JPH02215038A - マイクロ波プラズマ極微量元素分析装置 - Google Patents
マイクロ波プラズマ極微量元素分析装置Info
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- JPH02215038A JPH02215038A JP1033579A JP3357989A JPH02215038A JP H02215038 A JPH02215038 A JP H02215038A JP 1033579 A JP1033579 A JP 1033579A JP 3357989 A JP3357989 A JP 3357989A JP H02215038 A JPH02215038 A JP H02215038A
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は生体分野等における極微量元素の定量法として
のプラズマイオン源質量分析装置やプラズマ発光分光分
析装置などプラズマ極微量元素分析装置に係り、特にこ
のような装置におけるマイクロ波電力を用いたプラズマ
トーチに関する。
のプラズマイオン源質量分析装置やプラズマ発光分光分
析装置などプラズマ極微量元素分析装置に係り、特にこ
のような装置におけるマイクロ波電力を用いたプラズマ
トーチに関する。
従来のマイクロ波電力を用いたプラズマ極微量元素分析
装置は、第2図に示すように、スペクトロケミ力・アク
タ、 VoJl、37 B、 &7(1982年)pp
、 683−952 (Spactrochlmica
Acta、37B。
装置は、第2図に示すように、スペクトロケミ力・アク
タ、 VoJl、37 B、 &7(1982年)pp
、 683−952 (Spactrochlmica
Acta、37B。
&7(1982)583−592)において論じられて
いる。ここで、1はマイクロ波同軸ケーブル用コネクタ
、2はマイクロ波カップラ、3はギヤツブd調節部、4
は薄板、5はキャビティ長調節部、6はキャビティ、7
は放電管、8はガス状試料およびプラズマガスの混合気
体、9は冷却用空気入口を示す。
いる。ここで、1はマイクロ波同軸ケーブル用コネクタ
、2はマイクロ波カップラ、3はギヤツブd調節部、4
は薄板、5はキャビティ長調節部、6はキャビティ、7
は放電管、8はガス状試料およびプラズマガスの混合気
体、9は冷却用空気入口を示す。
上記従、来技術は、液状試料の分析については考慮され
ておらず1分析試料の制限や試料の導入効率とそのイオ
ン化効率−などに問題があった。
ておらず1分析試料の制限や試料の導入効率とそのイオ
ン化効率−などに問題があった。
すなわち、第2図から明らかなように、プラズマ生成用
のマイクロ波電力を同軸ケーブルを用いてキャビティ6
に供給しているため、その電力は最大500W以下に制
限され、液状の試料の直接分析は不可能なこと、また、
同軸ケーブルでの電力損失も大きいこと、さらに、前記
カップラ2など構造や調節が複雑であった。
のマイクロ波電力を同軸ケーブルを用いてキャビティ6
に供給しているため、その電力は最大500W以下に制
限され、液状の試料の直接分析は不可能なこと、また、
同軸ケーブルでの電力損失も大きいこと、さらに、前記
カップラ2など構造や調節が複雑であった。
さらに、プラズマは表面波を用いて生成するため、ドー
ナツ状のプラズマ生成が充分でなく、また試料とプラズ
マガスとを混合した状態で供給するため、試料の導入効
率とそのイオン化効率は低く、検出限界(感度)などに
問題があった。
ナツ状のプラズマ生成が充分でなく、また試料とプラズ
マガスとを混合した状態で供給するため、試料の導入効
率とそのイオン化効率は低く、検出限界(感度)などに
問題があった。
本発明の目的は、上記諸問題点を解決した高性能のプラ
ズマ極微量元素分析装置を提供することにある。
ズマ極微量元素分析装置を提供することにある。
上記目的を達成するために、第1図に示すように、同軸
ケーブルを用いることなく、内外導体から成る同軸導波
管構成とするとともに、内導体を馬 ヘリカル状コイルなどにして同偏波を励起し、この波を
用いて前記コイル内に設けた放電管内にプラズマを生成
するよう構成したものである。
ケーブルを用いることなく、内外導体から成る同軸導波
管構成とするとともに、内導体を馬 ヘリカル状コイルなどにして同偏波を励起し、この波を
用いて前記コイル内に設けた放電管内にプラズマを生成
するよう構成したものである。
また、前記放電管は少なくとも二重管とし、試料とプラ
ズマガスとを分離した状態で前記放電ン導入するととも
に、前記コイル付近で前記試料と前記プラズマガスの一
部とが混合するように構成したものである。
ズマガスとを分離した状態で前記放電ン導入するととも
に、前記コイル付近で前記試料と前記プラズマガスの一
部とが混合するように構成したものである。
さらに、少なくとも前閘放雷管を冷却するために、前記
放電管の軸方向から送風(空気)するよう構成したもの
である。
放電管の軸方向から送風(空気)するよう構成したもの
である。
前記同軸導波管ヘリカルコイル構成は、コイル30に流
れる高周波電流によって(円偏波モード)、半径方向の
電界と軸方向に誘起される磁界とによって、前記放電管
70の内部に導入したプラズマガス80のドーナツ状プ
