JPH02213469A - 一方の雰囲気から他方の雰囲気へ工作物を移送する移送装置及び処理室へ工作物を給送し、排出を行う方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、一方の雰囲気から他方の雰囲気へ工作物を移
送し、一方の雰囲気が他方の雰囲気にほとんど影響を与
えることのない、移送装置に関するものである。本発明
はさらに、室の雰囲気とは異なる所定の処理雰囲気を有
する処理室への工作物の給送、排出を行う方法に関する
ものである。

本発明はさらに、上記の移送装置を有する真空室と、移
送装置ないし真空室の使用に関するものである。

〔従来の技術と発明が解決しようとする課題〕ヨーロッ
パ特願第０２４２９９７号によれば、第１の雰囲気を有
する工作物マガジンから工作物を第２の雰囲気を有する
真空室などの処理室へ移送し、そこから第３以降の雰囲
気へ移送する移送装置が知られている。一方の室から他
方の室へ移送する移送装置には２腕のレバーが設けられ
ており、このレバーは前記室間に配置され、両方の室へ
揺動することができる。このレバーはシール弁装置にま
とめられており、このシール弁装置によって室は互いに
密封状態で分離され、ないしは互いに接続されることが
できる。この密封を行う弁装置はドアと同様に形成され
ているので、２つの室が接続され、それによってその室
の雰囲気が接続され、あるいは互いに分離される。

この種の移送装置には、レバーが各室へ揺動する毎に画
室が接続されてしまい、それによってそれぞれの雰囲気
の平衝が生じてしまうという欠点がある。一方の室内で
狭い許容誤差に維持された雰囲気で作業を行わなければ
ならない場合には、上記従来の装置では各室に関するそ
れぞれの移送工程後に室の条件を新たに整えなければな
らない。

従ってここに示した移送装置は、一方の雰囲気が他方の
雰囲気にほとんど影響を与えることなしに、工作物を一
時取り出さずに第１の雰囲気から第２の雰囲気へ移送す
ることはできない。

さらにヨーロッパ特願第０２４６７９８号によれば、互
いに直列に接続された処理室の内部にそれぞれ移送レバ
ーを設けることが知られており、ある室内の移送レバー
はその室と次の室に作用する。ここでも２つの室は移送
工程が行われると接続されてしまうので、隣接の室によ
り雰囲気が影響を受けるので、各室の作業雪囲気を狭い
許容誤差の範囲内に維持しなければならず、かつその室
内の雰囲気が異なっている場合には、それぞれの室を新
たに調節しなければならない。

同様に米国特許公報第４５５３０６９号によれば、真空
室内に多数の腕を有するコウノ）ＩＪのくちばし状の移
送レバーを設けることが知られている。ウェファなどの
処理すべき工作物をマガジンから取り出すために、真空
室から開いているスリット弁を通してマガジン内への進
入が行われ、それによってマガジンと真空室との間に連
通が生じ、それによって加工の間狭い許容誤差に維持し
なければならない面倒な真空状態の場合には移送工程後
に真空室を調節しなければならない。

さらに、例えばヨーロッパ特願第０２４６７９８号に示
すように、付属の機構を有する移送アームを真空室内に
設けることによって、室の体積をかなり大きくすること
になり、それはポンプ出力や条件を整える時間にかかわ
ってくる。すなわち真空室内に移送装置のために必要と
なる体積も一緒に調節しなければならない。

また、米国特許公報第４６７０１２６号によれば、多数
の処理室に通じる中間室内に多数の腕を有する移送レバ
ーを設け、この移送レバーが接続されている処理室のい
ずれかにスリット弁状の閉鎖部材を有するドアを介して
選択的に嵌入することが知られている。多数の腕を有す
る移送レバーが接続されている室へ入り込むことができ
ることによって、中間室の体積がかなり大きくなり、こ
の中間室は接続されているいずれかの処理室への移送工
程が行われる毎にその処理室と連通されるので、互いに
雰囲気が影響し合い、従ってそれぞれの移送工程後に該
当する処理室を新たに調節しなければならず、中間室に
ついても同様である。

米国特許公報第４７３３７４６号によればさらに、真空
処理室に両側から２つの真空予備室を介して不図示の移
送装置を用いて装填を行うことが知られている。

この場合にはさらに一方の予備室から真空室へ、そして
他方の予備室へ引き渡す具体的な引渡しサイクルが記載
されており、３つの室すべてはそれぞれ互いに接続され
ており、それによって比較的大きな体積、すなわち中間
室の体積が真空室に影響を与える。

