−Ｘ−＾ｒ’−０−Ａｒ’
−Ｎｌｈ　　（Ｂ’）［式中、−Ａｒ’および−Ｘは上
述の意味を有する。１としては、２．２−ビス−（４゛
−アミノフェノキシフェニル）−プロパンが特に適して
いる。

下記式の適する芳香族ジアミン： ＮＨｇ−Ａｒ”−ＮＨＩ　　　　　　　　　　　（Ｃ’
　）１式中、−Ａｒ”は上述の意味を有する。ｌとして
は、例えば２．４−ジクロロ−ｐ−フェニレンジアミン
、５−第三−ブチルートフェニレンジアミン、３．３゛
−ジメトキシベンジジン、３，３゛−ジクロロベンジジ
ン、４，４°−ジアミノジフェニルエーテル、４．４’
−ジアミノジフェニルケトン、１．４−ビス−（４′−
アミノフェノキシ）−ベンゼンまたは２．７−ジアミツ
ー３．６−シメチルージベンゾチオフエンーＳ、Ｓ−ジ
オキシド、殊にｐ−フェニレンジアミン、ｌ−フェニレ
ンジアミン、３．３”−ジメチルベンジジン、４．４’
−ジアミノジフェニルメタンまたは４．４−ジアミノジ
フェニルスルホンが適している。

縮合は通例の低温溶解法によって実施するのが有利であ
る。

芳香族ジカルボン酸ジクロライドと芳香族ジアミンとの
溶液縮合は、アミドタイプの非プロトン性の極性溶剤、
例えばＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミドまたは特にＮ−メ
チル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）中で行う。場合によっ
てはこの溶剤に公知法のように、溶解性を向上させる為
あるいはポリエーテルアミド溶液の安定化の為に周期律
表の第−族および／または第二族のハロゲン化塩を添加
してもよい。特に有利な添加物は塩化カルシウムおよび
／または塩化リチウムである。

上記の芳香族コポリエーテルアミドは、既に、アミドタ
イプの上記の溶剤への高い溶解性に特徴があり、それ故
に縮合反応を上記塩の添加なしに特に有利に行える。原
料化合物の一方の（Ａ’）ともう一方の（Ｂ゛）および
（Ｃ″）とは一般に等モル比で使用する。一般にジカル
ボン酸ジクロライドの量は、溶液粘度が最高と成るよう
に選択する。即ち、モノマー単位次第で１００モルχよ
り僅かに多いかまたは少ない量で添加する。

重縮合温度は１０〜１００℃である。特に良好な結果は
１０〜８０°Ｃの反応温度で得られる。重縮合反応は、
反応の終了後に２〜４０、特に３〜３０重量％の重縮合
体が溶液中に存在するように実施する。特別な用途の為
には、要求される場合には溶液をＮ−メチル−２−ピロ
リドンまたは他のアミド溶剤にて希釈してもよい。

重縮合は一般に、例えば単官能性化合物、例えばアセチ
ルクロライド、置換されたベンゾイルクロライド、例え
ばｐ−クロロベンゾイルクロライドを添加することによ
って、特にベンゾイルクロライドを添加することによっ
て停止できるが、単官能性アミン類、例えばアニリン、
Ｎ。

Ｎ−ジメチル−ｐ−フェニレンジアミンまたは３−クロ
ロアニリンを用いることも分子量の調整に同様に良好に
適している。

重縮合の終了後に−即ちポリマー溶液が後の加工に必要
とされる粘度を達成した時に一生したおよびアミド溶剤
にゆるく結合したハロゲン化水素を塩基性物質の添加に
よって中和する。この目的の為には、例えば水酸化リチ
ウム、水酸化カルシウム、殊に酸化カルシウムが適して
いる。その後に反応混合物を、ポリマーの所望の物理的
値を得る為に、一般に５０〜１２０分の間、５０〜８０
°Ｃで後処理する。成形された本発明の構造物を製造す
る為には、上記の本発明のコポリエーテルアミド溶液を
濾過し、脱気しそして公知の且つ後記の方法で更に加工
する。

溶液に適当な量の添加物を更に加えてもよい。

例えば光安定剤、酸化防止剤、防炎剤、帯電防止剤、染
料、着色顔料またはフィラーがある。

コポリエーテルアミドは適当な方法、例えば蒸留、沈澱
または抽出によって単離することかでき、次いでアミド
タイプの溶剤で再び、場合によっては溶解性を向上させ
る上記の添加物の使用下に適当な押出成形用溶液状態に
する。例えばポリマーの塩不含溶液をこの方法で得るこ
とができる。しかしながら縮合溶液を直接的に加工する
のが特に有利である。

コポリエーテルアミドを単離する為には、沈澱剤を溶液
に添加しそして凝固した生成物を濾過分離する。典型的
な沈澱剤は例えば水、メタノール、芳香族化合物、例え
ばシクロヘキサン、トルエン等である。この単離は顆粒
化装置中で過剰の水を用いて重合体溶液を細分化するこ
とによって行うのが有利である。微細に細分化された重
合体凝固粒子を続く洗浄段階（中和時に生じた塩の除去
）および濾過後の生成物の乾燥（包含の回避）を容易に
する。更に、後での細分化は、自由流動性生成物が直接
的に製造されるので、必要ない。

容易に受入られる方法と見なされる上記の溶液縮合法の
他に、ポリアミドを製造する為の別の慣用の方法、例え
ば溶融−１固体−または界面縮合法も上述の如く使用す
ることができる。

縮合の他に、これらの方法は場合によっては分子量の調
整および精製または洗浄段階および適当な添加物の添加
を包含している。

添加物は、更に、熱可塑性樹脂として加工する間に分離
したコポリマーに添加してもよい。

本発明の芳香族コポリエーテルアミドは、驚く程良い機
械的性質、特に良好な初期モジュール、および高いガラ
ス転移温度を持つ専ら非晶質のポリマーであることに特
徴がある。シュタウディンガー指数［η１　は５０〜１
０００Ｃｒａ３／ｇ、殊に１００〜６００ｃｍ”７ｇ　
　の範囲にある。ガラス転移温度は一般に２００°Ｃ以
上、殊に２２０°Ｃ以上および特に２３５“Ｃ以上であ
り、融点は３８０°Ｃまでの範囲にある。湿式紡糸しそ
して延伸処理したフィラメントの初期モジュールは少な
くとも５Ｎ／ｌｅｘに達する。未延伸処理フィルムの場
合には、これは１．５　ＧＰａ以上、好ましくは２．Ｏ
ＧＰａ以上である。試験用シートの初期モジュールは３
　ＧＰａ以上、特に３，５　ＧＰａ以上である。

