JPH02228811A - 比較器 - Google Patents
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- JPH02228811A JPH02228811A JP1050488A JP5048889A JPH02228811A JP H02228811 A JPH02228811 A JP H02228811A JP 1050488 A JP1050488 A JP 1050488A JP 5048889 A JP5048889 A JP 5048889A JP H02228811 A JPH02228811 A JP H02228811A
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- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 18
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- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
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- Manipulation Of Pulses (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明は比較器、特にバイポーラ集積回路で構成され
る比較器に関する。
る比較器に関する。
(ロ)従来の技術
一般的に電圧ヒステリシスを持たせた比較器として第3
図に示すものがある。この比較器は、2個のバイポーラ
トランジスタTr、 、Trzが並列接続され、これら
のトランジスタTr、 、Tr。
図に示すものがある。この比較器は、2個のバイポーラ
トランジスタTr、 、Trzが並列接続され、これら
のトランジスタTr、 、Tr。
に定電流源Illが直列に接続され、電源v” 、v−
間に接続されている。トランジスタTr、のコレクタと
電源V゛間にスプリントコレクタ構成のトランジスタT
r、が接続されている。トランジスタTr、のベース、
つまり入力電圧P、には、入力電圧VINが加えられ、
トランジスタTrzのベースには、定電流源11□、抵
抗Rh 、R?で発生する比較電圧が加えられるように
なっている。
間に接続されている。トランジスタTr、のコレクタと
電源V゛間にスプリントコレクタ構成のトランジスタT
r、が接続されている。トランジスタTr、のベース、
つまり入力電圧P、には、入力電圧VINが加えられ、
トランジスタTrzのベースには、定電流源11□、抵
抗Rh 、R?で発生する比較電圧が加えられるように
なっている。
抵抗R7にはトランジスタTr、を並列に接続し、この
トランジスタTr、をオン/オフすることにより、抵抗
R1を短絡、あるいは抵抗R&に直列に接続し、比較電
圧にヒステリシスを持たせている。また、トランジスタ
Tr、のコレクタは出力トランジスタTrsのベースに
も接続されている。
トランジスタTr、をオン/オフすることにより、抵抗
R1を短絡、あるいは抵抗R&に直列に接続し、比較電
圧にヒステリシスを持たせている。また、トランジスタ
Tr、のコレクタは出力トランジスタTrsのベースに
も接続されている。
この比較器において、トランジスタTr+のベースに入
力される入力電圧が比較電圧、つまりトランジスタTr
zのベース電位よりも低いときは、電流源11’lは、
トランジスタTrzのコレク夕電路に流れ、トランジス
タTr、のコレクタ電路には流れない。そのため、スプ
リットコレクタ構成のトランジスタTr、、さらにトラ
ンジスタTr<にベース電流が与えられず、トランジス
タT r 4は駆動されないため、比較電圧を生成する
ための電流源Il□の電流は全て抵抗R6、R7を通し
て流れる。この時の比較電圧であるトランジスタTrz
のベース電位は、 VZX −夏 、□x (R& + R7)
・・・(1)となる。
力される入力電圧が比較電圧、つまりトランジスタTr
zのベース電位よりも低いときは、電流源11’lは、
トランジスタTrzのコレク夕電路に流れ、トランジス
タTr、のコレクタ電路には流れない。そのため、スプ
リットコレクタ構成のトランジスタTr、、さらにトラ