さらに英国特許公報第２１４３４９４号から知られてい
る移送装置はロック室からなり、２本腕の揺動レバーが
室のほぼ中央に軸承されてており、両側において従来の
スリット弁から出ることができる。移送レバーの２つの
アームは別々に駆動され、それによってレバーの端部の
収容部分は任意のカーブを描いて移動することができる
。しかしこの移送装置には、真空密封性に関する２つの
レバーアームの駆動と案内が非常に複雑であって、かつ
室の体積が比較的大きくなり、それによって装備すべき
ポンプユニットないしポンプ出力及びポンピングに要す
る時間が増大するという欠点がある。

さらにヨーロッパ特許公開公報第０２９１６９０号も参
照することができる。

本発明の目的は、１つの雰囲気から他の雰囲気への移送
工程の後、調節する体積が最小となり、それによってサ
イクル時間が減少される冒頭で述べた種類の移送装置を
提供することと、さらにこのサイクル時間を、移送リズ
ムを所定にすることによって最適にすることである。

〔課題を解決するための手段と作用〕

上記目的に鑑みて本発明は、一方の雰囲気から他方の雰
囲気へ工作物を移送し、一方の雰囲気が他方の雰囲気に
ほとんど影響を与えることのない移送装置において、ロ
ック室が雰囲気を分離し、ロック室内に片側を室の縁領
域に揺動軸承された少なくとも１つの移送レバーが設け
られており、ロック室のレバーを軸受する揺動軸受の両
側には、レバーの揺動軸受と反対側の部分がそれぞれロ
ックドアが開放された時に室の両側から揺動して出られ
るようにロックドアが設けられていることを特徴とする
移送装置を提供する。

また、室の雰囲気とは異なる所定の処理雰囲気を有する
処理室に工作物を装填及び排出する方法において、処理
室とその環境の間に少なくとも２つのロック室が設けら
れており、一方のロック室が少なくともほぼ処理雰囲気
にされ、他方のロック室が少なくともほぼ環境の雰囲気
にされ、一方のロック室が処理室と接続され、他方の処
理室が環境と接続され、各ロック室と処理室ないしその
環境の間で工作物に少なくとも１つの移送操作が行われ
、処理室内での処理が終了した後、処理された工作物が
一方のロック室へ取り入れられ、そのロック室が閉鎖さ
れ、ロック室がそれぞれ他方の雰囲気にされることを特
徴とする処理室に工作物を装填及び排出する方法を提供
する。

さらに、上記の種類の移送装置で、移送サイクル時に処
理室が互いに連通ずる公知の移動装置においては、米国
特許公報第４７３３７４６号に記載の手段が採用されて
おり、それによれば例えば真空処理工程の場合にロック
手段を用いて工作物を真空室へ装入している。この移送
装置にはロック手段が設けられており、このロック手段
は工作物を処理雰囲気を有するこのような室へ装入する
ことができ、その場合に室内を支配している処理雰囲気
を室の外の雰囲気から分離することができる。

この種のロック手段の公知の機能方法によれば、そのた
めにまずロック手段の一方側が開放され、移送レバーに
よって工作物がロック手段へ装入され、その後にロック
手段が閉鎖されて、ロック室の空間が処理室の雰囲気状
態に合わせられる。この場合に、処理室の外部の雰囲気
が処理室の内部の状態に影響するのを防止する場合には
、ロック室の両側を閉鎖し、排気して、ロック室を上述
の処理室方向へ開放する前に、処理室を支配しているの
と同じ雰囲気状態にする。その後移送装置を用いて工作
物を処理室へ装入する。処理室に封入されているガス体
積が処理室内の状態に影響することが許容できる場合に
は、工作物を室へ装入した後にロック室の処理室側を開
放して、工作物を処理室へ装入する。

上記２つのいずれの場合にもロック室の体積を考慮しな
ければならない。すなわち第１の場合にはサイクル時間
と設けなければならない排気及びコンディショニングユ
ニットは主として排気して調節すべきロック室体積に関
係し、第２の場合にはロック室体積は、処理室内の状態
がロック室内で捕捉された体積によって影響される程度
を決定する。

本発明の移送装置に設けられているロック室ではロック
室の縁領域に揺動軸承されたレバーが設けられ、ロック
室のレバーの揺動軸受の両側にロックドアが設けられ、
それぞれロックドアが開放されるとレバーの揺動軸受と
反対側の部分がロック室の両側からから揺動して出るこ
とによって、このレバーによりロック室の体積が大きく
なると最大可能な揺動距離を移動することができ、逆に
言えばそれによって所定の揺動距離の場合にロック室の
体積は最小になる。　言い替えれば、移送装置のロック
室内にこのように揺動軸承されたレバーが設けられてい
ることによって、し′バーを揺動軸受に対して方位的に
延長することによって室の体積を限定し、また移送装置
が移動する移送距離をレバーの径方向の延長によって得
ることができる。従ってすでに述べたように、室の体積
を通過する移送距離と無関係に設定することができる。