本発明のコポリエーテルアミドの加工は、溶融を経て、
熱可塑性樹脂の加工の為の慣用の技術によって有利に実
施される。プレス成形、押出成形体または射出成形が成
形体、フィラメント、綿状物またはフィルムをもたらす
。

溶融を経る加工の場合には、助剤、例えば滑剤または溶
融安定剤を添加してもよい。末端基の導入、例えば単官
能性化合物の上述の付加による末端基の導入は、高い溶
融安定性を達成するのに有利であると考えられる。要す
るに加工前にポリマーを充分に乾燥するのが有利である
。

特別な場合には、コポリマーは溶液から、特に上記の低
温溶液法の縮合溶液から加工することもできる。例えば
、この方法はフィラメントを製造する簡単な方法を提供
しまた特別な用途、例えばプレプレラグの（含浸工程を
経る）製造または線状物用ラッカーとしての用途に有利
であり得る。

押出成形用溶液からは成形体の製造は、乾式、湿式−ま
たは乾式湿式法および噴霧法によって行うことができる
。

例えば、湿式法での紡糸溶液を、数個の紡糸用開口を持
つ紡糸ヘッドを通して凝固用浴中に案内し、溶液を固化
させてフィラメントを形成する。この方法の変法、いわ
ゆる乾式湿式法では、フィラメントを最初に不活性媒体
、特に空気または窒素中に通し、次いで初めて凝固浴に
入れる。

パルプは例えば溶液を適当な凝固浴に噴霧することによ
って製造する。

カスチング法でフィルムを成形する為には、濾過しそし
て脱気した溶液を支持物質の上に薄い層の状態で塗布す
る。適当な支持物質は不活性のポリマー−フィルム、例
えばポリエステル製のもの、金属製ベルトおよび実験室
的規模ではガラス板がある。溶液は、用いる溶媒の沸点
より少なくとも約１０°Ｃ下、特に好ましくは沸点の約
３０°Ｃ下の温度で加工するのが有利である。

もし温度が高過ぎる場合にはポリマーが分解する危険が
ありそして低過ぎる温度では高粘度である為に加工が困
難である。カスチング成形フィルムを予備乾燥すること
、特に５〜９ｏχのフィルム中溶剤含有量に予備乾燥す
ることは有利であるが、必要な処理ではない。適する条
件は室温と、用いる溶剤の沸点より約１０℃低い温度と
の間の温度である。またこの温度を、強力な対流と、例
えば循環式炉において組み合わせるのが有利である。温
度および対流次第で、二三分〜数日間の期間、特に２〜
３０分で充分である。

支持物質次第で、フィルムは直ちにまたは凝固の間にま
たは凝固の直後に剥離することができる。カスチング法
の替わりに、濾過しそして脱気した溶液を適当なノズル
を通して直接的に凝固させることもできる。この場合に
は、湿式−または乾式湿式法を使用することができる。

前者の場合には凝固を直接的に実施しそして後者の場合
には予備成形したフィルムを最初に非凝固性媒体、例え
ば空気を有する領域に通して実施する。

この領域は５〜４００ｍｍ　、特に１０〜１００ｍ−で
あり得る。

使用することのできる凝固浴は水、水と有機溶剤との混
合物または純粋な有機溶剤であり、何れの場合にも必要
な場合には塩を添加する。

添加される塩は例えば、周期律表の第−族および第二族
の上述の塩化物である。これらの塩は縮合溶液を製造す
る為の溶解助剤としても使用される塩が有利である。塩
化カルシウムが特に有利である。これは広い範囲内で濃
度を変えることが可能である。凝固浴の沸点より約１０
℃低い温度、特に室温と９０℃との間の温度が望ましい
。

凝固したフィラメントおよびフィルムを次いで水で洗浄
し、例えばロールを介して数個の連続した洗浄浴に通す
ことができる。上記性質を達成する為の必要条件は、塩
をできるだけ完全に洗去することである。水性浴が特に
有利であり、温度は室温〜９０℃、特に７０℃までであ
る。

一連の数個の浴および媒体の循環（向流）が−般に有利
であると考えられる。

乾燥はローラーを介してまたは赤外線ランプによって１
００〜４００°Ｃで実施するのが有利であるが、−必要
ないことであるが一温度傾斜を持っておよび／または窒
素雰囲気で行うのが有利である。温度が高ければ高い程
、乾燥時間は短い。２００〜３００℃の最終温度は、短
い乾燥時間で充分と成るので、加工に特に有利であると
考えられている。

フィルムの場合には、場合によっては応力の負荷下また
は窒素雰囲気での２００〜４００　’Ｃ１特に２００〜
３００℃の温度での熱処理段階が、更に高い寸法安定性
を達成するのに有利であると考えられている。延伸した
フィルムの製造においては、別の熱処理段階が不必要で
ある。

−軸または二輪（前後してのまたは同時的）延伸には、
公知の方法を使用することができる：赤外線ランプの下
でのまたは加熱面の上での乾燥成形体の延伸の他に、残
留溶剤および／または塩を含む□要するに溶剤浴中での
□湿った状態の成形体の延伸も可能である。前者の場合
には、２００〜３００°Ｃの範囲内の比較的に低い必要
とさる最低温度、特に約２５０℃が有利である。ここで
も延伸処理を窒素雰囲気で実施することができる。湿式
延伸と乾式延伸との組み合わせも可能である。延伸率は
０．５〜１０倍、特に２〜５倍（−軸）の範囲内である
。比較的低い延伸率でも本発明に従って極めて良好な機
械的性質を達成するのに充分である。