ンジスタTr<にベース電流が与えられず、トランジス
タT r 4は駆動されないため、比較電圧を生成する
ための電流源Il□の電流は全て抵抗R6、R7を通し
て流れる。この時の比較電圧であるトランジスタTrz
のベース電位は、 VZX −夏 、□x (R& + R7)
・・・(1)となる。
一方、入力電圧VINが比較電圧よりも高いときは、電
流源1.の電流はトランジスタTr、のコレクタ電路を
流れ、トランジスタTr3にベース電流を与え、トラン
ジスタTrzが駆動されるため、トランジスタTrsが
駆動され、出力電圧P0の出力■。U7の電位をL(ロ
ー)にするとともに、トランジスタTr、も駆動され、
電流源工、□の電流がトランジスタTr4のコレクタ電
路に分流する。このときの比較電圧であるトランジスタ
Trzのベース電位は、 V2L=Il□XR& +VSAT4 ・・・
(2)となる。
流源1.の電流はトランジスタTr、のコレクタ電路を
流れ、トランジスタTr3にベース電流を与え、トラン
ジスタTrzが駆動されるため、トランジスタTrsが
駆動され、出力電圧P0の出力■。U7の電位をL(ロ
ー)にするとともに、トランジスタTr、も駆動され、
電流源工、□の電流がトランジスタTr4のコレクタ電
路に分流する。このときの比較電圧であるトランジスタ
Trzのベース電位は、 V2L=Il□XR& +VSAT4 ・・・
(2)となる。
上記(1) (2)式より、この比較器は11□XR1
V!AT4の電圧ヒステリシスを持っている。
V!AT4の電圧ヒステリシスを持っている。
しかしながら、このような構成の比較器では、これをバ
イポーラ集積回路で構成したとき、−射的にトランジス
タのコレツク0エミツタ間の残留電圧が10〜100m
V生じ、製造バラツキもあるため、電圧ヒステリシス幅
が小さい比較器にこの回路は適さない。
イポーラ集積回路で構成したとき、−射的にトランジス
タのコレツク0エミツタ間の残留電圧が10〜100m
V生じ、製造バラツキもあるため、電圧ヒステリシス幅
が小さい比較器にこの回路は適さない。
この欠点を改善するために、第4図に示す回路が知られ
ている。この比較器は、第3図の回路にさらに、定電流
源I11、ダイオードD2を付加したものであり、電源
■°と抵抗Rh、R7の接続点間に定電流源l1ff、
ダイオードD2を接続し、ダイオードD2と抵抗R9に
並列にトランジスタTr4を接続している。
ている。この比較器は、第3図の回路にさらに、定電流
源I11、ダイオードD2を付加したものであり、電源
■°と抵抗Rh、R7の接続点間に定電流源l1ff、
ダイオードD2を接続し、ダイオードD2と抵抗R9に
並列にトランジスタTr4を接続している。
この比較器において、入力電圧■、が比較電圧よりも低
いときは、定電流源I11の電流は、トランジスタTr
zのコレクタ電路に流れ、トランジスタTr、のコレク
タ電路には流れない。そのため、スプリットコレクタ構
成を持つトランジスタTr、及びトランジスタTr、に
は、ベース電流が与えられず、トランジスタTr、は駆
動されない。そのため、比較電圧を生成するための電流
源t+zの電流は、抵抗R,,R7を通して、負電源電
圧V−に流れる。また、電流源I11の電流はダイオー
ドD2、抵抗R1を通して負電源電圧■−に流れる。し
たがって、この時の比較電圧であるトランジスタTr、
のベース電位は、 Vzo=V1zX(Rb+Rv) +I+xXR?
・・・(3)一方、入力電圧VINが比較電圧よりも
高いときは、電流源■、の電流はトランジスタTr+
のコレクタ電路を流れ、トランジスタTr、、にベース
電流を与え、トランジスタTr3が駆動される。
いときは、定電流源I11の電流は、トランジスタTr
zのコレクタ電路に流れ、トランジスタTr、のコレク
タ電路には流れない。そのため、スプリットコレクタ構
成を持つトランジスタTr、及びトランジスタTr、に
は、ベース電流が与えられず、トランジスタTr、は駆
動されない。そのため、比較電圧を生成するための電流
源t+zの電流は、抵抗R,,R7を通して、負電源電
圧V−に流れる。また、電流源I11の電流はダイオー
ドD2、抵抗R1を通して負電源電圧■−に流れる。し
たがって、この時の比較電圧であるトランジスタTr、
のベース電位は、 Vzo=V1zX(Rb+Rv) +I+xXR?