請求項第２項によれば、好ましくはロックドアは揺動軸
受軸方向に見て、レバー及びロック室に装入されている
移動すべき工作物の形状によってほぼ決定される面積を
画成するように配置されている。それによってこの面積
は必要最小限の範囲に限定される。

レバーの円形の揺動路を確保するために延長されたロッ
、クドアが設けられているので、請求項第３項の特徴に
よれば、ロックドアをスリット弁、好ましく＋ｔｖ−Ａ
、　Ｔ０社（７）ＭＯＮＯＶＡＴ弁ニヨッテ形成するこ
とが提案されている。

この場合にスリット弁は原則的に、弁のスライダがドア
状に一方向にのみ上下移動するスリット弁であって、密
封性を形成ないしは解除するために閉鎖移動ないし開放
移動に対して垂直な第２の移動を必要としない。従って
この種の弁は「２方向移動スリツト弁」に比較して寿命
と特に摩耗の減少に関して全く本質的利点を有する。本
発明で使用される弁は、例えばドイツ特許公開公報第３
８０１９９８号に記載されている。

さらに、処理室特に真空室内で処理すべき工作物の作業
サイクルを短縮するために、請求項第４項の特徴によれ
ば、上記種類の一対のロック室を設けて、それを反対の
周期で駆動することが提案されている。これは、一方の
ロック室の移送レバーが処理室に関して外部の雰囲気に
作用する場合に他方のロック室の移送レバーが処理室内
にあること、及び同時に２つの移送レバーがロック室へ
復帰し、一方のロック室が処理室の外部の状態にされ、
同時に他方のロック室が処理室の内部に相当する状態に
されることを意味する。それによって工作物が処理プロ
セスを通過する時間が短縮される。

さらに、多くの場合に、連続的に処理室に供給される工
作物をそれぞれ所定の移送装置のために空間的に分離さ
れた２つの収容位置に供給する必要はなく、２つの移送
装置を用いて工作物を処理室の外部にある同一の位置に
収容することができ、かつ／あるいは処理室内部で２つ
の移動装置を用いてそれぞれ工作物を同一の処理位置へ
移動させることかできるようにされる。

このことは、設けられている移送装置の他の本発明実施
例においては、請求項第５項の特徴に従いレバーが通過
する円形の移動面が少なくとも１つあるいは２つの字囲
気内で重なり合うことによって容易に可能となる。

この場合に、処理室内で２つの移送装置によって同一の
処理位置に装填できるようにすること、及び処理室の外
部で２つの移送装置を用いて同一の装填ステーションな
いし排出ステーションへ作用できるようにする場合には
、請求項第６項の特徴によれば、レバーが移動する円形
の移動面が２つの雰囲気において重なり合うようにする
ことが提案されている。

このことは好ましくは請求項第８項の特徴によれば、２
つのロック室を揺動軸受が互いに隣接するように近接し
て配置することによって達成される。

さらに、請求項第９項の特徴によれば、上述のように形
成された移送装置を有する真空室が提案されている。こ
の種の真空室は特にメモリディスクの処理に適しており
、メモリディスクの処理においては本発明により設けら
れたロック室を有するこの本発明の真空室に、例えばア
ルミニウムあるいはアルミニウム合金などの金属の真空
分離を行うために基体が装入される。この種の本発明に
よる真空室によれば全生産ラインの１つの生産段階が非
常に迅速になり、従って今日まで生産段階の連鎖の中で
真空処理プロセスが時間のかかるものの１つであったこ
とを考慮すると、全生産時間が短縮される。上述のよう
に本発明の移送装置によってそれぞれ真空室の外部と処
理室の内部で同一引渡し位置ないし引き取り位置ないし
処理位置を用いるという方法によれば、特に室に装填す
るためにいくつかの箇所でそれぞれの移送レバーにディ
スクを自由に引き渡すことができることによって、移送
された工作物としてのディスクの取扱を簡単安価にする
ことができ、それによって設けるべき°処理装置を特に
簡単安価にすることができる。