ラズマ100(プラズマ1の径方向の温度が中心部より
周辺部が高くなる温度分布、を有するプラズマ)を効率
よく生成することができる。
れる高周波電流によって(円偏波モード)、半径方向の
電界と軸方向に誘起される磁界とによって、前記放電管
70の内部に導入したプラズマガス80のドーナツ状プ
ラズマ100(プラズマ1の径方向の温度が中心部より
周辺部が高くなる温度分布、を有するプラズマ)を効率
よく生成することができる。
そして、前記ドーナツ状プラズマ100の中心部に、ネ
プライザ(図示せず)からの液状試料90を試料導入管
71から導入するこ・とにより。
プライザ(図示せず)からの液状試料90を試料導入管
71から導入するこ・とにより。
高効率で前記試料を解離→励起→イオン化することがで
きる。
きる。
さらに、冷却ガス(例えば空気など)60を導入パイプ
51より冷気部50に導入することにより、前記放電管
70を軸方向から冷却できるとともに、前記コイル30
も冷却することができる。
51より冷気部50に導入することにより、前記放電管
70を軸方向から冷却できるとともに、前記コイル30
も冷却することができる。
以下、本発明の一実施例を第1図により説明する。
第1v4は本発明のマイクロ波プラズマトーチ部の基本
構成を示す、ここで、10は鋼などから成る偏平導波管
(例えば、内寸法8.6X109.2X84m8)、2
0は銅などから成る同軸変換部悲 (形状は、例えば円錐台:底辺直径30−1上記直径2
0m)、30は銅などからなるヘリカルコイル(寸法は
、例えば、直径:20〜5■、ピッチ:10〜2m、線
の太さ=1〜10m1巻数:1〜10ターン)で雄前記
同軸変換部20に設けた溝21に1例えば、図のように
設けである。
構成を示す、ここで、10は鋼などから成る偏平導波管
(例えば、内寸法8.6X109.2X84m8)、2
0は銅などから成る同軸変換部悲 (形状は、例えば円錐台:底辺直径30−1上記直径2
0m)、30は銅などからなるヘリカルコイル(寸法は
、例えば、直径:20〜5■、ピッチ:10〜2m、線
の太さ=1〜10m1巻数:1〜10ターン)で雄前記
同軸変換部20に設けた溝21に1例えば、図のように
設けである。
40は銅などから成る円筒状の外導体(寸法は、例えば
、内径40m、長さ20〜70m)で、その一端には放
電管70を通すための穴42(放電管の外径より多少大
きい)と前記ヘリカルコイル30の終端を取付けるため
の穴41(ヘリカルコイル30を浮す場合は不要)と複
数個の空気穴43(必要に応じて、空冷にともなって発
生する音を低減する効果がある)が設けられている。
、内径40m、長さ20〜70m)で、その一端には放
電管70を通すための穴42(放電管の外径より多少大
きい)と前記ヘリカルコイル30の終端を取付けるため
の穴41(ヘリカルコイル30を浮す場合は不要)と複
数個の空気穴43(必要に応じて、空冷にともなって発
生する音を低減する効果がある)が設けられている。
50は銅などから成る冷却ガス(通常空気)導入部で、
51は導入パイプ、60は冷却ガス(通常高圧空気)、
70は石英やセラミックスなどから成る放電管(内径1
〜20■)、71は石英やセラミックスなどから成る試
料導入管で、その先端72は必要に応じて絞っである。
51は導入パイプ、60は冷却ガス(通常高圧空気)、
70は石英やセラミックスなどから成る放電管(内径1
〜20■)、71は石英やセラミックスなどから成る試
料導入管で、その先端72は必要に応じて絞っである。
73は前記放電管70に設けたプラズマガス(例えば、
ArgNxgHaなど)80の導入口:90はネプライ
ザ(図示せず)な、どからの試料とキャリアガス(前記
プラズマガスと同一)、100は高温のドーナツ状プラ
ズマ、110は拡散プラズマ、120はマイク口波電力
のリーク防止と安全と保護のための円筒状のステンレス
などから成るシールドケースで。
ArgNxgHaなど)80の導入口:90はネプライ
ザ(図示せず)な、どからの試料とキャリアガス(前記
プラズマガスと同一)、100は高温のドーナツ状プラ
ズマ、110は拡散プラズマ、120はマイク口波電力
のリーク防止と安全と保護のための円筒状のステンレス
などから成るシールドケースで。
熱風などを放出するために複数の穴が設けである(さら
に、必要に応じて、分光計測などのための1程度のアパ
ーチャ131が設けである。140は分光分析のための
分光It(真空分光器含む)や質量分析のためのインタ
フェース部や質量分析器などを示す、150はマイクロ
波電力(例えば、2.45GHz、0.5〜5kW)、
160は標準導波管から前記偏平導波管10に接続する
ためのテーバ導波管を示す。
に、必要に応じて、分光計測などのための1程度のアパ
ーチャ131が設けである。140は分光分析のための
分光It(真空分光器含む)や質量分析のためのインタ
フェース部や質量分析器などを示す、150はマイクロ
波電力(例えば、2.45GHz、0.5〜5kW)、
160は標準導波管から前記偏平導波管10に接続する
ためのテーバ導波管を示す。
次に1本発明の基本的な動作を説明する。
マグネトロンなどからなるマイクロ波発生器からのマイ
クロ波電力150は、アイソレータ(図示せず)やパワ
ーメータ(図示せず)、さらに、チューナ(図示せず)