・・・(3)一方、入力電圧VINが比較電圧よりも
高いときは、電流源■、の電流はトランジスタTr+
のコレクタ電路を流れ、トランジスタTr、、にベース
電流を与え、トランジスタTr3が駆動される。
そのため、出力トランジスタTrsが駆動され、出力電
圧P0の出力■。U7をL 11にするとともに、トラ
ンジスタTraも駆動され、電流源■1゜をトランジス
タTr、のコレクタ電路に分流する。
圧P0の出力■。U7をL 11にするとともに、トラ
ンジスタTraも駆動され、電流源■1゜をトランジス
タTr、のコレクタ電路に分流する。
電流源■+zの電流は抵抗R6、R?を通して、負電源
電圧■−に流れるため、このときの比較電圧であるトラ
ンジスタTrzのベース電位は、V zL= I +z
X (Rh+ R?) ・・・(4)とな
る。
電圧■−に流れるため、このときの比較電圧であるトラ
ンジスタTrzのベース電位は、V zL= I +z
X (Rh+ R?) ・・・(4)とな
る。
上記(3) (4)弐より、この比較器はr13x’R
7の電圧ヒステリシスを持っている。
7の電圧ヒステリシスを持っている。
(ハ)発明が解決しようとする課題
上記改善された従来の比較器(第4図の)は、電圧ヒス
テリシスが、トランジスタのコレクタ←エミッタ間残留
電圧に依存しないため、電圧ヒステリシス幅が小さい比
較器も構成可能である。
テリシスが、トランジスタのコレクタ←エミッタ間残留
電圧に依存しないため、電圧ヒステリシス幅が小さい比
較器も構成可能である。
しかしながら、第4図に示したこの比較器は、電流源1
1:l及びダイオードD2の2素子の追加を必要とし、
集積回路全体の素子数の増加及び面積増を生じ、さらに
電圧ヒステリシス幅を小さくするためには、微小電流値
の電流源又は微小値の抵抗を必要とする問題がある。
1:l及びダイオードD2の2素子の追加を必要とし、
集積回路全体の素子数の増加及び面積増を生じ、さらに
電圧ヒステリシス幅を小さくするためには、微小電流値
の電流源又は微小値の抵抗を必要とする問題がある。
この発明は上記問題点に着目してなされたものであって
、集積回路の素子数の増加を要することなく、それでい
て電圧ヒステリシス幅の小さいものにも適用できる比較
器を提供することを目的としている。
、集積回路の素子数の増加を要することなく、それでい
て電圧ヒステリシス幅の小さいものにも適用できる比較
器を提供することを目的としている。
(ニ)課題を解決するための手段及び作用この発明の比
較器は、第1と第2のトランジスタが並列に接続されて
定電流源に接続され、第1のトランジスタに入力電圧が
、第2のトランジスタに、抵抗を含む回路により比較電
圧が加えられるものであり、集積回路で構成されるもの
において、前記比較電圧発生用の抵抗に拡散抵抗を用い
、エピタキシャル層の電位を制御することにより、比較
電圧にヒステリシスを持たせている。
較器は、第1と第2のトランジスタが並列に接続されて
定電流源に接続され、第1のトランジスタに入力電圧が
、第2のトランジスタに、抵抗を含む回路により比較電
圧が加えられるものであり、集積回路で構成されるもの
において、前記比較電圧発生用の抵抗に拡散抵抗を用い
、エピタキシャル層の電位を制御することにより、比較
電圧にヒステリシスを持たせている。
この比較器では、比較電圧発生用の抵抗に拡散抵抗を用
いており、例えば出力変化に応じて、この拡散抵抗のエ
ピタキシャル層の電位を変化させることにより、その抵
抗値を変えることができ、比較電圧にヒステリシスを持
たせることができる。
いており、例えば出力変化に応じて、この拡散抵抗のエ
ピタキシャル層の電位を変化させることにより、その抵
抗値を変えることができ、比較電圧にヒステリシスを持
たせることができる。
電圧ヒステリシス幅も拡散抵抗の拡散密度、制御電圧の
電位の設定を適正にすることにより、十分に小さくでき
る。もちろん特別の素子を何ら設ける必要がない。
電位の設定を適正にすることにより、十分に小さくでき
る。もちろん特別の素子を何ら設ける必要がない。
(ホ)実施例
以下、実施例により、この発明をさらに詳細に説明する
。
。
第1図は、この発明の一実施例を示す比較器の回路接続
図である。この実施例比較器において、入力電圧v1.
4がベースに印加されるトランジスタTr、 、比較電
圧がベースに入力されるトランジスタTr、 、Tr2
のエミッタの共通接続点と負電源端V−間に接続される
定電流源Ill、トランジスタTr、のコレクタと正電
流源端v0間に接続されるトランジスタT r :l
、ヒステリシス比較電圧を発生するための電流源rag
、抵抗R,、R1を備えており、これらの基本構成にお
いて、第3図、第4図に示したものと変わるところはな
い。
図である。この実施例比較器において、入力電圧v1.
