JPH02218660A - 置換ヘキセン酸誘導体 - Google Patents
置換ヘキセン酸誘導体Info
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- C07C405/005—Analogues or derivatives having the five membered ring replaced by other rings
- C07C405/0075—Analogues or derivatives having the five membered ring replaced by other rings having the side-chains or their analogues or derivatives attached to a condensed ring system
- C07C405/0091—Analogues or derivatives having the five membered ring replaced by other rings having the side-chains or their analogues or derivatives attached to a condensed ring system which is bridged condensed
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ0発明の目的
髪!上二上月上里
本発明は、侵れたトロンボキサンA、(TXAりレセプ
ターアンタゴニスト作用を有する化合物に関し、更に詳
しくは、抗血栓剤、抗血管収縮剤、抗血管収縮剤として
使用される置換フェニルスルホニルアミンビシクロ[2
,2,1]へブチルヘキセン酸誘導体またはその製薬上
許容しうるエステルもしくは塩に関する。
ターアンタゴニスト作用を有する化合物に関し、更に詳
しくは、抗血栓剤、抗血管収縮剤、抗血管収縮剤として
使用される置換フェニルスルホニルアミンビシクロ[2
,2,1]へブチルヘキセン酸誘導体またはその製薬上
許容しうるエステルもしくは塩に関する。
従jヱ2i度
本発明者らは、先に数種のビシクロ環系スルホンアミド
誘導体が強いTXA、レセプターアンタゴニスト作用を
有することを見出し、多くの化合物群を開示している(
特開昭第63−139161号)。
誘導体が強いTXA、レセプターアンタゴニスト作用を
有することを見出し、多くの化合物群を開示している(
特開昭第63−139161号)。
これらの化合物群のうちビシクロ[2,2,1]へブチ
ル系誘導体は特に薬理活性が優れ、かつ安全性も高いこ
とが知られて有望視されている。しかしながら、これら
の化合物群は経口投与などの血中濃度が比較的緩やかに
上昇する様な投与形態では、非常に好tしい薬効を示す
が、急激に高血中濃度に達する様な投与形態、即ち、ワ
ン−ショット(one−shot)静注などでは、投与
直後に、非常に短時間ではあるが、TXA、レセプター
アゴニスト作用(パーシャルアゴニスト作用)を示すこ
とが確認されており、副作用面で好ましくなかった。
ル系誘導体は特に薬理活性が優れ、かつ安全性も高いこ
とが知られて有望視されている。しかしながら、これら
の化合物群は経口投与などの血中濃度が比較的緩やかに
上昇する様な投与形態では、非常に好tしい薬効を示す
が、急激に高血中濃度に達する様な投与形態、即ち、ワ
ン−ショット(one−shot)静注などでは、投与
直後に、非常に短時間ではあるが、TXA、レセプター
アゴニスト作用(パーシャルアゴニスト作用)を示すこ
とが確認されており、副作用面で好ましくなかった。
明が しようとする課
静脈内投与可能な(即ち、高濃度でもパーシャルアゴニ
スト作用を示さない)TXA、レセプターアンタゴニス
トの開発が望まれていた。
スト作用を示さない)TXA、レセプターアンタゴニス
トの開発が望まれていた。
(以下余白)
口0発明の構成
するための手
本発明者らは、以上の点に鑑みて、数多くの化合物を合
成し、検討を重ねた結果、式(I):[式中、Rは水素
、メチル、ヒドロキシ、クロロまたはブロモを表わすコ
で示される置換ヘキセン酸が本発明目的を充足する事を
見出し、本発明を完成した。
成し、検討を重ねた結果、式(I):[式中、Rは水素
、メチル、ヒドロキシ、クロロまたはブロモを表わすコ
で示される置換ヘキセン酸が本発明目的を充足する事を
見出し、本発明を完成した。
本発明化合物(I)は、その式からも明らかな様に、先
に示した特開昭63−139161の発明の概念に含ま
れる化合物である。該公報では2位の置換基として本文
中にヘキセン酸を例示はしているものの、実施例に開示
した2位の側鎖としてはヘプテン酸が多く、本発明が請
求するような置換フェニルスルホニルアミノビシクロ[
2,2゜1コヘプチルヘキセン酸誘導体(I)の具体的
開示は全くない。
に示した特開昭63−139161の発明の概念に含ま
れる化合物である。該公報では2位の置換基として本文
中にヘキセン酸を例示はしているものの、実施例に開示
した2位の側鎖としてはヘプテン酸が多く、本発明が請
求するような置換フェニルスルホニルアミノビシクロ[
2,2゜1コヘプチルヘキセン酸誘導体(I)の具体的
開示は全くない。
該公報中に具体的に記載された本発明に構造上履も近い
化合物としては、置換または非置換フェニルスルホニル
アミノビシクロ[2,2,1]へブチルヘプテン酸が有
る0本発明化合物との差異は2位の側鎖のメチレン1個
が多いか少ないかだけの僅かな差異であるが、以下の実
施例で示きれているように、このような構造上の僅かな
差異が、作用面で大きな相違となって現れてくるとは全
く意外であり予期できない効果だった。
化合物としては、置換または非置換フェニルスルホニル
アミノビシクロ[2,2,1]へブチルヘプテン酸が有
る0本発明化合物との差異は2位の側鎖のメチレン1個
が多いか少ないかだけの僅かな差異であるが、以下の実
施例で示きれているように、このような構造上の僅かな
差異が、作用面で大きな相違となって現れてくるとは全
く意外であり予期できない効果だった。
本発明化合物は、式からも明らかなようにカルボン酸で
あるので、当業者が予想しうる程度の製薬上許容しうる
範囲のそのエステルまたは塩は本発明思想の範囲に包含
きれる。また、本明細書中では式(1)で示される絶対
配置を有する化合物を便宜上記載しているが、その鏡像
異性体およびそれらの混合物であっていも良い。なぜな
ら式(I)で示された絶対配置の化合物が最も活性が強
く、本発明目的には適しているが、不斉合成は高価なも
のになるし、また、本発明化合物は非常に微量で高い活
性を示すので、特に光学純度を高めなくとも充分に本発
明目的に供しうる。従って、以下の本発明明細書中では
、これらを総称して単に本発明化合物という。
あるので、当業者が予想しうる程度の製薬上許容しうる
範囲のそのエステルまたは塩は本発明思想の範囲に包含
きれる。また、本明細書中では式(1)で示される絶対
配置を有する化合物を便宜上記載しているが、その鏡像
異性体およびそれらの混合物であっていも良い。なぜな
ら式(I)で示された絶対配置の化合物が最も活性が強
く、本発明目的には適しているが、不斉合成は高価なも
のになるし、また、本発明化合物は非常に微量で高い活
性を示すので、特に光学純度を高めなくとも充分に本発
明目的に供しうる。従って、以下の本発明明細書中では
、これらを総称して単に本発明化合物という。
本発明化合物による薬理効果は、特に2位の側鎖である
ヘキセン酸に特徴的なものであると考えられている。従
って、もう一方の側鎖であるフェニルスルホニルアミノ
基のフェニル上の置換基としてのメチル、ヒドロキシ、
クロロまたはブロモは、2−13−または4−位のいず
れに置換していても良い、ただ本発明者らの研究によれ
ば、とりわけ、非置換またはメチル、ヒドロキシ、クロ
ロもしくはブロモが4位に置換するのが主作用の面から
みて好ましい、また、ヒドロキシは、アセチルなどでエ
ステル化されていてもよい。
ヘキセン酸に特徴的なものであると考えられている。従
って、もう一方の側鎖であるフェニルスルホニルアミノ
基のフェニル上の置換基としてのメチル、ヒドロキシ、
クロロまたはブロモは、2−13−または4−位のいず
れに置換していても良い、ただ本発明者らの研究によれ
ば、とりわけ、非置換またはメチル、ヒドロキシ、クロ
ロもしくはブロモが4位に置換するのが主作用の面から
みて好ましい、また、ヒドロキシは、アセチルなどでエ
ステル化されていてもよい。
本発明化合物は以下のものとエステルを形成することが
できる。
できる。
エステル保護用エステル:例えば、炭素数1〜8のアル
キルエステル(メチル、メトキシメチル、エチル、エト
キシメチル、ヨードエチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、エトキシエチル、メチルチオニブ
ル、メタンスルホニルエチル、トリクロロエチルもしく
はtart−ブチルエステルなど)、炭素数3〜8のア
ルケニルエステル(プロペニル、アリル、プレニル、ヘ
キセニル、フェニルプロペニルもしくはジメチルへキセ
ニルエステルなど)、炭素数7〜19の′7ラルキルエ
ステル(ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル
、メトキシベンジル、エトキシベンジル、ニトロベンジ
ル、アミノベンジル、ジフェニルメチル、フェニルエチ
ル、トリチル、ジーtart−ブチルヒドロキシベンジ
ル、フタリジルもしくはフェナシルエステルなど)、炭
素数6〜12のアリールエステル(フェニル、トルイル
、ジイソプロピルフェニル、キシリル、トリクロロフェ
ニル、ペンタクロロフェニルもしくはインダニルエステ
ルなど)、炭素数1〜12のN−ヒドロキシアミ/化合
物とのエステル(アセトンオキシム、アセトフェノンオ
キシム、アセトアルドキシム、N−ヒドロキシこはく酸
イミドもしくはN−ヒドロキシフタルイミドなどとのエ
ステル)、炭素数3〜12の炭化水素化シリルエステル
(トリメチルシリル、ジメチルメトキシシリルもしくは
tart−ブチルジメチルシリルエステルなど)または
炭素数3〜12の炭化水禦化スタニルエステル(トリメ