を経て、前記偏平導波管10に伝送され、次に、前記同
軸導波管変換部20から前遍カルコイル30に供給され
る。このとき、前記ヘリカルコイル30に高周波電流が
流れ、このとき発生する電界と磁界との作用により、前
記放電管70に導入したプラズマガス60がイオン化さ
れ、高湿のドーナツ状プラズマ100を発生する。そし
て、分析すべき前記試料90を前記試料導入管71より
、前記ドーナツ状プラズマ100の中心部に導入すると
、周辺部に拡散することなく、効率よく解離→励起→イ
オン化を行うことができる。このとき発生する光を前記
分光器及び/又はイオンを前記質量分析器140などを
用いて分析する。
クロ波電力150は、アイソレータ(図示せず)やパワ
ーメータ(図示せず)、さらに、チューナ(図示せず)
を経て、前記偏平導波管10に伝送され、次に、前記同
軸導波管変換部20から前遍カルコイル30に供給され
る。このとき、前記ヘリカルコイル30に高周波電流が
流れ、このとき発生する電界と磁界との作用により、前
記放電管70に導入したプラズマガス60がイオン化さ
れ、高湿のドーナツ状プラズマ100を発生する。そし
て、分析すべき前記試料90を前記試料導入管71より
、前記ドーナツ状プラズマ100の中心部に導入すると
、周辺部に拡散することなく、効率よく解離→励起→イ
オン化を行うことができる。このとき発生する光を前記
分光器及び/又はイオンを前記質量分析器140などを
用いて分析する。
外側に冷却管75を設は導入ロアロより冷却ガス60を
導入する場合を示す、このとき、第1図における50と
51は不要である。この構成は、前記放電管70の冷却
効果は大きい。
導入する場合を示す、このとき、第1図における50と
51は不要である。この構成は、前記放電管70の冷却
効果は大きい。
一方、列国(ロ)と(ハ)は前記プラズマ80と前記試
料90を従来技術同様、同時に供給する場合の放電管7
7の一例を示す(簡易型)。
料90を従来技術同様、同時に供給する場合の放電管7
7の一例を示す(簡易型)。
なお、前記放電管で前記ヘリカルコイル30の内部に対
応する部分の放電管の径は、目的に応じて選定する。さ
らに、その端末部7^状も目的に応じて(プラズマの安
定化や損失の低減、さらに放熱のために)円錐状などに
する。
応する部分の放電管の径は、目的に応じて選定する。さ
らに、その端末部7^状も目的に応じて(プラズマの安
定化や損失の低減、さらに放熱のために)円錐状などに
する。
本発明は、以上説明したように、マイクロ波プラズマト
ーチ部を、同軸導波管ヘリカルコイルと二重管型放電管
と前記放電管を軸方向から冷却する冷却系とから構成す
ることにより、簡単になるとともに、大電力(0,5k
W以下)で効率よく率よく解離→励起→イオン化するこ
とができ、従来技術に比べ、検出限界も10倍以上高め
ることができる(例えば、Caの場合の検出限界は0.
001ppm ) a また、調整も簡単で、取扱い方も非常に楽になるなどの
効果もある。
ーチ部を、同軸導波管ヘリカルコイルと二重管型放電管
と前記放電管を軸方向から冷却する冷却系とから構成す
ることにより、簡単になるとともに、大電力(0,5k
W以下)で効率よく率よく解離→励起→イオン化するこ
とができ、従来技術に比べ、検出限界も10倍以上高め
ることができる(例えば、Caの場合の検出限界は0.
001ppm ) a また、調整も簡単で、取扱い方も非常に楽になるなどの
効果もある。
さらに、前記シールドケースを設けることにより、マイ
クロ波のリークによる障害も低減できるなどの効果があ
る。
クロ波のリークによる障害も低減できるなどの効果があ
る。
第1図は本発明の一実施例の基本的な構成のプラズマト
ーチ部の断面図、第2図は従来技術のプラズマトーチ部
の断面図、第3図(イ)、(ロ)、(ハ)は本発明の放
電管構造の他の実施例を示す。 1・・・マイクロ波同軸ケーブル用コネクタ、2・・・
マイクロ波カップラ、7・・・放電管、8・・・プラズ
マガスと気体状試料の混合気体、9・・・空冷口、10
・・・偏平導波管、20・・・同軸導波管変換部、3o
・・・ヘリカルコイル、40・・・外導体、50・・・
冷却部、60・・・冷却ガス、70・・・放電管、80
・・・プラズマガス、90・・・試料、100・−・ド
ーナツ状プラズマ、110・・・拡散プラズマ、120
・・・シールドケース、130・・・サンプリングコー
ン、14o・・・質量分析器など、150・・・マイク
ロ波電力、180・・・テーバ導波管、。 纂 図 Iρ 4JR1JM管 7θ 放電管 劣 図 マイ703走1聡〉り j周軸7−2゛ル コ不7り iフッ・う 訓節部 薄状 直珂節りP 午ヤと゛テ4 方丈電層r 試料次ス 怨汐口
ーチ部の断面図、第2図は従来技術のプラズマトーチ部
の断面図、第3図(イ)、(ロ)、(ハ)は本発明の放
電管構造の他の実施例を示す。 1・・・マイクロ波同軸ケーブル用コネクタ、2・・・
マイクロ波カップラ、7・・・放電管、8・・・プラズ
マガスと気体状試料の混合気体、9・・・空冷口、10
・・・偏平導波管、20・・・同軸導波管変換部、3o
・・・ヘリカルコイル、40・・・外導体、50・・・
冷却部、60・・・冷却ガス、70・・・放電管、80
・・・プラズマガス、90・・・試料、100・−・ド
ーナツ状プラズマ、110・・・拡散プラズマ、120