4がベースに印加されるトランジスタTr、 、比較電
圧がベースに入力されるトランジスタTr、 、Tr2
のエミッタの共通接続点と負電源端V−間に接続される
定電流源Ill、トランジスタTr、のコレクタと正電
流源端v0間に接続されるトランジスタT r :l
、ヒステリシス比較電圧を発生するための電流源rag
、抵抗R,、R1を備えており、これらの基本構成にお
いて、第3図、第4図に示したものと変わるところはな
い。
この実施例比較器の特徴は、抵抗R1に拡散抵抗を用い
、この拡散抵抗のエピタキシャル層に出力電圧P0を接
続し、出力電圧■。utの変化(ハイ/ロー)に応じ、
抵抗値を変化させて、比較電圧にヒステリシスを持たせ
ていることである。
、この拡散抵抗のエピタキシャル層に出力電圧P0を接
続し、出力電圧■。utの変化(ハイ/ロー)に応じ、
抵抗値を変化させて、比較電圧にヒステリシスを持たせ
ていることである。
次に、拡散抵抗R1について説明する。
第2図に、−船釣なバイポーラ集積回路のP。
拡散抵抗の構造を示している。
同図において、P−sub21とP型置離層22で囲ま
れたN型エピタキシャル層23の中に拡散密度の高いP
1拡散層24を形成している。このP3拡散層24を抵
抗として利用する。P型置離層22、N型エピタキシャ
ル層23及びP°拡散層24の上面には絶縁酸化膜層2
5が形成されている。26.27は、P°拡散層24、
つまり拡散抵抗の外部導出用の電極、28は導電金属層
である。1つのN型エピタキシャル層23の中に、通常
複数のP“拡散層24を持つことができるが、このとき
、各々のP゛拡散層24同志が電気的に分離されるよう
にN型エピタキシャル層23を、その中に含まれるP“
拡散層24のあらゆる部分より高い電位の点に接続する
。29はN型エピタキシャル層23より拡散密度の高い
N゛拡散層であり、N型エピタキシャル層23と導電金
属層28の電気的接触の信頼性を高めるために付加され
ている。第5図に、この拡散抵抗を素子シンボルで表し
ている。
れたN型エピタキシャル層23の中に拡散密度の高いP
1拡散層24を形成している。このP3拡散層24を抵
抗として利用する。P型置離層22、N型エピタキシャ
ル層23及びP°拡散層24の上面には絶縁酸化膜層2
5が形成されている。26.27は、P°拡散層24、
つまり拡散抵抗の外部導出用の電極、28は導電金属層
である。1つのN型エピタキシャル層23の中に、通常
複数のP“拡散層24を持つことができるが、このとき
、各々のP゛拡散層24同志が電気的に分離されるよう
にN型エピタキシャル層23を、その中に含まれるP“
拡散層24のあらゆる部分より高い電位の点に接続する
。29はN型エピタキシャル層23より拡散密度の高い
N゛拡散層であり、N型エピタキシャル層23と導電金
属層28の電気的接触の信頼性を高めるために付加され
ている。第5図に、この拡散抵抗を素子シンボルで表し
ている。
この拡散抵抗24は、N型エピタキシャル層23の電位
により、抵抗値が変動する。その理由はN型エピタキシ
ャル層23の電位が高いほど、P゛拡散層24との間に
空乏層が生じ、P゛拡散N24の実効的な電路を狭める
ために、結果的に抵抗値が上がるためである。
により、抵抗値が変動する。その理由はN型エピタキシ
ャル層23の電位が高いほど、P゛拡散層24との間に
空乏層が生じ、P゛拡散N24の実効的な電路を狭める
ために、結果的に抵抗値が上がるためである。
上記第1図に示した比較器には、抵抗R4、R。
に上記のP゛拡散抵抗を利用している。そして抵抗R7
のN型エピタキシャル層23の電位を出力電圧■。u7
に接続、つまり金属導電層28を延設して、28aを出
力電圧に接続している。抵抗R&の金属導電層28は、
所定の電位、例えば■゛に接続され、固定される。
のN型エピタキシャル層23の電位を出力電圧■。u7
に接続、つまり金属導電層28を延設して、28aを出
力電圧に接続している。抵抗R&の金属導電層28は、
所定の電位、例えば■゛に接続され、固定される。
第1図の比較器において、入力電圧PLに加えられる入
力信号VINが、比較電圧であるトランジスタTr、の
ベース電位より低いとき、第3図、第4図の回路と同様