チルスタニルエステルなど)など。
キルエステル(メチル、メトキシメチル、エチル、エト
キシメチル、ヨードエチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、エトキシエチル、メチルチオニブ
ル、メタンスルホニルエチル、トリクロロエチルもしく
はtart−ブチルエステルなど)、炭素数3〜8のア
ルケニルエステル(プロペニル、アリル、プレニル、ヘ
キセニル、フェニルプロペニルもしくはジメチルへキセ
ニルエステルなど)、炭素数7〜19の′7ラルキルエ
ステル(ベンジル、メチルベンジル、ジメチルベンジル
、メトキシベンジル、エトキシベンジル、ニトロベンジ
ル、アミノベンジル、ジフェニルメチル、フェニルエチ
ル、トリチル、ジーtart−ブチルヒドロキシベンジ
ル、フタリジルもしくはフェナシルエステルなど)、炭
素数6〜12のアリールエステル(フェニル、トルイル
、ジイソプロピルフェニル、キシリル、トリクロロフェ
ニル、ペンタクロロフェニルもしくはインダニルエステ
ルなど)、炭素数1〜12のN−ヒドロキシアミ/化合
物とのエステル(アセトンオキシム、アセトフェノンオ
キシム、アセトアルドキシム、N−ヒドロキシこはく酸
イミドもしくはN−ヒドロキシフタルイミドなどとのエ
ステル)、炭素数3〜12の炭化水素化シリルエステル
(トリメチルシリル、ジメチルメトキシシリルもしくは
tart−ブチルジメチルシリルエステルなど)または
炭素数3〜12の炭化水禦化スタニルエステル(トリメ
チルスタニルエステルなど)など。
薬理学的活性エステル:例えば、炭素数2〜15の1−
wI素置換アルキルエステル(直鎖、分校、環状または
部分環状のアルカノイルオキシアルキルエステル(アセ
トキシエチル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、ピバロイルオキシエ
チル、シクロヘキサンアセトキシエチルもしくはシクロ
ヘキサンカルボニルオキジシクロヘキシルメチルエステ
ルなど)、炭素数3〜15のアルフキジカルボニルオキ
シアルキルエステル(エトキシカルボニルオキシエチル
、イソプロポキシカルボニルオキシエチル、インプロポ
キシカルボニルオキシプロピル、 tart−ブトキシ
カルボニルオキシエチル、イソベンチルオキシカルボニ
ルオキシブロピル、シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシエチル、シクロへキシルメトキシカルボニルオキシ
エチルもしくはボルニルオキシカルボニルオキシインプ
ロピルエステルなど)、炭素数2〜Bのアルフキジアル
キルエステル(メトキシメチルもしくはメトキシエチル
エステルなど)、炭素数4〜8の2−オキサシクロアル
キルエステル(テトラヒドロピラニルもしくはテトラヒ
ドロフラニルエステルなど)など)、炭素数8〜12の
置換アラルキルエステル(フェナシルもしくはフタリジ
ルエステルなど)、炭素数6〜12のアリールエステル
(フェニル、キシリルもしくはインダニルエステルなど
)または炭素数2〜12のアルケニルエステル(アリル
もしくは(2−才キソー1,3−ジオキソリル)メチル
エステルなど)など、これらのエステル残基部分はさら
に置換基を有していてもよい。
wI素置換アルキルエステル(直鎖、分校、環状または
部分環状のアルカノイルオキシアルキルエステル(アセ
トキシエチル、アセトキシエチル、プロピオニルオキシ
メチル、ピバロイルオキシメチル、ピバロイルオキシエ
チル、シクロヘキサンアセトキシエチルもしくはシクロ
ヘキサンカルボニルオキジシクロヘキシルメチルエステ
ルなど)、炭素数3〜15のアルフキジカルボニルオキ
シアルキルエステル(エトキシカルボニルオキシエチル
、イソプロポキシカルボニルオキシエチル、インプロポ
キシカルボニルオキシプロピル、 tart−ブトキシ
カルボニルオキシエチル、イソベンチルオキシカルボニ
ルオキシブロピル、シクロヘキシルオキシカルボニルオ
キシエチル、シクロへキシルメトキシカルボニルオキシ
エチルもしくはボルニルオキシカルボニルオキシインプ
ロピルエステルなど)、炭素数2〜Bのアルフキジアル
キルエステル(メトキシメチルもしくはメトキシエチル
エステルなど)、炭素数4〜8の2−オキサシクロアル
キルエステル(テトラヒドロピラニルもしくはテトラヒ
ドロフラニルエステルなど)など)、炭素数8〜12の
置換アラルキルエステル(フェナシルもしくはフタリジ
ルエステルなど)、炭素数6〜12のアリールエステル
(フェニル、キシリルもしくはインダニルエステルなど
)または炭素数2〜12のアルケニルエステル(アリル
もしくは(2−才キソー1,3−ジオキソリル)メチル
エステルなど)など、これらのエステル残基部分はさら
に置換基を有していてもよい。
尚、本発明化合物の製剤化に際しては、上記のエステル
類から目的に合致したものを選択すれば良く、中でも低
級アルキルエステルが好ましく、とりわけメチルエステ
ルが推奨される。
類から目的に合致したものを選択すれば良く、中でも低
級アルキルエステルが好ましく、とりわけメチルエステ
ルが推奨される。
フェニルの置換基がヒドロキシのとき、例えば、アルカ
ノイル(アセチルなど)などでエステル化されていても
よい。
ノイル(アセチルなど)などでエステル化されていても
よい。
本発明化合物の許容しうる塩としては、リチウム、ナト
リウムもしくはカリウムなどのアルカリ金属;カルシウ
ムもしくはマグネシウムなどのアルカリ土類金属;トリ
エチルアミン、2−アミノブタン、tart−ブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、n−ブチルメチル
アミン、n−ブチルジメチルアミン、トリーn−ブチル
アミン、シンクロヘキシルアミン、N−イソプロピルシ
クロヘキシルアミン、フルフリルアミン、ベンジルアミ
ン、メチルベンジルアミン、ジベンジルアミン、N、N
−ジメチルベンジルアミン、2−クロロベンジルアミン
、4−メトキシベンジルアミン、1−ナフチルメチルア
ミン、ジフェニルベンジルアミン、トリフェニルアミン
、1−ナフチルアミン、1−アミノアントラセン、2−
アミノアントラセン、デヒドロアビエチルアミン、N−
メチルモルホリンもしくはピリジンなどの有機塩基;ま
たは、リジン、アルギニンもしくはヒスチジンなどのア
ミノ酸;などとの塩を挙げることができ、とりわCナナ
トリウム、カルシウムまたはリジンなどとの塩が好まし
い。
リウムもしくはカリウムなどのアルカリ金属;カルシウ
ムもしくはマグネシウムなどのアルカリ土類金属;トリ
エチルアミン、2−アミノブタン、tart−ブチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン、n−ブチルメチル
アミン、n−ブチルジメチルアミン、トリーn−ブチル
アミン、シンクロヘキシルアミン、N−イソプロピルシ
クロヘキシルアミン、フルフリルアミン、ベンジルアミ
ン、メチルベンジルアミン、ジベンジルアミン、N、N
−ジメチルベンジルアミン、2−クロロベンジルアミン
、4−メトキシベンジルアミン、1−ナフチルメチルア
ミン、ジフェニルベンジルアミン、トリフェニルアミン
、1−ナフチルアミン、1−アミノアントラセン、2−
アミノアントラセン、デヒドロアビエチルアミン、N−
メチルモルホリンもしくはピリジンなどの有機塩基;ま
たは、リジン、アルギニンもしくはヒスチジンなどのア
ミノ酸;などとの塩を挙げることができ、とりわCナナ
トリウム、カルシウムまたはリジンなどとの塩が好まし
い。
(以下余白)
以下に、代表的な本発明化合物を例示する。
(1) (I R,2R,3S、45)−(5Z)−
6−(3−7zニルスルホニルアミノビシクロ[2,2
,1]ヘプト−2−イル)−5−ヘキセン酸 (Ia−
b)、■ (t R,2R,3S、45)−(5Z)−
6−[3−(o−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[
2,2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸、 (3) (I R,2R,3S、45)−(5Z)−
6−[3−(m−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[
2,2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸、 (荀 (I R,2R,3S、4 5)−(5Z
)−6−[3−(p−トリルスルホニルアミノ)ビシク
ロ[2,2,1]ヘプト−2−イルツー5−ヘキセン酸
(Ib−a)、(S) (I R,2R,3S、4
5)−(5Z)−6−[3−(2−ヒドロキシフェニル
スルホニルアミノ)ビシクロ[2,2,11ヘプト−2
−イル]−5−ヘキセン酸、(6) (I R,2R
,3S、45)−(5Z)−6−[3−(3−ヒドロキ
シフェニルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,2,1]
ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸、■ (I R,
2R,3S、4 S’)−<52)−6−[3−(4−
ヒドロキシフェニルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸 く工ζ
b)、 (8) (I R,2R,3S、45)−(5Z)−
6−[3−(2−ブロモフェニルスルホニルアミノ)ビ
シクロ[2゜2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセ
ン酸、(9) (I R,2R,3S、45)−(5
Z)−6−[3−(3−ブロモフェニルスルホニルアミ
ノ)ビシクロ[2゜2.1]ヘプト−2−イルツー5−
ヘキセン酸、@ (I R,2R,3S、45)−(
5Z)−6−[3−(4−ブロモフェニルスルホニルア
ミン)ビシクロ[2゜2.1]ヘプト−2−イルツー5
−ヘキセン酸 (Id−b)。
6−(3−7zニルスルホニルアミノビシクロ[2,2
,1]ヘプト−2−イル)−5−ヘキセン酸 (Ia−