・・・シールドケース、130・・・サンプリングコー
ン、14o・・・質量分析器など、150・・・マイク
ロ波電力、180・・・テーバ導波管、。 纂 図 Iρ 4JR1JM管 7θ 放電管 劣 図 マイ703走1聡〉り j周軸7−2゛ル コ不7り iフッ・う 訓節部 薄状 直珂節りP 午ヤと゛テ4 方丈電層r 試料次ス 怨汐口
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、マイクロ波プラズマを用いた極微量元素分析装置の
プラズマトーチ部において、マイクロ波電力を少なくと
も円筒状外導体とヘリカルコイル状内導体とで構成した
同軸導波器に供給する系と、少なくとも試料を導入する
絶縁物の内管とプラズマガスを導入する絶縁物の外管と
から成る二重管構造の放電管系と、少なくとも前記放電
管を軸方向から冷却する系とを具備してなることを特徴
とするマイクロ波プラズマ極微量元素分析装置。 2、上記マイクロ波電力の外部へのリークを阻止するシ
ールドケースを具備したことを特徴とする第1項のマイ
クロ波プラズマ極微量元素分析装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1033579A JPH02215038A (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | マイクロ波プラズマ極微量元素分析装置 |
US07/473,430 US5086255A (en) | 1989-02-15 | 1990-02-01 | Microwave induced plasma source |
DE4004560A DE4004560A1 (de) | 1989-02-15 | 1990-02-14 | Mikrowelleninduzierte plasmaquellen |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1033579A JPH02215038A (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | マイクロ波プラズマ極微量元素分析装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02215038A true JPH02215038A (ja) | 1990-08-28 |
Family
ID=12390440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1033579A Pending JPH02215038A (ja) | 1989-02-15 | 1989-02-15 | マイクロ波プラズマ極微量元素分析装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5086255A (ja) |
JP (1) | JPH02215038A (ja) |
DE (1) | DE4004560A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103687266A (zh) * | 2012-08-28 | 2014-03-26 | 安捷伦科技有限公司 | 电磁波导和等离子体源 |
JP2019514168A (ja) * | 2016-04-05 | 2019-05-30 | アパン インストゥルメンツ エスピー. ゼット オー. オー.Apan Instruments Sp. Z O.O. | マイクロ波周波数においてトロイダルプラズマ放電を加熱する電磁場を成形するアダプタ |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04110653A (ja) * | 1990-08-31 | 1992-04-13 | Hitachi Ltd | プラズマを用いた気体試料の分析方法 |
JPH05251038A (ja) * | 1992-03-04 | 1993-09-28 | Hitachi Ltd | プラズマイオン質量分析装置 |
US5389153A (en) * | 1993-02-19 | 1995-02-14 | Texas Instruments Incorporated | Plasma processing system using surface wave plasma generating apparatus and method |
FR2702328B1 (fr) * | 1993-03-05 | 1995-05-12 | Univ Lille Sciences Tech | Dispositif de production d'un plasma. |
JPH07169590A (ja) * | 1993-09-16 | 1995-07-04 | Fujitsu Ltd | 電子密度の測定方法及びその装置及び電子密度の制御装置及びプラズマ処理装置 |
US5671045A (en) * | 1993-10-22 | 1997-09-23 | Masachusetts Institute Of Technology | Microwave plasma monitoring system for the elemental composition analysis of high temperature process streams |