本発明のコポリエーテルアミドは沢山の成形体、例えば
ベアリング部材、シール材、ふた、クリップ、電気的絶
縁体、電気的プラグ、電気部品の為のハウジング、自動
車工業におけるボデ一部材、ピストン、歯車、タービン
の羽根、羽根車、フィラメント・ガイド、カムシャフト
、ブレーキライニング、クラッチ・ディスク等を製造す
るのに適している。

本発明のコポリエーテルアミドから製造されるフィラメ
ント、ファイバーまたはパルプは、例えばゴム・熱可塑
性樹脂または熱硬化性樹脂の補強材料として、フィルタ
ー用ファイバーの製造にまたは光遮蔽材料として使用す
ることができる。

フィルムおよび紙は耐熱性絶縁材料としておよびフィル
ムは特に可撓性回路基盤の基体としてそしてデーター処
理の領域で使用するのに適している。

高い初期モジュールが特に有利であると考えられる特別
な用途では、複合材料の為の熱可塑性樹脂高温マトリッ
クスとして使用することである。この場合、本発明のコ
ポリマーは、高い溶解性が塩不含溶液の製造を許す溶液
の状態でもおよび、プレプレラグまたはハイブリッド・
ファイバーを製造する為の粉末、フィラメントまたはフ
ィルムの状態でも適している。

本発明のコポリエーテルアミドおよびこれから製造され
る成形体を以下の試験法によって試験した： シュタウ−゛　ンガー シュタウディンガー指数［η１は式１ 式中、ηおよびη、はそれぞれ溶液の粘度および溶剤の
粘度を意味し、Ｃ２はポリマーの濃度を意味する。測定
は２５゛ＣでＮ−メチルピロリドン中で実施する。

粘１ツｊヨー 粘度η。は回転式粘度計（ＲＶ　１００、製造元：Ｈａ
ａｋｅ　、　Ｋａｒｌｓｒｕｈｅ　、西ドイツ国）を用
いて測定する。値は９０″Ｃでの縮合溶液の値を剪断勾
配０に外挿して得る。

鯛瀾立辻目り一 引裂強度（ＴＳ）、破断時伸び率（ＥＢ）、降伏応力（
ＹＳ）、降伏応力での伸び率（ＥＹＳ）　（第１〜４表
参照）、初期モジュールＯＭ）およびノット強度（ｋｎ
ｏｔ　ｓｔｒｅｎｇｔｈ）を、インストロン（Ｉｎｓ　
ｔｒｏｎ）引張試験装置を用いて２３°Ｃ１５０χの相
対湿度で測定する。

底ゑ二 成形体の機械的性質は、粉末からプレス成形したシート
（φ６ｃｍ、厚さ約１ｎｕ＋＋）を旧Ｎ５３５０４に従
う３ＳＡ試験体を用いてＤＩＮ　５３４５５に従って測
定する。

フィルム： ＤＩＮ　５３４５５に従い試験体５を用いて測定（帯状
物幅１５１、クランプ間の間隔５０ｎ＋ｍおよび測定速
度２０ｍｍ／分）。

ス土立人ｌ上二 ＤＩＮ　５３８３４、第１部に従う。

慕煎且亘二 熱的データ、例えばガラス転移温度、軟化点、融点およ
び分解点を熱重量分析法（ＴＧＡ：窒素、３に７分）、
示差熱分析（ＤＳＣ：窒素、１０に７分）、熱機械的分
析（ＴＭＡ：　Ｍｅｔｔｌｅｒ社、Ｇｒｅｉｆｅｎｓｅ
ｅ。

スイス国のＴＭＡ　４０測定ヘツドを備えたＴＡ−３０
００システム；窒素、４０に７分、クランプ間の間隔５
ｍｍ、交互負荷　約０．２５　ｃＮ／１ｅｘ）によって
および捩じり振子試験（ＴＰＴ：　ＤＩＮ　５３４４５
に従う）によって測定する。

電遠實辻）ＪＬＬ 全ての値が２３°Ｃ１５０χの相対湿度で測定した。

詳細には、誘電率および損失係数はＤＩＮ　５３４８３
に従い、抵抗はＤＩＮ　５３４８２に従いそして絶縁耐
力は５０Ｈ２でＤＩＮ　５３４８１に従い測定した。

［裏施■１ ジカルボン酸成分の割合およびジアミン成分の合計の割
合はそれぞれ１００モルχと計算される。

実ｍ １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、７５モルχの２．２−ビス−（４゛−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および２５モルχ
の４．４”−ジアミノジフェニルメタン（ＤＡＤＭ）か
ら製造される芳香族コポリエーテルアミド。

１２３．１６ｇのＢＡＰおよび１９．８３　ｇのＤＡＤ
Ｍを２５３７ｇのＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）に窒
素雰囲気で溶解し、８１．２１　ｇのＴＰＯを１５〜７
０℃で約６０分に渡って添加する。この粘性の透明な溶
液を７０°Ｃで更に約４０分間攪拌し、２４．５４　ｇ
のＣａＯ（９６χの純度、即ち５χ過剰）を用いて中和
しそして７０℃で更に３０分間攪拌する。

溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．７χ
のＣａＣｊ！　ｔを含有しそして溶解されたコポリエー
テルアミドは３２７　ｃｍ３７ｇのシェタウディンガー
指数［ηｌを示す。

この溶液を濾過し、凝固させそして顆粒化装置で水の添
加下に細分化する。沈澱したコポリエーテルを水で数回
洗浄し、次いでアセトンで洗浄する。この自由流動性ポ
リマーを１３０℃で減圧（５０〜８０　ｍｂａｒ）で静
かな窒素流において乾燥する。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４００℃からしか認められない。ＤＳ
Ｃにおいては、ガラス転移温度が２５３℃でそしてガラ
ス段階の形態は主として非晶質ポリマーを示している。

相応して、溶融挙動に関して非常に僅かな影響しかなく
、溶融範囲は約３６０で終わる。

亥ｍユ 実施例１に相応する縮合溶液を濾過し、脱気しそしてカ
スチング成形してフィルムを得る：この目的の為に、ド
クターブレードを用いて９０°Ｃでガラス板の上に縮合
溶液を塗布する。カスチング成形フィルムを次いで９０
℃で４８時間予備乾燥し、次に２５°Ｃで水中で凝固さ
せ、次いで流れる水中で２０分間そして蒸留水で２４時
間洗浄し、その後に１２０″Ｃ１５０ｍ　ｂａｒで静か
な窒素流のもとで４８時間乾燥する。