b)、■ (t R,2R,3S、45)−(5Z)−
6−[3−(o−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[
2,2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸、 (3) (I R,2R,3S、45)−(5Z)−
6−[3−(m−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[
2,2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸、 (荀 (I R,2R,3S、4 5)−(5Z
)−6−[3−(p−トリルスルホニルアミノ)ビシク
ロ[2,2,1]ヘプト−2−イルツー5−ヘキセン酸
(Ib−a)、(S) (I R,2R,3S、4
5)−(5Z)−6−[3−(2−ヒドロキシフェニル
スルホニルアミノ)ビシクロ[2,2,11ヘプト−2
−イル]−5−ヘキセン酸、(6) (I R,2R
,3S、45)−(5Z)−6−[3−(3−ヒドロキ
シフェニルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,2,1]
ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸、■ (I R,
2R,3S、4 S’)−<52)−6−[3−(4−
ヒドロキシフェニルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,
2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセン酸 く工ζ
b)、 (8) (I R,2R,3S、45)−(5Z)−
6−[3−(2−ブロモフェニルスルホニルアミノ)ビ
シクロ[2゜2.1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキセ
ン酸、(9) (I R,2R,3S、45)−(5
Z)−6−[3−(3−ブロモフェニルスルホニルアミ
ノ)ビシクロ[2゜2.1]ヘプト−2−イルツー5−
ヘキセン酸、@ (I R,2R,3S、45)−(
5Z)−6−[3−(4−ブロモフェニルスルホニルア
ミン)ビシクロ[2゜2.1]ヘプト−2−イルツー5
−ヘキセン酸 (Id−b)。
(11) (IR,2R,3S、4S)−(5Z)−
6−[:3−(2−クロロフェニルスルホニルアミノ)
ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキ
セン酸、(12) (IR,2R,3S、4S)−
(5Z)−6−[3−(3−クロロフェニルスルホニル
アミノ)ビシクロし2.2.13ヘプト−2−イル]−
5−ヘキセン酸、(13) (IR,2R,3S、4
S)−(5Z)−6−[3−(4−クロロフェニルスル
ホニルアミノ)′ビシクロ[2,2,1コヘプト−2−
イルツー5−ヘキセン酸 (Ia−b)、 ならびにその製薬上許容しろるエステルもしくは塩。
6−[:3−(2−クロロフェニルスルホニルアミノ)
ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−イル]−5−ヘキ
セン酸、(12) (IR,2R,3S、4S)−
(5Z)−6−[3−(3−クロロフェニルスルホニル
アミノ)ビシクロし2.2.13ヘプト−2−イル]−
5−ヘキセン酸、(13) (IR,2R,3S、4
S)−(5Z)−6−[3−(4−クロロフェニルスル
ホニルアミノ)′ビシクロ[2,2,1コヘプト−2−
イルツー5−ヘキセン酸 (Ia−b)、 ならびにその製薬上許容しろるエステルもしくは塩。
(以下余白)
本発明化合物CI)は、式(■):
[式中、R1はカルボキシ保護基を表わす、]に式:
[式中、R゛は水素、メチJ呟アセトキシ、クロロまた
はブロモ; Halはハロゲンを表わすコを反応させ、
所望により脱保護反応、活性エステル形成反応および/
または塩形成反応に付すことにより製造することができ
る。
はブロモ; Halはハロゲンを表わすコを反応させ、
所望により脱保護反応、活性エステル形成反応および/
または塩形成反応に付すことにより製造することができ
る。
スルホンアミド形成反応は、常法に従い、例えば、特開
昭第63−139161号に開示されている方法により
行なうことができる。
昭第63−139161号に開示されている方法により
行なうことができる。
(以下余白)
脱保護反応は、常法に従い、例えば以下のように行なう
ことができる。
ことができる。
1)カルボキシ保護基は、一般的には、不活性溶媒中、
酸または塩基などを作用させれば脱保護できる。また特
殊な場合には、例えば、トリクロロエチルエステルにつ
いては金属と酸;p−ニトロベンジルエステルについて
は水素添加、ジチオン酸塩または金属と酸;フェナシル
エステルについては光照射などでも脱保護できる。
酸または塩基などを作用させれば脱保護できる。また特
殊な場合には、例えば、トリクロロエチルエステルにつ
いては金属と酸;p−ニトロベンジルエステルについて
は水素添加、ジチオン酸塩または金属と酸;フェナシル
エステルについては光照射などでも脱保護できる。
2)アラルキルであるカルボキシ保護基は触媒(パラジ
ウム、白金、ニッケルなど)存在下に水素添加すれば脱
保護できる。
ウム、白金、ニッケルなど)存在下に水素添加すれば脱
保護できる。
3 )21g3Nkアルキル、シクロプロピルメチル、
2−アルケニル、アラルキル、スルホニルエチルなどで
あるカルボキシ保護基は鉱酸、ルイス酸(塩化アルミニ
ウム、塩化スズ、塩化チタニウムなど)、スルホン酸(
ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸など)、強酸性カルボン酸(トリフル
オロ酢酸など)などの酸を、要すればカチオン補足剤(
アニソール、ベンゼンチオールなど)の存在下に作用さ
せれば脱保護できる。
2−アルケニル、アラルキル、スルホニルエチルなどで
あるカルボキシ保護基は鉱酸、ルイス酸(塩化アルミニ
ウム、塩化スズ、塩化チタニウムなど)、スルホン酸(
ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリフルオロ
メタンスルホン酸など)、強酸性カルボン酸(トリフル
オロ酢酸など)などの酸を、要すればカチオン補足剤(
アニソール、ベンゼンチオールなど)の存在下に作用さ
せれば脱保護できる。
4)2−アルケニルであるカルボキシ保護基はトリアリ
ールホスフィン−パラジウム錯化合物を作用させれば脱
保護できる。
ールホスフィン−パラジウム錯化合物を作用させれば脱
保護できる。
5)フェナシル、2−アルケニル、ヒドロキシアラルキ
ルなどであるカルボキシ保護基は塩基または求核剤を作
用させれば脱保護できる。
ルなどであるカルボキシ保護基は塩基または求核剤を作
用させれば脱保護できる。
6)他の均等なカルボキシ保護基の脱離法。
エステル形成反応は、常法に従い、例えば以下のように
行なうことができる。
行なうことができる。
1)カルボン酸を所望のエステルを形成するアルコール
またはフェノール誘導体とジシクロへキシルカルボジイ
ミド存在下、脱水縮合させること、 2)酸クロラドを所望のエステルを形成するアルコール
またはフェノール誘導体と塩基物質(例えば、金属マグ
ネシウム、ジメチルアニリン、ビJジン、水酸化ナトリ
ウムなど)存在下反応させること、 3)カルボン酸を所望のエステルを形成するアルコール
もしくは対応するアルケンまたはフェノール誘導体と酸
触媒(乾燥塩化水素または濃硫酸)存在下反応させるこ
とまたは 4)カルボン酸塩を所望のエステルを形成するアルキル
ハロゲン化物と反応きせることにより行なうことができ
る。
またはフェノール誘導体とジシクロへキシルカルボジイ
ミド存在下、脱水縮合させること、 2)酸クロラドを所望のエステルを形成するアルコール
またはフェノール誘導体と塩基物質(例えば、金属マグ
ネシウム、ジメチルアニリン、ビJジン、水酸化ナトリ
ウムなど)存在下反応させること、 3)カルボン酸を所望のエステルを形成するアルコール
もしくは対応するアルケンまたはフェノール誘導体と酸
触媒(乾燥塩化水素または濃硫酸)存在下反応させるこ
とまたは 4)カルボン酸塩を所望のエステルを形成するアルキル
ハロゲン化物と反応きせることにより行なうことができ
る。
カルボン酸塩は、カルボン酸を公知の方法、例えば、適
当は溶媒中でカルボン酸と適当な塩基、例えばアルカリ
金属、アルカリ土類金属の水酸化物もしくは炭酸塩、水
酸化アンモニウム、アンモニアまたは有機アミンを理論
量ずつ反応させることにより得られる0反応溶媒に可溶
な塩については、溶媒(通常水)を凍結乾燥するかまた
は反応溶媒に充分に不溶であるならば、必要に応じて溶
媒を一部除去したのち濾過することにより単離すること
ができる。
当は溶媒中でカルボン酸と適当な塩基、例えばアルカリ
金属、アルカリ土類金属の水酸化物もしくは炭酸塩、水
酸化アンモニウム、アンモニアまたは有機アミンを理論
量ずつ反応させることにより得られる0反応溶媒に可溶
な塩については、溶媒(通常水)を凍結乾燥するかまた
は反応溶媒に充分に不溶であるならば、必要に応じて溶
媒を一部除去したのち濾過することにより単離すること
ができる。
(以下余白)
本発明化合物として最も好ましいものは、下記式:
[式中、Rは水素、メチル、ヒドロキシ、クロロまたは
ブロモを表わすコで示きれる化合物またはその製薬上許
容しうるエステルもしくは塩の光学活性体である。
ブロモを表わすコで示きれる化合物またはその製薬上許
容しうるエステルもしくは塩の光学活性体である。
式1)で示される化合物は、例えば、3−置換アミノ−
2−ビシクロ[2,2,1]へブチルカルボン酸誘導体
を用いて以下のように容易に製造できる。
2−ビシクロ[2,2,1]へブチルカルボン酸誘導体
を用いて以下のように容易に製造できる。
(以下余白)
[式中、R3はカルボキシ保護基;R1はアミン保護基
を表わす] (第1工程) 本工程はカルボン酸8゛をアルデヒド二に還元する工程
である。
を表わす] (第1工程) 本工程はカルボン酸8゛をアルデヒド二に還元する工程