に、やはりトランジスタTrsは駆動されないので、出
力電圧の電位はH’″である。したがって、二〇゛H1
1電位により、N型エピタキシャル層が接続されている
抵抗R7の抵抗値は増加する。比較電圧、つまりトラン
ジスタTr、のベース電位は、 Vz = I +zX (R6+R? ) ・・
・(5)で表されるから、抵抗R7の増加により増加す
る。
力信号VINが、比較電圧であるトランジスタTr、の
ベース電位より低いとき、第3図、第4図の回路と同様
に、やはりトランジスタTrsは駆動されないので、出
力電圧の電位はH’″である。したがって、二〇゛H1
1電位により、N型エピタキシャル層が接続されている
抵抗R7の抵抗値は増加する。比較電圧、つまりトラン
ジスタTr、のベース電位は、 Vz = I +zX (R6+R? ) ・・
・(5)で表されるから、抵抗R7の増加により増加す
る。
一方、入力電圧P、に加えられる入力信号■1.4が比
較電圧であるトランジスタTr2のベース電位よりも高
いときは、トランジスタTrsが駆動され、出力電圧P
0の電位は“L”となる。そのため、抵抗R1の抵抗値
は減少し、比較電圧も減少する。
較電圧であるトランジスタTr2のベース電位よりも高
いときは、トランジスタTrsが駆動され、出力電圧P
0の電位は“L”となる。そのため、抵抗R1の抵抗値
は減少し、比較電圧も減少する。
このとき、第2図におけるP+拡散層24とN型エピタ
キシャル層23との電位関係が、ダイオード順方向バイ
アスとならないように、第1図の出力電圧の“L II
電位は抵抗R9の正電圧の電位より高(なければならな
い。そのため、この実施例では出力トランジスタTrs
のコレクタと出力電圧P0との間にダイオードD1を接
続し、出力電圧の“L”電位が0.7V以下にならぬよ
うにしている。
キシャル層23との電位関係が、ダイオード順方向バイ
アスとならないように、第1図の出力電圧の“L II
電位は抵抗R9の正電圧の電位より高(なければならな
い。そのため、この実施例では出力トランジスタTrs
のコレクタと出力電圧P0との間にダイオードD1を接
続し、出力電圧の“L”電位が0.7V以下にならぬよ
うにしている。
なお、電圧ヒステリシス幅は、拡散抵抗R1の拡散密度
と出力電圧の“H°″電位を選ぶことにより調整できる
。−船釣にP゛拡散抵抗のN型エピタキシャル層電位に
対する依存係数は小さいため、第3図、第4図のもので
は困難であった電圧ヒステリシス幅が微小な比較器も簡
単に構成できる。
と出力電圧の“H°″電位を選ぶことにより調整できる
。−船釣にP゛拡散抵抗のN型エピタキシャル層電位に
対する依存係数は小さいため、第3図、第4図のもので
は困難であった電圧ヒステリシス幅が微小な比較器も簡
単に構成できる。
if図の比較器において、I、□=lO(μA]、R,
=100 (KΩ)、R?=lO(KΩ〕、出力電圧P
。の“Ho”電位=20(V)、“′L°°電位=0,
7(V)とし、抵抗R1にP゛拡散抵抗のN型エピタキ
シャル層電位への依存係数が0.5〔%/V)の抵抗を
使用したところ、約10 (mV)の電圧ヒステリシス
を得た。
=100 (KΩ)、R?=lO(KΩ〕、出力電圧P
。の“Ho”電位=20(V)、“′L°°電位=0,
7(V)とし、抵抗R1にP゛拡散抵抗のN型エピタキ
シャル層電位への依存係数が0.5〔%/V)の抵抗を
使用したところ、約10 (mV)の電圧ヒステリシス
を得た。
以上のように、上記実施例では、第3図のトランジスタ
Tr、、第4図のトランジスタTr4、電流源112、
ダイオードD2のように、新たに電圧ヒステリシス用の
素子を準備することなく、電圧ヒステリシスを設けるこ
とが可能であり、回路構成素子数を減少でき、集積回路
上の占有面積を小さくできる。
Tr、、第4図のトランジスタTr4、電流源112、
ダイオードD2のように、新たに電圧ヒステリシス用の
素子を準備することなく、電圧ヒステリシスを設けるこ
とが可能であり、回路構成素子数を減少でき、集積回路
上の占有面積を小さくできる。
なお、上記実施例では、比較電圧にヒステリシスを持た
せるための抵抗として、拡散抵抗R6%R7を直列に接
続し、抵抗R7のエピタキシャル層の電位を制御するよ