フィルムの厚さは、塗布される被覆物の厚さに依存して
２〜１００μｍで硬化し得て、このフィルムは非常に透
明で且つ視覚的に無色乃至僅かに黄色味を帯びた金色で
ある。

未延伸フィルム（３０μｍ）の機械的性質は、６９ＭＰ
ａの引裂強度および９０χの破断時伸び率および２．２
Ｇｐａの初期モジュールである。

ＴＭＡでは、フィルムは２３６°Ｃで軟化する。

夫施■」 実施例１に相当して製造しそして乾燥した自由流動性粉
末を高温プレスを用いてプレス成形し、直径６ｃｍで厚
さ１ｍｍのシートを得る。

３００〜３５０℃の範囲での機械的性質へのプレス温度
の影響を第１表に示す。何れの場合のプレス成形も２．
５ｔで５分間の間実施する。

３００　　　　　　　　　　　　　　５１．７　　　４
．０３１０　　　　　　　　　　　　　　６６．４　　
　５．７３２０　　　　　　　　　　　　　　８７．５
　　　９，１３３０　　　　９２．８　　１１．４　　
　９０．４　　１０．７３４０　　　　９０．８　　１
１．３　　　８７．６　　１２．３３５０　　　　９１
．８　　１０．８　　　　Ｂ９．８　　２５．０３３０
℃でプレス成形したシートの初期モジュールは３．６Ｇ
Ｐａである。

ＴＰＴでは、３３０°Ｃでプレス成形したシートは２４
３℃のガラス転移温度を示し、ガラス段階の形態は実質
的に非晶質のポリマーを意味している。溶融範囲は３５
０″Ｃまで広がり、溶融プラトでの剪断モジュールは３
．７Ｎ／ｍｍ２である。

１詣舅」 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、５Ｏ−ＩＤ　（７）２．２−ビス−＜４゛−７ミ
ノフエノキシフエニル）プロパン（ＢＡＰ）および５０
モルχの４，４°−ジアミノジフェニルメタン（ＤＡＤ
Ｍ）から製造される芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＯ，８２，１０ｇのＲＡＰおよび３
９．６５　ｇのＤＡＤＭを２２５５ｇのＮＭＰ中で実施
例１における如く縮合させる。

溶液は７．Ｏｚのコポリエーテルアミドおよび１．９χ
のＣａＣ１２を含有しそして溶解されたコポリエーテル
アミドは４７０　ｃｍ３／ｇのシュタウディンガー指数
［η１を示す。

後処理は実施例１におけるのと同様に実施する。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４０５°Ｃから認められるだけである
。ＤＳＣにおいて、ガラス転移温度が２７０°Ｃでそし
てガラス段階の形態は主として非晶質ポリマーを示して
いる。

縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィルムに加工し
、そして未延伸フィルム（２５μｍ）の機械的性質は７
７ＭＰａの引裂強度、１０６χの破断時伸び率および１
　、７ＧＰａの初期モジュールである。

ＴＭＡではフィルムは２４８°Ｃで軟化する。

実施例１〜３に相応する方法において、３８０°Ｃで自
由流動性粉末をプレス成形して透明で且つ非常に強固な
シートを形成することが可能である。

ル較拠」 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、２５モルχの２．２−ビス−（４゛−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および７５モルχ
の４．４”−ジアミノジフェニルメタン（ＤＡＤＭ）か
ら製造される芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ、４１，０５ｇのＢＡＰおよび５
９．４８８のＤＡＤＭを１９７４ｇのＮＭＰ中で実施例
１における如く縮合させる。

溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび２．１ｚ
のＣａＣ１２□を含有しそして溶解されたコポリエーテ
ルアミドは６２６　ｃｍ’／ｇのシュタウディンガー指
数［η］を示す。

後処理は実施例１におけるのと同様に実施する。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４１０°Ｃから認められるだけである
。

この縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィルムに加
工し、そして未延伸フィルム（３５μｍ）の機械的性質
は７３　ＭＰａの引裂強度、１１５χの破断時伸び率お
よび１．４ＧＰａの初期モジュールである。ＴＭＡでは
フィルムは２６５’Ｃで軟化する。

しかしながら実施例３に相応する方法で、３８０°Ｃで
コポリエーテルアミドをプレス成形することができない
。

実施開」 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、８７．５モルＸ　（７）２．２−ビア！、−（４
’−アミノフェノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）お
よび１２．５モル２のｐ−フェニレンジアミン（ＰＰＤ
）から製造される芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１８のＴＰＣ，１４３，６８８のＢＡＰおよび
５．４１ｇのＰＰＤを３０９７８のＮＭＰ中で実施例１
における如く縮合させる。

溶液は６．０ｇのコポリエーテルアミドおよび１．４χ
のＣａＣ１，を含有しそして溶解されたコポリエーテル
アミドは２７６　ｃｍ’／ｇのシュタウディンガー指数
［η１を示しそしてこの縮合溶液は９０°Ｃで１８．２
Ｐａ、ｓの粘度η。を示す。

後処理は実施例１におけるのと同様に実施する。

縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィルムに加工し
、そして未延伸フィルム（３０μｍ）の機械的性質は８
８ＭＰａの引裂強度、１０７χの破断時伸び率および２
．１ＧＰａの初期モジュールである。

ＴＭＡではフィルムは２３５°Ｃで軟化する。

尖施皿」 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、７５モｚｔ４の２，２−ビス−（４′−アミノフ
ェノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および２５モル
χのｐ−フェニレンジアミン（ＰＰＤ）から製造される
芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＯ、１２３，１６ｇのＢＡＰおよび
１０．８１８のｐｐ口を２８６１ｇのＮＫＰ中で実施例
１における如く縮合させそして後処理する。

溶液は６．０χのコポリエーテルアミドおよび１．５χ
のＣａＣＩｔ　ｇを含有しそして溶解されたコポリエー
テルアミドは５５５　ｃｍ″／ｇのシュタウディンガー
指数［η１を示す。

縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィルムに加工し
、そして未延伸フィルム（１５μｍ）の機械的性質は８
９ＭＰａの引裂強度、１０７χの破断時伸び率および２
．３ＧＰａの初期モジュールである。

ＴＭＡではフィルムは２４０℃で軟化する。

実施例３に相応する方法において、３５０°Ｃで自由流
動性粉末をプレス成形して透明で且つ非常に強固なシー
トを形成することが可能である。

その機械的性質は９５　ＭＰａの引裂強度、１０χの破
断時伸び率である。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４１０℃からしか認められない。ＤＳ
Ｃにおいて、ガラス転移温度が２６２°Ｃでそしてガラ
ス段階の形態は主として非晶質ポリマーを示している。

実崖■」 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＯ
）　、　５０モルχの２，２−ビス−（４°−アミノフ
ェノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および５０モル
χのｐ−フェニレンジアミン（ＰＰＤ）から製造される
芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ、８２，１０８のＢＡＰおよび２
１．６３　ｇのＰＰＤを１７３８ｇのＮＭＰ中で実施例
１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は８．０χのコポリエーテルアミドおよび２．
４χのＣａＣＩｔ、を含有している。この溶解されたコ
ポリエーテルアミドは７２６　ｃｍ’／Ｈのシュタウデ
ィンガー指数［ηｌを示しそして縮合溶液は９０℃で４
０．８Ｐａ、ｓの粘度η０を示す。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４６０℃からしか認められない、　Ｄ
ＳＣにおいて、ガラス転移温度が２８０°Ｃでそしてガ
ラス段階の形態は主として非晶質ポリマーを示している
。

裏施五」 実施例７に従って製造された縮合溶液を実施例２に相応
する方法でフィルムに加工する。未延伸フィルム（１１
μｍ）の機械的性質は８１ＭＰａの引裂強度、３３Ｘの
破断時伸び率および２．５ＧＰａの初期モジュールであ
る。

ＴＭＡでは、フィルムは２６０℃で軟化する。

フィルムの電気的性質は表面抵抗が３．８Ｘ１０′４Ω
で、体積抵抗が１．６　ＸＩＯ”Ω・ＣＩＩ＋で、誘電
率が４．６で、損失係数が２．８　ＸＩＯ””でそして
絶縁耐力が２９７ｋｖ／ＩＩＩＩＩｌテアル。

１１■」 実施例７に従う縮合溶液を濾過し、脱気しそして湿潤状
態で紡糸する：この目的の為に、それぞれ直径１００μ
ｍの開口５０個を持つノズルから、水に３５χのＮＭＰ
を溶解した３５χ濃度の６０℃溶液より成る凝固浴中に
８０°Ｃで１６ｍ／分の速度で紡糸する。得られる５０
本のフィラメント−ヤーンを、数個の洗浄浴、洗浄装置
〔約２０ラツプ（ｗｒａｐ）ｌ　を通し、二つの乾燥ゴ
デッ）　（１６０および１８０℃）の上をそして最後に
３９０　’Ｃで加熱面の上を通す。この場合の引張比率
は１：２．５である。

捻じってない状態での繊度１００ｄ　ｔｅｘの５０−フ
ィラメント−ヤーンの機械的性質は、３３ｃＮ／　ｔｅ
Ｘの引裂強度、３．８χの破断時伸び率およびＩＯＮ／
ｌｅｘの初期モジュールである。

ｚ隻■則 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、７５モルχの２，２−ビス−（４’−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および２５モル２
の２．７−ジアミツー３．６−シメチルジベンゾチオフ
エンーＳ、Ｓ−ジオキサン（ＴＳ）から製造される芳香
族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ、１２３，１６ｇのＲＡＰおよび
２７．４３ｇのＴＳを２６３８ｇのＮＭＰ中で実施例１
における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．
６χのＣａＣｊ２ｚを含有しており、そして溶解された
コポリエーテルアミドは２７４　ｃｍ’／ｇのシュタウ
ディンガー指数［η１を示す。

ガラス転移温度は２４９°Ｃでそしてガラス段階の形態
は専ら非晶質ポリマーを示している。

実施例３に相応する方法で、機械的性質へのプレス成形
温度の影響を３００〜３７０°Ｃの範囲で試験した（第
２表参照）。

（”Ｃ）　　　　　　　　（ＭＰａ） ３００　　　　　　　４７．８ ３１０　　　　　　　８０．０ ３２０　　　　　　　８２．４ ３３０　　　　　　　８０゜２ ３４０　　　　　　　７６．７ ３５０　　　　　　　９５．２ （χ） ３．３ ５．０ ５．４ ５．２ ５．６ ７．７ ３４０°Ｃでプレス成形したシートの初期モジュールは
５．３ＧＰａである。

ＴＰＴでは、３４０°Ｃでプレス成形したシートは２４
５°Ｃのガラス転移温度を示し、ガラス段階の形態は実
質的に非晶質のポリマーを意味している。３９０°Ｃま
で拡がった溶融プラトの剪断モジュールは５．５Ｎ／ｍ
ｍ”である。

実施±旦 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、８７．５モルχの２．２−ビス−（４゛−アミノ
フェノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および１２．
５モルχの１，４−ビス−（４”−アミノフェノキシ）
ベンゼン（ＢＡＰＯＢ）から製造される芳香族コポリエ
ーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ、１４３，６８ｇのＢＡＰおよび
１４．６２ｇのＢＡＰＱＢを２７４１ｇのＮＭＰ中で実
施例１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．
５χのＣａＣ１，を含有しており、この溶解されたコポ
リエーテルアミドは２３９　ｃｍ’／ｇのシュタウディ
ンガー指数［η１を示す。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４００°Ｃからしか認められない。Ｄ
ＳＣにおいて、ガラス転移温度が２４６°Ｃでそしてガ
ラス段階の形態は主として非晶質ポリマーを示している
。

実施例３に相応する方法において、機械的性質へのプレ
ス成形温度の影響を３００〜３５０　’Ｃの範囲で実験
した（第３表参照）。

３００　　　　　　　　　　　　　　　　　８０．３　
　　　６．０３１０　　　　　　　　　　　　　　　　
　？２．３　　　５．３３４０　　　　　　　　　　　
　　　　　８１．７　　　６．７３５０　　　　９１．
６　　　９．９　　　８６．６　　　９．８３５０°Ｃ
でプレス成形したシートの初期モジュールは４．８ＧＰ
ａである。