である。
本工程は特開昭63−139161に開示きれている方
法によって行なうことができる。また本工程は、カルボ
ン酸を酸クロライドなどの酸ハライドとした後、水素化
ホウ素ナトリウムなどの水素化金属を用いて還元するこ
とにより行なうこともできる。
法によって行なうことができる。また本工程は、カルボ
ン酸を酸クロライドなどの酸ハライドとした後、水素化
ホウ素ナトリウムなどの水素化金属を用いて還元するこ
とにより行なうこともできる。
第2工程のウイッチヒ反応、カルボキシ保護反応(R1
導入)および第3工程のアミン保護基の除去反応は、特
開昭63−139161に開示されている方法に従って
容易に行なうことができる。第2工程のウィッチヒ反応
において、2体が高収率で得られる。第3工程において
最初に得られるアミン1のトリプルオロ酢酸塩はそのま
まの形ででも、次の反応に付すことができる。
導入)および第3工程のアミン保護基の除去反応は、特
開昭63−139161に開示されている方法に従って
容易に行なうことができる。第2工程のウィッチヒ反応
において、2体が高収率で得られる。第3工程において
最初に得られるアミン1のトリプルオロ酢酸塩はそのま
まの形ででも、次の反応に付すことができる。
また、フェニルスルホニルを3位のアミノの保護基とし
て用いることもできる。
て用いることもできる。
1カルボキシ保護基、h (R1)とは、前記のカルボ
キシ保護用エステル残基、例えば、低級アルキル(メチ
ル、エチル、tart−ブチルなど)、アラルキル(ベ
ンジル、4−メトキシベンジル、トリフェニルメチルま
たはジフェニルメチルなど)など通常用いられるものを
意味する。
キシ保護用エステル残基、例えば、低級アルキル(メチ
ル、エチル、tart−ブチルなど)、アラルキル(ベ
ンジル、4−メトキシベンジル、トリフェニルメチルま
たはジフェニルメチルなど)など通常用いられるものを
意味する。
「アミノ保護基J (Rs)とは、アルフキジカルボニ
ル(例えば、tert−ブトキシカルボニルなど)また
はアラルフキジカルボニル(ベンジルオキシカルボニル
、ジフェニルメトキシカルボニルなど)または低級アル
カノイル(ホルミル、アセチルなど)など通常用いられ
るものを意味する。
ル(例えば、tert−ブトキシカルボニルなど)また
はアラルフキジカルボニル(ベンジルオキシカルボニル
、ジフェニルメトキシカルボニルなど)または低級アル
カノイル(ホルミル、アセチルなど)など通常用いられ
るものを意味する。
「ハライドJとは、フルオライド、クロライド、ブロマ
イドまたはヨーダイトを意味する。
イドまたはヨーダイトを意味する。
(以下余白)
光y目と1朱
本発明化合物は、トロンボキサンAtの作用発現を抑制
するため、炎症、高血圧症、血栓、脳卒中、心筋梗璽、
脳梗塑の予隣や治療に有効である。また、以下の実施例
で示す如く、パーシャルアゴニスト作用を事実上爪きな
いので、特に注射剤として適している。しかしながら、
本発明化合物は安定性および吸収性において優れている
ので所望ならば経口剤や坐剤などに製剤化しうる。
するため、炎症、高血圧症、血栓、脳卒中、心筋梗璽、
脳梗塑の予隣や治療に有効である。また、以下の実施例
で示す如く、パーシャルアゴニスト作用を事実上爪きな
いので、特に注射剤として適している。しかしながら、
本発明化合物は安定性および吸収性において優れている
ので所望ならば経口剤や坐剤などに製剤化しうる。
経口投与による場合、本発明目的化合物は、通常の製剤
、例えば、錠剤、散剤、カプセル剤もしくは顆粒剤等の
固形製剤あるいは水性もしくは油性懸濁剤、シロップ剤
またはエリキシル剤などの液剤のいずれの剤型としても
用いることができる。非経口投与による場合、本発明目
的化合物は、水性または油性懸濁注射剤として用いるこ
とができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合
剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶液剤、乳化剤、懸濁化剤
等いずれも用いることができ、また鉋の添加剤、例えば
、保存剤、安定剤等を含むものであってもよい。
、例えば、錠剤、散剤、カプセル剤もしくは顆粒剤等の
固形製剤あるいは水性もしくは油性懸濁剤、シロップ剤
またはエリキシル剤などの液剤のいずれの剤型としても
用いることができる。非経口投与による場合、本発明目
的化合物は、水性または油性懸濁注射剤として用いるこ
とができる。その調製に際しては、慣用の賦形剤、結合
剤、滑沢剤、水性溶剤、油性溶液剤、乳化剤、懸濁化剤
等いずれも用いることができ、また鉋の添加剤、例えば
、保存剤、安定剤等を含むものであってもよい。
本発明目的化合物(1)の投与量は、目標とする治療効
果、投与方法、年齢、体重などによってかわるので、−
概には規定できないが、通常、成人1日投与量は体重1
kgあたり、経口的には、約0.01mg〜約50m&
、好ましくは約0.05〜約10mgを、また非経口的
には、約o、oot〜約5 mg、好ましくは約0.0
05mg〜約1mgであり、これを1〜5回に分割して
投与すれば良い。
果、投与方法、年齢、体重などによってかわるので、−
概には規定できないが、通常、成人1日投与量は体重1
kgあたり、経口的には、約0.01mg〜約50m&
、好ましくは約0.05〜約10mgを、また非経口的
には、約o、oot〜約5 mg、好ましくは約0.0
05mg〜約1mgであり、これを1〜5回に分割して
投与すれば良い。
以下に実施例および試験例を示し、本発明を更に具体的
に説明するが、これらによって本発明が限定されるもの
ではない。
に説明するが、これらによって本発明が限定されるもの
ではない。
実施例および試験例中の本発明化合物はすべて、式に示
きれた絶対配位を有する光学活性体である。これは、本
発明化合物による薬理効果を、より明確に証明する為に
、特に光学活性体を用いたのであり、その鏡像異性体を
排除するものではない。
きれた絶対配位を有する光学活性体である。これは、本
発明化合物による薬理効果を、より明確に証明する為に
、特に光学活性体を用いたのであり、その鏡像異性体を
排除するものではない。
(以下余白)
参考例1
(υ (IS、2R,3S、4R)〜ビシクロ[2゜2
.1]ヘプタ−5−エン−2,3°−ジカルボン酸 2
−(ベンジル D−マンプレート)エステル2 の製造 −BuLi 窒素雰囲気下、D−マンデル酸ベンジルエステル(5,
33g、 22.Ommol)をTHF(50ml)に
溶かした後、−78℃に冷却し、n−BuLi(1,6
Mヘキサン溶液13.13m1.21.0mm。
.1]ヘプタ−5−エン−2,3°−ジカルボン酸 2
−(ベンジル D−マンプレート)エステル2 の製造 −BuLi 窒素雰囲気下、D−マンデル酸ベンジルエステル(5,
33g、 22.Ommol)をTHF(50ml)に
溶かした後、−78℃に冷却し、n−BuLi(1,6
Mヘキサン溶液13.13m1.21.0mm。
1)を滴下し、15分間攪拌する0反応液にビシクロ[
2,2,1コヘブタ−5−エン−2−エンド、3−エン
ド−ジカルボン酸無水物1(3,32g、20.Omm
ol)のTHF溶液(20ml)を力aえる。−78℃
で1時間攪拌後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出す
る。水、食塩水で洗浄後濃縮すると、目的laiの粗生
成物9.33 gが得られる。化合物2はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(トルエン−酢酸エチル)に付
して精製する。
2,2,1コヘブタ−5−エン−2−エンド、3−エン
ド−ジカルボン酸無水物1(3,32g、20.Omm
ol)のTHF溶液(20ml)を力aえる。−78℃
で1時間攪拌後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出す
る。水、食塩水で洗浄後濃縮すると、目的laiの粗生
成物9.33 gが得られる。化合物2はシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(トルエン−酢酸エチル)に付
して精製する。
IR(液膜) Vmax: 3600−2400.17
48.1710゜1498、1458.1342.12
57゜1201’l、 1165.1084.1072
゜912、732.696 cm−’ (以下余白) (Zl (IR,2R,3S、4S)−ビシクロ[2
,2,11へブタン−2,3−ジカルボン酸 2−(D
−マンデル酸)エステル11の製造(30ml)を加え
、常圧、水素雰囲気下、室温で1.5時間攪拌後、触媒
を濾過して除き、濃縮する0反応混合物に酢酸エチル、
5%炭炭酸水素ナトノウ氷水溶液加え、水層を分取する
。有機層をもう一度水洗し、最初の水層を合わせて酢酸
エチルで洗浄する。2N塩厳を加え、酢酸エチルで抽出
後、飽和食塩水で洗浄し、濃縮すると粗生成物11が得
られる[3.14g、酸無水物からの収率:99%、3
a:3b−86:14(HPLCによる)]。
48.1710゜1498、1458.1342.12
57゜1201’l、 1165.1084.1072
゜912、732.696 cm−’ (以下余白) (Zl (IR,2R,3S、4S)−ビシクロ[2
,2,11へブタン−2,3−ジカルボン酸 2−(D
−マンデル酸)エステル11の製造(30ml)を加え
、常圧、水素雰囲気下、室温で1.5時間攪拌後、触媒
を濾過して除き、濃縮する0反応混合物に酢酸エチル、
5%炭炭酸水素ナトノウ氷水溶液加え、水層を分取する
。有機層をもう一度水洗し、最初の水層を合わせて酢酸
エチルで洗浄する。2N塩厳を加え、酢酸エチルで抽出
後、飽和食塩水で洗浄し、濃縮すると粗生成物11が得
られる[3.14g、酸無水物からの収率:99%、3
a:3b−86:14(HPLCによる)]。
酢酸エチルより再結晶することにより目的化合物11を
単離する( 2.05 g、収率:64%)。
単離する( 2.05 g、収率:64%)。
融点:164〜166℃
[ala =−tx7.t*o、so(MeO)1.