うにしているが、抵抗R6、R1ともエピタキシャル層
の電位を制御してもよいし、また、抵抗R6,R?を一
個の拡散抵抗とし、そのエピタキシャル層の電位を制御
してもよい。
せるための抵抗として、拡散抵抗R6%R7を直列に接
続し、抵抗R7のエピタキシャル層の電位を制御するよ
うにしているが、抵抗R6、R1ともエピタキシャル層
の電位を制御してもよいし、また、抵抗R6,R?を一
個の拡散抵抗とし、そのエピタキシャル層の電位を制御
してもよい。
(へ)発明の効果
この発明によれば、比較電圧にヒステリシスを持たせる
ための抵抗に、拡散抵抗を用い、エピタキシャル層の電
位を制御することにより、抵抗値を切替えるものである
から、電位ヒステリシス幅の微小な比較器でも実現でき
、しかも、ヒステリシスを持たせるために、従来のよう
なトランジスタ、ダイオード等の特別の素子を必要とせ
ず、構成素子数、占有面積の小さい比較器を得ることが
できる。
ための抵抗に、拡散抵抗を用い、エピタキシャル層の電
位を制御することにより、抵抗値を切替えるものである
から、電位ヒステリシス幅の微小な比較器でも実現でき
、しかも、ヒステリシスを持たせるために、従来のよう
なトランジスタ、ダイオード等の特別の素子を必要とせ
ず、構成素子数、占有面積の小さい比較器を得ることが
できる。
第1図は、この発明の一実施例を示す比較器の回路接続
図、第2図は、同比較器に使用される集積回路の拡散抵
抗の構造を示す断面図、第3図及び第4図は従来の比較
器を示す回路接続図、第5図は、拡散抵抗の素子シンボ
ル図である。 Tr、 ・Tr、:比較器構成用のトランジスタ、■
、:定電流源、 R7:拡散抵抗。 特許出願人 立石電機株式会社代理人 弁理
士 中 村 茂 信 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図
図、第2図は、同比較器に使用される集積回路の拡散抵
抗の構造を示す断面図、第3図及び第4図は従来の比較
器を示す回路接続図、第5図は、拡散抵抗の素子シンボ
ル図である。 Tr、 ・Tr、:比較器構成用のトランジスタ、■
、:定電流源、 R7:拡散抵抗。 特許出願人 立石電機株式会社代理人 弁理
士 中 村 茂 信 第 図 第 図 第 図 第 図 第 図
Claims (1)
- (1)第1と第2のトランジスタが並列に接続されて定
電流源に接続され、第1のトランジスタに入力電圧が、
第2のトランジスタに抵抗を含む回路により比較電圧が
加えられるものであり、集積回路で構成される比較器に
おいて、 前記比較電圧発生用の抵抗に拡散抵抗を用い、エピタキ
シャル層の電位を制御することにより、比較電圧にヒス
テリシスを持たせることを特徴とする比較器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1050488A JPH02228811A (ja) | 1989-03-02 | 1989-03-02 | 比較器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1050488A JPH02228811A (ja) | 1989-03-02 | 1989-03-02 | 比較器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02228811A true JPH02228811A (ja) | 1990-09-11 |
Family
ID=12860306
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1050488A Pending JPH02228811A (ja) | 1989-03-02 | 1989-03-02 | 比較器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02228811A (ja) |
-
1989
- 1989-03-02 JP JP1050488A patent/JPH02228811A/ja active Pending
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