DE4339852A1 (de) * | 1993-11-23 | 1995-05-24 | Dreyer Dietmar | Höchsttemperaturbatterie |
DE4419423A1 (de) * | 1994-03-18 | 1995-09-21 | Spectro Analytical Instr | Plasma-Manipulator |
US5565118A (en) * | 1994-04-04 | 1996-10-15 | Asquith; Joseph G. | Self starting plasma plume igniter for aircraft jet engine |
DE19511915C2 (de) * | 1995-03-31 | 1997-04-30 | Wu Jeng Ming Dipl Ing | Plasmabrenner mit einem Mikrowellengenerator |
US5825485A (en) * | 1995-11-03 | 1998-10-20 | Cohn; Daniel R. | Compact trace element sensor which utilizes microwave generated plasma and which is portable by an individual |
DE29616475U1 (de) * | 1996-09-21 | 1996-12-05 | Preussag Wasser und Rohrtechnik GmbH, 30625 Hannover | Plasmabrennerspitze |
DE19847848C1 (de) * | 1998-10-16 | 2000-05-11 | R3 T Gmbh Rapid Reactive Radic | Vorrichtung und Erzeugung angeregter/ionisierter Teilchen in einem Plasma |
JP2000133494A (ja) | 1998-10-23 | 2000-05-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | マイクロ波プラズマ発生装置及び方法 |
AU741947B2 (en) * | 1999-04-12 | 2001-12-13 | Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. | Organic halogen compound decomposing device and operation control method therefor, and organic halogen compound decomposing method |
DE19925790A1 (de) * | 1999-06-05 | 2000-12-07 | Inst Oberflaechenmodifizierung | Verfahren und Vorrichtung zur Bearbeitung von optischen und anderen Oberflächen mittels Hochrate-Plasmaprozessen |
US6429935B1 (en) | 2000-03-02 | 2002-08-06 | The Regents Of The University Of California | Microwave plasma monitoring system for real-time elemental analysis |
US6836060B2 (en) * | 2001-03-26 | 2004-12-28 | Agilent Technologies, Inc. | Air cooled gas discharge detector |
DE50208353D1 (de) * | 2001-08-28 | 2006-11-16 | Jeng-Ming Wu | Plasmabrenner mit mikrowellenanregung |
DE10260745A1 (de) * | 2002-12-23 | 2004-07-01 | Outokumpu Oyj | Verfahren und Anlage zur thermischen Behandlung von körnigen Feststoffen |
US20050163696A1 (en) * | 2004-01-28 | 2005-07-28 | Uhm Han S. | Synthesis of carbon nanotubes by making use of microwave plasma torch |
US7005635B2 (en) * | 2004-02-05 | 2006-02-28 | Metara, Inc. | Nebulizer with plasma source |