c=1.934.25℃)(以下余白) 10%パラジウム炭素(0,4g )に粗生成物2(4
,06g、10 、0 mmol)のメタノール溶液(
3) (IR,2S、3S、4S)−2−メチル、水素
ビシクロC2,2,11へブタン−2,3−ジカルボ
キシレート 4の製造 率=94%)。
c=1.934.25℃)(以下余白) 10%パラジウム炭素(0,4g )に粗生成物2(4
,06g、10 、0 mmol)のメタノール溶液(
3) (IR,2S、3S、4S)−2−メチル、水素
ビシクロC2,2,11へブタン−2,3−ジカルボ
キシレート 4の製造 率=94%)。
融点=59ご60℃
[α]D =+38.4±0.4@(MaOH,c=
2.002. 25℃)(4) (IR,2S、3S
、4S)−メチル 3−ベンジルレオキシ力ルポ二ルア
ミノビシクロ[2゜2.1]へブタン−2−カルボキシ
レート 5の製造 MeOH+ THF 窒素雰囲気下、化合物3a(5,51g、17゜3 m
mol )にTHF(40ml)、メタノール(50m
l)、ナトリウムメデラート(2M/メタノール、22
.0rnl、44.Ommol)を加え、4時間還流す
る。2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出後、水および飽
和食塩水で洗浄し濃縮する。得られた混合物にジクロロ
メタンを加え、水で3回洗浄後濃縮すると、目的物玉が
3.22 g得られる(収窒素雰囲気下、化合物4(2
,80g、14.1mmol)のアセトン溶液(24m
l)を0℃に冷却し、トリエチルアミン(2,54m1
.18.3mmol)とクロロ炭酸エチル(1,75m
1.18.3mmol)を加える。すぐに白色沈殿が生
じるが、この状態のまま15分間攪拌を続け、アジ化ナ
トリウム(2,75g、 42.3mmol)の水溶液
(8ml)を加える。水冷下で30分間攪拌した後、2
N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水および
食塩水で洗浄後濃縮する。酢酸エチルを完全に除去する
ためにベンゼンを加えてもう一度濃縮する。
2.002. 25℃)(4) (IR,2S、3S
、4S)−メチル 3−ベンジルレオキシ力ルポ二ルア
ミノビシクロ[2゜2.1]へブタン−2−カルボキシ
レート 5の製造 MeOH+ THF 窒素雰囲気下、化合物3a(5,51g、17゜3 m
mol )にTHF(40ml)、メタノール(50m
l)、ナトリウムメデラート(2M/メタノール、22
.0rnl、44.Ommol)を加え、4時間還流す
る。2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出後、水および飽
和食塩水で洗浄し濃縮する。得られた混合物にジクロロ
メタンを加え、水で3回洗浄後濃縮すると、目的物玉が
3.22 g得られる(収窒素雰囲気下、化合物4(2
,80g、14.1mmol)のアセトン溶液(24m
l)を0℃に冷却し、トリエチルアミン(2,54m1
.18.3mmol)とクロロ炭酸エチル(1,75m
1.18.3mmol)を加える。すぐに白色沈殿が生
じるが、この状態のまま15分間攪拌を続け、アジ化ナ
トリウム(2,75g、 42.3mmol)の水溶液
(8ml)を加える。水冷下で30分間攪拌した後、2
N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水および
食塩水で洗浄後濃縮する。酢酸エチルを完全に除去する
ためにベンゼンを加えてもう一度濃縮する。
得られた油状物質をベンゼン(20ml)に溶かし、8
0℃に加熱し、熱転位を行なう、窒素の発生が終わった
時点でトリニブルアミン(2,54ml、1 B 、
3 mmol)、ベンジルアルコール(1,75m1.
16.9 mmol)を加え、1.5時間還流する0反
応終了後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、水お
よび食塩水で洗浄した後、濃縮する。粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーおよび再結晶により精製
すると化合物上を得る( 3.03 g、収率ニア1%
)。
0℃に加熱し、熱転位を行なう、窒素の発生が終わった
時点でトリニブルアミン(2,54ml、1 B 、
3 mmol)、ベンジルアルコール(1,75m1.
16.9 mmol)を加え、1.5時間還流する0反
応終了後、2N塩酸を加え、酢酸エチルで抽出し、水お
よび食塩水で洗浄した後、濃縮する。粗生成物をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーおよび再結晶により精製
すると化合物上を得る( 3.03 g、収率ニア1%
)。
融点=61〜62℃
〔α 〕D = +40.1±0.4” (CHC
Is、 c=2.0(16,25℃ン。
Is、 c=2.0(16,25℃ン。
(5) (IR,2S、3S、4S)−3−ベンジル
オキシカルボニルアミノビシクロ[2,2,11へブタ
ン−2−カルボン酸 6の製造 原料エステル5 15.25 g (50,3mmol
)のメタノール200m1@液に、窒素気流中IN−水
酸化カリウム100m1(2X50.3mmol)をカ
ロえる。室温2.5時間後反応液を水に注ぎ込み酢酸エ
チル存在下に2N−塩酸にて酸性にする。
オキシカルボニルアミノビシクロ[2,2,11へブタ
ン−2−カルボン酸 6の製造 原料エステル5 15.25 g (50,3mmol
)のメタノール200m1@液に、窒素気流中IN−水
酸化カリウム100m1(2X50.3mmol)をカ
ロえる。室温2.5時間後反応液を水に注ぎ込み酢酸エ
チル存在下に2N−塩酸にて酸性にする。
有機層を飽和食塩水にて洗浄後硫酸マグネシウム乾燥、
減圧濃縮する。残渣をn−ヘキサン−エチルエーテルよ
り再結晶すると融点104.5〜106.5℃の目的物
6 14.10gを得る。(収率:96.9%) 元素分析(C,IH,INO,=289.33として)
計算値(X) : C,66,42: H,6,62;
N、4.84実測値m: c、ss、4s; H,6
,61: N、4.80[α]o ” +20.8
t0.6” (+?!”1.010. C)IcI
3. 23℃ンIR(CHCl、)ν max: 3
440. 2960. 2g80. 2720゜
1745、1705.1670.1515cm−’NM
R(CDCIs )δppm: 1.17−1.82(
m、 6H)、 2.15(br、 s、18)、 2
.43(br、 s、 LH)、 2.75r2.85
(m。
減圧濃縮する。残渣をn−ヘキサン−エチルエーテルよ
り再結晶すると融点104.5〜106.5℃の目的物
6 14.10gを得る。(収率:96.9%) 元素分析(C,IH,INO,=289.33として)
計算値(X) : C,66,42: H,6,62;
N、4.84実測値m: c、ss、4s; H,6
,61: N、4.80[α]o ” +20.8
t0.6” (+?!”1.010. C)IcI
3. 23℃ンIR(CHCl、)ν max: 3
440. 2960. 2g80. 2720゜
1745、1705.1670.1515cm−’NM
R(CDCIs )δppm: 1.17−1.82(
m、 6H)、 2.15(br、 s、18)、 2
.43(br、 s、 LH)、 2.75r2.85
(m。
18)、 3.83=3.93(m、 18)、
5.13(dABq、 Apart。
5.13(dABq、 Apart。
J−12,0,LH>、5.18(ABq、 Bpa
rt、 J=12.OH7,IH)。
rt、 J=12.OH7,IH)。
5.29(br、 s、LH)、 7.38(br、
s、 5H)。
s、 5H)。
(以下余白)
(6) (IR,2S、33,4S)−3−ベンジル
オキシカルボ二ルアミノビシクロ[2,2,11ヘプタ
ン−2−カルバルデヒド 7の製造カルボン酸旦6.O
g (20,74mmol)の乾燥ベンゼン100m1
溶液にチオニルクロライド7.48m1(5X 20.
74mmol)を加え、更に300μmのピリジンを加
えて1時間加熱還流する0反応液を減圧濃縮し、残渣に
乾燥ベンゼン30m1を加えて再度減EE濃縮するとほ
ぼ定量的に中間体の酸クロライドを得る。
オキシカルボ二ルアミノビシクロ[2,2,11ヘプタ
ン−2−カルバルデヒド 7の製造カルボン酸旦6.O
g (20,74mmol)の乾燥ベンゼン100m1
溶液にチオニルクロライド7.48m1(5X 20.
74mmol)を加え、更に300μmのピリジンを加
えて1時間加熱還流する0反応液を減圧濃縮し、残渣に
乾燥ベンゼン30m1を加えて再度減EE濃縮するとほ
ぼ定量的に中間体の酸クロライドを得る。
IR(film)l/max: 3285.1782
.1692.1515゜1261 cm月 乾燥ジメチルホルムアミド36m1に窒素気流中水素化
ホウ素ナトリウム628mg(0,8X 20゜74m
mol)を加え、次いで乾燥テトラヒドロフラン54m
1を加え均一溶液にする。−70℃に冷却して固形物と
し、2分後に0℃に昇温して泥状にする。更に2分後、
−70℃に冷却して上記で得た酸クロライド(20,7
4mmol)の乾燥テトラヒドロフラン12m1溶液を
1分間で加える。2分間激しく攪拌した後、反応液にエ
チルビニルエーテル40m1を加える0次いで直ちに、
2N−塩酸20m1、n−プロピオン酸80m1の氷冷
混液に激しく攪拌し乍ら注ぎ込む、更に飽和食塩水20
0m1、酢酸エチル100m1を加え2分間攪拌した後
分液する。有機層を飽和食塩水、IN−水酸化ナトリウ
ム、飽和食塩水で順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後
減圧濃縮すると油状の目的アルデヒドヱ 4.23 g
を得る。
.1692.1515゜1261 cm月 乾燥ジメチルホルムアミド36m1に窒素気流中水素化
ホウ素ナトリウム628mg(0,8X 20゜74m
mol)を加え、次いで乾燥テトラヒドロフラン54m
1を加え均一溶液にする。−70℃に冷却して固形物と
し、2分後に0℃に昇温して泥状にする。更に2分後、
−70℃に冷却して上記で得た酸クロライド(20,7
4mmol)の乾燥テトラヒドロフラン12m1溶液を
1分間で加える。2分間激しく攪拌した後、反応液にエ
チルビニルエーテル40m1を加える0次いで直ちに、
2N−塩酸20m1、n−プロピオン酸80m1の氷冷
混液に激しく攪拌し乍ら注ぎ込む、更に飽和食塩水20
0m1、酢酸エチル100m1を加え2分間攪拌した後
分液する。有機層を飽和食塩水、IN−水酸化ナトリウ
ム、飽和食塩水で順次洗い、硫酸マグネシウムで乾燥後
減圧濃縮すると油状の目的アルデヒドヱ 4.23 g
を得る。
化合物6より収率ニア4.6%。
NMR(CDCIs)δ ppm: 1.10(,80
(m、 6H)、 1.88〜2.05(m、
IH)、 2.40〜2.60(m、 2H)、
4.15〜4.26(m。
(m、 6H)、 1.88〜2.05(m、
IH)、 2.40〜2.60(m、 2H)、
4.15〜4.26(m。
1)1)、 4.80〜5.16(m、 IH)、
5.10(s、 2H)、 7.36(s。
5.10(s、 2H)、 7.36(s。
5H)、 9.78(s、 IH)。
(7) (I R,2R,3S、4 S )−メチル
(5Z)−6−(3−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノビシクロ[2,2,1]]ヘプトー2−イル−5−ヘ
キセノエート 8の製造 (以下余白) 乾燥テトラヒドロフラン90m1に4−カルボキシブチ