実施■肥 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、７５−ｔ−ｚＤ　＋７）２．２−ビ、２．−（４
’−７ミノフエノキシフエニル）プロパン（ＢＡＰ）お
よび２５モルχの１．４−ビス−（４゛−アミノフェノ
キシ）ベンゼン（ＢＡＰＯＢ）から製造される芳香族コ
ポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ、１２３，１６ｇのＢＡＰおよび
２９．２３ｇのＢＡＰＯＢを２６６２ｇのＮＭＰ中で実
施例１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．
６χのＣａＣ１ｚを含有しており、この溶解されたコポ
リエーテルアミドは５７７　ｃｍ″／ｇのシュタウディ
ンガー指数［ηｊを示す。そして縮合溶液は９０°Ｃで
１０．７Ｐａ、ｓの粘度η。を示す。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて３９０″Ｃからしか認められない。Ｄ
ＳＣにおいて、ガラス転移温度が２５３°Ｃでそしてガ
ラス段階の形態は主として非晶質ポリマーを示している
。

裏施五Ｕ 実施例１２の縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィ
ルムに加工し、未延伸フィルム（２０μｍ）の機械的性
質は７８ＭＰａの引裂強度、９５χの破断時伸び率およ
び２．３ＧＰａの初期モジュールである。

耐＾では、フィルムは２３５°Ｃで軟化する。

１隻■■ 実施例３に相応する方法で、実施例１２に相応するコポ
リエーテルアミドでシートを製造しそして機械的性質へ
のプレス成形温度の影響を３３０〜３５０°Ｃで実験す
る（第４表参照）。

８９．０　　　　？、４ ３４０　　　　９Ｂ、４　　１１．０　　　９３．３　
　１０．７３５０　　　　９８．２　　１０．２　　　
９８．１　　　１４．３３５０℃でプレス成形したシー
トの初期モジュールは４．５　ＧＰａである。

尖胤皿■ １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、５０モルχの２．２−ビス−（４”−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および５０モルχ
の１．４−ビス−（４”−アミノフェノキシ）ベンゼン
（ＢＡＰＯＢ）から製造される芳香族コポリエーテルア
ミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ、８２，１０ｇのＢＡＰおよび５
８．４７　ｇのＢＡＰＯＢを２５０５ｇのＮＭＰ中で実
施例１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．
７χのＣａＣｊ！ｇを含有しており、この溶解されたコ
ポリエーテルアミドは５８４　ｃｍ３７ｇのシュタウデ
ィンガー指数［η１を示す。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４００°Ｃからしか認められない。Ｄ
ＳＣにおいて、ガラス転移温度が２６５℃でそしてガラ
ス段階の形態は主として非晶質ポリマーを示している。

この縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィルムに加
工し、未延伸フィルム（３０μｍ）の機械的性質は９２
ＭＰａの引裂強度、１５１χの破断時伸び率および２．
３ＧＰａの初期モジュールである。

ＴＭＡでは、フィルムは２４０℃で軟化する。

実施例３に相応する方法で、自由流動性粉末を３７０℃
でプレス成形して透明で且つ非常に強靭なシートが形成
される。

比較■」 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、２５モルχの２．２−ビス−（４°−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＲＡＰ）および７５モル２
の１．４−ビス−（４’−アミノフェノキシ）ベンゼン
（ＢＡＰＯＢ）から製造される芳香族コポリエーテルア
ミド。

８１．２１ｇのＴＰＯ、４１，０５ｇのＢＡＰおよび８
７．７０　ｇのＢＡＰＯＢを２３４８ｇのＮＭＰ中で実
施例１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．
８χのＣａＣｌ　ｔを含有しており、この溶解されたコ
ポリエーテルアミドは４５９　ｃｔａ！７ｇのシュタウ
ディンガー指数［ηｌを示す。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４１０°Ｃからしか認められない。

しかしながら実施例３に相応する方法で３８０°Ｃでプ
レス成形してシートを形成することができない。

スＪＬ［団 １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、７５モルχの２．２−ビス−（４’−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および２５モルχ
の４．４′−ジアミノジフェニル−スルホン（ＤＡＤＳ
）から製造される芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ、１２３，１６ｇのＢＡＰおよび
２４．８３８のＤＯＤＳを２６０４ｇのＮＭＰ中で実施
例１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．
６χのＣａＣ１２を含有しており、この溶解されたコポ
リエーテルアミドは１５７　ｃｍ″／ｇのシェタウディ
ンガー指数［η１を示す。

コポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量損失
がＴＧＡにおいて４００℃からしか認められない。ＤＳ
Ｃにおいて、ガラス転移温度が２６８°Ｃでそしてガラ
ス段階は主として非晶質ポリマーを示している。

実施例３に相応する方法で、自由流動性粉末を２４０〜
３６０°Ｃの範囲でプレス成形して透明で且つ非常に強
靭なシートが形成される。３００°Ｃでプレス成形され
たシートの機械的性質は７０ＭＰａの引裂強度および１
０２の破断時伸び率である。

災施五Ｕ １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、５０モルχの２．２−ビス−（４゛−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＢＡＰ）および５０モルχ
の４．４′−ジアミノジフェニル−スルホン（ＤＡＤＳ
）から製造される芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ，８２，１０ｇのＢＡＰおよび４
９．６６　ｇのＤＯＤＳを２３８８ｇのＮＭＰ中で実施
例１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび１．
８χのＣａＣｆｚを含有しており、この溶解されたコポ
リエーテルアミドは１２８　ｃｍ”７ｇのシュタウディ
ンガー指数［η１を示す。

このジポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量
損失がＴＧＡにおいて４１０℃からしか認められない。

ＤＳＣにおいて、ガラス転移温度が２９６℃でそしてガ
ラス段階は主として非晶質ポリマーを示している。

実施例３に相応する方法で、自由流動性粉末を２９０〜
３６０°Ｃの範囲でプレス成形して透明で且つ非常に強
靭なシートが形成される。３３０°Ｃでプレス成形され
たシートの機械的性質は８９ＭＰａの引裂強度および１
ｏｚの破断時伸び率である。