DE102004021016B4 (de) * | 2004-04-29 | 2015-04-23 | Neue Materialien Bayreuth Gmbh | Vorrichtung zur Einspeisung von Mikrowellenstrahlung in heiße Prozessräume |
CA2603047A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Varian Australia Pty Ltd | A plasma spectroscopy system with a gas supply |
AU2006228986B2 (en) * | 2005-03-31 | 2011-08-11 | Agilent Technologies Australia (M) Pty Ltd | A plasma spectroscopy system with a gas supply |
US7619178B2 (en) * | 2006-02-06 | 2009-11-17 | Peschel William P | Directly connected magnetron powered self starting plasma plume igniter |
US8003935B2 (en) * | 2007-10-10 | 2011-08-23 | Mks Instruments, Inc. | Chemical ionization reaction or proton transfer reaction mass spectrometry with a quadrupole mass spectrometer |
US8003936B2 (en) * | 2007-10-10 | 2011-08-23 | Mks Instruments, Inc. | Chemical ionization reaction or proton transfer reaction mass spectrometry with a time-of-flight mass spectrometer |
US8334505B2 (en) * | 2007-10-10 | 2012-12-18 | Mks Instruments, Inc. | Chemical ionization reaction or proton transfer reaction mass spectrometry |
WO2009065016A1 (en) * | 2007-11-16 | 2009-05-22 | Applied Materials, Inc. | Rpsc and rf feedthrough |
CN102291922B (zh) * | 2011-07-22 | 2013-03-20 | 中国科学院空间科学与应用研究中心 | 一种离子产生装置 |
CA2879076C (en) | 2012-07-13 | 2020-11-10 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Torches and methods of using them |
CN103236394B (zh) * | 2013-04-17 | 2015-12-09 | 四川大学 | 基于微波等离子体的常压解吸离子源及其应用 |
JP6476020B2 (ja) * | 2015-03-10 | 2019-02-27 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 誘導結合プラズマ発生装置及び誘導結合プラズマ分析装置 |
US11145501B2 (en) * | 2020-02-20 | 2021-10-12 | Perkinelmer, Inc. | Thermal management for instruments including a plasma source |
EP3890449A1 (en) * | 2020-04-02 | 2021-10-06 | Tofwerk AG | Microwave driven plasma ion source |
AT523626B1 (de) | 2020-05-22 | 2021-10-15 | Anton Paar Gmbh | Hohlleiter-Einkoppeleinheit |
WO2023203386A2 (en) * | 2022-04-22 | 2023-10-26 | Standard Biotools Canada Inc. | Sealed plasma torch |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1033392A (en) * | 1962-06-20 | 1966-06-22 | Atomic Energy Authority Uk | Improvements in or relating to induction coupled plasma generators |
US3492074A (en) * | 1967-11-24 | 1970-01-27 | Hewlett Packard Co | Atomic absorption spectroscopy system having sample dissociation energy control |