さらに本発明で提案されている考えによれば、メモリデ
ィスクの生産においてサイクル時間を減少させずに例え
ばＣＤのようなそれぞれ１つだけあるいは２つの工作物
を引渡し箇所から真空処理プロセスへ導入することがで
きるので、全プロセスの機能に欠陥が生じた場合にはい
つでも装置を停止させることができる。多数のディスク
が真空コーティングプロセスに入ってしまって、装置を
再始動するときに傷ものとしてはねのける必要はなく、
全プロセスを再スタートさせるために、装置が停止した
時にすでに処理プロセスに入っている多くの工作物が真
空処理プロセスすなわち真空室を出ていると考える必要
はない。

揺動レバーを有する移送装置の一番簡単な実施例によっ
て、工作物のフォーマットを交換すること、すなわち特
にメモリディスク生産の場合に、例えば８０と１２０ｍ
ｍ、あるいはそれ以上の直径の流通している２つのフォ
ーマットに交換することができる。

本発明の移送装置においては多くの場合に、ロック室に
設けられた２つの移送レバーによって一方の雰囲気特に
処理雰囲気にされた工作物を同一の位置だけではなく同
一の絶対的な向きにすることが望ましい。すなわち本発
明に関して工作物とは一体の部材としてだけ考えるので
はなく、それぞれ一方のレバーによって共通に移送され
るユニットとして考えることができ、このユニットは同
時に処理すべき非常に多数の個々の部材から構成できる
ことを強調しておく。

〔実施例〕

以下、図面に示す実施例を用いて本発明の詳細な説明す
る。

第１図には本発明のロック室１が概略図示されている。

ロック室１には密封を行う境界３が設けられ、この境界
に連続して２つのロックドア５ａと５ｂが後述するよう
にして設けられている。ロックドア５ａは体積Ｖ１を有
するロック室１の内部を、処理室７（一部のみ記入され
ている）を支配している第１の雰囲気Ｕ７から分断させ
ている。

本実施例においては処理室７は特に真空処理室とするこ
とができる。第２のロックドア５ｂはロック室１の内部
を第２の雰囲気ＵＯに対して分断させており、この第２
の雰囲気は例えば処理室７の外側の雰囲気である。ロッ
ク室１内には移送装置としてのレバー１１が軸９を中心
に揺動可能に軸承されて配置されており、レバー１１は
種々の実施例の１つとして第１図では扇形に形成されて
いる。

好ましくはレバー１１の揺動軸９から離れた端部で移送
される工作物１３を雰囲気Ｕ７と雰囲気ＵＯの間で往復
移動させるために、レバー１１は揺動軸９を中心に揺動
することによって、点線に１１で示す扇面を移動する。

工作物１３を雰囲気の所定の位置へ移送するために、そ
れぞれレバー１１が雰囲気Ｕ７ないしＵＯ内へ進入可能
な量に従って、ロックドア５ａなし５ｂの寸法の長さを
決定することができる。

第１図においては、雰囲気ＵＯ内へ揺動する量が雰囲気
Ｕ７内へ揺動する量より小さく、それに従ってロックド
ア５ｂはロックドア５ａより小さく形成できる。

ロック手段の機能は公知であって、従ってそれについて
は若干の説明にとどめる。雰囲気ＵＯ内の工作物が雰囲
気ＵＯ内へ揺動されたレバー１１上に載置された後、工
作物は開放されたロックドア５ｂを通してロック室１の
内部へ移動される。

その後ロックドア５ｂが雰囲気ＵＯに対して密封状態で
閉鎖され、雰囲気ＵＯの状態が雰囲気Ｕ７内の状態に望
ましくない影響を与えるのを阻止しなければならない場
合には、ロック室１の内部体積Ｖ１が排気されて、雰囲
気Ｕ７を支配している状態に調節する。他の場合には、
ロックドア５ｂが開放された時にロック室の内部に持ち
込まれた、ＵＯに相当する状態がそのまま維持される。

上記のいずれの場合にもその後にロックドア５ａが開放
されて、工作物１３はレバー１１がさらに揺動すること
によって雰囲気Ｕ７ないしは処理室７内へ移送される。

上記の説明から、雰囲気ＵＯが雰囲気Ｕ７へ影響するの
を防止しなければならない場合には、ロック室の内部体
積ｖ１の排気を行い、調節しなければならないことが明
らかになる。また、この場合に、例えば雰囲気Ｕ７が有
毒であることによって反対のサイクルで雰囲気Ｕ７が雰
囲気ＵＯに影響を与えるのを阻止しなければならない場
合には、ロック室１の内部体積Ｖｌを工作物１３が装入
された時と、レバー１１が雰囲気ＵＯへ復帰する時の２
回排気しなければならない。

また、雰囲気ＵＯが雰囲気Ｕ７に、場合によっては逆に
雰囲気Ｕ７がＵＯに与える所定の影響を原則的に許容し
なければならない場合には、内部体積Ｖ１が特に処理室
７の体積に関して所定の大きさを越えてはならないこと
によって、同様にこの体積Ｖ１が前記影響の程度を決定
する。