実施例■ 実施例１７の縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィ
ルムに加工し、未延伸フィルム（２５μｍ）の機械的性
質は６５ＭＰａの引裂強度、５５χの破断時伸び率およ
び１．８ＧＰａの初期モジュールである。

ＴＭＡでは、フィルムは２７８°Ｃで軟化する。

実施例Ｕ １００モルχのテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ
）　、２５モルχの２，２−ビス−（４°−アミノフェ
ノキシフェニル）プロパン（ＲＡＰ）および７５モルχ
の４，４′−ジアミノジフェニル−スルホン（ＤＡＤＳ
）から製造される芳香族コポリエーテルアミド。

８１．２１ｇのＴＰＣ，４１，０５ｇのＢＡＰおよび７
４．４９　ｇのｏｏｏｓを２１７２．９ｇのＮｌ’ＩＰ
中で実施例１における如く縮合させそして後処理する。

この溶液は７．０χのコポリエーテルアミドおよび２．
０χのＣａＣ１ｚを含有しており、この溶解されたコポ
リエーテルアミドは１９７　ｃｍ”７ｇのシュタウディ
ンガー指数［η］を示す。

このコポリエーテルアミドの熱安定性に関しては、重量
損失がＴＧＡにおいて４１０°Ｃからしか認められない
。ＤＳＣにおいて、ガラス転移温度が３３３°Ｃでそし
てガラス段階は主として非晶質ポリマーを示している。

実施例３に相応する方法で、自由流動性粉末を３５０〜
３７０°Ｃの範囲でプレス成形して透明で且つ非常に強
靭なシートが形成される。

尖施±毅 実施例１９の縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィ
ルムに加工し、未延伸フィルム（２０μｍ）の機械的性
質は７０ＭＰａの引裂強度、６８χの破断時伸び率およ
びｌ　、　３ＧＰａの初期モジュールである。

門＾では、フィルムは３１４°Ｃで軟化する。

裏丘桝■二刈 第５表の組成に相当する芳香族コポリエーテルアミド。

成分のテレフタロイル−ジクロライド（ＴＰＣ）　、２
．２−ビス−（４゛−アミノフェノキシフェニル）プロ
パン（ＢＡＰ）　、ｍ−フェニレンジアミン（ＭＰＤ）
および３，３゛−ジメチルベンジジン（ＯＴＤ）を使用
しそして溶剤はＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）である
。

縮合は実施例１における如〈実施し、同様に後処理する
。

コポリエーテルアミドおよびＣａ１．の濃度、溶解した
コポリエーテルアミドのシュタウデインガー指数［η１
および９０’Ｃでの縮合溶液の粘度η。に関する溶液の
特性を、第５表に同様に総括掲載する。

縮合溶液を実施例２に相応する方法でフィルムに加工し
、未延伸フィルムの機械的性質およびＴＭＡ測定に相応
する軟化点Ｔ、を同様に第５表に総括掲載する。

全てのコポリエーテルアミドが実施例３に相応する方法
で、自由流動性粉末から出発して、３３０〜３５０°Ｃ
の範囲でプレス成形して透明で且つ非常に強靭なシート
を形成することができる。