US3484650A (en) * | 1967-12-15 | 1969-12-16 | John F Rendina | Plasma atomic vapor generator |
BE758571A (fr) * | 1969-11-06 | 1971-04-16 | Euratom | Generateur de plasma a haute frequence |
US4306175A (en) * | 1980-02-29 | 1981-12-15 | Instrumentation Laboratory Inc. | Induction plasma system |
JPS5945900U (ja) * | 1982-09-17 | 1984-03-27 | 住友電気工業株式会社 | 高周波誘導プラズマ用ト−チ |
US4517495A (en) * | 1982-09-21 | 1985-05-14 | Piepmeier Edward H | Multi-electrode plasma source |
US4727236A (en) * | 1986-05-27 | 1988-02-23 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Combination induction plasma tube and current concentrator for introducing a sample into a plasma |
JPS639761U (ja) * | 1986-07-07 | 1988-01-22 | ||
DE3703207A1 (de) * | 1987-02-04 | 1988-08-18 | Loet Und Schweissgeraete Gmbh | Hochfrequenzionenquelle |
JPS63198299A (ja) * | 1987-02-13 | 1988-08-16 | 株式会社日立製作所 | 高周波誘導プラズマ発生装置 |
US4818916A (en) * | 1987-03-06 | 1989-04-04 | The Perkin-Elmer Corporation | Power system for inductively coupled plasma torch |
US4766287A (en) * | 1987-03-06 | 1988-08-23 | The Perkin-Elmer Corporation | Inductively coupled plasma torch with adjustable sample injector |
JPS6440600A (en) * | 1987-08-06 | 1989-02-10 | Dia Chem Kk | Cleanser |
JP2675561B2 (ja) * | 1987-12-18 | 1997-11-12 | 株式会社日立製作所 | プラズマ微量元素分折装置 |
DE3905303C2 (de) * | 1988-02-24 | 1996-07-04 | Hitachi Ltd | Vorrichtung zur Erzeugung eines Plasmas durch Mikrowellen |
JP2805009B2 (ja) * | 1988-05-11 | 1998-09-30 | 株式会社日立製作所 | プラズマ発生装置及びプラズマ元素分析装置 |
JP2523810B2 (ja) * | 1988-08-31 | 1996-08-14 | 松下電器産業株式会社 | 音場可変装置 |
-
1989
- 1989-02-15 JP JP1033579A patent/JPH02215038A/ja active Pending
-
1990
- 1990-02-01 US US07/473,430 patent/US5086255A/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-02-14 DE DE4004560A patent/DE4004560A1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103687266A (zh) * | 2012-08-28 | 2014-03-26 | 安捷伦科技有限公司 | 电磁波导和等离子体源 |
CN103687266B (zh) * | 2012-08-28 | 2017-09-08 | 安捷伦科技有限公司 | 电磁波导和等离子体源 |
JP2019514168A (ja) * | 2016-04-05 | 2019-05-30 | アパン インストゥルメンツ エスピー. ゼット オー. オー.Apan Instruments Sp. Z O.O. | マイクロ波周波数においてトロイダルプラズマ放電を加熱する電磁場を成形するアダプタ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5086255A (en) | 1992-02-04 |
DE4004560A1 (de) | 1990-08-16 |
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