従っていずれの場合にも、ロック室１の必要な体積Ｖ１
をできるだけ小さく保ち、しかも２つの雰囲気ＵＯとＵ
７内で必要な位置をとれるようにしなければならない。

第１図から明らかなように、ロック室体積Ｖ１は図示の
輪郭によって（もちろん高さも含めて）決定される。し
かしロック室ｌヘレバーが進入している位置においては
レバー１１ないし、工作物１３がレバー１１より突出し
ている場合には工作物の最大の方位的な延長α０に従っ
て輪郭が決定される。それに対して可能な移送距離はレ
バーＩＩの径方向の長さＬｏに関係し、それによってロ
ック室１０体積は通過すべき移送路とほとんど無関係に
、必要な長さがムＯの場合にαＯを最小にすることによ
っ、て設定することができる。

第２図には、多くの場合に最小は必ずしも必要ではない
が、ロック室体積をどのよういにして最小にす乙かが示
されている。すでに第１図で説明したように、レバー１
１がロック室ｌａ内で軸９を中心に揺動可能に軸承され
、扇形に形成されている場合には、２つのロックドア５
ａと５ｂがほぼレバー１１の形状に従って配置され、従
って扇形の辺にほぼ平行に配置されているでいることに
よってロック室１ａの輪郭も扇形に形成されている。点
線１３ａで示すように、レバー１１の方位的な延長を越
えて突出する工作物を雰囲気ＵＯからＵ７へあるいはそ
の逆に移送しなければならない場合には、符号５ａ’で
示すようなロック室１ａの形状を考慮しなければならな
い。

第３図には本発明の２つのロック室２０と２２を有する
ロック室装置が示されている。ロック室のそれぞれの壁
２１ないし２３にはロックドア２１ａ、２１ｂないし２
２ａ、２２ｂが設けられているので、２つのロックドア
２１ａと２２２がロック室２０ないし２２の内部を雰囲
気ＵＯに対して密封閉鎖し、ロックドア２１ｂないし２
２ｂが処理室７の内部の雰囲気Ｕ７に対して密封閉鎖し
ている。

両口ツク室２０．２２にも移送装置としてそれぞれ軸２
５ないし２７を中心に揺動可能なレバー２９ないし３０
が設けられている。移送路に２０ないしに２２に従った
所望の揺動量に応じてそれぞれロックドアの寸法が決定
される。第３図から明らかなように、２つのロック室２
０ないし２２の揺動軸２５．２７の配置と、レバー２９
．３０の長さと、所定の揺動角度は、移動する円形の面
に２０ないしに２２がＰｌで示すように重なり合うよう
に設定されている。例えばこの重なり合う部分Ｐ１は第
３図では処理室７内部に、例えば工作物をレバー２９に
よって雰囲気ＵＯ内に収容位置Ｐ２から処理室７内の処
理位置Ｐ１へ移送することができ、所定の処理が終了し
た後はレバー３０によって収容されて、雰囲気ＵＯの取
り出し点Ｐ３へ移送できるように配置されている。この
場合に２つの点Ｐ２とＰ３を２つの異なる雰囲気におき
、それに応じてロック室２０ないし２２を異なる３つの
雰囲気に分離して、それによって工作物を第１の雰囲気
内の点Ｐ２から第２の雰囲気内の点Ｐ１へ移送し、その
後第３の雰囲気内の点Ｐ３へ移送することももちろん可
能である。

第４ａ図〜第４ｆ図には、処理室としての真空室３１内
で工作物としてのコンパクトディスクのプラスチックの
基板の上に反射層を形成するための、本発明によるロッ
ク室装置を有する本発明の真空室が示されている。真空
室３１には本発明による２つのロック室３２ａと３２ｂ
が設けられている。２つのロック室にはそれぞれ一対の
ロックド７３４ａ、３４ｂないし３５ａ、３５ｂが設け
られている。ロックドア３４．３５としては前述の実施
例のロックドアと同様に、好ま゛しくはＶ。

Ａ、Ｔ、社によってＭＯＮＯＶＡＴの名称で製造販売さ
れているようなスリット弁が使用される。２つのロック
室３２によって真空室の雰囲気Ｕ３１は外部の雰囲気Ｕ
Ｏから隔離される。　２つのロック室内にはそれぞれス
プーン状の移送レバー３６ａないし３６ｂが回転軸３８
ａないし３８ｂに揺動可能に軸承されており、揺動軸は
互いに隣接して配置されている。２つのロック室３２の
いずれにも排気弁４０ａないし４０ｂと環境に通じる弁
４２ａないし４２ｂが設けられている。排気弁４０に設
けられている導管はそれぞれ負圧源４４ａないし４４ｂ
に通じている。