ＰＣ ＰＣ ＰＣ ＰＣ ８１，２１ ８１，２１ ８１，２１ ８１，２１ ＰＡ ＢＰ＾ ＰＡ ＰＡ ８７．５ ８７．５ １４３．６８ １２３．１６ Ｂ２．１０ １４３．６８ 実施例 成分 名称 モルχ ポリマー ＣａＣｌ　ｔ ｍ３７ｇ １２．５　１０．６１ ２５　　２１．２３ ５０　　４２．４６ １２．５　５．４１ ２５　　１０．８１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）熱可塑樹脂として加工できる芳香族コポリエーテル
   アミドにおいて、構造が下記式 −ＣＯ−Ａｒ＾１−ＣＯ−（Ａ）、 −ＮＨ−Ａｒ＾１−Ｏ−Ａｒ＾１−Ｘ−Ａｒ＾１−Ｏ−
   Ａｒ＾１−ＮＨ−（Ｂ）および−ＮＨ−Ａｒ＾２−ＮＨ
   −（Ｃ） ［式中、Ａｒ＾１は炭素原子数６の二価の無置換の又は
   置換された芳香族残基を意味し、但し該残基がｐ−位で
   結合しており、 Ｘは２，２−プロピリデン結合でありそしてＡｒ＾２は
   Ａｒ＾１又はｍ−位で結合しているＡｒ＾１と同じであ
   るかまたは基−Ａｒ＾１−Ｚ−Ａｒ＾１−であり、但し
   Ｚは直接的結合又は残基−ＣＨ＿２−、−Ｃ（ＣＨ＿３
   ）＿２−、−ＳＯ＿２、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｃ
   Ｈ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は−Ｏ−Ａｒ＾１−Ｏ−並びに
   下記残基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは水素原子又は炭素原子数１〜４の分岐した
   又は非分岐のアルキル基である。）である。］ で表される繰り返し単位より成り、単位（Ａ）の割合お
   よび単位（Ｂ）と（Ｃ）との合計の割合がそれぞれ１０
   ０モル％と成り、但し単位（Ｃ）の割合が５０モル％ま
   ででありそして、Ｚが−ＳＯ＿２−である場合には７５
   モル％まででありそしてコポリエーテルアミドのシュタ
   ウディンガー指数［η］が５０〜１０００ｃｍ＾３／ｇ
   でありそしてガラス転移温度が２００℃以上であること
   を特徴とする、上記芳香族コポリエーテルアミド。 ２）シュタウディンガー指数が１００〜６００ｃｍ＾３
   ／ｇの範囲内にある請求項１に記載の芳香族コポリエー
   テルアミド。 ３）残基ＲおよびＡｒ＾１はアルキル基中炭素原子数１
   〜４の二つまでのアルキル−又はアルコキシ基で置換さ
   れているか又は残基Ａｒ＾１はハロゲン、殊に塩素又は
   臭素で置換されている請求項１または２項に記載の芳香
   族コポリエーテルアミド。 ４）単位（Ｃ）あるいは化合物（Ｃ’）の割合が２５モ
   ル％まででありそしてＺが−ＳＯ＿２−の場合に５０モ
   ル％までである請求項１〜３の何れか一つに記載の芳香
   族コポリエーテルアミド。 ５）式 −ＣＯ−Ａｒ＾１−ＣＯ−（Ａ）、 −ＮＨ−Ａｒ＾１−Ｏ−Ａｒ＾１−Ｘ−Ａｒ＾１−Ｏ−
   Ａｒ＾１−ＮＨ−（Ｂ）および−ＮＨ−Ａｒ＾２−ＮＨ
   −（Ｃ） ［式中、Ａｒ＾１は炭素原子数６の二価の無置換の又は
   置換された芳香族残基を意味し、但し該残基がｐ−位で
   結合しており、 Ｘは２，２−プロピリデン結合でありそしてＡｒ＾２は
   Ａｒ＾１又はｍ−位で結合しているＡｒ＾１と同じであ
   るかまたは基−Ａｒ＾１−Ｚ−Ａｒ＾１−であり、但し
   Ｚは直接的結合又は残基−ＣＨ＿２−、−Ｃ（ＣＨ＿３
   ）＿２−、−ＳＯ＿２−、−ＣＯ−、−Ｏ−、−ＣＨ＝
   ＣＨ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は−Ｏ−Ａｒ＾１−Ｏ−並び
   に下記残基 ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒは水素原子又は炭素原子数１〜４の分岐した
   又は非分岐のアルキル基である。）である。］ で表される繰り返し単位より成る熱可塑性樹脂として加
   工できる芳香族コポリエーテルアミドを製造するに当た
   って、式 Ｗ−ＣＯ−Ａｒ＾１−ＣＯ−Ｗ（Ａ’） ［式中、Ａｒ＾１は上述の意味を有し、Ｗはハロゲン又
   は水酸基、アルコキシ基又はアリールオキシ基である。 ］ で表される化合物を、式 ＮＨ＿２−Ａｒ＾１−Ｏ−Ａｒ＾１−Ｘ−Ａｒ＾１−Ｏ
   −Ａｒ＾１−ＮＨ＿２（Ｂ’）およびＮＨ＿２−Ａｒ＾
   ２−ＮＨ＿２（Ｃ’） ［式中、Ａｒ＾１、Ａｒ＾２およびＸは上述の意味を有
   する。］ で表される化合物の混合物とを、コポリエーテルアミド
   が５０〜１０００ｃｍ＾３／ｇのシュタウディンガー指
   数［η］および２００℃以上のガラス転移温度を有する
   まで低温溶液−、固体−、界面−又は溶融縮合法によっ
   て反応させ、その際に化合物（Ａ’）の割合および化合
   物（Ｂ’）と化合物（Ｃ’）との合計の割合がそれぞれ
   １００モル％でありそして（Ｃ’）の割合が５０モル％
   までであり、Ｚが−ＳＯ＿２−である場合に７５モル％
   であることを特徴とする、上記方法。 ６）シュタウディンガー指数が１００〜６００ｃｍ＾３
   ／ｇの範囲内にある請求項５に記載の方法。 ７）残基ＲおよびＡｒ＾１はアルキル基中炭素原子数１
   〜４の二つまでのアルキル−又はアルコキシ基で置換さ
   れているか又は残基Ａｒ＾１はハロゲン、殊に塩素又は
   臭素で置換されている請求項５または６項に記載の方法
   。 ８）単位（Ｃ）あるいは化合物（Ｃ’）の割合が２５モ
   ル％まででありそしてＺが−ＳＯ＿２−の場合に５０モ
   ル％までである請求項５〜７の何れか一つに記載の方法
   。 ９）化合物（Ａ’）、（Ｂ’）および（Ｃ’）を非プロ
   トン性の極性溶剤の存在下に１０〜１００℃で反応させ
   、この反応混合物を５０〜８０℃で後処理する請求項５
   〜８の何れか一つに記載の方法。 １０）化合物（Ａ’）としてテレフタロイル−ジクロラ
   イド、２−クロロ−テレフタロイル−ジクロライド、テ
   レフタル酸またはジフェニルテレフタラートを使用し、
   化合物（Ｂ’）として２，２−ビス−（４’−アミノフ
   ェノキシフェニル）−プロパンを使用しそして化合物（
   Ｃ’）として２，４−ジクロロ−ｐ−フェニレンジアミ
   ン、５−第三−ブチル−ｍ−フェニレンジアミン、３，
   ３’−ジメトキシベンジジン、３，３’−ジクロロベン
   ジジン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，
   ４’−ジアミノジフェニルケトン、１，４−ビス−（４
   ’−アミノフェノキシ）−ベンゼンまたは２，７−ジア
   ミノ−３，６−ジメチル−ジベンゾチオフェン−Ｓ，Ｓ
   −ジオキシド、殊にｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェ
   ニレンジアミン、３，３’−ジメチルベンジン、４，４
   ’−ジアミノジフェニルメタンまたは４，４−ジアミノ
   ジフェニルスルホンを使用する請求項５〜９の何れか一
   つに記載の方法。 １１）反応を単官能性化合物、殊にベンゾイルクロライ
   ドまたは単官能性アミンを連鎖停止剤として添加するこ
   とによって中止する請求項５〜１０の何れか一つに記載
   の方法。 １２）溶剤としてＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドまたは
   Ｎ−メチル−２−ピロリドンを使用する請求項５〜１１
   の何れか一つに記載の方法。 １３）請求項１に記載のコポリエーテルアミドを成形体
   の製造に用いる方法。 １４）フィラメント、線状物、フィルムおよびその他の
   成形体の形で使用する請求項１３の方法。 １５）乾燥した粉末状コポリエーテルアミドを押出成形
   、プレス成形または射出成形することによって製造され
   る請求項１３に記載の成形体。 １６）コポリエーテルアミドの溶液を加工することによ
   って製造される、請求項１３に記載の成形体。 １７）低温溶液法の縮合溶液から、含浸工程を経て、乾
   式−、湿式−または乾式湿式紡糸法によって、噴霧によ
   って、凝固法またはカスチング法によって加工する請求
   項１６に記載の成形体。