ルトリフェニルホスホニウムブロマイド9.5 g (
3X 7. l 3mmol)を窒素気流中で加え、攪
拌する。これに、カリウムtart−ブトキシド4.3
g (5,4X 7.13mmol)を加え、室温で
30分間攪拌する0次いで水冷下に原料アルデヒドヱ
1.95 (7,13mmol)の乾燥テトラヒドロフ
ラン10m1溶液を加え、室温で1時間攪拌する0反応
液を2N塩酸、酢酸エチル中に注ぎ込み分液する。有機
層を水洗、乾燥マグネシウム乾燥後、減圧濃縮すると油
状残渣を得る。これをエチルエーテル中にて、ジアゾメ
タンでメチル化を行なう、濃縮後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(
4:1)にて溶出する分画を集めると油状の目的物89
46mgを得る。収率:35.7%。
(5Z)−6−(3−ベンジルオキシカルボニルアミ
ノビシクロ[2,2,1]]ヘプトー2−イル−5−ヘ
キセノエート 8の製造 (以下余白) 乾燥テトラヒドロフラン90m1に4−カルボキシブチ
ルトリフェニルホスホニウムブロマイド9.5 g (
3X 7. l 3mmol)を窒素気流中で加え、攪
拌する。これに、カリウムtart−ブトキシド4.3
g (5,4X 7.13mmol)を加え、室温で
30分間攪拌する0次いで水冷下に原料アルデヒドヱ
1.95 (7,13mmol)の乾燥テトラヒドロフ
ラン10m1溶液を加え、室温で1時間攪拌する0反応
液を2N塩酸、酢酸エチル中に注ぎ込み分液する。有機
層を水洗、乾燥マグネシウム乾燥後、減圧濃縮すると油
状残渣を得る。これをエチルエーテル中にて、ジアゾメ
タンでメチル化を行なう、濃縮後、シリカゲルカラムク
ロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(
4:1)にて溶出する分画を集めると油状の目的物89
46mgを得る。収率:35.7%。
IR(CICII)L/ wax: 3460.172
6.1510.101015Q’ NMR(CDCII)δppm: 1.L6=1.75
(m、 8H)、 179”1.95(m、 28)、
2.03(q、 J=7Hz、 2H)、 2.28
(t、 J=7Hz、2H)、2.47(br。
6.1510.101015Q’ NMR(CDCII)δppm: 1.L6=1.75
(m、 8H)、 179”1.95(m、 28)、
2.03(q、 J=7Hz、 2H)、 2.28
(t、 J=7Hz、2H)、2.47(br。
4.97〜5.18(m、IH)。
>、 5.11(ABq−Bpart2H)、 7
.35(s、 5H)s、 LH)、 3.64
(br、 s、 4H)。
.35(s、 5H)s、 LH)、 3.64
(br、 s、 4H)。
5.05(ABq−Apart J=12Hz、 I
HJ=12Hz、 18)、 5.23〜5.45
(m。
HJ=12Hz、 18)、 5.23〜5.45
(m。
(以下余白)
実施例1
(−)−(IR,2R,3S、4S)−メチル (5Z
)−6−(3−フェニルスルホニルアミンビシクロ[2
,2,1]ヘプト−2−イル)−5−ヘキセノエートI
a−aの製造 原料エステル8 2.75gのアニソール10m1、ト
リフルオロ酢酸30m1溶液を40’C57時加熱する
0反応液より減圧下に溶媒を除去する。
)−6−(3−フェニルスルホニルアミンビシクロ[2
,2,1]ヘプト−2−イル)−5−ヘキセノエートI
a−aの製造 原料エステル8 2.75gのアニソール10m1、ト
リフルオロ酢酸30m1溶液を40’C57時加熱する
0反応液より減圧下に溶媒を除去する。
きらに氷冷下にてn−ヘキサンでリンスすると、トリプ
ルオロ酢酸塩1」二 3.14gを得る。(純度82.
8%) 得られた化合物Ha二の純度計算した0、45(のジク
ロロメタン5+el溶液に、水冷下、トリエテルア逝ン
0.71m1、フェニルスルホニルクロライド0.34
gを加え、同温30分間攪拌する。
ルオロ酢酸塩1」二 3.14gを得る。(純度82.
8%) 得られた化合物Ha二の純度計算した0、45(のジク
ロロメタン5+el溶液に、水冷下、トリエテルア逝ン
0.71m1、フェニルスルホニルクロライド0.34
gを加え、同温30分間攪拌する。
反応液を2N−塩酸−酢酸エチルにあけ分液する。有機
層を5%炭酸水素ナトリウム、水で順次洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸
エチル(4:工〜2:1)にて溶出する部分を集めると
0.39 gの目的物が得られる。(収率:80.7%
)NMR(CDCI 3 )δppm: 1.17〜1
.7(1(m、 8N)、 1.80〜2.00(m、
4H)、 2.11J−2,31(m、 LH)、
2.25(t、 J=7Hz、 2H)、 3
.13〜3.24(m、 LH>、 3ゴO(s
、 3H)、 5.08〜5.26<m、
38)、 7.41”7.60(m、 3)!
>、 7.70〜7.91(m、 2M) IR(CHCIs)l/wax: 3390.3280
.1730.5.1162゜1156、1094cm−
’ [a]p −69,7±1.1 (c=0.968.
M@OH)。
層を5%炭酸水素ナトリウム、水で順次洗浄し、硫酸マ
グネシウムで乾燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸
エチル(4:工〜2:1)にて溶出する部分を集めると
0.39 gの目的物が得られる。(収率:80.7%
)NMR(CDCI 3 )δppm: 1.17〜1
.7(1(m、 8N)、 1.80〜2.00(m、
4H)、 2.11J−2,31(m、 LH)、
2.25(t、 J=7Hz、 2H)、 3
.13〜3.24(m、 LH>、 3ゴO(s
、 3H)、 5.08〜5.26<m、
38)、 7.41”7.60(m、 3)!
>、 7.70〜7.91(m、 2M) IR(CHCIs)l/wax: 3390.3280
.1730.5.1162゜1156、1094cm−
’ [a]p −69,7±1.1 (c=0.968.
M@OH)。
元素分析(cm。H□N0.5・0.0IC廖H,とじ
て)計算値m : C,63゜68; H,7,2Li
N、3.70:S、8.48; 実測値(X) : C,63,74; H,7,38:
N、3.76;5.8.20゜ 実施例2〜5[Ib−e−aの一般的製法](以下金白
) 実施例2 (IR,2R,3S、4S)−エチル (5Z)−6−
[3−(p−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,
2,1]]ヘプトー2−イル]−5−ヘキセノエートI
b−a 実施例3 (IR,2R,3S、4S)−1fル (5Z)−6−
[3−(4−アセトキシフェニルスルホニルアミノ)ビ
シクロ[2,2,1]]ヘプトー2−イル]−5−ヘキ
セノエートIc−a 実施例4 (IR,2R,3S、4S)−fifル (5Z)−6
−43−(4−ブロモフェニルスルホニルアミン)ビシ
クロ[2,2,11ヘプト−2−イル]−5−ヘキセノ
エート Id−a 実施例5 (IR,2R,3S、4S)−1fル (5Z)−6−
[3−(4−クロロフェニルスルホニルアミン)ビシク
ロ[2,2,1コヘブト−2−イル]−5−ヘキセノエ
ート Ie−a 化合物−1にの純度計算したA[重量コのジクロロメタ
ンB[ml]m液に、水冷下トリエチルアミンC[ll
11コ、置換フェニルスルホニルクロライドD[重量コ
を加え、同温0.5〜1時間攪拌する0反応液を2N−
塩酸−酢酸エチルにあけ分液する。有機層を5%炭酸水
素ナトリウム、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1
〜2:1)にて溶出する部分を集めるとEC重量]の目
的物が得られる。
て)計算値m : C,63゜68; H,7,2Li
N、3.70:S、8.48; 実測値(X) : C,63,74; H,7,38:
N、3.76;5.8.20゜ 実施例2〜5[Ib−e−aの一般的製法](以下金白
) 実施例2 (IR,2R,3S、4S)−エチル (5Z)−6−
[3−(p−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,
2,1]]ヘプトー2−イル]−5−ヘキセノエートI
b−a 実施例3 (IR,2R,3S、4S)−1fル (5Z)−6−
[3−(4−アセトキシフェニルスルホニルアミノ)ビ
シクロ[2,2,1]]ヘプトー2−イル]−5−ヘキ
セノエートIc−a 実施例4 (IR,2R,3S、4S)−fifル (5Z)−6
−43−(4−ブロモフェニルスルホニルアミン)ビシ
クロ[2,2,11ヘプト−2−イル]−5−ヘキセノ
エート Id−a 実施例5 (IR,2R,3S、4S)−1fル (5Z)−6−
[3−(4−クロロフェニルスルホニルアミン)ビシク
ロ[2,2,1コヘブト−2−イル]−5−ヘキセノエ
ート Ie−a 化合物−1にの純度計算したA[重量コのジクロロメタ
ンB[ml]m液に、水冷下トリエチルアミンC[ll
11コ、置換フェニルスルホニルクロライドD[重量コ
を加え、同温0.5〜1時間攪拌する0反応液を2N−
塩酸−酢酸エチルにあけ分液する。有機層を5%炭酸水
素ナトリウム、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮する。残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(4:1
〜2:1)にて溶出する部分を集めるとEC重量]の目
的物が得られる。
と記の一般的製造法に徒い、第1表に示す条件で反応を
行ない、前記および第2表に示す化合物を得る。
行ない、前記および第2表に示す化合物を得る。
第1表
実施例6
(IR,2R,3S、4S)−(5Z)−6−(3−フ
ェニルスルホニルアミノビシクロ[2,2゜1コヘブト
−2−イル)−5−ヘキセン酸 上1−bの製造 In−a 原料エステルIa−a300mlのメタノール4ml溶
液に、窒素気流中室温にてIN−水酸化カノウム1゜6
mlを加え同温7時間放置する1反応液を水にあけ酢酸
エチル存在下に2N−塩酸にて酸性にする0分液した後
、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮する。残渣にベンゼンを加え減圧濃縮を
行なうとガム状の目的物246mgを得る。収率:85
.0%、融点:100〜104℃ NMR(CDCIn)# ppm: 1.14〜1.7
3<m、 88)、 1.80〜2.06(m、 4H
)、 2.19(br、 s、 18)、 2.34<
t、 J=7Hz。
ェニルスルホニルアミノビシクロ[2,2゜1コヘブト
−2−イル)−5−ヘキセン酸 上1−bの製造 In−a 原料エステルIa−a300mlのメタノール4ml溶
液に、窒素気流中室温にてIN−水酸化カノウム1゜6
mlを加え同温7時間放置する1反応液を水にあけ酢酸
エチル存在下に2N−塩酸にて酸性にする0分液した後
、有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮する。残渣にベンゼンを加え減圧濃縮を
行なうとガム状の目的物246mgを得る。収率:85
.0%、融点:100〜104℃ NMR(CDCIn)# ppm: 1.14〜1.7
3<m、 88)、 1.80〜2.06(m、 4H
)、 2.19(br、 s、 18)、 2.34<
t、 J=7Hz。
2H)、 3.18(br、 s、 IN)、 1.1
0〜5.60(br、 s、 IH)。
0〜5.60(br、 s、 IH)。
5.10〜5.26(m、 2H)、 5.33〜5.