さらに真空室３１Ｐ３で真空分離プロセスを行うために
アルゴンタンク４６が設けられ、制御可能な弁４８を介
して真空室３１と連通されている。

真空室３１の排気を行うために、負圧源５２が弁５０を
介して真空室と連通されている。

次に第４ａ図から第４ｆ図を用いて、本発明のロック室
３２を有するこのような本発明の真空室３１の使用方法
について説明する。　第４ａ図には真空室３１の初期位
置が示されている。ロック室３２ａの両側は弁３５ａな
いし３５ｂによって閉鎖されている。ロック室３２ｂの
スリット弁３４ａも閉鎖されており、スリット弁３４ｂ
は開放あるいは閉鎮され、第４ａ図では閉鎖されている
。

弁５０が開放され、真空源５２が操作されることによっ
て、真空室３１の排気が行われ、弁４８を介してアルゴ
ンタンク４６から必要なアルゴン雰囲気に調節が行われ
る。同時に排気弁４０ａを介して右のロック室３２Ｈの
排気が行われる。まだ空の２つの移送レバー３６はロッ
ク室３２に内部にある。

第４ｂ図によれば弁４８と５０を閉鎖した後に、負圧源
５２を停止させ、右のロック室３２ａのスリット弁３５
ａを図示のように開放して、まだ工作物の載っていない
移送レバー３６ａを真空室３１内へ揺動させる。同時に
、場合によってはスリット弁３４ｂを開放した後に、移
送レバー３６ｂが雰囲気ＵＯ内へ揺動されて、そこでコ
ンパクトディスク５４のようなまだコーティングされて
いないメモリディスクを収容する。

第４Ｃ図によれば、その後レバー３６ｂはロック室３２
ｂへ揺動して戻り、同時にレバー３６ａがロック室３２
ａへ戻り、その後にすべてのスリット弁３５ａ、３５ｂ
ないし３４ａ、３４ｂが閉鎖される。弁４０ｂを開放し
た後に負圧源４４ｂによって左のロック室３２ｂの排気
が行われ、同時に弁４２ａを開放することによって右の
ロック室３２ａがＵＯに従った雰囲気圧に調節される。

その後に第４ｄ図に示す構成に移行し、スリット弁３４
ａが開放され、同様にスリット弁３５ｂも開放され、ま
だコーティングされていないディスク５４を載せた移送
レバー３６ｂが真空室３１内へ揺動され、まだディスク
を載せていない移送レバー３６ａが雰囲気ＵＯ内へ揺動
する。図から明らかなように、この場合にスプーン状の
レバー３６ａの収容部分は、それ以前に第４ｂ図に示す
ようにスプーン状の移送レバー３６ｂの収容部分が占め
た位置と同じ収容位置を占める。

またコーティングされていないディスク５４に真空室３
１内で、符号Ａで概略図示するように例えばアルミニウ
ム合金真空分離等によって処理を行う。同時に本発明に
は関係のない載置装置によって移送レバー３６ａに他の
未コーティングディスク５４ａが載置される。その後２
つの移送レバー３６が第４ｅ図に示す位置に復帰する。

この時レバー３６ｂにはコーティングディスク５４が載
置され、レバー３６ａには処理すべきディスク５４ａが
載置されている。

第４ｅ図に示すように、すべてのスリット弁が閉鎖され
、左のロック室３２ｂが弁４２ｂを開放することによっ
て雰囲気ＵＯに従った雰囲気圧に調節される。同時に弁
４０ａが開放され、負圧源４４ａが操作されることによ
って、右のロック室３２Ｈの排気が行われる。次に第４
ｆ図に示す構成に移行して左の移送レバー３６ｂが雰囲
気ＵＯへすなわちコーティングされたディスク５４を取
り出す位置へ移動され、この位置は第４ｆ図、第４ｄ図
及び第４ｂ図の横方向の比較が示すように、それぞれコ
ーティングすべきディスク５４を収容する収容位置でも
ある。すなわち２つのレノクー３６は雰囲気ＵＯ内の同
一の位置においてそれぞれコーティングすべきディスク
を収容し、かつディスクを放出する。

また第４ｆ図に戻って、スリット弁３４ｂを開放すると
同時に右のロック室３２ａのスリット弁４５ａが開放さ
れ、右の移送レバー３６ａがディスク５４ａを処理する
ために真空室３１内へ揺動する。

真空室３１内でＣＤのようなコーティングすべきディス
クを処理する処理位置も、前記の横方向の比較が示すよ
うに２つの移送レバー３６にとって同一である。

ディスクコーティング処理がサイクリックに行われ、す
なわちディスク５４ａのコーティングの間レバー３６ｂ
は新たにコーティングすべきディスクを収容する。以下
同様に処理が行われる。

第４ｂ図から第４ｆ図にはそれぞれ説明に必要な参照符
号のみが示されており、その他については第４ａ図の記
載と同様である。真空室３１内のアルゴン雰囲気は一定
に維持されることは明かであって、本発明によれば２つ
のロック室３２０寸法が最小の体積にされるので、それ
ぞれ排気されたロック室３２の室３１側を開放する場合
には、負圧源４４ａないし４４ｂ（第４ａ図）によるそ
れぞれの排気をできる限り最小の負担でかつできる限り
短い時間で行うことができ、雰囲気Ｕ３１の変化が最小
となることは明かである。

第５図にも第４ａ図〜第４ｆ図のロック室装置と同様の
本発明のロック室装置が示されている。

第４ａ図〜第４ｆ図と同一の位置番号が使用されている
。雰囲気ＵＯと処理室３１の間で移送すべき第４図のデ
ィスク５４ないし５４ａと同様な工作物６４ないし６４
ａには、それぞれ４つのディスク６６が含まれており、
この４つのディスクがまとまって本発明で言う工作物を
形成している。

第５図に示す装置の場合には、レバー３６ａと３６ｂの
長さ、揺動軸３８ａないし３８ｂの距離ｄＯ及び雰囲気
ＵＯ内の共通の位置から雰囲気Ｕ３１内の共通の位置ま
での揺動角度の寸法αないしα″は、霊囲気ＵＯ内でも
特に処理雰囲気である雰囲気Ｕ３１内でもそれぞれ２つ
のレバーによって移送され、ないしは収容される工作物
が同一に整合するように設定されている。実線で示すレ
バー３６ｂ上に雰囲気ＵＯ内で収容されるディスク６６
を移送順にＡ、Ｂ、Ｃ，Ｄと示すと、これらがロック室
３２ｂ内の点線で示す位置を介して再び実線で示す雰囲
気Ｕ３１内のＡＳＢ、Ｃ，Ｄへ移動される（移送路αを
参照）。一方、第５図の雰囲気Ｕ３１内に実線で示すよ
うにレバー３６ａによってディスク６６が符号Ａ’　、
Ｂ″　ＣＩ　、Ｄ’で示すのと同一の向きで収容される
と、これらのディスクはレバー３６ａが移送路α°で示
すように、その前にレバー３６ｂによって行われたのと
同一の向きで雰囲気Ｕ３１内の位置Ａ’　、Ｂ’　、Ｃ
’　、Ｄ’へ移動される。これは図から明らかなように
、雰囲気Ｕ３１内の位置Ａ、Ｂ、Ｃ，Ｄと同一である。

このことは、ディスクの真空コーティングのような所定
の処理プロセスにおいては、２つのレバーを用いて装入
する場合に処理室３１内で同一の状態が得られるという
大きな利点を有する。