50(m、 LH)、 7.42〜7.61(+o、
38)、 7.80〜7.92(m、 2H)[αコ、
= −68,7±1.1° (MeOH,c;1.o
19. 23℃)。
50(m、 LH)、 7.42〜7.61(+o、
38)、 7.80〜7.92(m、 2H)[αコ、
= −68,7±1.1° (MeOH,c;1.o
19. 23℃)。
IR(CHCl、)νmax: 3390.3280.
2965.2882゜2650br、 1710.14
60.1449゜1346、1322.1311.11
64゜1155、1096.1082 cm−元素分析
(C+ *H□NO,Sとして)計算値<%>:C,
62,77: )1.6.95; N、3.85: S
、8.82;実測値(X):C,62,75; H,6
,86; N、3.79; S、8.68゜(以下余白
) 実施例7〜10[1b−e−bの一般的製法]実施1l
NJ7 (lR,2R,3s、4S)−(5Z)−6−[3−(
p−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[22,1]ヘ
プト−2−イルツー5−ヘキセン酸I b−bの製造 実施例8 (IR,2R,3S、4S)−(52)−6−[3−(
4−ヒドロキシフェニルスルホニルアミン)ビシクロ[
2,2,1]]ヘプトー2−イル]−5ヘキセン酸Ic
−bの製造 実施例9 (IR,2R,3S、4S)−(5Z)−6−[3−(
4−ブロモフェニルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,
2,11ヘプト−2−イルツー5−ヘキセン酸 Id−
bの製造 実施例10 (IR,2R,33,4S)−(52)−6−[3−(
4−クロロフェニルスルホニルアミン)ビシクロ[2,
2,1]]ヘプトー2−イル]−5−ヘキセンrlil
ebの製造 原料メチルエステルI−aA[重量コのメタノールB[
ml]溶液に、窒素気流中室温にてIN−水酸化カリウ
ムC[ml]を加える。同温6〜7時間放置した後、反
応液を水に加え酢酸エチル存在に2N−塩酸にて酸性に
する0分液後、有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシ
ウム乾燥後減圧濃縮する。残渣をベンゼンにてフラッシ
ュすると目的とするカルボン酸上−bをD[重量]得る
。
2965.2882゜2650br、 1710.14
60.1449゜1346、1322.1311.11
64゜1155、1096.1082 cm−元素分析
(C+ *H□NO,Sとして)計算値<%>:C,
62,77: )1.6.95; N、3.85: S
、8.82;実測値(X):C,62,75; H,6
,86; N、3.79; S、8.68゜(以下余白
) 実施例7〜10[1b−e−bの一般的製法]実施1l
NJ7 (lR,2R,3s、4S)−(5Z)−6−[3−(
p−トリルスルホニルアミノ)ビシクロ[22,1]ヘ
プト−2−イルツー5−ヘキセン酸I b−bの製造 実施例8 (IR,2R,3S、4S)−(52)−6−[3−(
4−ヒドロキシフェニルスルホニルアミン)ビシクロ[
2,2,1]]ヘプトー2−イル]−5ヘキセン酸Ic
−bの製造 実施例9 (IR,2R,3S、4S)−(5Z)−6−[3−(
4−ブロモフェニルスルホニルアミノ)ビシクロ[2,
2,11ヘプト−2−イルツー5−ヘキセン酸 Id−
bの製造 実施例10 (IR,2R,33,4S)−(52)−6−[3−(
4−クロロフェニルスルホニルアミン)ビシクロ[2,
2,1]]ヘプトー2−イル]−5−ヘキセンrlil
ebの製造 原料メチルエステルI−aA[重量コのメタノールB[
ml]溶液に、窒素気流中室温にてIN−水酸化カリウ
ムC[ml]を加える。同温6〜7時間放置した後、反
応液を水に加え酢酸エチル存在に2N−塩酸にて酸性に
する0分液後、有機層を飽和食塩水洗浄、硫酸マグネシ
ウム乾燥後減圧濃縮する。残渣をベンゼンにてフラッシ
ュすると目的とするカルボン酸上−bをD[重量]得る
。
上記の一般的製造法に従い、第3表に示す条件で反応を
行ない、前記および第4表に示す化合物を得る。
行ない、前記および第4表に示す化合物を得る。
第3表
(以下余白)
実施例11
(I R,2R,35,4S )−ナトリウム(5Z)
−6−(3−フェニルスルホニルアミノビシフ0[2,
2,1]]ヘプトー2−イル−5−ヘキセノエート I
b−cの製造 Ia−b 縮し、残渣を水2mlに溶解許せ凍結乾燥すると粉末の
Ia−al19mgを得る。収率:90.2%。
−6−(3−フェニルスルホニルアミノビシフ0[2,
2,1]]ヘプトー2−イル−5−ヘキセノエート I
b−cの製造 Ia−b 縮し、残渣を水2mlに溶解許せ凍結乾燥すると粉末の
Ia−al19mgを得る。収率:90.2%。
[αコb −70,3±t、t° (MeO)l、
c:1.013. 23 ℃)IR(KBr)ν
max: 3400.3290.3160br、 15
65゜1449、1410.1320.1310. L
i2O,1097cm−’元素分析 C+*H*4NO
aSNa・0.7H*Oとして計算値(%) : C,
57,32i n、s、a4; N、3.52;5、8
.05 実測値(%) : C,57,21H,6,17: N
、3.73iS、 8.28 (以下余白) 原料カルボン酸Ia−b125mgのメタノール2ml
溶液に、水冷下に0.177N−ナトリウムメトキシド
1.85m1を加える。2公役減圧濃実施例12=l
5 [I b−e−cの一般的製法コ 実施@12 (I R,2R,3S、4 S )−ナトリウム (5
Z)−6−[3−(p−hリルスルホニルアミノ)ビシ
クロ[2,2,1]]ヘプトー2−イルコー5−ヘキセ
ノエートIb−cの製造 (以下余白) 91施例13 (I R,2R,3!9.4 S )−ナトリSム (
5Z)−6−[3−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ルアミノ)ビシクロ[2,2,11ヘプト−2−イル]
−5−ヘキセノエート Ic−cの製造実施例14 (I R,2R,3S、4 S )−fトリウム(5z
)−6−[3−(4−ブロモフェニルスルホニルアミノ
)ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−イルツー5−ヘ
キセノエート ICt−cの製造実施例15 (IR,2R,3S、4S)−ナトリウム (5Z)−
6−[3−(4−クロロフェニルスルホニルアミノ)ビ
シクロ[2,2,1]]ヘプトー2−イルコー5−ヘキ
セノエートIe−cの製造原料カルボン酸A(mg)の
メタノールB(+nl)に、水冷下0.177N−ナト
リウムメトキシドC(ml)を加える。2公役減圧濃縮
し、得られた残渣を水2mlより凍結乾燥すると粉末の
目的物をD(mg)を得る。
c:1.013. 23 ℃)IR(KBr)ν
max: 3400.3290.3160br、 15
65゜1449、1410.1320.1310. L
i2O,1097cm−’元素分析 C+*H*4NO
aSNa・0.7H*Oとして計算値(%) : C,
57,32i n、s、a4; N、3.52;5、8
.05 実測値(%) : C,57,21H,6,17: N
、3.73iS、 8.28 (以下余白) 原料カルボン酸Ia−b125mgのメタノール2ml
溶液に、水冷下に0.177N−ナトリウムメトキシド
1.85m1を加える。2公役減圧濃実施例12=l
5 [I b−e−cの一般的製法コ 実施@12 (I R,2R,3S、4 S )−ナトリウム (5
Z)−6−[3−(p−hリルスルホニルアミノ)ビシ
クロ[2,2,1]]ヘプトー2−イルコー5−ヘキセ
ノエートIb−cの製造 (以下余白) 91施例13 (I R,2R,3!9.4 S )−ナトリSム (
5Z)−6−[3−(4−ヒドロキシフェニルスルホニ
ルアミノ)ビシクロ[2,2,11ヘプト−2−イル]
−5−ヘキセノエート Ic−cの製造実施例14 (I R,2R,3S、4 S )−fトリウム(5z
)−6−[3−(4−ブロモフェニルスルホニルアミノ
)ビシクロ[2,2,1]ヘプト−2−イルツー5−ヘ
キセノエート ICt−cの製造実施例15 (IR,2R,3S、4S)−ナトリウム (5Z)−
6−[3−(4−クロロフェニルスルホニルアミノ)ビ
シクロ[2,2,1]]ヘプトー2−イルコー5−ヘキ
セノエートIe−cの製造原料カルボン酸A(mg)の
メタノールB(+nl)に、水冷下0.177N−ナト
リウムメトキシドC(ml)を加える。2公役減圧濃縮
し、得られた残渣を水2mlより凍結乾燥すると粉末の
目的物をD(mg)を得る。
上記一般的製法に従い、
第5表に示す条件で反
応を行ない、
前記および第6表に示す化合物を得
る。
第5表
(以下余白)
試験例1゜
アンタゴニスト活性(ラット血小板凝集抑制作用)[試
験材料および試験方法] 雄性ラット(Sprague−Dowley、 8週令
)の腹部動脈よりACD(85mMクエン酸ナトリウム
、70 mMクエン酸、110mMグルコース>1.5
mlおよびプロスタグランジンE、(20μg)の入っ
たプラスチック製シリンジにて血液10 mlを採取し
た。血液は、プラスチック製試験管に入れ軽く転倒混和
した後、160g、10分間遠心分離し、上清の多血小
板血漿〔PRP(platelet rich pla
sma)コを採取した。得られたPRPにアビラーゼ(
25It g/ml)を加えた後、40%ウシ血清アル
ブミン上に重層し、1200 X &、 25分間遠心
分離する。血小板ベレットを少量の緩衝液(137mM
NaC1,2,7mM KCI、1.0 mM Mg
CL、3.8mM NaH*POa、 3.8 mM
Rapes、 5.6 mMグルコース、0.035
% ウシ血清アルブミン、pH7,35)ニ浮遊させ、
セファロース2B (Sepharosa 2B)のカ
ラム(10ml)に重層し、緩衝液にて溶出し、洗浄血
小板を得た。
験材料および試験方法] 雄性ラット(Sprague−Dowley、 8週令
)の腹部動脈よりACD(85mMクエン酸ナトリウム
、70 mMクエン酸、110mMグルコース>1.5
mlおよびプロスタグランジンE、(20μg)の入っ
たプラスチック製シリンジにて血液10 mlを採取し
た。血液は、プラスチック製試験管に入れ軽く転倒混和
した後、160g、10分間遠心分離し、上清の多血小
板血漿〔PRP(platelet rich pla
sma)コを採取した。得られたPRPにアビラーゼ(
25It g/ml)を加えた後、40%ウシ血清アル
ブミン上に重層し、1200 X &、 25分間遠心
分離する。血小板ベレットを少量の緩衝液(137mM
NaC1,2,7mM KCI、1.0 mM Mg
CL、3.8mM NaH*POa、 3.8 mM
Rapes、 5.6 mMグルコース、0.035
% ウシ血清アルブミン、pH7,35)ニ浮遊させ、
セファロース2B (Sepharosa 2B)のカ
ラム(10ml)に重層し、緩衝液にて溶出し、洗浄血
小板を得た。
血小板凝集反応は、アブリボメーター(NKKHEMA
TRACERI MODEL PAI−6A・6M、
二元バイオサイエンス)を用いて測定した。すなわち、