〔発明の効果〕

以上の説明から明らかなように本発明によれば、１つの
雰囲気から他の雰囲気への移送工程の後、調節する体積
が最小となり、それによってサイクル時間が減少される
移送装置の提供が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明のロック室と本発明の原則的な考えの概
略を示す説明図、 第２図はロック室体積を最小にした場合の本発明による
ロック室の概略構成を示す第１図と同様の説明図、 第３図は本発明による２つのロック室を有する場合の本
発明のロック室装置の概略を示し、移送装置の移動路が
ロック室を通して装填される２つの雰囲気の一方におい
て重なりあっている説明図、第４ａ図〜第４ｆ図は本発
明のロック室からなり、例えばＣＤなどのメモリディス
クの真空装填を行うロック室装置を有する本発明の真空
室の概略を示す説明図、 第５図は工作物を同じ向きで処理室へ装入するための本
発明のロック室装置の概略を示す説明図である。 １・・・ロック室、　　　５ａ、５ｂ−・・ロックドア
、７・・・処理室、　　　１１・・・レバー（移送装置
）、１３・・・工作物、　　Ｕ７・・・第１の雰囲気、
ＵＯ・・・第２の雰囲気。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、一方の雰囲気から他方の雰囲気へ工作物を移送し、
   一方の雰囲気が他方の雰囲気にほとんど影響を与えるこ
   とのない移送装置において、ロック室が雰囲気を分離し
   、ロック室内に片側を室の縁領域に揺動軸承された少な
   くとも１つの移送レバー（１１；２９、３０；３６）が
   設けられており、ロック室のレバーを軸受する揺動軸受
   （９；２５、２７；３８）の両側には、レバーの揺動軸
   受と反対側の部分がそれぞれロックドア（５；２１、２
   ２；３４、３５）が開放された時に室の両側から揺動し
   て出られるようにロックドアが設けられていることを特
   徴とする移送装置。 ２、揺動軸受軸（９；２５、２７；３８）の方向に見て
   ロックドアが、ほぼレバー（１１；２９、３０；３６）
   とロック室内へ取り入れられる移送すべき工作物（１３
   ；１３ａ）の形状によって決定される面を画成すること
   を特徴とする請求項第１項に記載の移送装置。 ３、ロックドアが摺動弁、好ましくはハーグにある真空
   装置技術のＶ、Ａ、Ｔ社のスリット弁ＭＯＮＯＶＡＴに
   よって形成されることを特徴とする請求項第１項あるい
   は第２項に記載の移送装置。 ４、少なくとも一対のロック室（２０、２２；３２ａ、
   ３２ｂ）が設けられ、かつロックドアとレバーを２つの
   雰囲気（Ｕ０、Ｕ７；Ｕ０、Ｕ３１）に関して互いに反
   対の周期で駆動する制御装置が設けられていることを特
   徴とする請求項第１項から第３項のいずれか１項に記載
   の移送装置。 ５、少なくとも一対のロック室が設けられ、レバー（２
   ９、３０；３６ａ、３６ｂ）が移動する円形の移動面（
   Ｋ）が少なくとも雰囲気（Ｕ０、Ｕ７；Ｕ０、Ｕ３１）
   の少なくとも１つにおいて重なり合い、２つの移送レバ
   ーがその雰囲気において同一の領域で作用することを特
   徴とする請求項第１項から第３項のいずれか１項に記載
   の移送装置。 ６、レバーが移動する円形の移動面が２つの雰囲気（Ｕ
   ０、Ｕ３１）において重なり合い、２つの移送レバーが
   ２つの雰囲気においてそれぞれ同一の領域で作用するこ
   とを特徴とする請求項第４項あるいは第５項に記載の移
   送装置。 ７、２つのレバーが２つの雰囲気（Ｕ０、Ｕ３１）にお
   いて工作物収容ないし排出位置としてほぼ同一の最終位
   置へ揺動することを特徴とする請求項第４項から第６項
   のいずれか１項に記載の移送装置。 ８、２つの室（３２ａ、３２ｂ）が、揺動軸受（３８ａ
   、３８ｂ）が互いに隣接するように近接していることを
   特徴とする請求項第４項から第７項のいずれか１項に記
   載の移送装置。 ９、請求項第１項から第３項のいずれか１項に記載の移
   送装置、好ましくは請求項第４項から第８項のいずれか
   １項に記載の移送装置を有する真空室。 １０、ディスク特にメモリディスク素材を処理雰囲気間
   、特に真空処理雰囲気間で移送するための、請求項第１
   項から第８項のいずれかに記載の移送装置あるいは請求
   項第９項に記載の真空室の使用方法であって、移送レバ
   ーの揺動軸受と反対側にディスクを収容するスプーン状
   の支持支持部分が設けられている移送装置あるいは真空
   室の使用方法。 １１、それぞれレバーによって雰囲気の１つへ移送され
   た工作物をその雰囲気内で同一の絶対的な向きにするこ
   とができ、かつ好ましくは他の雰囲気において２つのレ
   バーによって同一の絶対的な向きに収容可能であるよう
   にレバーが配置され、かつレバーのそれぞれの揺動角度
   が設定されていることを特徴とする請求項第４項から第
   ８項のいずれか１項に記載の移送装置。 １２、室の環境とは異なる所定の処理雰囲気を有する処
   理室に工作物を装填及び排出する方法において、 処理室とその環境の間に少なくとも２つのロック室が設
   けられており、 一方のロック室が少なくともほぼ処理雰囲気にされ、他
   方のロック室が少なくともほぼ環境の雰囲気にされ、 一方のロック室が処理室と接続され、他方の処理室が環
   境と接続され、 各ロック室と処理室ないしその環境の間で工作物に少な
   くとも１つの移送操作が行われ、処理室内での処理が終
   了した後、処理された工作物が一方のロック室へ取り入
   れられ、そのロック室が閉鎖され、ロック室がそれぞれ
   他方の雰囲気にされる、 ことを特徴とする処理室に工作物を装填及び排出する方
   法。