血小板数が、5 X 10”/μmになるように調整し
た洗浄血小板245μmを測定用キュベツトに入れて、
凝集計にセットし、37℃で攪拌(1000rpm)、
0.1MCaC1* 3.8μmを加え、1分後に試験
化合物液(ジメチルスルホキシド溶液)0.5μmを加
え、2分後に凝集惹起物質としてフラーゲン[Coll
aganraColla Horrrr@ ホルモン
ーケミエ、ミュンヘン、(HORMON−CHEMIE
Mjinchan GMBH)コを1μm(終濃度4
μs/ml)加えて凝集より生じた透光度の変化を経時
的に記録した。
TRACERI MODEL PAI−6A・6M、
二元バイオサイエンス)を用いて測定した。すなわち、
血小板数が、5 X 10”/μmになるように調整し
た洗浄血小板245μmを測定用キュベツトに入れて、
凝集計にセットし、37℃で攪拌(1000rpm)、
0.1MCaC1* 3.8μmを加え、1分後に試験
化合物液(ジメチルスルホキシド溶液)0.5μmを加
え、2分後に凝集惹起物質としてフラーゲン[Coll
aganraColla Horrrr@ ホルモン
ーケミエ、ミュンヘン、(HORMON−CHEMIE
Mjinchan GMBH)コを1μm(終濃度4
μs/ml)加えて凝集より生じた透光度の変化を経時
的に記録した。
50%血小板凝集阻害濃度は、凝集率より算出する。(
血小板の凝集率は、洗浄血小板および緩衝液の透光度を
それぞれOxおよび100xとし、凝集惹起物質添加3
分後の透光度として測定した。)試験結果を第7表に示
す。
血小板の凝集率は、洗浄血小板および緩衝液の透光度を
それぞれOxおよび100xとし、凝集惹起物質添加3
分後の透光度として測定した。)試験結果を第7表に示
す。
(以下余白)
試験例2゜
パーシャルアゴニスト活性(ラット血小板形態変化惹起
作用) [試験材料および試験方法] パーシャルアゴニスト活性は、血小板凝集反応の測定法
に準じて行なった。すなわち、洗浄血小板に0.1MC
aC+を加え、1分後に試験化合物を加えた際に生じる
化合物自身による透過度の減少を測定して求めた。ただ
し評価の基準として対照化合物による最大活性を100
%としてその50%活性を惹起する試験化合物濃度をE
D、。と定めた。
作用) [試験材料および試験方法] パーシャルアゴニスト活性は、血小板凝集反応の測定法
に準じて行なった。すなわち、洗浄血小板に0.1MC
aC+を加え、1分後に試験化合物を加えた際に生じる
化合物自身による透過度の減少を測定して求めた。ただ
し評価の基準として対照化合物による最大活性を100
%としてその50%活性を惹起する試験化合物濃度をE
D、。と定めた。
試験結果を第7表に示す。
(以下余白)
第7表
0試験化合物番号は、実施例中の化合物番号または下記
化合物に対応する。
化合物に対応する。
対照化合物として特開昭63−139161に開示きれ
ている化合物のなかで、最も血小板凝集抑制作用の強い
と思われるものを選んだ。
ている化合物のなかで、最も血小板凝集抑制作用の強い
と思われるものを選んだ。
試験結果から明らかなように、本発明化合物は、従来の
トロンボキサンA、レセプターアンタゴニストと同程度
の主作用を有し、きらにその上対照化合物と比較して、
約130分の1以下のアゴニスト性しか示さなかった。
トロンボキサンA、レセプターアンタゴニストと同程度
の主作用を有し、きらにその上対照化合物と比較して、
約130分の1以下のアゴニスト性しか示さなかった。
マウスを用いたin vivoでの静脈内注射時のパー
シャルアゴニスト作用である呼吸抑制作用発現を指標と
して検定した結果、対応ヘプテン酸誘導体に比べて極め
て低いパーシャルアゴニスト性しか示さないことが確か
められた。
シャルアゴニスト作用である呼吸抑制作用発現を指標と
して検定した結果、対応ヘプテン酸誘導体に比べて極め
て低いパーシャルアゴニスト性しか示さないことが確か
められた。
特許出願人 塩野義製薬株式会社
代 理 人 弁理士 潮1)雄−「−”−!鷹
Claims (4)
- (1)式: ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、Rは水素、メチル、ヒドロキシ、クロロまたは
ブロモを表わす]で示される化合物またはその製薬上許
容しうるエステルもしくは塩。 - (2)ビシクロ[2.2.1]ペプチルアミノカルボン
酸をアルデヒドに変換し、所望のウィッチヒ試薬を作用
させ、更にスルホニルアミノ形成反応を適当な保護基を
用いて行ない、要すればエステル形成反応または塩形成
反応に付すことを特徴とする請求項1記載の化合物の製
法。 - (3)請求項1記載の化合物またはその製薬上許容しう
るエステルもしくは塩を有効成分とするトロンボキサン
A_2起因性疾患治療剤。 - (4)請求項1記載の化合物またはその製薬上許容しう
るエステルもしくは塩および適当なキャリヤーを含有す
るトロンボキサンA_2起因性疾患治療用注射剤。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1040824A JP2756689B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 置換ヘキセン酸誘導体 |
US07/476,545 US5002972A (en) | 1989-02-20 | 1990-02-07 | Compound and composition of substituted hexenoic acid derivatives useful for treating thromboxane A2 mediated diseases |
EP90301895A EP0384747A1 (en) | 1989-02-20 | 1990-02-19 | Pharmaceutical or veterinary preparations of substituted hexenoic acid derivatives |
KR1019900002056A KR0137209B1 (ko) | 1989-02-20 | 1990-02-20 | 치환 헥센산유도체의 주사용 제제 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1040824A JP2756689B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 置換ヘキセン酸誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02218660A true JPH02218660A (ja) | 1990-08-31 |
JP2756689B2 JP2756689B2 (ja) | 1998-05-25 |
Family
ID=12591412
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1040824A Expired - Fee Related JP2756689B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-02-20 | 置換ヘキセン酸誘導体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
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EP (1) | EP0384747A1 (ja) |
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KR (1) | KR0137209B1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
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US5334369A (en) * | 1991-06-11 | 1994-08-02 | Medical University Of South Carolina | Platelet receptor antagonists useful in detecting intravascular platelet aggregation |
FR2691146B1 (fr) * | 1992-05-15 | 1998-01-02 | Adir | Nouveaux derives d'acides alcenecarboxyliques, leur procede de preparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent. |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1278577C (en) * | 1985-11-18 | 1991-01-02 | Tatsuo Tsuri | Bicyclic sulfonamide derivatives |
DE3720760A1 (de) * | 1987-06-24 | 1989-01-05 | Bayer Ag | Norbornan- und norbornensulfonamide, verfahren zu deren herstellung sowie ihre verwendung als arzneimittel |
EP0312906A3 (en) * | 1987-10-23 | 1990-09-05 | Ono Pharmaceutical Co., Ltd. | Novel sulfonamide derivatives |
CA1332607C (en) * | 1988-07-19 | 1994-10-18 | Masayuki Narisada | Alkenyltetrazole derivatives |
-
1989
- 1989-02-20 JP JP1040824A patent/JP2756689B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-02-07 US US07/476,545 patent/US5002972A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-02-19 EP EP90301895A patent/EP0384747A1/en not_active Withdrawn
- 1990-02-20 KR KR1019900002056A patent/KR0137209B1/ko not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR900012610A (ko) | 1990-09-01 |
JP2756689B2 (ja) | 1998-05-25 |
US5002972A (en) | 1991-03-26 |
EP0384747A1 (en) | 1990-08-29 |
KR0137209B1 (ko) | 1998-04-25 |
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